JPH027139B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH027139B2 JPH027139B2 JP58092683A JP9268383A JPH027139B2 JP H027139 B2 JPH027139 B2 JP H027139B2 JP 58092683 A JP58092683 A JP 58092683A JP 9268383 A JP9268383 A JP 9268383A JP H027139 B2 JPH027139 B2 JP H027139B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- getter
- tube
- agent
- coil
- khz
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/38—Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、管体の内面にゲツター剤を蒸着さ
せる陰極線管のゲツターフラツシユ方法に関する
もので、特にゲツターフラツシユ中に発生する管
体のクラツクを防止する方法に関するものであ
る。
せる陰極線管のゲツターフラツシユ方法に関する
もので、特にゲツターフラツシユ中に発生する管
体のクラツクを防止する方法に関するものであ
る。
[従来の技術]
一般に、たとえば、テレビジヨン受像管におい
ては、管内を長時間にわたつて高真空に維持し、
かつ陰極から良好な電子放射を持続させるため
に、管体内にゲツター剤が充填されたゲツター容
器を取りつけ、排気工程において高周波加熱によ
りゲツター剤を飛散させ、ゲツター膜を形成して
いる。
ては、管内を長時間にわたつて高真空に維持し、
かつ陰極から良好な電子放射を持続させるため
に、管体内にゲツター剤が充填されたゲツター容
器を取りつけ、排気工程において高周波加熱によ
りゲツター剤を飛散させ、ゲツター膜を形成して
いる。
従来より、この種のゲツターフラツシユ方法と
しては、たとえば、特開昭59−12551号公報に開
示されているように、ゲツター容器の外壁に高い
部分と低い部分を設けてゲツター装置を非対称に
設計して、ゲツター装置から遊離されたゲツター
金属が電子銃の近傍に付着するのを阻止するとと
もに、上記非対称のゲツター装置を均等に加熱す
るために、ゲツターフラツシユ用の誘導コイルを
主コイルとの非対称に形成したものが知られてい
る。
しては、たとえば、特開昭59−12551号公報に開
示されているように、ゲツター容器の外壁に高い
部分と低い部分を設けてゲツター装置を非対称に
設計して、ゲツター装置から遊離されたゲツター
金属が電子銃の近傍に付着するのを阻止するとと
もに、上記非対称のゲツター装置を均等に加熱す
るために、ゲツターフラツシユ用の誘導コイルを
主コイルとの非対称に形成したものが知られてい
る。
上記誘導コイルには高周波発生器が接続され、
たとえば周波数100KHzないし1000KHz、好まし
くは200KHzないし500KHzの高周波電流が印加さ
れ、ゲツター剤の高周波加熱を行なう。この高周
波加熱されたゲツター剤が金属蒸気となつて飛散
し、管体の内面に蒸着する。
たとえば周波数100KHzないし1000KHz、好まし
くは200KHzないし500KHzの高周波電流が印加さ
れ、ゲツター剤の高周波加熱を行なう。この高周
波加熱されたゲツター剤が金属蒸気となつて飛散
し、管体の内面に蒸着する。
[発明が解決しようとする課題]
ところが、上記ゲツター容器の構成によれば、
ゲツター金属が電子銃の近傍に付着するのを阻止
するために、ゲツター装置の外壁を高い部分と低
い部分の非対称に構成する必要があるから、ゲツ
ター金属が上記低い部分から蛍光面に飛散する欠
点がある。
ゲツター金属が電子銃の近傍に付着するのを阻止
するために、ゲツター装置の外壁を高い部分と低
い部分の非対称に構成する必要があるから、ゲツ
ター金属が上記低い部分から蛍光面に飛散する欠
点がある。
また、上記ゲツター装置の外壁を高い部分と低
い部分の非対称に構成することによつて、コイル
も非対称に形成する必要がある。つまり、ゲツタ
ー装置の外壁を高い部分と低い部分とを均等に加
熱するために、高い部分と低い部分とを主コイル
で高周背加熱するとともに、小型の副コイルで上
記高い部分を補助加熱しなければならない。
い部分の非対称に構成することによつて、コイル
も非対称に形成する必要がある。つまり、ゲツタ
ー装置の外壁を高い部分と低い部分とを均等に加
熱するために、高い部分と低い部分とを主コイル
で高周背加熱するとともに、小型の副コイルで上
記高い部分を補助加熱しなければならない。
しかも、上記のように副コイルで高い部分を補
助加熱した場合でも、ゲツター剤の金属蒸気が上
記高い部分に凝縮して、このゲツター金属が落下
して電子銃の各電極間を短絡させるおそれがあ
る。
助加熱した場合でも、ゲツター剤の金属蒸気が上
記高い部分に凝縮して、このゲツター金属が落下
して電子銃の各電極間を短絡させるおそれがあ
る。
これを確実に防止しようとすれば、上記コイル
400KHzないしそれ以上の比較的高い高周波電流
を印加して、ゲツター剤の高周波加熱を行なわな
ければならない事態が発生する。
400KHzないしそれ以上の比較的高い高周波電流
を印加して、ゲツター剤の高周波加熱を行なわな
