JPH0271409A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 未発明は例えばビデオチープレコータ （ＶＴＲ）ｆｆに使用される磁気ヘッドの製造方法、特
に磁気ヘッド用コア半体のギャップ突合せ面の研磨方法
を改良して高周波領域における再生出力を向にさせた磁
気ヘッドの製造方法に関するものである。

［従来の技術］ 第３図は従来のＶＴＲ用磁気ヘッド（フェライトヘッド
）を製造するための製造工程を示した説明図である。

図において、■は研磨−Ｌ程を示しており、磁気ヘッド
のコア半体となる一対の直方体状のコア半体ブロック２
　（２’　”）を準備し、このコア半体ブロック２　（
２’　）の１面（ギャップ突合せ而となる而）を研磨材
で鏡面研磨する。

■は溝加工工程を示しており、研磨工程■で研磨された
少なくとも一方のコア半体プロ・ンク２のギャップ突合
せ面に巻線溝４ａを、又必要に応じて前記一対のコア半
体ブロック２　（２’　）外側面に巻線ガイド溝４ｂを
それぞれ矢印Ａて示す長手方向に沿って形成する。

■はｌ・ラック幅規制溝加工工程を示しており、一方の
コア半体ブロック２及び他方のコア半体ブロック２°に
トラック幅規制用の溝８，８′をそれぞれ形成する。

■はギャップスペーサ材及び接着用ガラスの付着工程を
示しており、トラック輻規制構加、Ｌ工程■で加工形成
された少なくとも一方のコア半体ブロック２のギャップ
突合せ面のフロントギャップ部６ａに例えばＳ　ｉ　Ｏ
を等のギャップスペーサ材をスパッタリング等によって
付着すると共に、パックギャップ部６ｂに接着用ガラス
と同じくスパッタリング等によって付着する。

（０は突合せ接合工程を示しており、前記コア半体フロ
ック２．２′のギャップ突合せ面同志をトラック合わせ
して突合せ、しかる後に溝８，８′からなるトラック幅
規制溝内にガラスをモールドすると同時に、この両コア
半体ブロック２．２′を突合せ接合してコア本体フロッ
ク９を形成する。

（６）はコアスライス工程を示しており、突合せ接合工
程■て得たコア本体ブロック９をｖｔ線て示すように所
定のアジマス角αで所定厚さにスライスする。

■はコアスライス工程■においてスライスして出来上が
ったコアチップである。

［発明が解決しようとする課題］ ところで、近年、磁気テープ及び磁気ヘッドの性能向上
は著しいものかあり、水平解像度か従来の２４０木程度
から４００本以上といった、解像度のより高い高ｌ！Ｉ
Ｊ質化ＶＴＲか登場するに到っている。この高画質化Ｖ
ＴＲは、従来の搬送周波数を高域側に大幅にシフトさせ
、短波長の記録内生特性をより向上させることによって
実現し得たちのてあり、このような高画質化ＶＴＲの磁
気ヘッドにあっては、より高周波領域における再生特性
の向上が嗜まれていた。

しかし前述したような従来の磁気ヘッドの製造方法によ
って得られた磁気ヘッドてはこのような要望を充分に満
足させることかてきなかった。

本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので
、より高周波領域において高い再生特性を得ることかで
きる磁気ヘッドを製造する方法を得ることを目的とする
ものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者等は磁気へウドについて種々の実験を重ねた結
果、高周波領域における磁気ヘッドの再生特性はその磁
気ヘッドを構成するコア半体のギャップ突合せ面に形成
された傷及び加工変質層か大きく影ツしていることを見
出して本発明を完成させるに至った。

すなわち、この発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、磁
気ヘッドのコア半体のギャップ突合せ面を表面粗さかＲ
ｍ　ａ　ｗで１００Å以下になるように研磨し、次にこ
の研磨面をフロートポリシング加工して研磨する研磨工
程を備えたことにより上記問題点を解決したものである
。

［作　用］ 本発明においては、ｌｉ１気ヘッドのコア半体のギャッ
プ突合せ面を傷及び加工変質層のない而としてより高周
波領域においても高い再生出力が得られる磁気ヘッドを
製造てきる。

［実施例］ 実施例 直方体のフェライトブロックをコア半体ブロックとし、
これを研ａ工程以外は従来技術で説明したのと同様加工
してコアチップを製造した。

研磨工程では、回転するスズ盤の表面にダイヤモンドパ
ウダー（粒径　１／２声へ　１／４戸程度）１　ｙｔ＄
を含む研磨液を付着させ、この研磨液か付着した面にコ
ア半体ブロックのギャップ突合せ而を押し当てて研磨（
前加工）し、次に、この研磨面を第１図に示すようなフ
ロートポリシング加工によって１時間研磨１加工）した
。

