JPH0262858B2 - - Google Patents

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JPH0262858B2
JPH0262858B2 JP59041874A JP4187484A JPH0262858B2 JP H0262858 B2 JPH0262858 B2 JP H0262858B2 JP 59041874 A JP59041874 A JP 59041874A JP 4187484 A JP4187484 A JP 4187484A JP H0262858 B2 JPH0262858 B2 JP H0262858B2
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JP
Japan
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polymer compound
photosensitive
composition
epoxy resin
lower alkyl
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JP59041874A
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JPS60186837A (ja
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Kotaro Nagasawa
Kunio Morikubo
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Somar Corp
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Somar Corp
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Publication date
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Priority to US06/709,249 priority patent/US4681833A/en
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Publication of JPH0262858B2 publication Critical patent/JPH0262858B2/ja
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
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    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性ジアゾ化合物、高分子化合物
及びエポキシ樹脂を含有する感光性組成物に関す
るものである。 従来より感光性組成物として感光性ジアゾ化合
物が広く使用されていて、大別して光照射により
照射部が現像液に可溶化するポジ型と光照射によ
り不溶化するネガ型とがある。本発明は光照射に
より不溶化するネガ型の感光性組成物の改良に関
するものである。 ネガ型感光性ジアゾ化合物としては、4−ジア
ゾジフエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物が古くから知られ、又、多量に使用されている
が、この縮合物は水溶性であつて、平版印刷版等
に使用するには親油性、耐摩耗性、保存性の点で
問題があり、このため種々改良が加えられてい
る。平版印刷では、周知のように版面にまず水が
供給され、ついで油性のインキが供給される。こ
のためインキの付着すべき画像部は、水の存在下
でも十分な親油性を持つものでなければならな
い。 従来、この親油性が劣つていたために、画像部
に短時間でインキが付着せず、十数枚はなはだし
くは数十枚近くもむだな印刷(試し刷り)を行つ
て画像部を良好なインキ受容部にした上で印刷物
を作製していた。当該業界では、このむだな印刷
に要する時間及び材料等の損失を少なくするため
に画像部の親油性向上が求められている。 一方、多量の印刷物を作る際には画像部の強度
が要求され、耐摩耗性の優れた感光性材料が要求
されている。 これ等の要求を満足するため、水溶性の感光性
ジアゾ化合物を4−トルエンスルホン酸等の芳香
