JPH0265119A - フォトエッチングのレジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、回転台に基板をセットし１回転台を回転させ
つつセットされた基板上にレジストを滴下させ、あるい
は、セットされた基板上にレジストを滴下させてから回
転台を回転して基板にレジストを塗布するようにした塗
布装置に係り、詳しくは、レジストの均一塗布面積の割
合を拡大できるようにした装置に関するものである。

（従来の技術） 従来のこの種のレジスト塗布装置としては１例えば本願
発明者が提案した特開昭６：ｌ−５１６３８号公報に記
載されたものがある。これは第４図に示すように構成さ
れており、モータＡによりて一定方向に回転駆動される
回転台Ｂの上面に基板Ｃをセットし、セ・ントされた基
板Ｃを回転台Ｂとともに回転させつつ、基板Ｃの回転中
心上面にレジストを滴下させることにより、遠心力を利
用して滴下されたレジストを基板Ｃの上面に一様に拡散
塗布するようにしたものである。

（発明か解決しようとする課Ｂ） このようなレジストの塗布装置によれば、遠心力を利用
してレジストを拡散させることができるのて塗布厚さを
均一化し易いという利点がある。

しかしながら現在使用されているフォトマスクは角型の
ものか多く、従って、基板Ｃの回転に伴って基板Ｃの角
から飛び出したレジストか次の角部に乗って一部乾燥し
てしまうために、基板Ｃに内接する円の外側の領域ては
レジストの塗布厚さか大きくなってしまうという問題が
あった。

このために、超ＬＳＩの集積度か高くなるにつれてレチ
クルパターンも大きくなっている現状においては、均一
塗布面積の割合を大きくすることか有効てあり、何等か
の改善か要望されていた。

本発明はこのような実情に鑑みてなされたものであり、
レジストの均一塗布面積を従来に比較して飛躍的に拡大
させることかてきるレジストの塗布装置を提供すること
を目的としている。

（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するために本発明では、基板かセットさ
れる回転台を平面円形に形成し、基板の外側に突出する
回転台の外周縁で該回転台の回転に伴って下方に向かう
気流を誘起させる羽根を構成し、かつ、該羽根の上縁を
前記基板の上面より上方に突出させたことを特徴として
いる。

（作用） このように構成されたレジスト塗布装置においては、セ
ットされた基板を回転台とともに低速で回転させつつ（
例えば１０１００ｒｐ　、その上面中心にレジストを滴
下し、しかる後に回転台を高速て回転させる（例えば：
ｌ１０００ｒｐ　）。一方、セットされた基板を静止さ
せてレジストを滴下した後に回転台を高速で回転すると
、滴下されたレジストか遠心力により次第に外周に向っ
て拡散して基板の上面に塗布される。

又１回転台か回転するとその外周縁を構成する羽根によ
って下方に向かう気流か形成され、しかも、このように
気流を形成する羽根の旧縁を前記基板の上面より上方に
突出させている。従って、回転に伴って基板の角から飛
び出したレジストは、回転台の外周縁を形成する羽根に
よって下方に誘導される。このために、基板に内接する
円の外側の領域においても、基板の外周のごく一部を除
いてレジストの塗布厚さか均一となり、レチクルパター
ンの大型化に有効である。

（実施例） 以下に本発明の実施例を第１図から第３図に基いて詳細
に説明する。

第１図は本発明に使用される回転台を示す平面図、第２
図は同じく側面図、第３図は全体の機略図であり、基板
１か上面にセットされる回転台２を前記基板１か内接す
る円より大きな平面円形に形成している。又、基板１の
外側に突出する回転台２の外周縁で、該回転台２の回転
に伴って下方への気流を誘起させる羽根３．３を構成し
、しかも、この羽根３．３の上縁を前記基板ｌの上面よ
りも寸法ａだけ上方に突出させている。

尚、前記回転台２は駆動軸４かモータ５によって回転駆
動されるようになっており、又、回転台２は容器６内に
収容されている。又、前記基板ｌの中央上方には図示し
ないノズルを臨ませることにより、回転台２とともに回
転する基板１の上面中央にレジストを滴下供給できるよ
うにしている。

このように構成されたレジストの塗布装置においては、
回転台２の上面に基板１をセットし、回転台２を回転さ
せつつ基板ｌの上面中央にレジストを滴下供給するか、
あるいは、セットされた基板ｌを静止させたままてレジ
シトを滴下する。

ところて、回転台２の外周縁には羽根３，３か設けられ
ているために、回転台２か回転するとその外周部分に下
方に向かう気流が誘起される。

又、前記羽根３，３の上縁を基板ｌの上面よりも上方に
突出させているために、回転に伴って基板ｌの角から飛
び出したレジストか羽根３，３による直接的な掻落し作
用て強制移動され、あるいは１羽根３．３によって誘起
されている気流の吸引作用で下方に誘導される。従って
、基板ｌの角から飛び出したレジストか次の角に乗るよ
うなことかなく、基板ｌの外周近傍まてレジストの塗布
厚さか均一になる。

発明者の実験 回転台の上面に１２７＋ａｍ角のハートマスクブランク
をセットして回転台を１１００ｒｐで回転させつつ、そ
の上面中央に２ｃｃのＥＢ用レジストを滴下した後、３
，０００ｒｐｍて回転台を回転させたところ、塗布され
たレジスト厚は角型基板の周縁５ｍ１１を除いてｓ、ｏ
ｏｏ人±８０人てあった。

又、回転台の上面に：１００ｖ＋＋Ｘ　４００ｍｍの基
板をセットして８ｃｃのポジ型フォトレジストを滴下し
た後にこれを８００ｒｐｍて回転させたところ、塗布さ
れたレジストの厚さは基板の外周縁１０ｍｍを除いて１
０．０００人±２００人てあった。

（発明の効果） 以上説明したように本発明によれば、基板かセットされ
る回転台を平面円形とし、これによって基板の外周に突
出する回転台の外周縁で羽根を構成することにより、回
転台の回転によって下方に向かう気流を誘起し、しかも
、前記羽根の上縁を前記基板の上面より上方に突出させ
ているのて１回転に伴って基板の角から飛び出したレジ
ストか確実に下方に誘導される。従って、従来のように
基板の角から飛び出したレジストが次の角に乗ってしま
うことがなく、基板のごく外周を除いた大部分の領域の
レジスト塗布厚さを均一にすることがてきる。

又、このようなレジストの均一厚さの塗布領域の割合は
基板が大型化するほど大きくなるために、精度か要求さ
れる大型の基板へのレジストの塗布に有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に使用される回転台の一実施例を示す平
面図、 第２図は同じく側面図、 第３図は塗布装置の概略を表わす側面図、第４図は従来
のレジスト塗布装置を示す構成図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）回転台に基板をセットし、回転台を回転させつつ
   セットされた基板上にレジストを滴下させ、あるいは、
   セットされた基板上にレジストを滴下させてから回転台
   を回転して基板にレジストを塗布するようにした塗布装
   置において、前記回転台を平面円形に形成し、前記基板
   の外側に突出する回転台の外周縁で該回転台の回転に伴
   って下方に向かう気流を誘起させる羽根を構成とすると
   共に、該羽根の上縁を前記基板の上面より上方に突出さ
   せたことを特徴とするフォトエッチングのレジスト塗布
   装置。