なお、第１図において、ｌＯはポリシンクプレート、１
２はポリシンクプレート１０を矢印Ｂ方向に回転させる
主軸、１４は加工液、１６は加工液１４中に浮遊してい
る微細粉末粒子、１８はポリシンクプレートｌＯの上に
取り付けられたコア半体ブロック、２０はコア半体ブロ
ック１８を矢印Ｃ方向に回転させる工作物軸、ｈはコア
半体ブロック１８のポリシンクプレートｌＯからの浮上
り高さである。

上記前加工及び後加工後にコア半体ブロック１８の研磨
面な調べたところ、第１表に示すように、前加工におい
て、コア半体ブロック１８の研磨面には表面粗さＲ□６
１００Å以下の小さな傷と加工変質層が形成され、後加
工において、コア半体ブロック１８の研磨面は表面粗さ
Ｒ，ＡＸ５０入具Ｆとなり、前加工において形成されて
いた小さな傷はなくなり、加工変質層も全て除去されて
無くなっていた。

次に、このようにして得られたコアチップにコイルを巻
回して磁気ヘッドとし、その周波数−再生出力との関係
を求めたところ第２１１７２１のａに示す通りとなった
。

比較例■ 研磨工程以外は実施例と全く同様にしてコアチップを製
造した。

研磨工程ては従来の研磨工程と同様にコア半体ブロック
のギャップ突合せ面をダイヤモンドパウダー（粒径ＩＰ
〜４−程度）１ｗ＄を含む研磨液等の研磨材を用いて研
磨した。

このようにして研磨したコア半体ブロックの研磨面を調
べたところ、第１表に、バすように、コア半体ブロック
の研磨面には表面粗さＲ，、，２００人の傷と加工変質
層か形成されていた。

次に、このようにして得られたコアチップにコイルを巻
回して磁気ヘッドとし、その周波数−再生出力との関係
を求めたところ第２図のｂに示す通りとなった。

比較例（の 研磨工程以外は実施例と全く同様にしてコアチ・ノブを
製造した。

研磨工程では、比較例■と同様、コア半体ブロックのギ
ャップ突合せ面をダイヤモンドパウダー（粒径ｌＩａ〜
４−程度）１ｍ！を含む研磨液等の研磨材を用いて研磨
（前加工）５１次に、この研磨面を実施例と同様、第１
図に示すようなフロートポリシング加工によって２〜３
時間研磨（後前Ｌ）した。

上記各加工後にコア半体ブロック１８の研磨面を調べた
ところ、第１表に示すように、前加工において、コア半
体ブロック１８の研磨面には表面粗さＲ，、，２００人
の犬なる傷と加工変質層か形成され、後加工において、
コア半体ブロック１８の研磨面は表面粗さＲ，、Ｘ７０
〜ｉｏｏ人の小なる傷が存在し、加工変質層は全て除去
されて無くなっていた。

次に、このようにして得られたコアチップにコイルを巻
回して磁気ヘッドとし、その周波数−再生出力との関係
を求めたところ第２図のＣに示す通りとなった。

第１表 以−１−の実験の結果から１本発明の磁気ヘッドの再生
出力の特性は、比較例■及び■の磁気へウドのｐｆ生比
出力特性より向上しており、特に高周波領域における再
生出力の低下か抑えられている。

また、比較例■及び比較例■の磁気へ・・ｌトの間では
殆ど差かなく、単に加工変質層を除去するたけては再生
出力特性の向上は改善されないことかわかる。（第２図
参照） ここで、何故本発明か比較例■及び■に比して優れてい
るかの理由について考える。

まず、比較例０）について考えてみると、鏡面研磨され
たギャップ突合せ面は鏡面といっても表面粗さＲ□８約
２００Ａ前後程度の傷か残っており、しかも表面に加工
変質層か形成されている。この加工変質層は磁気的に著
しく劣化した層であり、磁気へラドコアの有効ギャップ
部分をみると、ＳｉＯ□等のギャップスペーサによるギ
ャップとは別に、これに上記加工変質層による磁気的に
劣化したギャウプか加わって、実質的にギャップ幅が大
きくなっている。

また、磁気ヘッドのコア半体のギャップ突合せ面表面か
、磁気的に劣化している加工変質層に覆われているので
、コア半体のギャップ突合せ面からギャップ内へ磁束か
漏洩する際、この加工変質層か一種の妨害層となって、
磁束かシャープに出ていない（ｉ洩できない）。しかも
、ギャップ突合せ面に傷か残っているため、この傷によ
ってギャップ幅か広くなったり狭くなったりと均一でな
くなり、磁束かキャップ突合せ面からギャップ内へシャ
ープに漏洩しない。