族酸化合物の塩として、有機溶媒可溶性とし、こ
れを単独であるいは他の高分子化合物と混合して
使用することによつて特性を高めようとした。 しかし、単独で使用した場合には、十分な親油
性及び耐摩耗性が得られず、このため平版印刷分
野でよく知られているワイポン(Wipe−on)版
のように、画像を形成した後に親油性及び耐摩耗
性を高めるべく樹脂溶液により補強する必要があ
つた。又、ジアゾ化合物を樹脂と混合して使用す
る例は特開昭50−118802号や米国特許第4299905
号により知られている。前記特開昭50−118802号
公報記載の感光性組成物にあつては、ジアゾ化合
物との相溶性及び画像形成性が良好なものの、平
版印刷分野で要求される十分な親油性は得られ
ず、又アクリロニトリルあるいはメタクリロニト
リルを共重合することで現像時の膨潤を少なくし
て耐摩耗性の向上をはかつている関係で、この共
重合体自体が十分な強度を有しない以上、印刷分
野で要求される高耐刷性が満足されるものではな
かつた。さらに、前記米国特許第4299905号明細
書記載の組成物は、耐摩耗性を向上させる目的で
エポキシ樹脂を混合使用しているが、水溶性にす
るために常温で液状の樹脂を使用している関係
で、高温多湿という作業環境においては、感光層
が不都合に粘着性を帯びたり、感光性が不安定と
なつたり、数日で現像できなくなつたりする欠点
があつた。加えて、粘着性を防止するにはジアゾ
化合物を多量に使用する必要があり必然的に感光
速度が劣るものであつた。 本発明は、これらの欠点を除去し、親油性及び
耐摩耗性が良好で、かつ耐刷性、保存安定性が優
れた弱アルカリ性水溶液可溶の感光性組成物を提
供するものである。 すなわち、本発明は、(A)感光性ジアゾ化合物、
(B)高分子化合物及び(C)エポキシ樹脂を含有する感
光性組成物であつて、該高分子化合物が下記(B
−1)の高分子化合物と(B−2)の高分子化合
物との組合せであることを特徴とする感光性組成
物である。 (B‐1) :下記式(i),(ii)及び(iii)で示される各構造

位を同時に有する高分子化合物 〔R1:水素原子又はメチル基 R2:非置換もしくは置換のベンジル基、低
級アルキル基又はハロゲン置換低級アル
キル基 R3:水素原子、低級アルキル基又はハロゲ
ン置換低級アルキル基〕 (B‐2) :下記式(iv),(v)及び(vi)で示される各構造単
位を同時に有する高分子化合物 〔R1:前記と同じ R4:tert−又はiso−ブチル基 R5:低級アルキル基〕 本発明における(A)感光性ジアゾ化合物として
は、4−ジアゾジフエニルアミンとホルムアルデ
ヒドとの縮合物の4−トルエンスルホン酸塩や、
同縮合物の2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾ
フエノン−5−スルホン酸塩等公知のものがあげ
られ、これらは市販品として容易に入手し得る。 本発明における(B)高分子化合物、すなわち(B
−1)及び(B−2)の高分子化合物は、基体上
の感光層における非露光部が弱アルカリ性水溶液
により溶解除去されるよう遊離カルボキシル基を
有することが必要である。 (B−1)の高分子化合物は、上記式(i),(ii)及
び(iii)で示される構造単位を同時に有するものであ
つて、式中のR1は水素原子又はメチル基を、R2
は非置換もしくは置換のベンジル基、低級アルキ
ル基又はハロゲン置換低級アルキル基を表わす。
置換ベンジル基はフエニル環においてこの種芳香
環の通常の置換基によつて置換されたものであ
る。低級アルキ基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等があげられ、又、ハ
ロゲン置換低級アルキル基としては、水素原子の
一部又は全部が塩素原子等のハロゲン原子で置換
された低級アルキル基があげられる。R3のうち
低級アルキル基及びハロゲン置換低級アルキル基
としては前記と同じものがあげられる。 (B−1)の高分子化合物は、例えば次の(1)〜
(3)に示される単量体を各1種類ずつ選択して後記
合成例で示すような条件で重合させて製造するこ
とができる。 (1) メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−4−
メチルベンジル、メタクリル酸−3−メチルベ
ンジル、メタクリル酸−4−クロルベンジル、
メタクリル酸−4−メトキシベンジル、メタク
リル酸−4−エチルベンジル、メタクリル酸−
4−iso−プロピルベンジル、メタクリル酸−
iso−ブチル、メタクリル酸−tert−ブチル、
