JPH0264002A - 超電導薄膜形成用インキ - Google Patents
超電導薄膜形成用インキInfo
- Publication number
- JPH0264002A JPH0264002A JP63213926A JP21392688A JPH0264002A JP H0264002 A JPH0264002 A JP H0264002A JP 63213926 A JP63213926 A JP 63213926A JP 21392688 A JP21392688 A JP 21392688A JP H0264002 A JPH0264002 A JP H0264002A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- superconducting thin
- superconducting
- thin films
- rosin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
童業上の利用分野
本発明はパターン状の超電導薄膜を形成するためのイン
キに関するものである。
キに関するものである。
従来の技術
従来、超電導物質は主として金属材料に限られてきたが
、近年セラミックス材料を用いた高温超電導物質が開発
され、大きな期待を集めている。
、近年セラミックス材料を用いた高温超電導物質が開発
され、大きな期待を集めている。
しかしながらこれら材料は機１戒強度に劣るだめ強固な
基板上に形成された薄膜として使用するほうが匣利であ
り、薄膜の形成方法としてはスパッタ。
基板上に形成された薄膜として使用するほうが匣利であ
り、薄膜の形成方法としてはスパッタ。
真空蒸着などの物理的手法やｃｖｎ、熱分解法などの化
学的手法が知られている。
学的手法が知られている。
発明が解決しようとする課題
しかし、物理的手法で形成された薄膜は基板の全面が１
われるものであり、特定のパターンを作ろうとすればレ
ジストを塗布してエツチングせざるを得ない。さらに、
ヌパッタ、真空蒸着などの物理的手法やｃｖｎ等は装置
コストが高くかつ大面積の製造が困難である。一方、熱
分解法による薄膜形成方法は装置コストが安くかつ大面
積の製造が容易である反面、同法に使用する上記金属含
有化合物の溶液は溶液粘度が低く、やはシバターン状に
印刷することは不可能である。すなわち、一般の増粘材
料として知られているセルローズ系樹脂やアクリル系樹
脂などの各種樹脂は上記化合物との相容性がない場合が
多く、異種の金属化合物を混合した溶液の増粘用として
は使用できなかった。また相客性がある場合でも増粘剤
と上記化合物との熱分解挙動の違いにより均一な塗膜が
得られ難くこの種の増粘剤の選択は極めて困難なもので
あった。
われるものであり、特定のパターンを作ろうとすればレ
ジストを塗布してエツチングせざるを得ない。さらに、
ヌパッタ、真空蒸着などの物理的手法やｃｖｎ等は装置
コストが高くかつ大面積の製造が困難である。一方、熱
分解法による薄膜形成方法は装置コストが安くかつ大面
積の製造が容易である反面、同法に使用する上記金属含
有化合物の溶液は溶液粘度が低く、やはシバターン状に
印刷することは不可能である。すなわち、一般の増粘材
料として知られているセルローズ系樹脂やアクリル系樹
脂などの各種樹脂は上記化合物との相容性がない場合が
多く、異種の金属化合物を混合した溶液の増粘用として
は使用できなかった。また相客性がある場合でも増粘剤
と上記化合物との熱分解挙動の違いにより均一な塗膜が
得られ難くこの種の増粘剤の選択は極めて困難なもので
あった。
課題を解決するだめの手段
本発明は上記従来の超電導薄膜に関する問題点を解決す
るための手段として超電導物質構成元素を構造中に含む
熱分解性の化合、Ｖ！！Ｉ、ロジン又はアビエチン酸お
よび溶剤を主たる構成要素として含むことを特徴とする
超亀惇薄漢形成用インキを用いてパターン状の超電導薄
膜を形成することを特徴とする。なお、印刷性向上のた
め、上記主たる成分以外にＶベリング剤、消泡剤等を含
んでも良いものである。
るための手段として超電導物質構成元素を構造中に含む
熱分解性の化合、Ｖ！！Ｉ、ロジン又はアビエチン酸お
よび溶剤を主たる構成要素として含むことを特徴とする
超亀惇薄漢形成用インキを用いてパターン状の超電導薄
膜を形成することを特徴とする。なお、印刷性向上のた
め、上記主たる成分以外にＶベリング剤、消泡剤等を含
んでも良いものである。
作用
上記本発明に係る超電導薄膜形成用インキを用いてパタ
ーン状の超電導薄膜を形成することにより、エツチング
操作猟して安西、均質でパターン状の超電導薄膜が形成
することが可能となる。
ーン状の超電導薄膜を形成することにより、エツチング
操作猟して安西、均質でパターン状の超電導薄膜が形成
することが可能となる。
実施例
以下１本発明の概要につき述べる。
本発明にかかる司電導吻質構代元素を構造中に含む熱分
解性の化合物としてｌバイア）リウム、ストロンチウム
、イッテルビウム、テルビウム、バリウム、鉛、銅等の
金・嘱元素を含む無機化合物または有機化合物があげら
れる。例をあげれば、これら金属元素の塩化物、硝１浚
塩等の無機金属塩や各種カルボン酸塩、有機金属化合物
、メタロセンアセチルアセトンなどのベータジケトンや
クラウンエーテルなどの各種有機金属構体などがある。
解性の化合物としてｌバイア）リウム、ストロンチウム
、イッテルビウム、テルビウム、バリウム、鉛、銅等の
金・嘱元素を含む無機化合物または有機化合物があげら
れる。例をあげれば、これら金属元素の塩化物、硝１浚
塩等の無機金属塩や各種カルボン酸塩、有機金属化合物
、メタロセンアセチルアセトンなどのベータジケトンや
クラウンエーテルなどの各種有機金属構体などがある。
これら化合物は２００ないしｔｓｏｏｆｃの温度で熱分
解して構成元素の酸化物または炭酸塩を生じ、さらに高
温の加熱で炭酸塩も酸化物となる。
解して構成元素の酸化物または炭酸塩を生じ、さらに高
温の加熱で炭酸塩も酸化物となる。
これら化合物の組成割合を目的物の組成に合わせて混合
、熱分解することにより任意の組成の化合物を製造する
ことができる。
、熱分解することにより任意の組成の化合物を製造する
ことができる。