比較例■はこのような理由から、あまり再生出力の向」
二か計れず、特に高周波領域における再生出力の伸び悩
みを生じているものと考えられる。

次に、比較例■について考えてみると、前加工では比較
例■と同様にギャップ突合せ面に加工変質層か形成され
、大なる傷（表面粗さＲ１，８で略２００人）もある。

この前加工の後にフロートポリシング加工を例えば２〜
３時間行なってギャップ突合せ面をみると、表面の加工
変質層は除去されて存在しないか、表面粗さかＲｗａａ
ｗて約７０〜１００人の小なる傷か存在し、大部小さく
なってはいるかまた傷は夕（っている。

比較例■はこのようなコア半体同志を突合せ接合して磁
気へラドコアを形成するのて、比較例（Ｄのような、ギ
ャップ突合せ商余表面に至って存在する加工変質層によ
って、ギャップ幅か大きくなる点、及び磁束漏洩の妨害
層となってシャープに出なくなる点については略問題は
ないと考えられるが、ギャップ突合せ面に傷か残ってい
るためこの傷によってギャップ幅か均一でなくなり、磁
束かシャープに出ない。

このような理由から比較例■も比較例■と同様にあまり
再生出力の向、トか計れず、特に高周波領域における再
生出力の向上か望めないと考えられる。

なお、フロートポリシンク加工は、同加工を施すことに
よって加工変質層を除去すると同時に表面の粗さを徐々
に平滑化するか、加工前の粗さか２００人など゛のよう
に粗さか大であると２〜３　蒔１ｉＪｌといった長時間
フロートポリシンク加工を行なっても、やっと７０〜１
００人になる程度で、傷は残っている。

そこて、実施例について考えてみると、前加工てギャッ
プ突合せ面を傷の小さい而に、即ち粗さかＲ１□で１０
口Ａ以下とし、そして、フロートポリシング加工を例え
ば１時間程度行なってギャップ突合せ面をみると、粗さ
かＲ□、て約３０八〜５０人程度で傷はなく１表面の加
工変質層は除去されて存在しない、実施例はこのような
コア半体同志を突合せ接合して磁気へラドコアを形成す
るようにしてなるので、上記比較例■、■て述べた各問
題点については全く問題はなく、ギャップ対向表面より
ギャップ内に磁束がシャープに漏洩するようになると共
に、ギャップ幅も所定幅となっている。

実施例はこのような理由から全周波数帯域において再生
出力の向上が計れ、特に高周波領域においては４〜７ｄ
Ｂと大幅に向上する。このことは、より短波長記録用の
ヘッドに右利であり、近年の高画質化ＶＴＲ用のヘッド
として非常に有効である。

なお、上記実施例において研磨工程におけるギャップ突
合せ面の鏡面加工はギャップスペーサ（Ｓｉｎｓ）付着
油に行ってもよい。また、上記実施例ては、フェライト
ヘッドについて説明したか１例えばセンダストバルクヘ
ッド（Ｒ−ＤＡＴ等で使用）にも適用できるものである
。

また、上記フェライトヘッドやセンタストヘッドなどの
バルクヘッドのようにギャップ突合せ面自体か同磁性体
で構成されているヘッドである場合か最も効果大である
か、特開昭６１−３３０９に示すようなＭＩＧタイプヘ
ッドにおいても、金属磁性体からフェライトコアにより
スムースに磁束か流れるようになるので、ある程度の１
耳生出力の向上が計れるものである。

［発明の効果］ 本発明は以上説明したように構成したのでコア半体のギ
ャップ突合せ面の傷と加工変質層か消失し、再生出力が
向−ヒし、特に、高周波領域における再生出力か向上す
るという効果がある。また、本発明は加工工程が基本的
に従来法と略凹−であるので、従来法の設備を少し変更
するだけで実施てきるという効果もある。

４．１７１而の筒中な説明 第１図はフロートポリシンク加工を説明するための説明
図、第２図は周波数−再生出力との関係を示すグラフ、
第３１Ｚは従来のＶＴＲ用磁気ヘッド（フェライトヘッ
ド）の製造工程を示した説明図である。

２．２°・−・・・・コア半体ブロック、４ａ・・・・
・・巻線溝、４ｂ・・・・・・ａ線ガイド溝、８・・・
・・・トラック幅規制溝、１０・・・・−・ボリシング
プレート、１２・・・・・・主軸、１４・・・・・・加
工液、１６・・・・・・微細粉末粒子１８・・・・・・
コア半体ブロック。

特許出願人　日本ビクター株式会社 代表者　須　木　邦　夫

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ヘッドのコア半体のギャップ突合せ面を表面粗さが
   Ｒ＿ｍ＿ａ＿ｘで１００Å以下になるように研磨し、次
   にこの研磨面をフロートポリシング加工して研磨する研
   磨工程を備えたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法
   。