メタクリル酸−iso−プロピル、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ト
リフルオロエチル、メタクリル酸トリフルオロ
プロピル又はアクリル酸ベンジルのようなアク
リル酸同構体 (2) メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタ
クリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタクリ
ル酸−2−ヒドロキシブチル、メタクリル酸−
3−クロル−2−ヒドロキシプロピル、又はア
クリル酸−2−ヒドロキシエチルのようなアク
リル酸同構体 (3) メタクリル酸、アクリル酸 (B−1)の高分子化合物は(i),(ii)及び(iii)の各
構造単位を分子中に同時に有することが必要であ
つて、これらの構造単位は規則的、ブロツク状又
はランダム状に含まれていてもよく、又、主鎖中
又は側鎖中に含まれていてもよい。 (B−1)の高分子化合物は、前記(1)〜(3)の単
量体のほかに必要に応じ他の重合性化合物を添加
して重合させて得たものであつてもよい。 前述したように(B−1)の高分子化合物中に
は遊離カルボキシル基が含まれることが必要であ
るが、一般にその含有率は、過大になると現像時
において膨潤を起して鮮鋭な画像が得られ難く、
かつ親油性に劣るようになり、逆に過小になると
現像時において時間がかかり、かつ微細な残渣を
生じて鮮鋭な画像が得られなくなる。具体的に
は、前記(1)〜(3)の単量体のモル比を各m1,m2
m3で表わすと(m1+m2)/m3=約1.5〜9好ま
しくは約2〜6とした場合に好適な遊離カルボキ
シル基含有率をもつ(B−1)の高分子化合物が
得られる。カルボキシル基含有率は酸価によつて
判定されるが、通常、酸価約10〜80、特に約20〜
50のものが望ましい。前記(1)〜(3)の単量体のモル
比に関する(m1+m2)/m3=約1.5〜9は、(B
−1)の高分子化合物の式(i)〜(iii)で示した構造単
位の存在比に関する{(i)+(ii)}/(iii)=約1.5〜9
と対応する。 (B−1)の高分子化合物は、通常、分子量約
5000〜100000好ましくは約20000〜80000のもので
ある。分子量が5000未満のときは画像の機械的強
度が劣り、又、耐刷性も劣り、逆に100000を超え
るときは現像性が劣り、又、現像時に残渣を生じ
鮮鋭な画像が得られなくなる。 (B−1)の高分子化合物は、(A)感光性ジアゾ
化合物との相溶性がよく、両者のみの組合せでも
画像形成は可能であるが、この組合せの感光性組
成物では耐摩耗性が劣り、かつ親油性も十分なも
のではない。そこで、親油性を改善すると同時
に、基体との接着性を良好にして耐摩耗性を向上
させるため、(B−2)の高分子化合物を含有さ
せる必要がある。 (B−2)の高分子化合物は上記式(iv),(v)及び
(vi)で示される構造単位を同時に有するものであつ
て、式中のR1は前記と同じものを、R4はtert−又
はiso−ブチル基を、R5は低級アルキル基例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を
表わす。 (B−2)の高分子化合物は、例えば次の(1)〜
(3)に示される単量体を各1種類ずつ選択して後記
合成例で示すような条件で重合させて製造するこ
とができる。 (1) メタクリル酸−tert−ブチル、メタクリル酸
−iso−ブチル、アクリル酸−tert−ブチル、
アクリル酸−iso−ブチル (2) メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、
メタクリル酸−n−プロピル、メタクリル酸−
iso−プロピル、又はアクリル酸メチルのよう
なアクリル酸同構体 (3) メタクリル酸、アクリル酸 (B−2)の高分子化合物における各構造単位
の結合状態は、(B−1)の高分子化合物におけ
るそれと同様である。又、(B−2)の高分子化
合物も、必要に応じ他の重合性化合物を添加して
重合させたものであつてもよい。 (B−2)の高分子化合物中における前記(1)〜
(3)の単量体のモル比をn1,n2,n3で表わすと(n1
+n2)/n3=約1〜20特に約3〜10が望ましい。
この値が1未満のときは現像時にアルカリ水溶液
により膨潤が起り、又、20を超えるときは現像し
にくく残渣を生じて鮮鋭な画像が得られない。絶
記(1)〜(3)の単量体のモル比に関する(n1+n2)/
n3=約1〜20は、(B−2)の高分子化合物の式
