JPH028604B2 - - Google Patents

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JPH028604B2
JPH028604B2 JP57164787A JP16478782A JPH028604B2 JP H028604 B2 JPH028604 B2 JP H028604B2 JP 57164787 A JP57164787 A JP 57164787A JP 16478782 A JP16478782 A JP 16478782A JP H028604 B2 JPH028604 B2 JP H028604B2
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JP
Japan
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water
weight
soluble
cooh
carbon atoms
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JP57164787A
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English (en)
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JPS5880301A (ja
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Robaato Kaateisu Jon
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SERIKORU GURUUPU Ltd
Original Assignee
SERIKORU GURUUPU Ltd
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Publication date
Application filed by SERIKORU GURUUPU Ltd filed Critical SERIKORU GURUUPU Ltd
Publication of JPS5880301A publication Critical patent/JPS5880301A/ja
Publication of JPH028604B2 publication Critical patent/JPH028604B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
    • C07D335/12—Thioxanthenes
    • C07D335/14—Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D335/16—Oxygen atoms, e.g. thioxanthones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスクリーン プリンテイング用光重合
性材料に関する。
スクリーン プリンテイングでは、三つの主な
感光性ステンシールシステムが使用されてのり、
第一のいわゆる間接法では感光性組成物を通常ポ
リエステルの透明重合体裏打ち支持体に被覆加工
する。被覆加工シートをポジ透明体を通して活性
光線を照射し、その後、使用する光重合システム
の型によつて、フイルムを水で現像し、または、
過酸化化合物で活性化し、次いで水で現像するこ
とができる。次いでその重合体裏打ち支持体上の
湿潤画像におだやかな一様の圧力を適用すること
によりスクリーン メツシユに接着し、乾燥後、
重合体支持体シートをはがし、プリンテイングす
るために準備されたスクリーン メツシユ上に光
重合した画像を残す。
第２のシステム、いわゆる直接法では、重クロ
ム酸塩化合物または重合体ジアゾニウム塩であり
うる適当な光交さ結合剤により水溶性交さ結合性
コロイドを感光性にし、そのコロイドをスクリー
ン メツシユに被覆加工し、スクリーン メツシ
ユにステンシール画像が造られる。この方法で感
光性となつた時、乾燥後スクリーン メツシユ上
の被覆加工層を適当なポジ透明体を通して活性光
線に露光し潜像を造ることができる。水で画像を
現像し、画像が水に不溶性になるに従つて活性光
