JPH0265209A - 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 - Google Patents
還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器Info
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Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及
び磁器に関する。
び磁器に関する。
[従来の技術]
半導体磁器コンデンサの1種として還元再酸化型半導体
磁器コンデンサか知られている。この還元再酸化型半導
体磁器コンデンサの誘電体はチタン酸バリウム系磁器か
ら成り、例えば特公昭63−28492号公報に開示さ
れているように、炭酸バリウム(B a CO2>と酸
化チタン(TiO2)と希土類元素の酸化物(Nd、P
r、Sm、Eu、Gd、Dy、Laの酸化物の少なくと
も1種)と、Cr、Mn、Fe、Co及びNiの内の少
なくとも1種の酸化物とから成る混合物(原料組成物)
を用意し、この成形体を形成し、これを酸化性雰囲気中
で焼結させ、得られた焼結体を還元性雰囲気で加熱処理
し、更に酸化性雰囲気中で加熱処理く再酸化処理)して
得る。
磁器コンデンサか知られている。この還元再酸化型半導
体磁器コンデンサの誘電体はチタン酸バリウム系磁器か
ら成り、例えば特公昭63−28492号公報に開示さ
れているように、炭酸バリウム(B a CO2>と酸
化チタン(TiO2)と希土類元素の酸化物(Nd、P
r、Sm、Eu、Gd、Dy、Laの酸化物の少なくと
も1種)と、Cr、Mn、Fe、Co及びNiの内の少
なくとも1種の酸化物とから成る混合物(原料組成物)
を用意し、この成形体を形成し、これを酸化性雰囲気中
で焼結させ、得られた焼結体を還元性雰囲気で加熱処理
し、更に酸化性雰囲気中で加熱処理く再酸化処理)して
得る。
[発明が解決しようとする課題]
上述の還元再酸化型半導体磁器コンデンサは、小型化、
大容量化が図れ、且つ高い耐電圧を得ることができると
いう特長を有する。しかし、従来の磁器組成物では高耐
電圧を保ったままより一層の大容量化を図ることが困離
であった。即ち、絶縁破壊電圧Vbdを例えは600v
以上にしようとすると、単位面積当りの静電容量Cが0
,3〜0.6μF/Cm2程度に低下し、逆に容量Cを
0.7μF / c m 2以上にしようとすると、絶
縁破壊電圧Vbdが300〜400■程度に低下した。
大容量化が図れ、且つ高い耐電圧を得ることができると
いう特長を有する。しかし、従来の磁器組成物では高耐
電圧を保ったままより一層の大容量化を図ることが困離
であった。即ち、絶縁破壊電圧Vbdを例えは600v
以上にしようとすると、単位面積当りの静電容量Cが0
,3〜0.6μF/Cm2程度に低下し、逆に容量Cを
0.7μF / c m 2以上にしようとすると、絶
縁破壊電圧Vbdが300〜400■程度に低下した。
そこで、本発明の目的は、絶縁破壊電圧Vbdが500
V以上、単位面積当りの静電容量Cか06μF/Cm2
以上の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得ることか
可能な磁器組成物及び磁器を堤供することにある。
V以上、単位面積当りの静電容量Cか06μF/Cm2
以上の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得ることか
可能な磁器組成物及び磁器を堤供することにある。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するための本発明は、10000重量部
の主成分と、Mn(マンガン)に換算して0.03〜0
.30重量部のMn化合物と、0.01〜0.20重量
部の81203 (酸化ビスマス)とから成り、前記主
成分が81.5〜96.5モル%のB I T iO3
(チタン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算して
1.0〜4.0モル%のしa 203 <酸化ランタン
)と、Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、Nd
(ネオジム)、Sm(サマリウム)及びY(イツトリウ
ム)の内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算し
て0,5〜3,0モル%の前記希土類元素の酸化物と、
2.0〜11.5モル%のT i O2(酸化チタン)
とから成ることを特徴とする還元再酸化型半導体磁器コ
ンデンサ用磁器組成物に係わるものである。
の主成分と、Mn(マンガン)に換算して0.03〜0
.30重量部のMn化合物と、0.01〜0.20重量
部の81203 (酸化ビスマス)とから成り、前記主
成分が81.5〜96.5モル%のB I T iO3
(チタン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算して
1.0〜4.0モル%のしa 203 <酸化ランタン
