JPH0265212A - 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 - Google Patents
還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及
び磁器に関する。
び磁器に関する。
[従来の技術]
半導体磁器コンデンサめ1種として還元再酸化型半導体
磁器コンデンサが知られている。この還元再酸化型半導
体磁器コンデンサの誘電体はチタン酸バリウム系磁器か
ら成り、例えば特公昭6328492号公報に開示され
ているように、炭酸バリウム(B a CO2>と酸化
チタン(TiO2)と希土類元素の酸化物(Nd、Pl
−1Sm、Eu、Gd、Dy、Laの酸化物の少なくと
も1種)と、Cr、Mn、Fe、Co及びNiの内の少
なくとも1種の酸化物とから成る混合物(原料組成物)
を用意し、この成形体を形成し、これを酸化性雰囲気中
で焼結させ、得られた焼結体を還元性雰囲気で加熱処理
し、更に酸化性雰囲気中で加熱処理(再酸化処理)して
得る。
磁器コンデンサが知られている。この還元再酸化型半導
体磁器コンデンサの誘電体はチタン酸バリウム系磁器か
ら成り、例えば特公昭6328492号公報に開示され
ているように、炭酸バリウム(B a CO2>と酸化
チタン(TiO2)と希土類元素の酸化物(Nd、Pl
−1Sm、Eu、Gd、Dy、Laの酸化物の少なくと
も1種)と、Cr、Mn、Fe、Co及びNiの内の少
なくとも1種の酸化物とから成る混合物(原料組成物)
を用意し、この成形体を形成し、これを酸化性雰囲気中
で焼結させ、得られた焼結体を還元性雰囲気で加熱処理
し、更に酸化性雰囲気中で加熱処理(再酸化処理)して
得る。
[発明が解決しようとする課題]
上述の還元再酸化型半導体磁器コンデンサは、小型化、
大容量化が図れ、且つ高い耐電圧を得ることかできると
いう特長を有する。しかし、従来の磁器組成物では高耐
電圧を保ったままより一層の大容量化を図ることか困難
であった。即ち、絶縁破壊電圧Vbdを例えば600V
以上にしようとすると、単位面積当りの静電容量Cが0
.3〜0.6μF/cm2程度に低下し、逆に容量Cを
0.7μF / c m 2以上にしようとすると、絶
縁破壊電圧Vbdが300〜400V程度に低下した。
大容量化が図れ、且つ高い耐電圧を得ることかできると
いう特長を有する。しかし、従来の磁器組成物では高耐
電圧を保ったままより一層の大容量化を図ることか困難
であった。即ち、絶縁破壊電圧Vbdを例えば600V
以上にしようとすると、単位面積当りの静電容量Cが0
.3〜0.6μF/cm2程度に低下し、逆に容量Cを
0.7μF / c m 2以上にしようとすると、絶
縁破壊電圧Vbdが300〜400V程度に低下した。
そこで、本発明の目的は、絶縁破壊電圧Vbdが500
V以上、単位面積当りの静電容量Cか06μF / c
m 2以上の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得
ることか可能な磁器組成物及び磁器を提供することにあ
る。
V以上、単位面積当りの静電容量Cか06μF / c
m 2以上の還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得
ることか可能な磁器組成物及び磁器を提供することにあ
る。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するための本発明は、100゜00重量
部の主成分と、Mn(マンカン)に換算して0.03〜
0.30重量部のMn化合物とから成り、前記主成分が
815〜96.5モル%のB a T z O3(チタ
ン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算して1.0
〜40モル%のL a 2O3 (酸化ランタン)と、
Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、Nd(ネオ
ジム)、Sm(サマリウム)及びY(イツトリウム)の
内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算して05
〜3.0モル%の前記希土類元素の酸化物と、1.9〜
10.0モル%のT io 2 (酸化チタン)と、0
.1〜1.5モル%のCa Z r O3(ジルコン酸