上記金・萬含有化合物溶液の増粘剤としてはロジンまた
はアビエチン俊が好適である。ロジンは松ヤニの主成分
であシ、天然品として入手することができる。これらは
上記金属化合物との相容性が良好であり、かつ、溶媒に
溶解した場合にパターン印刷に適した粘度を呈する。但
し、特に微細なパターンを作ろうとする場合は天然のロ
ジンよりもその主成分であるアビエチン・浚が好ましい
。すなわち、ロジン′は生竜地呟により性状が異なシ。
はアビエチン俊が好適である。ロジンは松ヤニの主成分
であシ、天然品として入手することができる。これらは
上記金属化合物との相容性が良好であり、かつ、溶媒に
溶解した場合にパターン印刷に適した粘度を呈する。但
し、特に微細なパターンを作ろうとする場合は天然のロ
ジンよりもその主成分であるアビエチン・浚が好ましい
。すなわち、ロジン′は生竜地呟により性状が異なシ。
このだめにロジンの＠液物性が微細に変化する。
このため、再現性良く微細パターンを製造しようとする
場合ｄアビエチン酸の使用が好ましい。
場合ｄアビエチン酸の使用が好ましい。
上記化合物およびロジンまたはアビエチン酸を溶解する
溶剤としてはアルコール系、ケトン系。
溶剤としてはアルコール系、ケトン系。
エヌテ／し系１石油系、炭化水素系の各種溶剤のなかか
ら選ぶことができる。金属元素が異なるとアニオンまた
は有機部分が同一であっても化合物の溶解性が変化する
ため実際の使用に際しては十分な予備検討が必要である
。
ら選ぶことができる。金属元素が異なるとアニオンまた
は有機部分が同一であっても化合物の溶解性が変化する
ため実際の使用に際しては十分な予備検討が必要である
。
以下具体的な例につき述べる。
実施例１
２−エチｌレヘキサン酸イツトリウム ２−エチルヘキ
サン酸バリウム、２−エチルヘキサン酸銅をモル比で１
：２：３の割合で混合し、上記混合物２０重量部に対
し、中国産ロジン８０重量部を加え、１００重１部のア
ルコール系溶剤に溶解しインキを製造した。このインキ
をジルコニア基板状に同心円のコイルのパターンに印１
ｉｉＩＪ ｌ、、 １５０’Ｃで乾燥の後９００℃で焼
成した。この操作を５回１′＆り返して後、基板を酸素
雰囲気中８００″Ｃでアニールして、導体厚み約１．２
ミクロンの超電導コイルを製造した。
サン酸バリウム、２−エチルヘキサン酸銅をモル比で１
：２：３の割合で混合し、上記混合物２０重量部に対
し、中国産ロジン８０重量部を加え、１００重１部のア
ルコール系溶剤に溶解しインキを製造した。このインキ
をジルコニア基板状に同心円のコイルのパターンに印１
ｉｉＩＪ ｌ、、 １５０’Ｃで乾燥の後９００℃で焼
成した。この操作を５回１′＆り返して後、基板を酸素
雰囲気中８００″Ｃでアニールして、導体厚み約１．２
ミクロンの超電導コイルを製造した。
このコイルは７２″にで完全超電導状態を示した。
実施例２
硝酸イッテルビウム、硝酸バリウム、硝酸銅をそれぞれ
モル比で１ ：２：３の割合で混合し、上記混合物２０
重量部に対し、中国産ロジン８０重量部を加え、１００
重量部のアルコール系溶剤に溶解しインキを製造した。
モル比で１ ：２：３の割合で混合し、上記混合物２０
重量部に対し、中国産ロジン８０重量部を加え、１００
重量部のアルコール系溶剤に溶解しインキを製造した。
以下、実施例１と同様にして導体厚み約１．２ミクロン
の超電導コイルを製造した。
の超電導コイルを製造した。
このコイルは８０′にで完全超電導状態を示した。
実施例３
実施例１においてロジンに代えてアビエチン酸を使用し
た。本インキを使用した場合は１００ミクロンの線間−
線幅の印刷が可能であった。生成した膜の特性は実施例
１のものと同等であった。
た。本インキを使用した場合は１００ミクロンの線間−
線幅の印刷が可能であった。生成した膜の特性は実施例
１のものと同等であった。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明にかかる超電導
薄膜形成用インキを使用することにより基板上にパター
ン状の超電導薄膜が形成でき産業上の効果は大である。
薄膜形成用インキを使用することにより基板上にパター
ン状の超電導薄膜が形成でき産業上の効果は大である。
Claims (2)
- （１）超電導物質構成元素を構造中に含む熱分解性の化
合物、ロジンおよび溶剤を主たる構成要素として含むこ
とを特徴とする超電導薄膜形成用インキ。 - （２）超電導物質構成元素を構造中に含む熱分解性の化
合物、アビエチン酸および溶剤を主たる構成要素として
含むことを特徴とする超電導薄膜形成用インキ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63213926A JPH0264002A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 超電導薄膜形成用インキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63213926A JPH0264002A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 超電導薄膜形成用インキ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0264002A true JPH0264002A (ja) | 1990-03-05 |
Family
ID=16647334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63213926A Pending JPH0264002A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 超電導薄膜形成用インキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0264002A (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP63213926A patent/JPH0264002A/ja active Pending
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