(iv)〜(vi)で示した構造単位の存在比に関する{(iv)+
(v)}/(vi)=約1〜20と対応する。 (B−2)の高分子化合物は、通常、分子量
50000〜500000好ましくは約100000〜300000のも
のである。分子量が下限より小さいと画像の機械
的強度が劣り、又耐摩耗性も劣り、逆に上限より
大きいと現像が不可能になる。 (B−2)の高分子化合物は前述のように親油
性に優れているが、感光性ジアゾ化合物との相溶
性はさほど良好でないので、(B−1)の高分子
化合物との併用が必要なのである。 (C)エポキシ樹脂としては、各種のものが使用さ
れ、とりわけエポキシ当量が約150〜2000好まし
くは約200〜1500で、かつ常温で固体状を呈する
ものが好適である。例えばビスフエノールA型、
ノボラツク型等に属するもので、市販品としてエ
ピコート1000シリーズ(油化シエルエポキシ社
製)、YDCN220シリーズ(東都化成社製)、
EOCN100シリーズ(日本化薬社製)に属するも
のがあげられる。エポキシ当量とは1ゲラム当量
のエポキシ基を含む樹脂のグラム数であつて、エ
ポキシ当量が150未満のときは、そのようなエポ
キシ樹脂を含む感光性組成物は感光性が不安定と
なつたり不都合な粘着性を帯びたりするようにな
り、又、2000を超えるときは、現像しにくく鮮鋭
な画像が得られない。 感光性組成物にエポキシ樹脂を含有させると耐
摩耗性が著しく向上し、特にポストベーキング
(画像形成後の加熱処理)を行う用途に有利とさ
れる。 本発明の感光性組成物における(A)感光性ジアゾ
化合物、(B)高分子化合物及び(C)エポキシ樹脂の含
有割合は、使用目的により種々の組合せが可能で
ある。ジアゾ化合物の含有量が多くなると感光速
度が低下したり親油性、耐摩耗性が低下して不都
合である。ジアゾ化合物は通常、感光性組成物中
に約1〜40、好ましくは約5〜35重量%の範囲で
含有させる。(B−1)の高分子化合物は、ジア
ゾ化合物との良好な相溶性により画像形成を有効
に行わせるため通常約30〜75重量%、好ましくは
約35〜70重量%の範囲で含有させる。(B−2)
の高分子化合物は、親油性を有効に向上させるた
め通常約0.1〜20重量%、好ましくは約1〜15重
量%の範囲で含有させる。エポキシ樹脂は、耐摩
耗性や耐刷性を有効に向上させるため通常約5〜
50重量%、好ましくは約10〜40重量%の範囲で含
有させる。エポキシ樹脂の含有量が多くなると耐
摩耗性等の強度は高まる反面、現像性が劣るよう
になるから、特に高い解像性を要求されるような
用途にはエポキシ樹脂の含有量を低目にするのが
よい。 本発明の感光性組成物には、前記の(A)感光性ジ
アゾ化合物、(B)高分子化合物及び(C)エポキシ樹脂
のほかに、適宜他のものを含有させることができ
る。例えば、画像を見易くする目的の染料、顔料
や、塗布性能を向上させる目的の界面活性剤等を
含有させる。 本発明の感光性組成物は、溶液にしてロールコ
ーター、バーコーター、回転塗布機等で基体上に
塗布される。この際使用される有機溶剤として
は、エチレングリコールモノメチルエーテル(こ
のものは感光性ジアゾ化合物の溶解に特に適して
いる。)、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、メチルエチルケトン、ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン等の単独又は混合の溶
剤をあげることができる。 以下、本発明を実施例により説明する。「部」
は重量部を意味する。 実施例 1 (1) 〔(B−1)の合成例〕ポリ(メタクリル酸
ベンジル−co−メタクリル酸−2−ヒドロキ
シエチル−co−アクリル酸)の合成 窒素導入管及び撹拌装置を備えた反応容器
に、窒素雰囲気下でメチルエチルケトン500g、
メタクリル酸ベンジル170g、メタクリル酸−
2−ヒドロキシエチル60g、アクリル酸12g及
び過酸化ベンゾイル0.7gを仕込み、温度70〜
75℃で10時間反応させたところ、粘稠液が得ら
れた。この粘稠液を20の水中に激しく撹拌し
ながら注加した。得られた白色析出物を過、
水洗、乾燥して酸価25、極限粘度〔η〕25MC
0.135(MC:エチレングリコールモノメチルエ
ーテル)の標記の共重合物200gを得た。 (2) 〔(B−2)の合成例〕ポリ(メタクリル酸
−tert−ブチル−co−メタクリル酸メチル−co
−メタクリル酸)の合成 前記と同じ反応容器を使用して窒素雰囲気下
で、水535g、メタクリル酸−tert−ブチル80