カルシウム)とから成ることを特徴とする還元再酸化型
半導体磁器コンデンサ用磁器組成物に係わるものである
。
部の主成分と、Mn(マンカン)に換算して0.03〜
0.30重量部のMn化合物とから成り、前記主成分が
815〜96.5モル%のB a T z O3(チタ
ン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算して1.0
〜40モル%のL a 2O3 (酸化ランタン)と、
Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、Nd(ネオ
ジム)、Sm(サマリウム)及びY(イツトリウム)の
内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算して05
〜3.0モル%の前記希土類元素の酸化物と、1.9〜
10.0モル%のT io 2 (酸化チタン)と、0
.1〜1.5モル%のCa Z r O3(ジルコン酸
カルシウム)とから成ることを特徴とする還元再酸化型
半導体磁器コンデンサ用磁器組成物に係わるものである
。
なお、上記磁器組成物を焼成及び熱処理することにより
、請求項2に示す磁器を得ることかできる。
、請求項2に示す磁器を得ることかできる。
[作 用]
本発明に従う磁器組成物によって還元再酸化型半導体磁
器コンデンサを作製すると、500V以上の絶縁破壊電
圧Vbdを有し且つ0.6μF / cm2以上の単位
面積当りの静電容量Cを得ることができる。
器コンデンサを作製すると、500V以上の絶縁破壊電
圧Vbdを有し且つ0.6μF / cm2以上の単位
面積当りの静電容量Cを得ることができる。
[実施例]
次に、本発明の詳細な説明する。
第1表の試料No、 1の組成物の主成分を得るために
、 B a T i O3を2O00.OOg <90.8
モル%)、 La2O3を29.23g (Laに換算して19モル
%)、 Nd2O3を12.71.g(Ndに換算して08モル
%)、 Ce O2を11.38g (Ceに換算して0□7モ
ル%)、 Pr2O3をq−34g (Prに換算して0゜6モル
%)、 T 102を31.69g (4,2モル%)、Ca
Z r O3を16.93g (1,0モル%)秤量し
た。即ち、BaTiO3の90,8モル%と、Laの1
.9モル%と、Ndの0,8モル%と、Ceの0.7モ
ル%と、Pl−の0.6モル%と、T iO2の4.2
モル%と、CaZrO3の1.0モルとの和か100モ
ル%となるようにBaTi0 La ONd
OCeO2,3’ 23゛ 23− Pr OTiOCaZrO3を秤量した。
、 B a T i O3を2O00.OOg <90.8
モル%)、 La2O3を29.23g (Laに換算して19モル
%)、 Nd2O3を12.71.g(Ndに換算して08モル
%)、 Ce O2を11.38g (Ceに換算して0□7モ
ル%)、 Pr2O3をq−34g (Prに換算して0゜6モル
%)、 T 102を31.69g (4,2モル%)、Ca
Z r O3を16.93g (1,0モル%)秤量し
た。即ち、BaTiO3の90,8モル%と、Laの1
.9モル%と、Ndの0,8モル%と、Ceの0.7モ
ル%と、Pl−の0.6モル%と、T iO2の4.2
モル%と、CaZrO3の1.0モルとの和か100モ
ル%となるようにBaTi0 La ONd
OCeO2,3’ 23゛ 23− Pr OTiOCaZrO3を秤量した。
23”2’
また、添加成分としてM n CO3(炭酸マンガン)
を4.42g秤量しな。なお、上記主成分の合計重量と
4.42gのM n CO3との割合は、100重量部
の上記主成分と0.1重量部のMnとの割合に対応する
。要するに、100重量部内主成分に対してMnが0.
1重量部となるようにM n C03を秤量しな。
を4.42g秤量しな。なお、上記主成分の合計重量と
4.42gのM n CO3との割合は、100重量部
の上記主成分と0.1重量部のMnとの割合に対応する
。要するに、100重量部内主成分に対してMnが0.
1重量部となるようにM n C03を秤量しな。
次に、上記主成分及び添加成分を湿式混合し7、脱水乾
燥後有機バインダを入れて混練し、しかる後、外径1.
5mm、内径0.9mT1、厚みO,1mm、長さ3.
7mmの円筒状成型体を得た。
燥後有機バインダを入れて混練し、しかる後、外径1.
5mm、内径0.9mT1、厚みO,1mm、長さ3.