ければならない事態が発生する。
ゲツターフラツシユが行なわれているときに、
比較的高い高周波電流を印加すれば、ゲツター装
置とその近傍部との間に高周波加熱による電位差
が生じて、ここに沿面放電が発生し、上記ゲツタ
ー装置が接する管体のガラス面にクラツクが生じ
る。さらに、長時間にわたつて沿面放電が発生し
たときには、管体は完全に破損する場合がある。
比較的高い高周波電流を印加すれば、ゲツター装
置とその近傍部との間に高周波加熱による電位差
が生じて、ここに沿面放電が発生し、上記ゲツタ
ー装置が接する管体のガラス面にクラツクが生じ
る。さらに、長時間にわたつて沿面放電が発生し
たときには、管体は完全に破損する場合がある。
この発明は上記欠点を解消するためになされた
もので、蛍光面へのゲツター剤の付着を防止する
とともに、管体の破損を有効に防止できる陰極線
管のゲツターフラツシユ方法を提供することを目
的とする。
もので、蛍光面へのゲツター剤の付着を防止する
とともに、管体の破損を有効に防止できる陰極線
管のゲツターフラツシユ方法を提供することを目
的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明は、ゲツター剤が充填されたゲツター
容器と、このゲツター容器の開口側に管体内に向
つて拡開したらつば状のゲツターシールドとを有
する対称構造のゲツター装置を備え、ゲツターフ
ラツシユ用コイルに200KHzないし350KHzの高周
波電流を通電してゲツター剤の高周波加熱を行な
うことを特徴とする。
容器と、このゲツター容器の開口側に管体内に向
つて拡開したらつば状のゲツターシールドとを有
する対称構造のゲツター装置を備え、ゲツターフ
ラツシユ用コイルに200KHzないし350KHzの高周
波電流を通電してゲツター剤の高周波加熱を行な
うことを特徴とする。
[作用]
上記方法によれば、ゲツター容器の開口側に管
体内に向つてらつぱ状に拡開させたゲツターシー
ルドを使用するものであるから、上記ゲツターシ
ールドによつて上記ゲツター容器の設定された管
体の内面に向つて、ゲツター剤がゲツターフラツ
シユ時に反射し、ゲツター装置の近傍における管
体の内面に蒸着される。
体内に向つてらつぱ状に拡開させたゲツターシー
ルドを使用するものであるから、上記ゲツターシ
ールドによつて上記ゲツター容器の設定された管
体の内面に向つて、ゲツター剤がゲツターフラツ
シユ時に反射し、ゲツター装置の近傍における管
体の内面に蒸着される。
これによつて、ゲツター剤がパネルの内面に形
成された蛍光面に蒸着されて輝度の低下や明るさ
のむらの発生を防止することができるとともに、
ゲツター剤の金属蒸気が電子銃側に飛散するのを
阻止して、電子銃の各電極間の短絡事故が防止で
きる。
成された蛍光面に蒸着されて輝度の低下や明るさ
のむらの発生を防止することができるとともに、
ゲツター剤の金属蒸気が電子銃側に飛散するのを
阻止して、電子銃の各電極間の短絡事故が防止で
きる。
しかも、上記ゲツターフラツシユ用コイルに比
較的低い200KHzないし350KHzの高周波電流を通
電して、ゲツター剤の高周波加熱を行なうように
したから、ゲツター装置とその近傍部との間に高
周波加熱による電位差が生じたとしても、その電
位差を比較的低く抑制することができるから、沿
面放電の発生のおそれがない。
較的低い200KHzないし350KHzの高周波電流を通
電して、ゲツター剤の高周波加熱を行なうように
したから、ゲツター装置とその近傍部との間に高
周波加熱による電位差が生じたとしても、その電
位差を比較的低く抑制することができるから、沿
面放電の発生のおそれがない。
また、たとえ上記沿面放電が発生したとして
も、沿面放電の通電量を従来に比較して極力抑制
することができるから、上記ゲツター装置が接す
る管体のガラス面にクラツクが生じるのを防止す
ることができる。このことは、長時間にわたつて
沿面放電が発生した場合でも同様である。
も、沿面放電の通電量を従来に比較して極力抑制
することができるから、上記ゲツター装置が接す
る管体のガラス面にクラツクが生じるのを防止す
ることができる。このことは、長時間にわたつて
沿面放電が発生した場合でも同様である。
[実施例]
以下、この発明の実施例を図面にしたがつて説
明する。
明する。
第1図に陰極線管の概略を示す。管体1のネツ
ク部1aに設定された電子銃2には、支持片3が
取りつけられ、この支持片3の先端がばね5を介
して、フアンネル部1bに塗布さた内部導電膜6
に接続されている。上記支持片3の先端部には、
ゲツター装置4が固定されて支持されている。
ク部1aに設定された電子銃2には、支持片3が
取りつけられ、この支持片3の先端がばね5を介
して、フアンネル部1bに塗布さた内部導電膜6
に接続されている。上記支持片3の先端部には、
ゲツター装置4が固定されて支持されている。
上記ゲツター装置4の詳細を第2図に示す。こ
の図において、ゲツター容器4aには、ゲツター
剤4bが充填されている。7はゲツターフラツシ
ユ用コイルで、このコイル7に図示しない高周波
発生器が接続されて、200KHzないし350KHzの高
周波電流が通電される。
の図において、ゲツター容器4aには、ゲツター
剤4bが充填されている。7はゲツターフラツシ
ユ用コイルで、このコイル7に図示しない高周波
発生器が接続されて、200KHzないし350KHzの高
周波電流が通電される。