)と、Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、Nd
(ネオジム)、Sm(サマリウム)及びY(イツトリウ
ム)の内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算し
て0,5〜3,0モル%の前記希土類元素の酸化物と、
2.0〜11.5モル%のT i O2(酸化チタン)
とから成ることを特徴とする還元再酸化型半導体磁器コ
ンデンサ用磁器組成物に係わるものである。
なお、上記磁器組成物を焼成及び熱処理することにより
、請求項2に示す磁器を得ることかできる。
、請求項2に示す磁器を得ることかできる。
[作 用]
本発明に従う磁器組成物によって還元再酸化型半導体磁
器コンデンサを作製すると、500■以上の絶縁破壊電
圧Vbdを有し且つ0゜6μF / cm2以上の単位
面積当りの静電容量Cを得ることができる。
器コンデンサを作製すると、500■以上の絶縁破壊電
圧Vbdを有し且つ0゜6μF / cm2以上の単位
面積当りの静電容量Cを得ることができる。
[実施例コ
次に、本発明の詳細な説明する。
第1表の試料No、 1の組成物の主成分を得るために
、 B a T i O3を2000.OOg <90.8
モル%)、 La2O3を29.23g (Laに換算して1゜9モ
ル%)、 Nd2O3を12.71g (Ndに換算して0゜8モ
ル%)、 Ce O2を11.38g (Ceに換算して0゜7モ
ル%)、 Pr2o3を9.34g (Prに換算して06モル%
)、 T 102を39.24g (5,2モル%)秤量した
。即ち、B a T i O3の90.8モル%と、L
aの1.9モル%と、Ndの0.8モル%と、Ceの0
゜7モル%と、Prの0.6モル%と、T z O2の
5.2モル%との和が100モル%となるようにBaT
i0 La2O3、Nd3゛ 203、Ce OP r OT iO2を秤量2゛
23’ した。
、 B a T i O3を2000.OOg <90.8
モル%)、 La2O3を29.23g (Laに換算して1゜9モ
ル%)、 Nd2O3を12.71g (Ndに換算して0゜8モ
ル%)、 Ce O2を11.38g (Ceに換算して0゜7モ
ル%)、 Pr2o3を9.34g (Prに換算して06モル%
)、 T 102を39.24g (5,2モル%)秤量した
。即ち、B a T i O3の90.8モル%と、L
aの1.9モル%と、Ndの0.8モル%と、Ceの0
゜7モル%と、Prの0.6モル%と、T z O2の
5.2モル%との和が100モル%となるようにBaT
i0 La2O3、Nd3゛ 203、Ce OP r OT iO2を秤量2゛
23’ した。
また、添加成分としてM n CO3(炭酸マンガン)
を4−40 g 、81203を2.10g秤量した。
を4−40 g 、81203を2.10g秤量した。
なお、上記主成分の合計重量と4.40gのM n C
O3との割合は、100重量部の上記主成分と0.1重
量部のMnとの割合に対応する。
O3との割合は、100重量部の上記主成分と0.1重
量部のMnとの割合に対応する。
また、上記主成分の合計重量と2.10gのBi2O3
との割合は、100重量部の上記主成分と0.1重量部
のBi2o3との割合に対応する。
との割合は、100重量部の上記主成分と0.1重量部
のBi2o3との割合に対応する。
要するに、100重量部の主成分に対してMnか0.1
重量部、Bi2Q3が0.1重量部となるようにMnC
0とBi2O3とを秤量した。
重量部、Bi2Q3が0.1重量部となるようにMnC
0とBi2O3とを秤量した。
次に、上記主成分及び添加成分を湿式混合し、脱水乾燥
後有機バインダを入れて混練し、しかる後、外径1.5
1、内径0.911II11、厚み0.3nun、長さ
3.71′I1mの円筒状成型体を得た。
後有機バインダを入れて混練し、しかる後、外径1.5
1、内径0.911II11、厚み0.3nun、長さ
3.71′I1mの円筒状成型体を得た。
次に、得られた成型体を大気中1320℃で2時間焼成
して誘電体(絶縁体)磁器の焼結体を得、この誘電体磁
器を還元性雰囲気中1050℃で2時間熱処理(半導体
化処理)して半導体磁器に変化させ、更に得られた半導
体磁器を大気中970°Cで1時間熱処理(再酸化処理
)を行って図面で原理的に示すように半導体磁器1の表
面に誘電体層2を作った。なお、半導体磁器1の組成は
原料組成に対応している。また、表面誘電体層2は半導
体磁器1の酸化物から成る。
して誘電体(絶縁体)磁器の焼結体を得、この誘電体磁
器を還元性雰囲気中1050℃で2時間熱処理(半導体
化処理)して半導体磁器に変化させ、更に得られた半導
体磁器を大気中970°Cで1時間熱処理(再酸化処理
)を行って図面で原理的に示すように半導体磁器1の表
面に誘電体層2を作った。なお、半導体磁器1の組成は
原料組成に対応している。また、表面誘電体層2は半導
体磁器1の酸化物から成る。
次に、表面誘電体層2の上に銀(Ag)ペーストを塗布
し、850℃で10分間焼付けることによって一対の電
極3.4を形成し、半導体磁器コンデンサを完成させた
。