7mmの円筒状成型体を得た。
次に、得られた成型体を大気中132O’Cで2時間焼
成して誘電体(絶縁体)磁器の焼結体を得、この誘電体
磁器を還元性雰囲気中1050”Cで2時間熱処理(半
導体化処理)して半導体磁器に変化させ、更に得られた
半導体磁器を大気中970°Cで1時間熱処理(再酸化
処理)を行って図面で原理的に示すように半導体磁器1
の表面に誘電体層2を作った。なお、半導体磁器1の組
成は原料組成に対応している。まな、表面誘電体層2は
半導体磁器1の酸化物がら成る。
成して誘電体(絶縁体)磁器の焼結体を得、この誘電体
磁器を還元性雰囲気中1050”Cで2時間熱処理(半
導体化処理)して半導体磁器に変化させ、更に得られた
半導体磁器を大気中970°Cで1時間熱処理(再酸化
処理)を行って図面で原理的に示すように半導体磁器1
の表面に誘電体層2を作った。なお、半導体磁器1の組
成は原料組成に対応している。まな、表面誘電体層2は
半導体磁器1の酸化物がら成る。
次に、表面誘電体層2の上に銀(Ag)ペーストを塗布
し、850°Cて1o分間焼付けることによって一対の
電lff!3.4を形成し、半導体磁器コンデンサを完
成させた。
し、850°Cて1o分間焼付けることによって一対の
電lff!3.4を形成し、半導体磁器コンデンサを完
成させた。
得られたコンデンサの電極3.4にそれぞれリード線を
半田付けし、m位面積当りの静電容量C2tanδ、絶
縁抵抗IR2絶縁破壊電圧Vbdを測定しなところ、第
2表に示すように、Cは0゜75 )t、 P / c
m 2、t a、 nδは3,1%、IRは1、.9
Xi04MΩ、Vbdは72O■であった。
半田付けし、m位面積当りの静電容量C2tanδ、絶
縁抵抗IR2絶縁破壊電圧Vbdを測定しなところ、第
2表に示すように、Cは0゜75 )t、 P / c
m 2、t a、 nδは3,1%、IRは1、.9
Xi04MΩ、Vbdは72O■であった。
なお、C及びt a、 nδは測定電圧0.IV、測定
周波数1 k T−f Zの条件で測定し、IRは直流
電圧50Vを15秒間印加した後に測定し、Vbdは直
流R圧破壊方式で測定しな。
周波数1 k T−f Zの条件で測定し、IRは直流
電圧50Vを15秒間印加した後に測定し、Vbdは直
流R圧破壊方式で測定しな。
試料No、 2 ヘ−39においても、組成を第1表に
示すように変えた他は試料No、 1と同一方法でコン
デンサを作り、同一方法で電気的特性を測定した。
示すように変えた他は試料No、 1と同一方法でコン
デンサを作り、同一方法で電気的特性を測定した。
磁器組成物の組成を示す第1表において、主成分のB
a T + 03とLaとXとT 102とCaZl−
03はモル%で示されている。主成分に含まれているX
はCe、Pr、Nd、Sm、Yの内の少なくとも1種か
ら成る希土類元素である。添加成分めM nは主成分1
00重量部に対する添加重量部で示されている。
a T + 03とLaとXとT 102とCaZl−
03はモル%で示されている。主成分に含まれているX
はCe、Pr、Nd、Sm、Yの内の少なくとも1種か
ら成る希土類元素である。添加成分めM nは主成分1
00重量部に対する添加重量部で示されている。
第1表及び第2表から明らかなように、本発明に従う組
成物によれは、絶縁破壊電圧Vbdが500〜800■
、単位面積当りの静電容量が0゜6〜0,8μF /
c m 2のコンデンサを得ることができる。
成物によれは、絶縁破壊電圧Vbdが500〜800■
、単位面積当りの静電容量が0゜6〜0,8μF /
c m 2のコンデンサを得ることができる。
一方、試料No、 2.6.2O.21.23.26.
27.30.31.34.35.39では本発明の目的
を達成することができない。従って、これ等は本発明の
範囲外のものであり、比較例として掲載されている。
27.30.31.34.35.39では本発明の目的
を達成することができない。従って、これ等は本発明の
範囲外のものであり、比較例として掲載されている。
次に組成の限定理由を説明する。
Laが1.0モル%未満になると、Laの添加効果が小
さくなり過ぎてコンデンサの絶縁破壊電圧Vbdが目標
値よりも低くなる。一方、Laか4.0モル%よりも多
くなると、表面誘電体層2の誘電率が低くなり、単位面
積当りの静電容量Cか目標値よりも小さくなる。従って
、Laの好ましい範囲は1,0〜4.0モル%である。
さくなり過ぎてコンデンサの絶縁破壊電圧Vbdが目標
値よりも低くなる。一方、Laか4.0モル%よりも多
くなると、表面誘電体層2の誘電率が低くなり、単位面
積当りの静電容量Cか目標値よりも小さくなる。従って
、Laの好ましい範囲は1,0〜4.0モル%である。
X (Ce、Pr、Nd、Sm、Yの少なくとも1種)
か1種又は複数種の合計で0.5モル%未溝になると、
表面誘電体層2の誘電率を上げる効果を十分に得ること
ができなくなり、静電容量Cが目標値未満になる。一方
、Xが3.0モル%よりも多くなると、絶縁破壊電圧V
bdが目標値よりも低くなる。従ってXの好ましい範囲
は0.5〜3.0モル%である。
か1種又は複数種の合計で0.5モル%未溝になると、
表面誘電体層2の誘電率を上げる効果を十分に得ること
ができなくなり、静電容量Cが目標値未満になる。一方
、Xが3.0モル%よりも多くなると、絶縁破壊電圧V
bdが目標値よりも低くなる。従ってXの好ましい範囲
は0.5〜3.0モル%である。
BaTiO3を81.5〜96.5モル%の範囲外及び
T z O2を1.9〜10.0モル%の範囲外にする
と、焼結性が悪くなり、静電容量C及び絶縁破壊電圧V
bdが低下する。
T z O2を1.9〜10.0モル%の範囲外にする
と、焼結性が悪くなり、静電容量C及び絶縁破壊電圧V