g、メタクリル酸メチル15g、メタクリル酸13
g、過酸化ベンゾイル1g及びポリエチレンオ
キシド(米国ユニオンカーバイド社製Polyox,
WSR N−80、分子量200000)2.4gを混合し、
撹拌速度700〜800rpmで6時間反応させた。反
応終了後、過、水洗、乾燥して標記のビ−ズ
状共重合物95gを得た。このものの酸価は45、
〔η〕25MCは0.358であつた。 (3) 〔感光性組成物の調製例〕 (A) 4−ジアゾジフエニルアミンとホルムアル
デヒドとの縮合物の4−トルエンスルホン酸
塩 10部 (B‐1) ポリ(メタクリル酸ベンジル−co−メタ
クリル酸−2−ヒドロキシエチル−co−ア
クリル酸) 60部 (B‐2) ポリ(メタクリル酸−tert−ブチル−co
−メタクリル酸メチル−co−メタクリル酸)
5部 (C) エピコート1003(エポキシ当量700、油化シ
エルエポキシ社製) 25部 (染料) ローダミンB(C.I.Basic Violet10)
2部 以上の成分を混合して感光性組成物を調製し
た。 このものをエチレングリコールモノメチルエ
ーテル300部に溶解して、粘度140cps(25℃)の
感光液を作製した。 (4) 〔使用例〕 この感光液を、ブラシ研磨後陽極酸化処理し
たアルミニウム板(0.3mm厚)上にロールコー
ターで塗布し、90℃の温風にて3分間乾燥し
て、1.5g/m2(固形分換算)の感光層を有す
るPS版を得た。このPS版にネガ原稿を重ね、
2KWの超高圧水銀灯から距離1m(光強度1.5
mW/cm2)で紫外光を40秒間照射した。照射後
ベンジルアルコール20g、珪素ナトリウム2
g、トーホールN230(界面活性剤、東邦化学工
業社製)及び水76gからなる現像液を用いて現
像したところ、鮮鋭なパターンの印刷版が得ら
れた。 この印刷版をオフセツト輪転印刷機にて印刷
して15万部の印刷物を得た。15万部印刷後も、
上記版は損傷もなく、なお印刷が可能であつ
た。 又、画像のインキ付着性がよく、数回転する
のみで良好な印刷物を得ることができた。上記
印刷版を200〜220℃に加熱したオーブン中で10
分間ポストベーキングし、オフセツト輪転印刷
機にて50万部の印刷を行つた。この版はアルミ
ニウム基板に一部損傷がみられたが、画像部は
全く損傷がなく非常に高い耐摩耗性をもつてい
ることが認められた。 一方、得られたPS版を室温下で6ケ月間保
管した後の現像性、印刷性等を上記と同様にし
て調べたところ、同様の結果が得られ、十分な
保存安定性を有していることが確認された。 実施例 2 (1) 〔(B−1)の合成例〕ポリ(メタクリル酸
−tert−ブチル−co−メタクリル酸−2−ヒド
ロキシエチル−co−メタクリル酸)の合成 窒素導入管及び撹拌装置を備えた反応容器
に、メチルエチルケトン500g、メタクリル酸
−tert−ブチル150g、メタクリル酸−2−ヒ
ドロキシエチル70g、メタクリル酸15g及び過
酸化ベンゾイル0.7gを入れ、窒素気流中撹拌
しながら70〜75℃下9〜10時間反応させた。得
られた粘稠液を20の水中に投入し、過、乾
燥して、酸価32、〔η〕25MC=0.165の標記共重
合物210gを得た。 (2) 〔(B−2)の合成例〕ポリ(メタクリル酸
−iso−ブチル−co−メタクリル酸メチル−co
−アクリル酸) 前記と同じ反応容器を使用して窒素雰囲気下
で水535g、メタクリル酸−iso−ブチル80g、
メタクリル酸メチル20g、アクリル酸13g、過
酸化ベンゾイル1g、ポリエチレンオキシド
(前記と同じ)2.4gを加え撹拌速度700〜
800rpm下75〜80℃で6時間反応させた。反応
終了後、過、水洗、乾燥して標記のビーズ状
の共重合物90gを得た。このものは酸価45、
〔η〕25MC=0.305であつた。 (3) 〔感光性組成物の調製例〕 (A) 4−ジアゾジフエニルアミンとホルムアル
デヒドとの縮合物の4−トルエンスルホン酸
塩 10部 (B‐1) ポリ(メタクリル酸−tert−ブチル−co
−メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル−
co−メタクリル酸) 50部 (B‐2) ポリ(メタクリル酸−iso−ブチル−co
−メタクリル酸メチル−co−アクリル酸) 10部 (C) エピコート1003(前記と同じ) 30部 (染料) ローダミンB(前記と同じ) 2部 以上の成分を混合して感光性組成物を調製し
た。 このものをエチレングリコールモノメチルエ
ーテル400部に溶解して、粘度80cps(25℃)の
