JPH0271089A - 加熱炉に於ける被加熱物の加熱方法 - Google Patents

加熱炉に於ける被加熱物の加熱方法

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JPH0271089A
JPH0271089A JP22562887A JP22562887A JPH0271089A JP H0271089 A JPH0271089 A JP H0271089A JP 22562887 A JP22562887 A JP 22562887A JP 22562887 A JP22562887 A JP 22562887A JP H0271089 A JPH0271089 A JP H0271089A
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JP
Japan
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heated
heating
plate
far
radiation
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JP22562887A
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Jiro Nakamaru
中丸 治郎
Shigetada Miya
宮 重忠
Tsukasa Sakurada
司 桜田
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Shinshu Ceramics Co Ltd
Tokyo Gas Co Ltd
Original Assignee
Shinshu Ceramics Co Ltd
Tokyo Gas Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は加熱炉に於いて、遠赤外線放射を利用して食品
の加熱加工や自機塗料の乾燥その他の各種加熱処理を行
なうための、加熱炉に届ける被加熱物の加熱方法に関す
るものである。
(従来の技術およびその問題点) 加熱炉に於いて遠赤外線amを利用して各種加熱処理を
行なう場合、従来は、炉内壁に黒体化処理等を施し、そ
こからの遠赤外線放射を利用している。
従来は、このように遠赤外線放射部を黒体化処理等によ
り炉壁自体に構成するので、自由度が低く、被加熱物に
応じて放射パターンを調整したり、また放射物質を選定
することにより被加熱物に応じて放射波長を調節するよ
うなことは出来ないという問題点があった。
本発明は以上の問題点を解決することを目的とするもの
である。
(問題点を解決するための手段) 以上の目的を達成するための本発明の構成を、その基本
概念を模式的に表わした第1図、第2図に基づいて説明
すると、まず第1の発明は、加熱炉1の炉内空間2の適
所に、表向に遠赤外線放射部3を構成した板体4を設置
し、炉内の被加熱物を該板体4からの遠赤外線放射によ
り加熱づ′ることを要旨とするしのである。
また第2の発明は、 加熱炉1の炉内空間2の下部横方向に、表面に遠赤外線
放射部3を構成した多孔5の板体4を設置すると共に、
バーナ6を該板体4の下方に構成し、該板体4の上方の
被加熱物7を、該板体4からの遠赤外線放射と、多孔5
を杼た対流υ[気8とにより加熱することを堡旨とする
ものである。
(作用) まず第1の発明では、第1図に示すように遠赤外線放射
部3を板体4に構成し、これを炉内空間2の適所に設置
して、この放射部3からの遠赤外線のIll射により炉
内の被加熱物(図示省1id)を加熱するのであるから
、その形状や設置位置等を適宜に変更することにより、
被ハロ熱物に応じた放射パターンの調節を行なうことが
できると共に、放射部3を構成する放射物質を適宜に選
定することにより、被加熱物に応じた放射波長の調節を
行なうことができ、自由度が高く、非常に効率の良い加
熱を行なうことができる。尚、板体4を加熱するための
バーナは、炉内適所に設置することができる。
次に第2の発明では、被加熱物7は下方のバーナ6によ
り加熱された板体4の放射部3からの遠赤外線の放射に
より加熱されると同時に、該板体4の多孔5を経た対流
排気8によっても加熱されるのであるから、前述した第
1の発明と同様に、放射パターンの調節及び放射物質の
選定により、被加熱物7に応じた放射波長の調節を行な
えると共に、多孔5の配置や間口面積により対流υ1気
8の吊及びパターンを調節することができ、従って自由
度が高く、非常に効率の良い加熱を行なうことができる
(実施例) ここで、前述の構成要素の実施例を説明づ゛ると、まず
板体4は鉄、ステンレス等の基板の表面に、各種の遠赤
外線放射物質を例えば溶射により付着さけて放射部3を
構成することができる。遠赤性腺放射物質としては、例
えば食品の加熱加工にはチタニア(TiOz)、有機塗
料の乾燥には、アルミナ(Aj!20:3 )、シリカ
(3i 02 )等を選定することができ、このように
放射物質を被加熱物に構成しているが、かかる形状に於
いては、平板形状と比較して、同一外形寸法に於いて表
面積が大きくなるので放射量を増大させることができ、
このように板体4は形状を適宜に選定することができる