bdが低下する。
CaZrO3は焼結性改善効果を有するか、0゜1モル
%未満だとその効果をほとんど得ることかできす、1,
5モル%を越えると表面誘電体層2の誘電率が下がる。
%未満だとその効果をほとんど得ることかできす、1,
5モル%を越えると表面誘電体層2の誘電率が下がる。
従って、CaZrO3の好ましい範囲は0.1〜1,5
モル%である。
モル%である。
Mnを0.03重量部未満にすると、表面誘電体層2を
均一に形成することが困難になり、絶縁破壊電圧Vbd
が低下する。Mnを0.30重量部よりも多くすると、
表面誘電体層2を薄く形成することが置敷になり、絶縁
破壊電圧Vbdを高く保ったまま静電容量Cを高くする
ことがきない。
均一に形成することが困難になり、絶縁破壊電圧Vbd
が低下する。Mnを0.30重量部よりも多くすると、
表面誘電体層2を薄く形成することが置敷になり、絶縁
破壊電圧Vbdを高く保ったまま静電容量Cを高くする
ことがきない。
従って、Mnの好ましい範囲は0.03〜0.30重量
部である。
部である。
[変形例]
本発明は上述の実施例に限定されるものでなく、例えば
次の変形が可能なものである。
次の変形が可能なものである。
< 1 ) M n CO3の代りにM n O2を
使用してもよい。
使用してもよい。
(2) 酸化性雰囲気による焼成(焼結)時の温度を1
260〜1400 ’C1還元性雰囲気の加熱処理温度
を900〜1180’C1再酸化処理の温度を900〜
1100℃の範囲で変えることかできる。
260〜1400 ’C1還元性雰囲気の加熱処理温度
を900〜1180’C1再酸化処理の温度を900〜
1100℃の範囲で変えることかできる。
(3) BaTiO3の代りにB a CO3とTi
O2を出発材料としてもよい。
O2を出発材料としてもよい。
(4) 電極3,4の内の一方の下の誘電体層2を省く
ことができる。
ことができる。
[発明の効果]
上述のように本発明によれば、絶縁破壊電圧が500v
以上、単位面積当りの静電容量が0.6μF/cm2以
上の半導体磁器コンデンサを提供することが可能になる
。
以上、単位面積当りの静電容量が0.6μF/cm2以
上の半導体磁器コンデンサを提供することが可能になる
。
図面は本発明の実施例に係わる磁器コンデンサを原理的
に示す断面図である。 1・・・半導体磁器、2・・・表面誘電体層、3.4・
・・電極。
に示す断面図である。 1・・・半導体磁器、2・・・表面誘電体層、3.4・
・・電極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]100.00重量部の主成分と、Mn(マンガン
)に換算して0.03〜0.30重量部のMn化合物と
から成り、 前記主成分が81.5〜96.5モル%のBaTiO_
3(チタン酸バリウム)と、La(ランタン)に換算し
て1.0〜4.0モル%のLa_2O_3(酸化ランタ
ン)と、Ce(セリウム)、Pr(プラセオジム)、N
d(ネオジム)、Sm(サマリウム)及びY(イットリ
ウム)の内の少なくとも1種から成る希土類元素に換算
して0.5〜3.0モル%の前記希土類元素の酸化物と
、1.9〜10.0モル%のTiO_2(酸化チタン)
と、0.1〜1.5モル%のCaZrO_3(ジルコン
酸カルシウム)とから成ることを特徴とする還元再酸化
型半導体コンデンサ用磁器組成物。 [2]100重量部の主成分と、0.03〜0.30重
量部のMnとを含有している半導体磁器と、前記半導体
磁器の表面に形成された前記半導体磁器の酸化物から成
る誘電体層とから成り、前記主成分が81.5〜96.
5モル%のBaTiO_3と、1.0〜4.0モル%の
Laと、0.5〜3.0モル%のX(但し、XはCe、
Pr、Nd、Sm及びYの内の少なくとも1種の希土類
元素)と、TiO_2に換算して1.9〜10.0モル
%のTiと、0.1〜1.5モル%のCaZrO_3を
含むものであることを特徴とする還元再酸化型半導体コ
ンデンサ用磁器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21697588A JPH0265212A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21697588A JPH0265212A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0265212A true JPH0265212A (ja) | 1990-03-05 |
| JPH0472367B2 JPH0472367B2 (ja) | 1992-11-18 |
Family
ID=16696851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21697588A Granted JPH0265212A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 還元再酸化型半導体コンデンサ用磁器組成物及び磁器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0265212A (ja) |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP21697588A patent/JPH0265212A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0472367B2 (ja) | 1992-11-18 |
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