JPH0285261A - イミダゾール誘導体の製造法 - Google Patents

イミダゾール誘導体の製造法

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JPH0285261A
JPH0285261A JP1114019A JP11401989A JPH0285261A JP H0285261 A JPH0285261 A JP H0285261A JP 1114019 A JP1114019 A JP 1114019A JP 11401989 A JP11401989 A JP 11401989A JP H0285261 A JPH0285261 A JP H0285261A
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JP
Japan
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formula
cyanamide
imidazole derivative
compound
reaction
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JP1114019A
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English (en)
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JPH0355469B2 (ja
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Tsutomu Terachi
寺地 務
Yoshiharu Nakai
中井 芳治
John Durant Graham
グラハム・ジョン・デュラント
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SmithKline Beecham Corp
Original Assignee
SmithKline Beecham Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は一般式 (式中R1およびR4は低級アルキル基、R2お上びR
3は低級アルキレン基をそれぞれ意味ずろ)で示される
イミダゾール誘導体またはその塩の新規な製造法に関す
るものであり、これを式で示すと次の通りである。
(式中、1土1、rt’、rt3およびR′はOqと同
し線法) で示されるイミダゾール誘導体を得ることを特徴[式中
、Iえ1、R2、R3およびR4は萌と同じ色味であり
、xlはハロゲンまたは式−8−(0)nZ(ここでZ
およびnは前と同じ色味)で示される堰をそれぞれ色味
する] この発明の方法は化合物(II)に化合物(III)を
作用させることにより行なわれる。
原料化合物(II)において、nlで表わされる低級ア
ルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチル、ペンチル
、ヘキシル等の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基が
挙げられ、またR1およびR3で表わされる低級アルキ
レン基としてはメチレン、エチレン、トリメチレン、テ
トラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、2−
メチルトリメチレン、2.2−ジメチルトリメチレン等
の直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキレン基が挙げられ、
R2およびR3の低級アルキレン基は同一であっても異
なっていてらよい。R4で表わされる低級アルキル基と
しては、前記のR1の低級アルキル基と同様な基が例示
される。また、Xlで表わされるハロゲンとしてはクロ
ル、ブロム、ヨード等が、式−3(0)n−Zで表わさ
れる基としてはスルフィノ基、スルホ基、メチルスルフ
ィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、
イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、イソ
ブチルスルフィニル、第3級ブチルスルフィニール、ペ
ンデルスルフィニル、ヘキシルスルフィニル等のアルキ
ルスルフィニル基およびメチルスルホニル、エチルスル
ホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル
、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、第3級ブ
チルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホ
ニル等のアルキルスルホニル基が例示される。
シアナミド(III)の塩としては、ナトリウム塩、カ
リウム塩等のアルカリ金属塩が例示される。
この反応は通常溶媒中で行なわれ、好ましい溶媒として
は、塩化メチレン、アセトニトリル、ツメチルポルムア
ミドなどが例示される。
反応温度は特に限定されないが、通常加温らしくは加熱
下に反応が行なわれる。
なお、シアナミド(Ill)を遊離の状態で使用する場
合には、トリエチルアミン、ピリジン、N〜メチルアニ
リン、1.5−ジアザビンクロ[5,4,015−ウン
デセン等の塩基の存在下に反応を行なうことができる。
この発明の方法により生成するイミダゾール誘導体(1
)は常法により反応混合物から単離し、精製することが
でき、また遊離の化合物(1)は常法により塩酸塩の如
き所望の塩に導いてもよい。
なお、この発明の方法で使用される原料化合物はいずれ
ら実施例に記載の方法またはそれらと同様の方法により
製造することができる。
次に、この発明の方法を実施例により説明する。
実施例1 N−メチル−クロロホルムイミドイルクロライド(1,
129)、2−(5−メチルイミダゾール4−イルメチ
ルチオ)エチルアミン(0,8559)および1.5−
ジアザビンクロ[5,4,0]−5ウンデセン(0,9
889)を塩化メチレン(16d)に加え、6時間加熱
還流する。N゛−メチル−N[2−(5−メチルイミダ
ゾール−4−イルメチルチオ)エチル]クロロホルムア
ミジンを含む反応混合物にシアナミド(0,849)お
よび1.5−ジアザビンクロ[5,4,01−5−ウン
デセン(3,049)を含む塩化メチレン(16ffi
Q)溶液を加え、15時間加熱還流する。この反応液か
ら溶媒を留去し、残渣をシリカゲル・クロマトグラフィ
に付し、アセトニトリルとメタノールの混液(4:1)
で溶出する。溶出液を濃縮し、得られる粗生成物をンリ
カゲル薄層クロマトグラフィ[展開溶媒:酢酸エチルと
メタノールと28%アンモニア水の混液(10・1 :
 1 )]に付し、ざらにアセトニトリルから再結晶す
ると、mp139〜141’cのN”−シアノ−N−メ
チル−N’ −[2−(5−メチルイミダゾール−4−
イルメチルチオ)エチル]グアニノン(0,249)を
得る。収率19.0%。
特許出願人 スミスクライン・コーポレインヨン代 理
 人 弁理士 青 山  葆 ほか2名手続ネ市正書 (方式) %式% 事件の表示 平成 1年  特許願  第11401、発明の名称 イミダゾール誘導体の製造法 補正をする者 事件との関係 特許出願人

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1およびR^4は低級アルキル基、R^2
    およびR^3は低級アルキレン基、X^1はハロゲンま
    たは式−S(O)_n−Z(ここでZはヒドロキシ基ま
    たはアルキル基、nは1または2をそれぞれ意味する)
    で示される基をそれぞれ意味する] で示される化合物にシアナミドまたはその塩を作用させ
    て一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3およびR^4は前と同
    じ意味) で示されるイミダゾール誘導体を得ることを特徴とする
    イミダゾール誘導体の製造法。
JP1114019A 1989-05-01 1989-05-01 イミダゾール誘導体の製造法 Granted JPH0285261A (ja)

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Publication Number Publication Date
JPH0285261A true JPH0285261A (ja) 1990-03-26
JPH0355469B2 JPH0355469B2 (ja) 1991-08-23

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53103469A (en) * 1977-02-18 1978-09-08 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd Guanidine derivatives and process for their preparation

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53103469A (en) * 1977-02-18 1978-09-08 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd Guanidine derivatives and process for their preparation

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JPH0355469B2 (ja) 1991-08-23

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