感光液を作製した。 (4) 〔使用例〕 この感光液を、ブラシ研磨後陽極酸化処理し
たアルミニウム板(0.3mm厚)にロールコータ
ーで塗布し、80〜90℃の温風にて3分間乾燥し
1.8g/m2(固形分換算)の感光層を有するPS
版を得た。このPS版にネガ原稿を重ね、2KW
超高圧水銀灯から距離1m(光強度1.5mW/
cm2)で紫外光を70秒間照射した。照射後ベンジ
ルアルコール20g、炭酸ナトリウム1.5g、ト
ーホールN230(前記と同じ)1.5g及び水77g
からなる現像液にて現像したところ、鮮鋭なパ
ターンの印刷版が得られた。 前記で得たPS版は40℃下20日間保存しても
良好な現像性を示した。これは室温の状態で保
存した場合2年以上の保存安定性を持つもので
ある。 比較のため、実施例2において(B−1)及
び(B−2)の高分子化合物の代りに、同様に
して合成したポリ(メタクリル酸−2−ヒドロ
キシエチル−co−アクリロニトリル−co−メ
タクリル酸メチル−co−メタクリル酸)60部
を使用して感光性組成物を作製した。このもの
を使用して実施例2と同様にして印刷版を作製
し、これについて西独ハイデルベルグ社製二色
印刷機にて印刷適性を試験して調べた。 前記実施例2の印刷版とこの比較例の印刷版
について得た試験結果は下表のとおりである。
【表】 第1表において、ヤレ紙とは、正常な印刷物
が得られるまでに消費されるむだな印刷用紙、
つまり試し刷り紙のことで、ヤレ紙の枚数が少
いほど、版全面へのインキの均一付着が良好な
ことを示し、したがつて版のインキ受容性(親
油性)は良好ということになる。耐刷性は版の
画像部が摩耗してインキが適正に付着しなくな
るまでに何部を正常に印刷できたかによつて判
定され、印刷物の部数が多いほど耐刷性が良好
ということになる。 第1表の結果によれば、本発明例の場合が比
較例に比し版のインキ受容性(親油性)及び耐
刷性の性能において優れていることがわかる。 実施例 3 (1) 〔感光性組成物の調製例〕 (A) 実施例1のジアゾ化合物 18部 (B‐1)実施例1の(B−1)共重合物 45部 (B‐2)実施例2の(B−2)共重合物 5部 (C) EOCN 103(エポキシ当量215〜235、日本
化薬社製) 30部 (染料) アイゼンビクトリアブルーBH(C.I.
Basic Blue 26、保土谷化学工業社製) 2部 (界面活性剤) ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノラウレート 0.1部 以上の成分を混合して感光性組成物を調製し
た。 このものをエチレングリコールモノメチルエ
ーテル250部及びエチレングリコールモノエチ
ルエーテル50部の混合液に溶解し粘度130cps
(25℃)の感光液を作製した。 (2) 〔使用例〕 鉄板(0.3mm厚)の両面に約3μmの銅を電着
させ片面に約2μmのクロムをメツキした上、こ
のクロム層を粗面化した基板にロールコーター
にて上記感光液を塗布し、乾燥後1.5g/m2
(固形分換算)の感光層を設けた。得られた感
光板にネガ原稿を密着させて3KW超高圧水銀
灯から距離1m(光強度3.5mW/cm2)で紫外
光を40秒間照射した後、実施例2の現像液にて
現像し、印刷版を得た。200℃の温度で10分間
加熱した後オフセツト輪転印刷機にかけて50万
部の印刷を行つた。印刷物は良好でこの版はな
お印刷を行い得るものであつた。次に、上記感
光層にポジ原稿を密着し同様に焼付、現像して
反転画像を作製した。これを塩化亜鉛80g、40
重量%塩化カルシウム液100ml、リン酸3mlに
てクロム層をエツチングした。感光層は十分な
耐性があり、感光層を5重量%水酸化ナトリウ
ム水溶液で除去して良好な印刷版を得た。 実施例 4〜7 下記第2表に示す成分をそれぞれ混合して4種
類の感光性組成物を調製した。 各組成物をそれぞれエチレングリコールモノメ
チルエーテル900部に溶解し感光液を作製した。
【表】 この感光液を、ブラシ研磨後陽極酸化処理して
アルミニウム基板(0.3mm厚)に回転塗布機を使
用して塗布、乾燥して1.5g/m2(固形分換算)
の感光層を有する印刷用PS版を作製した。実施
例1と同様に露光、現像して、印刷版を作製し
た。このものの性能を試験した結果は後記第4表
に示すとおりであつた。 比較のため、下記第3表に示す成分からなる感
光性組成物、すなわち、(B−1)、(B−2)及
び(C)成分のいずれか少くとも1つを欠く各感光性
組成物を同様に作製した。
【表】 第3表の比較例(イ)〜(ニ)の感光性組成物から同様