この通電によつて、上記コイル7に接近された
ゲツター装置4が管体1の外部から高周波加熱さ
れる。この高周波加熱開始後、たとえば5秒ない
し10秒経過すると、ゲツター装置4が約900℃な
いし1000℃に上昇する。この高周波加熱されたゲ
ツター装置4のゲツター剤4bは、金属蒸気とな
つて飛散し、管体1の内面に蒸着する。
ゲツター装置4が管体1の外部から高周波加熱さ
れる。この高周波加熱開始後、たとえば5秒ない
し10秒経過すると、ゲツター装置4が約900℃な
いし1000℃に上昇する。この高周波加熱されたゲ
ツター装置4のゲツター剤4bは、金属蒸気とな
つて飛散し、管体1の内面に蒸着する。
このとき、ゲツター剤4bがらつぱ状のゲツタ
ーシールド4cによつて矢印Aのように反射し、
支持片3のばね5とゲツター膜10との間に蒸着
される。つまり、特にゲツター装置4の装着され
ている側のフアンネル部1bに多量のゲツター剤
4bが飛散して、ゲツター膜10が形成される。
ーシールド4cによつて矢印Aのように反射し、
支持片3のばね5とゲツター膜10との間に蒸着
される。つまり、特にゲツター装置4の装着され
ている側のフアンネル部1bに多量のゲツター剤
4bが飛散して、ゲツター膜10が形成される。
これによつて、ゲツター膜10がパネル8の内
面に形成された蛍光面9に蒸着されて輝度の低下
や明るさのむらの発生を防止することができると
ともに、ゲツター膜10の金属蒸気が電子銃2側
に飛散するのを阻止して、電子銃2の各電極間の
短絡事故が防止できる。
面に形成された蛍光面9に蒸着されて輝度の低下
や明るさのむらの発生を防止することができると
ともに、ゲツター膜10の金属蒸気が電子銃2側
に飛散するのを阻止して、電子銃2の各電極間の
短絡事故が防止できる。
しかも、上記ゲツターフラツシユ用コイル7に
比較的低い200KHzないし350KHzの高周波電流を
通電して、ゲツター膜10の高周波加熱を行なう
ようにしたから、ゲツター装置4とその近傍部1
2との間に高周波加熱による電位差が生じたとし
ても、その電位差を比較的低く抑制することがで
きるから、沿面放電の発生のおそれがない。
比較的低い200KHzないし350KHzの高周波電流を
通電して、ゲツター膜10の高周波加熱を行なう
ようにしたから、ゲツター装置4とその近傍部1
2との間に高周波加熱による電位差が生じたとし
ても、その電位差を比較的低く抑制することがで
きるから、沿面放電の発生のおそれがない。
また、たとえ上記沿面放電が発生したとして
も、従来のように400KHzないしそれ以上の比較
的高い高周波電流を印加する場合に比較して、高
周波電流の周波数が低い200KHzないし350KHzに
設定されているから、上記沿面放電の通電量を極
力抑制することができる。
も、従来のように400KHzないしそれ以上の比較
的高い高周波電流を印加する場合に比較して、高
周波電流の周波数が低い200KHzないし350KHzに
設定されているから、上記沿面放電の通電量を極
力抑制することができる。
したがつて、上記ゲツター装置4が接する管体
1のガラス面にクラツク11が生じるのを防止す
ることができるとともに、長時間にわたつて沿面
放電が発生した場合でも同様の効果を奏すること
ができる。
1のガラス面にクラツク11が生じるのを防止す
ることができるとともに、長時間にわたつて沿面
放電が発生した場合でも同様の効果を奏すること
ができる。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、ゲツター剤
が充填されたゲツター容器と、このゲツター容器
の開口側に管体内に向つて拡開したらつぱ状のゲ
ツターシールドとを有する対称構造のゲツター装
置を備え、ゲツターフラツシユ用コイルに200K
Hzないし350KHzの高周波電流を通電してゲツタ
ー剤の高周波加熱を行なうようにしたから、蛍光
面へのゲツター剤の付着を防止するとともに、管
体の破損を有効に防止することができる。
が充填されたゲツター容器と、このゲツター容器
の開口側に管体内に向つて拡開したらつぱ状のゲ
ツターシールドとを有する対称構造のゲツター装
置を備え、ゲツターフラツシユ用コイルに200K
Hzないし350KHzの高周波電流を通電してゲツタ
ー剤の高周波加熱を行なうようにしたから、蛍光
面へのゲツター剤の付着を防止するとともに、管
体の破損を有効に防止することができる。
第1図は陰極線管の一例を示す縦断面図、第2
図はゲツター装置の詳細を示す縦断面図である。 1……管体、2……電子銃、3……支持片、4
……ゲツター装置、4a……ゲツター容器、4b
……ゲツター剤、4c……ゲツターシールド、6
……内部導電膜、7……コイル、10……ゲツタ
ー膜。なお、図中、同一符号は同一または相当部
分を示す。
図はゲツター装置の詳細を示す縦断面図である。 1……管体、2……電子銃、3……支持片、4
……ゲツター装置、4a……ゲツター容器、4b
……ゲツター剤、4c……ゲツターシールド、6
……内部導電膜、7……コイル、10……ゲツタ
ー膜。なお、図中、同一符号は同一または相当部
分を示す。
Claims (1)
- 1 管体の内部導電膜に接続される電子銃の支持
片で支持され、ゲツター剤が充填されたゲツター
容器と、ゲツター容器の開口側に管体内に向つて
拡開したらつば状のゲツターシールドとを有する
対称構造のゲツター装置を備え、管体外部のゲツ
ターフラツシユ用コイルに高周波電流を通電する