線に照射された領域が残り、同時に水溶性コロイ
ドの元の水溶性がまだ残つている活性光線から保
護された領域は乾燥後洗い去られ、画像を残し、
プリテイングに使用することができる。
第３のシステム、いわゆる直接／間接法では、
スクリーン メツシユと接触した層と共に置かれ
た重合体裏打ち支持体上の非感光性層からステン
シール画像を造る。すでに記述した方法により感
光性にされた層をメツシユに適用し、重合体裏打
ち支持体上の非感光性層を湿らせる。乾燥後、裏
打ち支持体は剥離し、スクリーン上に残る乾燥エ
マルジヨンを先に記述した方法で露光し、現像す
る。
スクリーン メツシユ上にステンシール画像を
製造するすべての三つの方法は重大な欠点を有し
ている。第１の方法では、その方法が第二の鉄塩
型の光開始剤に依存する時、そのシステムは存在
する単量体の光重合を開始し、層を不溶性にする
形成するフリーラジカルを生じさせるため、過酸
化化合物たとえば、過酸化水素で処理を受けなけ
ればならない。この活性化工程後、通常の水現像
を行い画像を得る。別法として、間接方法は活性
を残すために水分の存在が必要である光開始剤と
してインジコまたはチオインジコ染料のリユーコ
硫酸エステルに依存する。これは材料が熱い乾燥
した気候で正確に作用するよう組成物中に極めて
大量の水分を使用する必要がある。これらの水分
は高い湿度の領域で問題を生じ、密閉した容器か
ら取出した時、フイルムの網状化を生じうる。水
分の存在はまた担体コロイド（通常ポリビニルア
ルコール）の機械的強度を低下させる傾向があ
る。
直接システムは増感する際、増感剤が重クロム
酸塩である時、有用な貯蔵寿命が大体数日であ
り、増感剤が重合体ジアゾ塩である時最高３ケ月
の有用な貯蔵寿命である増感剤とベース エマル
ジヨンの両者を材料が必要とする通常２包装の組
合せである欠点を有している。直接／間接システ
ムは明らかに直接法と同じ欠点を有している。
スクリーン上のステンシール画像を造る上記の
方法の別の欠点は露光後、露光した領域と未露光
領域とのコントラストが非常に小さく、そのため
現像段階の前では画像を点検する満足な方法がな
いことである。これは、もし、加工技術が失敗で
あるか、または、ポジの位置が正しくなければ、
最終ステンシール画像を製造した後まで失敗に気
がつかないことを意味する。
本発明は適当なPHの水に対する溶解度と共に
395nｍで有用な吸収を有し、水溶液中または被
覆加工乾燥層中のビニルおよびアクリル単量体の
重合に作用する開始剤として使用することができ
る新規な水溶性光開始剤を発見したことに基づい
ている。この開始剤を使用する材料はこれらの開
始剤の有用な最大吸収がスクリーン プリンテイ
ングステンシール製造方法で通常使用される水銀
ランプの主な有用な出力波長とうまく一致するか
らスクリーン プリンテイング方法に特に適す
る。新規な光開始剤を含有する組成物は過酸化物
または同等物質の溶液の添加による活性化工程を
必要とする欠点、または極めて大量の水分を含有
しなければならない不利益がない。溶液の形態で
それらは増感剤を必要とせず、一包装システムの
便利性と簡便性で提供することができる。
本発明の好ましい実施態様では、被覆加工物は
露光後、露光領域と非露光領域との間の色差を容
易に見い出すことができるような方法で着色され
る。活性光線に露光することにより直ちに可視の
高いコントラストの潜像画像を造ることはほとん
ど同時に多数のスクリーンステンシールを露光す
る工程でステンシール製造者は与えられたスクリ
ーンが露光されているか、いないかを知ることが
できる。たとえば、もし、彼の仕事が中断される
か、または、大きな単一のステンシール スクリ
ーンが、たとえば、いわゆるスクリーン プリン
テイング ステンシールの「ステツプ・アンド・
リピート法（step and repeat process）」で何回
も露光されるならば、操作者はどの領域が露光さ
れているかをただちに確認することができる。ま
た、複数の露光が必要な場合、第一露光の可視画
像はその後の露光部を表示する指標として働ら
く。
いかなるその後の現像またはその処理する前
に、露光により可視画像を造ることができるいか
なる前記の方法でスクリーン メツシユに適用さ
れた感光エマルジヨンは事故により露光された
（誤つた日光または人工光の露光による「かぶ
り」）スクリーンを明らかに示す利益を有してい
る。
本発明に従えば、プリンテイング スクリーン
を製造する水性感光組成物は水に分散、混合また