し、850℃で10分間焼付けることによって一対の電
極3.4を形成し、半導体磁器コンデンサを完成させた
。
得られたコンデンサの電極3.4にそれぞれリード線を
半田付けし、単位面積当りの静電容量C1tanδ、絶
縁抵抗IR2絶縁破壊電圧Vbdを測定したところ、第
2表に示すように、Cは072 μF / c m 2
、tanδは3,2%、IRは2X104MΩ、Vbd
は700■であった。
半田付けし、単位面積当りの静電容量C1tanδ、絶
縁抵抗IR2絶縁破壊電圧Vbdを測定したところ、第
2表に示すように、Cは072 μF / c m 2
、tanδは3,2%、IRは2X104MΩ、Vbd
は700■であった。
なお、C及びtanδは測定電圧0.1v、測定周波数
1kH2の条件で測定し、IRは直流電圧50Vを15
秒間印加した後に測定し、Vbdは直流昇圧破壊方式で
測定しな。
1kH2の条件で測定し、IRは直流電圧50Vを15
秒間印加した後に測定し、Vbdは直流昇圧破壊方式で
測定しな。
試料No、 2〜39においても、組成を第1表に示す
ように変えた他は試料No、 1と同一方法でコンデン
サを作り、同一方法で電気的特性を測定しな6磁器組成
物の組成を示す第1表において、生成分のBaTiO3
とLaとXとT 102はモル%で示されている。主成
分に含まれているXはCe、Pr、Nd、Sm、Yの内
の少なくとも1種から成る希土類元素である。添加成分
のMn及びBi2O3は主成分100重量部に対する添
加重量部で示されている。
ように変えた他は試料No、 1と同一方法でコンデン
サを作り、同一方法で電気的特性を測定しな6磁器組成
物の組成を示す第1表において、生成分のBaTiO3
とLaとXとT 102はモル%で示されている。主成
分に含まれているXはCe、Pr、Nd、Sm、Yの内
の少なくとも1種から成る希土類元素である。添加成分
のMn及びBi2O3は主成分100重量部に対する添
加重量部で示されている。
■
第1表及び第2表から明らかなように、本発明に従う組
成物によれば、絶縁破壊電圧Vbdか500〜800■
、単位面積当りの静電容置か06〜0.8μF/cm2
のコンデンサを得ることができる。
成物によれば、絶縁破壊電圧Vbdか500〜800■
、単位面積当りの静電容置か06〜0.8μF/cm2
のコンデンサを得ることができる。
一方、試料No、 2.6.20.21.23.26.
27.30.31.35.36.39では本発明の目的
を達成することができない。従って、これ等は本発明の
範囲外のものであり、比較例として掲載されている。
27.30.31.35.36.39では本発明の目的
を達成することができない。従って、これ等は本発明の
範囲外のものであり、比較例として掲載されている。
次に組成の限定理由を説明する。
I、 aが1.0モル%未満になると、I−aの添加効
果が小さくなり過ぎてコンデンサの絶縁破壊電圧Vbd
か目標値よりも低くなる。一方、1. aか4.0モル
%よりも多くなると、表面誘電体層2の誘電率か低くな
り、単位面積当りの静電容量Cが目標値よりも小さくな
る。従って、L、 aの好ましい範囲は10〜4.0モ
ル%である。
果が小さくなり過ぎてコンデンサの絶縁破壊電圧Vbd
か目標値よりも低くなる。一方、1. aか4.0モル
%よりも多くなると、表面誘電体層2の誘電率か低くな
り、単位面積当りの静電容量Cが目標値よりも小さくな
る。従って、L、 aの好ましい範囲は10〜4.0モ
ル%である。
X (Ce、Pr、Nd、Srn、Yの少なくとも1種
)か1種又は複数種の合計で0.5モル%未] 8 溝になると、表面誘電体層2の誘電率を上げる効果を十
分に得ることができなくなり、静電容量Cが目標値未満
になる。一方、Xが3,0モル%よりも多くなると、絶
縁破壊電圧Vbdが目標値よりも低くなる。従ってXの
好ましい範囲は0.5〜3.0モル%である。
)か1種又は複数種の合計で0.5モル%未] 8 溝になると、表面誘電体層2の誘電率を上げる効果を十
分に得ることができなくなり、静電容量Cが目標値未満
になる。一方、Xが3,0モル%よりも多くなると、絶
縁破壊電圧Vbdが目標値よりも低くなる。従ってXの
好ましい範囲は0.5〜3.0モル%である。
B a T > 03を81.5〜96.5モル%の範
囲外及びT 102を2.0〜11.5モル%の範囲外
にすると、焼結性が悪くなり、静電容量C及び絶縁破壊
電圧Vbdが低下する。
囲外及びT 102を2.0〜11.5モル%の範囲外
にすると、焼結性が悪くなり、静電容量C及び絶縁破壊
電圧Vbdが低下する。
Mnを0.03重量部未満にすると、表面誘電体層2を
均一に形成することが困難になり、絶縁破壊電圧Vbd
が低下する。Mnを0.30重量部よりも多くすると、
表面誘電体層2を薄く形成することが困難になり、絶縁
破壊電圧Vbdを高く保ったまま静電容量Cを高くする
ことがきない。
均一に形成することが困難になり、絶縁破壊電圧Vbd
が低下する。Mnを0.30重量部よりも多くすると、
表面誘電体層2を薄く形成することが困難になり、絶縁
破壊電圧Vbdを高く保ったまま静電容量Cを高くする
ことがきない。
従って、Mnの好ましい範囲は0.03〜0.30重量
部である。
部である。