ことにより、上記ゲツター容器を加熱してゲツタ
ー剤をゲツター容器から蒸発させ、この蒸発した
ゲツター剤を上記ゲツターシールドによつて内部
導電膜上に反射させてゲツター膜を形成する陰極
線管のゲツターフラツシユ方法であつて、上記高
周波電流の周波数を200KHzないし350KHzに設定
したことを特徴とする陰極線管のゲツターフラツ
シユ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9268383A JPS59217932A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 陰極線管のゲツタ−フラツシユ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9268383A JPS59217932A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 陰極線管のゲツタ−フラツシユ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59217932A JPS59217932A (ja) | 1984-12-08 |
| JPH027139B2 true JPH027139B2 (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=14061282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9268383A Granted JPS59217932A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 陰極線管のゲツタ−フラツシユ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59217932A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60133630A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-16 | Hokuto Denshi Kogyo Kk | 陰極線管の製造方法 |
| JPH02148644A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-07 | Mitsubishi Electric Corp | 陰極線管の製造方法 |
| JP2000213908A (ja) | 1998-11-16 | 2000-08-04 | Sony Corp | 静電容量検出装置およびその検査方法並びに指紋照合装置 |
| US6452322B1 (en) * | 1998-11-27 | 2002-09-17 | Sony Corporation | Cathode-ray tube and its getter supporter |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5148959A (ja) * | 1974-10-25 | 1976-04-27 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd | Dokikenpahoshiki |
| US4335926A (en) * | 1980-03-26 | 1982-06-22 | Rca Corporation | Method for vaporizing getter material in a succession of cathode-ray tubes |
| JPS56143778A (en) * | 1980-04-10 | 1981-11-09 | Mitsubishi Electric Corp | Getter flushing method for cathode-ray tube |
| NL8002837A (nl) * | 1980-05-16 | 1981-12-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldweergeefbuis voorzien van een gasabsorberende laag; beeldweergeefbuis aldus vervaardigd en getterinrichting geschikt voor een dergelijke werkwijze. |
| IT1151340B (it) * | 1982-04-28 | 1986-12-17 | Getters Spa | Metodo per l'evaporazione di un metallo getterante da un dispositivo getter e relativa bobina di induzione |
-
1983
- 1983-05-26 JP JP9268383A patent/JPS59217932A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59217932A (ja) | 1984-12-08 |
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