は溶解できる１種またはそれ以上の末端エチレン
性不飽和単量体、促進剤として任意的に末端エチ
レン性単量体を含有する１種またはそれ以上の第
三級窒素含有単量体、水溶性コロイド、および、
式 〔式中、R1はハロゲン、アルキル、アルコキシ、
アルキルチオ、ニトロ、アミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシアルキルアミ
ノ、アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、Ｎ
−アルカノイル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、スルホ
ンアミドまたはアセチルであり、 R2は１〜４個の炭素原子を有するアルキレン
であり、 ｎは０、１または２であり、 ｍは１または２であり、 Ａは−COOH、−SO3H、−OSO3H、または−
OCO−Ｘ−COOH（ただし、Ｘは８個までの炭素
原子を有するジ−またはトリ−カルボン酸である
ような基である）であり、 前記アルキル、アルコキシ、およびアルカノイ
ル残基がそれぞれ４個までの炭素原子を含有す
る〕 を有するか、またはその水溶性塩である水溶性光
開始剤からなつている。そのような光開始剤は新
規な組成物中に0.1〜５重量％、好ましくは0.12
〜1.8重量％である。Ａがカルボキシである時、
十分な水溶性にするためには光開始剤の一部また
はすべてを塩に変える必要がある。前記のチオキ
サントンのある種のものはこれと同一日付で「ウ
オター・ソルブル・チオキサントン・ホトイニシ
エーターズ（Water−soluble Thioxanthone
Photoinitiators）」の名称により出願された本発
明者らの特許出願第8133094号に記載され、そし
て特許請求された新規な化合物である。
前記式の好ましい光開始剤は２−（カルボキシ
メトキシ）−チオキサントン、２−（３−カルボキ
シ−プロポキシ）−チオキサントン、２−（３−ス
ルホプロポキシ）−チオキサントン、２−（２−ス
ルホエトキエトキシ）−チオキサントン、３，４
−ジメチル−２−（３−スルホプロポキシ）−チオ
キサントンであつて、それぞれの遊離酸またはそ
の水溶性塩である。
前記光開始剤はｏ−メルカプト−安息香酸と式 （式中、R1およびｎは先に定義したとおりであ
り、環の４位は未置換である） を有するフエノールとを硫酸の存在で縮合させ、
次いで得られた生成物と式Hal−R2（−Ｏ−R2）−n
−１A1（ただし、Halはハロゲンであり、R2は先に
定義したとおりであり、そしてA1は前記のよう
な基Ａまたはエステル化したそのような基、また
はその塩である）のハロー脂肪酸、塩酸、または
酸エステルとを反応させ、次いでいかなる存在す
るエステル基を加水分解させることにより製造し
てもよい。
本発明の特徴である画像形成プリンテイングス
クリーンは前記のような組成物で被覆加工し、乾
燥したベース支持体からなる感光性材料を画像形
成露光させ、次いで、たとえば、被覆加工物の未
露光部を水で除去し、被覆加工物の不溶解性部分
をプリンテイング スクリーン上に形成させ、ま
たは転写させて製造してもよい。
末端エチレン性不飽和単量体は隣接する炭素原
子との間に少なくとも１個の非芳香族性重合性二
重結合を含有しなければならず、水・分散性、混
合性または溶解性である。そのような単量体また
は複数の単量体の合計比率は組成物の４〜30重量
％、好ましくは、６〜15重量％でなければならな
い。一荷能単量体、特に、ビニルおよびアクリル
単量体、たとえば、アクリルアミド、メタクリル
アミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、または
Ｎ−ビニルピロリドンを組成物の２〜10重量％、
好ましくは３〜８重量％の比率で使用してもよ
い。本方法の効力を増すために、けれども、水分
散性、水溶性または水混合性であるが、１分子当
り２個またはそれ以上の末端重合性エチレン性不
飽和基を含有する１種、またはそれ以上のポリ不
飽和ビニルまたはアクリル化合物を組成物に含有
することにより短かい露光時間で高度の交さ結合
を付与するため、好ましくは交さ結合密度を増加
させる。適当なそのような化合物はＮ，N′−メ
チレン−ビス−アクリルアミド、Ｎ，N′−トリ
メチレン−ジアクリルアミド、Ｎ，N′−ヘキサ
メチレン−ジアクリルアミド、ポリエチレングリ