。また板体4の設置方法も、支持脚9を設けた構成等、
適宜である。前)ホしたように、放射部3を溶射により
構成する場合に於いては、基板へのlli躬物質の句看
倫度を大きくするために、該基板に予めブラスト処理を
施すが、この際、薄い籾数には応力による変形が生じる
。前述したように板体4を波板形状に構成するようにす
れば、かかる変形の問題を解決することができる。そし
て板体4を薄い波板形状に構成すれば前述に加えて、取
り扱いが容易となり、使用者に於ける適宜の加工を可能
どする。
尚、本発明を適用する加熱炉1の炉内壁は黒体化処理等
による遠赤外線放射部の形成を必須とし八 ないが、形状を妨げるものではなく、適宜の構成で良い
(発明の効果) 本発明は以上の通り、遠赤外線放射部を板体に構成し、
これを加熱炉の炉内′g!liηの適所に設置して、こ
の放射部からの遠赤外線の放射により炉内の被加熱物を
加熱するので、被加熱物に応じ℃放射パターン及び放射
波長の調節を行なうことができ、従って自由度が高く、
非常に効率の良い加熱を行なえるという効果がある。ま
た本発明は、前述した遠赤外線の放射と共に、対流排気
によっても被加熱物を加熱するように構成することがで
き、かかる構成に於いては前述した放射パターン及び放
射波長の調節に加えて対流排気の聞及びパターンを調節
することができ、こうして非常に効率の良い加熱を行な
えるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明の基本概念を実施例により模式
的に表わした説明的斜視図である。 符号1・・・加熱炉、2・・・炉内空間、3・・・遠赤
外線btl射部、4・・・板体、5・・・多孔、6・・
・バーナ、7・・・被加熱物、8・・・対流り1気、9
・・・支持脚。 第 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)加熱炉の炉内空間の適所に、表面に遠赤外線放射
    部を構成した板体を設置し、炉内の被加熱物を該板体か
    らの遠赤外線放射により加熱することを特徴とする加熱
    炉に於ける被加熱物の加熱方法
  2. (2)加熱炉の炉内空間の下部横方向に、表面に遠赤外
    線放射部を構成した多孔の板体を設置すると共に、バー
    ナを該板体の下方に構成し、該板体の上方の被加熱物を
    、該板体からの遠赤外線放射と、多孔を経た対流排気と
    により加熱することを特徴とする加熱炉に於ける被加熱
    物の加熱方法
  3. (3)板体は薄い波板形状に構成したことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項または第2項記載の加熱炉に於け
    る被加熱物の加熱方法
JP62225628A 1987-09-09 1987-09-09 加熱炉に於ける被加熱物の加熱方法 Expired - Lifetime JP2593884B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0474573U (ja) * 1990-11-08 1992-06-30
JP2000345243A (ja) * 1999-06-07 2000-12-12 Bridgestone Corp 複数本の金属線材を均一に加熱する方法及び加熱炉
JP4801789B1 (ja) * 2010-10-07 2011-10-26 株式会社超高温材料研究センター 加熱炉の熱効率改善方法及び加熱炉の熱効率改善装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5624853A (en) * 1979-08-07 1981-03-10 Iwatsu Electric Co Ltd Lamp control system for key telephone system
JPS5626400U (ja) * 1979-08-07 1981-03-11

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5624853A (en) * 1979-08-07 1981-03-10 Iwatsu Electric Co Ltd Lamp control system for key telephone system
JPS5626400U (ja) * 1979-08-07 1981-03-11

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0474573U (ja) * 1990-11-08 1992-06-30
JP2000345243A (ja) * 1999-06-07 2000-12-12 Bridgestone Corp 複数本の金属線材を均一に加熱する方法及び加熱炉
JP4801789B1 (ja) * 2010-10-07 2011-10-26 株式会社超高温材料研究センター 加熱炉の熱効率改善方法及び加熱炉の熱効率改善装置
WO2012046515A1 (ja) * 2010-10-07 2012-04-12 株式会社超高温材料研究センター 加熱炉の熱効率改善方法及び加熱炉の熱効率改善装置

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