JPH0272411U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0272411U JPH0272411U JP15169788U JP15169788U JPH0272411U JP H0272411 U JPH0272411 U JP H0272411U JP 15169788 U JP15169788 U JP 15169788U JP 15169788 U JP15169788 U JP 15169788U JP H0272411 U JPH0272411 U JP H0272411U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- web
- magnetic field
- beam irradiation
- irradiation device
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
第１図はこの考案の実施例を示す正断面図、第
２図は第１図の構成における電子線分布特性図、
第３図は従来例の正断面図、第４図は第３図の構
成における電子線分布特性図である。 １……真空室、２……電子線照射源、３……照
射窓、４……窓箔、５……押え枠、７……ウエブ
、８……桟、９……コイル、Ｐ……ウエブの走行
方向。
２図は第１図の構成における電子線分布特性図、
第３図は従来例の正断面図、第４図は第３図の構
成における電子線分布特性図である。 １……真空室、２……電子線照射源、３……照
射窓、４……窓箔、５……押え枠、７……ウエブ
、８……桟、９……コイル、Ｐ……ウエブの走行
方向。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 電子線照射源を内蔵する真空室と、電子線をウ
エブに照射する照射窓を備えてなる電子線照射装
置において、 照射窓の大気側の付近で、前記ウエブの走行方
向に沿う交流磁界を発生するコイルを設け、前記
交流磁界を前記電子線に与えて前記電子線を前記
ウエブの幅方向に走査するようにしてなる電子線
照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15169788U JPH0272411U (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15169788U JPH0272411U (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0272411U true JPH0272411U (ja) | 1990-06-01 |
Family
ID=31425972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15169788U Pending JPH0272411U (ja) | 1988-11-21 | 1988-11-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0272411U (ja) |
-
1988
- 1988-11-21 JP JP15169788U patent/JPH0272411U/ja active Pending