コール200ジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、トリプロピレングリコール
ジアクリレートおよびテトラエチレングリコール
ジアクリレートである。これらの化合物は単独で
または混合物で、一般に組成物の0.3〜15重量％、
好ましくは、0.5〜９重量％の比率で使用しても
よい。一般に、そのような化合物は得られた重合
体の交さ結合度を増し、そして硬度を増加させ
る。三官能末端エチレン性不飽和化合物はまた組
成物の交さ結合密度、硬度および速度を増加させ
ることを包含させることができる。けれども、そ
のような組成物は低いレベルを保つようにする
（通常合計組成物の０〜4.0重量％、好ましくは０
〜２重量％）。それらは水溶性コロイド中に水溶
性／混合性単量体が分散する前に水溶性／混合性
単量体に溶解しなければならない。適当な三官能
交さ結合単量体はトリメチロールプロパントリア
クリレートおよびペンタエリトリツトトリアクリ
レートである。更に感光性を増すためには、第三
級窒素含有化合物を通常組成物の0.7〜６重量％、
好ましくは、１〜４重量％の比率で加える必要が
ある。この種属の化合物、たとえば、トリエタノ
ールアミン、メチルジエタノールアミン、エチル
−ジエタノールアミン、Ｎ，N′−ジメチルアミ
ノ−エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノエチルアクリレートおよびウベクリルP101
（UCB）は副光開始剤または主光開始剤の促進剤
として働き、交さ結合作用の効率と速度を増加さ
せる。
組成物はカチオン性界面活性剤を含有すること
ができ、好ましい界面活性剤は１個または２個の
第三級置換窒素原子、および必要な水溶解度を付
与するのに十分なポリオキシエチレンまたはポリ
オキシプロピレン残基を含有する。たとえば、ジ
アルキル−ポリオキシエチレンアミンが適してい
る。それらは、特に、もし、カルボキシ形で単純
な有機塩基で溶解されているならば、系から沈殿
し、そして不活性になる新規な光開始剤を可溶化
し、そして、安定化することができる。好ましい
界面活性剤はカトフオー（Catofor）類（ABM
ケミカルズ）特にカトフオー06である。界面活性
剤の比率は通常組成物の０〜５重量％、特に０〜
３重量％である。
第三級窒素原子を含有する界面活性剤は促進効
果を有しているが、上記の好ましい促進剤はこの
目的に優れており、促進剤および界面活性剤とし
て別々の化合物をそれぞれすでに示した比率で使
用することにより最高の結果が得られる。
適当な水溶性コロイドはポリビニルアルコー
ル、ゼラチン、ヒドロキシエチル−セルロース、
ヒドロキシプロピル−セルロースおよびポリビニ
ル−ピロリドンを包含する。そのようなコロイド
担体な不飽和単量体の存在なしには、新規な光開
始剤により不溶性化することはない。本発明の組
成物は通常コロイドの４〜14重量％、好ましく
は、６〜10重量％含有する。
重合した被覆加工物の接着力、強度および耐久
性を助けるために、不活性重合体エマルジヨン、
たとえば、酢酸ビニル均質重合体または共重合体
を本発明の組成物が含有することが好ましい。そ
のようなエマルジヨンの比率（その固形分含有量
に基づき）は組成物の30重量％まで、好ましく
は、５〜15重量％までであつてもよい。可塑剤、
たとえば、ジブチルフタレートを露光した組成物
の屈曲性を改良するために組成物の５重量％ま
で、好ましくは、単に０〜３重量％の比率で加え
てもよい。
感光性組成物はまた最終画像が見えるようにす
るため、着色剤、たとえば、染料または顔料を１
重量％までの比率で含有していてもよい。可視画
像にするため最初の被覆加工物を着色するか、ま
たは、光重合した層を加工後着色溶液で処理する
こともできる。これに関連して、新規な組成物中
にチオインジゴイドまたはインジゴイド染料、た
とえば、アンスラゾール シリーズ（Anthrasol
series）（ヘキスト）を含有することが特に好ま
しい。フリーラジカル光開始剤および水溶性コロ
イドに適する水溶性可塑剤の存在で、そのような
染料は活性光線に露光すると変化し、光の当つた
領域と光が当らなかつた領域で明らかに見分ける
ことができるコントラストを生じる上記であげた
価値のある性質を有している。そのような染料は
付加的な光開始剤として作用する付加的な利益を
有している（もし、少なくとも乾燥組成物が十分