にして感光液を作製し、このものを使用してそれ
ぞれ同様にして印刷版を作製した。このものの性
能を試験した結果を後記第4表に併記した。 前記第1表及び第4表の試験結果によれば、本
発明の感光性組成物を使用した場合は、比較例の
場合に比し感光性、現像性、インキ受容性(親油
性)及び耐刷性の性能において優れており、した
がつて本発明の感光性組成物は所期の優れた効果
を発揮することがわかる。
【表】 第4表における優、良及び不可は、各試験項目
について下記の測定・調査方法による結果を下記
基準で評価してつけられたものである。 感光性:超高圧水銀灯(3KW)から距離1m
(光強度3.5mW/cm2)にて露光し、√2
ステツプ・タブレツト(Kodak Step
Tablet No.2)の6段ベタになるまで
の焼き付けに要する時間及び光硬化膜の
強さを測定する。所要露光時間が20〜30
秒のとき優、40〜90秒のとき良、120秒
以上露光しても光硬化膜の弱いものしか
得られないとき不可と評価する。 現像性:実施例1の現像液を使用し、所要現像時
間を測定する。所要現像時間が60秒以下
のとき優、60秒を超え90秒までのとき
良、90秒を超えるとき不可と評価する。 インキ受容性(親油性):印刷開始後のヤレ紙
(試し刷り紙)の枚数を調べる。ヤレ紙
が9枚以下のとき優、10〜20枚のとき
良、20枚を超えるとき不可と評価する。 耐刷性:耐摩耗性試験機を使用して、版の画像部
が摩耗してインキが適正に付着しなくな
るまで何部を正常に印刷できたか、その
部数を調べる。正常印刷物の部数が20万
を超えるとき優、20〜10万のとき良、10
万未満のとき不可と評価する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (A)感光性ジアゾ化合物、(B)高分子化合物及び
    (C)エポキシ樹脂を含有する感光性組成物であつ
    て、該高分子化合物が下記(B−1)の高分子化
    合物と(B−2)の高分子化合物との組合せであ
    ることを特徴とする感光性組成物。 (B‐1) :下記式(i),(ii)及び(iii)で示される各構造

    位を同時に有する高分子化合物 〔R1;水素原子又はメチル基 R2;非置換もしくは置換のベンジル基、低
    級アルキル基又はハロゲン置換低級アル
    キル基 R3;水素原子、低級アルキル基又はハロゲ
    ン置換低級アルキル基〕 (B‐2) ;下記式(iv),(v)及び(vi)で示される各構造単
    位を同時に有する高分子化合物 〔R1;前記と同じ R4;tert−又はiso−ブチル基 R5;低級アルキル基〕 2 感光性ジアゾ化合物が4−ジアゾジフエニル
    アミンとホルムアルデヒドとの縮合物の2−ヒド
    ロキシ−4−メトキシベンゾフエノン−5−スル
    ホン酸塩である特許請求の範囲1の組成物。 3 R2が非置換ベンジル基である特許請求の範
    囲1の組成物。 4 R4がtert−ブチル基である特許請求の範囲1
    の組成物。 5 (B−1)の高分子化合物における(i),(ii)(iii)
    の存在比({(i)+(ii)}/(iii))が約1.5〜9であり

    かつ該高分子化合物の分子量が約5000〜100000で
    ある特許請求の範囲1の組成物。 6 (B−2)の高分子化合物における(iv),(v),
    (vi)の存在比({(iv)+(v)}/(vi))が約1〜20であ
    り、
    かつ該高分子化合物の分子量が約50000〜500000
    である特許請求の範囲1の組成物。 7 エポキシ樹脂がエポキシ当量約150〜2000で、
    かつ常温で固体状を呈するものである特許請求の
    範囲1の組成物。 8 エポキシ樹脂がエポキシ当量約150〜2000で、
    かつ常温で固体状のビスフエノールAのグリシジ
    ルエーテルである特許請求の範囲1の組成物。 9 エポキシ樹脂がエポキシ当量約150〜2000で、
    かつ常温で固体状のフエノール又はクレゾールノ
    ボラツクのグリシジルエーテルである特許請求の
    範囲1の組成物。 10 感光性組成物における高分子化合物及びエ
    ポキシ樹脂の含有量が(B−1)の高分子化合物
    約30〜75重量%、(B−2)の高分子化合物約0.1
    〜20重量%、エポキシ樹脂約5〜50重量%である
    特許請求の範囲1の組成物。
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