Bi2O3は焼結性を改善する成分であるが、このBi
2O3が0.01重量部未満だと、焼結住改善効果をほ
とんど期待することができず、静電容量C及び絶縁破壊
電圧の向上を望めない。Bi2O3が0.20重量部よ
りも多くなると、焼結性が逆に悪くなる。従って、Bi
2O3の好ましい範囲は0.01〜0.20重量部であ
る。
2O3が0.01重量部未満だと、焼結住改善効果をほ
とんど期待することができず、静電容量C及び絶縁破壊
電圧の向上を望めない。Bi2O3が0.20重量部よ
りも多くなると、焼結性が逆に悪くなる。従って、Bi
2O3の好ましい範囲は0.01〜0.20重量部であ
る。
[変形例]
本発明は上述の実施例に限定されるものでなく、例えば
次の変形が可能なものである。
次の変形が可能なものである。
<1) MnC0の代りにM n O2を使用しても
よい。
よい。
(2) 酸化性雰囲気による焼成(焼結)時の温度を1
260〜1400°C1還元性雰囲気の加熱処理温度を
900〜1180℃、再酸化処理の温度を900〜11
00℃の範囲で変えることができる。
260〜1400°C1還元性雰囲気の加熱処理温度を
900〜1180℃、再酸化処理の温度を900〜11
00℃の範囲で変えることができる。
(3) BaTi0 の代りにB a CO3とT
10□を出発材料としてもよい。
10□を出発材料としてもよい。
(4) 電極3,4の内の一方の下の誘電体層2を省く
ことができる。
ことができる。
[発明の効果]
上述のように本発明によれば、絶縁破壊電圧が500v
以上、単位面積当りの静電容量が0.6μF / c
m 2以上の半導体磁器コンデンサを提供することが可
能になる。
以上、単位面積当りの静電容量が0.6μF / c
m 2以上の半導体磁器コンデンサを提供することが可
能になる。
図面は本発明の実施例に係わる磁器コンデンサを原理的
に示す断面図である。 1・・・半導体磁器、2・・・表面誘電体層、3.4・
・・@極。
に示す断面図である。 1・・・半導体磁器、2・・・表面誘電体層、3.4・
・・@極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]100.00重量部の主成分と、Mn(マンガン
)に換算して0.03〜0.30重量部のMn化合物と
、0.01〜0.20重量部のBi_2O_3(酸化ビ
スマス)とから成り、前記主成分が81.5〜96.5
モル%のBaTiO_3(チタン酸バリウム)と、La
(ランタン)に換算して1.0〜4.0モル%のLa_
2O_3(酸化ランタン)と、Ce(セリウム)、Pr
(プラセオジム)、Nd(ネオジム)、Sm(サマリウ
ム)及びY(イットリウム)の内の少なくとも1種から
成る希土類元素に換算して0.5〜3.0モル%の前記
希土類元素の酸化物と、2.0〜11.5モル%のTi
O_2(酸化チタン)とから成ることを特徴とする還元
再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物。 [2]100重量部の主成分と、0.03〜0.30重
量部のMnと、Bi_2O_3に換算して0.01〜0
.20重量部のBiとを含有している半導体磁器と、前
記半導体磁器の表面に形成された前記半導体磁器の酸化
物から成る誘電体層とから成り、 前記主成分が81.5〜96.5モル%のBaTiO_
3と、1.0〜4.0モル%のLaと、0.5〜3.0
モル%のX(但し、XはCe、Pr、Nd、Sm及びY
の内の少なくとも1種の希土類元素)と、TiO_2に
換算して2.0〜11.5モル%のTiとを含むもので
あることを特徴とする還元再酸化型半導体コンデンサ用
磁器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21697288A JPH0265209A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21697288A JPH0265209A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0265209A true JPH0265209A (ja) | 1990-03-05 |
| JPH0451964B2 JPH0451964B2 (ja) | 1992-08-20 |
Family
ID=16696805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21697288A Granted JPH0265209A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0265209A (ja) |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP21697288A patent/JPH0265209A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0451964B2 (ja) | 1992-08-20 |
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