な水分を含有しているならば）。
シリカ、殿粉、カオリンまたは二酸化チタンの
ような充てん剤を、たとえば、組成物の20重量％
まで、好ましくは、５〜12重量％の比率で組成物
中に含有していてもよく、それによつて組成物の
固形分含有量を増し、表面の粘着性を減少させ
る。
本発明の組成物は水性であり、他の成分と混合
して加えられた水、たとえば、組成物中に含まれ
るいかなる重合体エマルジヨン中の水を含め、水
を40〜80重量％、好ましくは、50〜70重量％を含
有していてもよい。他の溶剤、エタノールを８重
量％までの少量で加えてもよく、たとえば、組成
物の３〜６重量％を加え組成物の相容性を改良し
てもよい。
使用する際、新規な組成物を適当な支持体、た
とえば、プリンテイングスクリーンまたは屈曲性
透明フイルムに被覆加工し、乾燥する。被覆加工
物を次いで活性光線に露光し、所望の画像を形成
させる。
新規の組成物に照射するために使用する活性放
射線は天然日光またはカーボンアークランプ、キ
セノンアークランプ、高強度水銀ランプまたはタ
ングステンフイラメント光から誘導された光であ
つてもよい。露光層を次いで、たとえば、水で現
像し、未露光組成物を除去する。
上記組成物の光重合により形成された画像は直
接または間接法のどちらかによるスクリーンプリ
ンテイング用ステンシール、またはレジスト、ス
テンシールまたは浮出し画像が必要ないかなる写
真または写真化学法において、たとえば、印刷
板、ネームプレート、ダイアルおよび回路パター
ン用のエツチングレジスト、石版刷り元版用イン
ク受容画像またはポジ反転石版刷りシステム用ネ
ガステンシールの製造に使用することができる。
画像はまた染料レジストまたは印刷マトリツク
ス、ならびに、反射形態または透明形態で可視着
色表示に使用することができる。特別な応用に対
する画像の適性はコロイドおよび（または）不飽
和単量体成分を選択することにより最初に決めら
れる。
次の実施例によつて本発明を説明する。
実施例 次の組成物を透明なあらかじめ下塗りしたポリ
エステルフイルムベースに被覆加工した。
重量部 カトフオー06（ABMケミカルズ）1 1.0 15％GM14L（ゴーセノール）2水溶液 50.0 ジメチルアミノエチルアクリレート 3.0 ポリエチレングリコール200ジアクリレート 7.0 トリメチロール−プロパントリアクリレート 1.0 バイナムル（Vinamul）8440エマルジヨン3 25.0 ２−（カルボキシメトキシ）チオキサントン 0.5 アンスラゾールピンクIR 0.5 ポリエチレングリコール200 1.0 1カトフオー06は第三級アミノ基および１分子
当り６個のエチレンオキシドを含有するカチオン
性界面活性剤である。
2ゴーセノールGM14Lは日本合成（日大、大
阪）からの中程度の分子量を有する88％加水分解
（12％残存アセテート）ポリビニルアルコールで
ある。
3バイナムル8440エマルジヨンはビニルプロダ
クツ社（Vinyl Products Ltd）〔英国、サリー州
（Surrey）、カーシヤルトン（Carshalton）〕から
得られる固形分含有量56重量％であるポリ酢酸ビ
ニル均質重合体エマルジヨンである。被覆加工物
を乾燥し、写真用ポジ透明板を通して800Wハロ
ゲン化水銀〔ソーン（Thorn）〕ランプに距離１
ｍで120秒露光した。潜像はピンクの背景にクリ
ーム−イエローで見ることができた。冷水で洗浄
後顔料着色した浮出し画像が得られた。
不飽和単量体をこの系から除いた時は、コロイ
ドバインダーは不溶性化しなかつた。これは次の
組成物を調製し、被覆加工することにより証明さ
れた。
重量部 カトフオー06（ABMケミカルズ）1 1.0 15％GM14L（ゴーセノール）2溶液 50.0 バイナムル8440エマルジヨン3 25.0 ２−（カルボキルメトキシ）チオキサントン 0.5 アンスラゾールピンクIR 0.5 ポリエチレングリコール200 1.0 被覆加工物を乾燥し、800Wハロゲン化水銀ラ
ンプに距離１ｍで12分露光した。水で洗浄する
と、すべての被覆加工した層が除去された。これ
は不飽和単量体化合物が存在しないと層の不溶性
化は生じないことを示す。
実施例 重量部 カトフオー06（ABMケミカルズ）1 1.0 ２−（カルボキシメトキシ）チオキサントン 0.5 エタノール 5.0 ポリエチレングリコール200ジアクリレート 10.5 Ｎ−ビニル−ピロリドン 4.5 ウベクリルP101（UCB）4 2.0 20％ゴーセノールKP08溶液5 50.0 アンスラゾールブルーブラツクIRD 0.5 ポリエチレングリコール200 1.0 4ウベクリルP101はUCB SA〔ドロゲンボスベ
ルギー（Drogenbos Belgium）〕からの不飽和共
重合性アミノ基含有単量体である。
5ゴーセノールKP08は日本合成（日本、大阪）
からの残存アセテート基が25〜29％である低粘度
ポリビニルアルコールである。
上記組成物をポリエステルフイラメントスクリ
ーンメツシユに被覆加工した。組成物は被覆加工
槽で適用し、メツシユのそれぞれの面に被覆加工
した。乾燥後、材料をポジ透明体を通して800W
ハロゲン化水銀ランプに距離１ｍで２分30秒露光
した。潜像は灰緑色の背景にクリーム色で見るこ
とができる。冷水で洗浄後、良い可視ステンシー
ル画像が得られた。
実施例 重量部 カトフオー06（ABMケミカルズ）1 3.5 ２−（カルボキシメトキシ）チオキサントン 2.5 Ｎ−ビニル−ピロリドン 26.0 ポリエチレングリコール200ジアクリレート 39.0 トリメチロールプロパントリアクリレート 9.0 ウベクリルP101（UCB）4 5.0 カオリン 35.0 25％ゴーセノールKP08溶液5 270.0 トライトン（Triton）GR5M10％溶液（界面活
性剤） 2.0 ジブチルフタレート 10.0 アンスラゾールピンクIR 1.2 ポリエチレングリコール200 3.0 上記組成物を90本／cmポリエステルスクリーン
メツシユに被覆加工し、乾燥し、フイルムポジ透
明体を通して800Wハロゲン化水銀ランプに距離
１ｍで145秒露光した。潜像はピンク色の背景に
クリーム色で見ることができる。冷水（15℃）で
洗浄後、浮出し像が得られた。
実施例 重量部 GH20（ゴーセノール）の13％水溶液6 50.0 メチレンビスアクリルアミド 0.5 アクリルアミド 5.0 トリエタノールアミン 0.9 ２−（３−スルホプロポキシチオキサントン） 0.1 ビナツパス（Vinnapas）EP147〔ワツカー
（Wacker）〕 10.5 50％イルガライトブルーCPV28（チバーガイギ
ー） 0.4 上記組成物を120本／cmポリエステルスクリー
ンメツシユ上に被覆加工し、乾燥し、ポジ透明体
を通して800Wハロゲン化水銀ランプに距離１ｍ
で10秒露光した。冷水で洗浄後、良い可視ステン
シール画像が得られた。
実施例 重量部 GH20（ゴーセノール）6の13％水溶液 50.0 メチレンビスアクリルアミド 0.5 アクリルアミド 5.0 トリエタノールアミン 1.0 ２−（２−スルホエトキシエトキシ）チオキサン
トン 0.1 ビナパスEP147（ワツカー） 10.5 カオリン 6.0 50％イルガライトブルーCPV28（チバ−ガイギ
ー） 0.4 上記組成物を120本／cmポリエステルスクリー
ンメツシユに被覆加工し、ポジ透明体を通して、
800Wハロゲン化水銀ランプに距離１ｍで10秒露
光した。冷水で洗浄後、良いステンシール画像が
得られた。
実施例 重量部 GH206（ゴーセノール）の13％水溶液 50.0 メチレンビスアクリルアミド 0.5 アクリルアミド 3.0 ポリエチレングリコール200ジアクリレート〔ダ
イヤモンドシヤムロツク（Diamond Shamrock）
UK〕 2.0 トリエタノールアミン 1.0 ３，４−ジメチル−２−（３−スルホプロポキシ）
−チオキサントン 0.1 ビナパスEP147（ワツカー） 10.5 50％イルガライトブルーCPV28（チバ−ガイギ
ー） 0.4 上記処方を150本／cmポリエステルスクリーン
メツシユに被覆加工し、ポジ透明体を通して
800Wハロゲン化水銀ランプに距離１ｍで10秒露
光した。冷水で洗浄後、良いステンシール画像が
得られた。
6ゴーセノールGH20は日本合成から供給され
る中／高分子量ポリビニルアルコールに対する商
品名である。
7ビナパスEP14はワツカーにより供給される大
体55％固形分のポリ酢酸ビニル／エチレン共重合
体エマルジヨンである。
8イルガライトブルーCPV2はチバ−ガイギー
により供給される水系組成物用顔料ペーストであ
る。
9ポリエチレングリコール200ジアクリレートは
ダイアモンドシヤムロツクUK社により供給され
るジ官能アクリレートである。
次の実施例はいかに新規なチオキサントン光開
始剤を製造するかを記述する。
実施例 １ 濃硫酸（300ml）をチオサリチル酸（30.9ｇ）
にゆつくりと加え、混合物を完全に混合するため
５分かきまぜた。フエノール（94ｇ）を30分間で
かきまぜた混合物にゆつくりと加えた。添加後、
混合物を室温で１時間、80℃で２時間かきまぜ、
その後、室温で一夜間放置した。生成混合物をそ
の容量の10倍の沸騰水にかきまぜながら注意して
注入し、次いで更に５分沸騰させた。溶液を冷却
し、ロ過した。残渣をアセトンから再結晶し、黄
色生成物である２−ヒドロキシ−チオキサントン
を得た。
２−ヒドロキシ−チオキサントン（4.56ｇ）を
ジメチルホルムアミド（125ml）、エチル４−クロ
ロブチラート（6.02ｇ）、炭酸カリウム（2.80ｇ）
およびヨウ化カリウム（0.50ｇ）と混合し、混合
物を還流下に４時間かきまぜた。生成混合物を冷
蒸留水に注意しながら注入した。沈殿した２−
（３−カルボキシプロポキシ）チオキサントンの
エチルエーテルである黄色固体をロ過して集め、
エタノールから再結晶した。２−（３−カルボキ
シ−プロポキシ）チオキサントンのエチルエステ
ル（4.2ｇ）をトリエタノールアミン（50ml）に
溶解し、蒸留水（５ml）およびエタノール（20
ml）中の水酸化カリウム（5.0ｇ）の溶液をかき
まぜながらゆつくりと加えた。生成混合物を還流
下に２時間かきまぜ、冷却し、大過剰の蒸留水に
注入し、次いで塩酸で酸性にした。生成黄色沈殿
をロ過して分離し、エタノールから再結晶し、２
−（３−カルボキシプロポキシ）チオキサントン
を得た。
実施例 ２ ２−ヒドロキシ−チオキサントン（11.40ｇ）
およびトルエン（125ml）を混合し、かきまぜ、
ナトリウムメトキシド（2.97ｇ）を滴下し、ゆつ
くりと加えた。温度を沸点までゆつくりと上げ、
混合物をその温度で１時間かきまぜた。チオキサ
ントンは黄色から赤色に色が変わり、ナトリウム
塩に変化したことを示した。反応混合物を冷却
し、ロ過し、残渣をエーテルで洗浄し、乾燥し
た。
１−クロロ−３−ブロモプロパン（104.0ｇ）、
エタノール（250ml）および水（90ml）を還流下
にかきまぜ、蒸留水（90ml）中の亜硫酸ナトリウ
ム（25.0ｇ）の溶液をかきまぜた還流反応混合物
に２時間で加えた。添加後、更に２時間還流を継
続し、その後、過剰のアルコールおよび１−クロ
ロ−３−ブロモプロパンを蒸留により除去した。
残存水溶液を蒸気浴上で乾燥まで蒸発させ、生成
物をアルコールから再結晶し、白色結晶固体であ
る３−クロロ−プロパン−スルホン酸ナトリウム
を得た。
２−ヒドロキシ−チオキサントンのナトリウム
塩（8.6ｇ）、３−クロロ−プロパン−スルホン酸
ナトリウム（6.6ｇ）およびジメチルホルムアミ
ド（150ml）を還流下に２時間かきまぜた。生成
混合物を冷却し、大過剰のアセトンに注入した。
固形分を集め、メタノールから再結晶し、２−
（３−スルホプロポキシ）チオキサントンのナト
リウム塩を得た。
実施例 ３ ビス（２−クロロエチル）エーテル（94.4ｇ）、
エタノール（250ml）および水（90ml）を還流下
にいつしよにかきまぜ、蒸留水（90ml）中の亜硫
酸ナトリウム（25.0ｇ）の溶液をかきまぜた還流
反応混合物に２時間で加えた。添加後、還流を２
時間継続し、その時間後、過剰のアルコールおよ
びビス（２−クロロ−エチル）エーテルを蒸留し
て除去した。残存水溶液を水浴上で乾燥するまで
蒸発させ、白色結晶固体を得、これはジエチルエ
ーテルとかきまぜ、ロ過し、２−クロロエトキシ
エチルスルホン酸ナトリウムを得た。
２−ヒドロキシチオキサントンのナトリウム塩
（22.5ｇ）、２−クロロエトキシエチルスルホン酸
ナトリウム（20.8ｇ）およびジメチルホルムアミ
ド（250ml）を還流下に１時間かきまぜた。生成
混合物を冷却し、大過剰のアセトンに注入した。
黄色沈殿をロ過し、沸騰メタノールから再結晶
し、２−（２−スルホエトキシエトキシ）−チオキ
サントンのナトリウム塩を得た。
実施例 ４ １，４−ジブロモーブタン（142.5ｇ）、エタノ
ール（250ml）および水（90ml）を還流下にいつ
しよにかきまぜた。亜硫酸ナトリウム（25.0ｇ）
と蒸留水（90ml）の溶液をかきまぜた還流反応混
合物に２時間で加えた。添加後、還流を２時間継
続し、その後、過剰のエタノールと１，４−ジブ
ロモブタンを蒸留して除去した。残存水溶液を蒸
気浴上で乾燥するまで蒸発させ、残渣をエーテル
でスラリとし、ロ過し、乾燥し、４−ブロモ−ブ
タンスルホン酸ナトリウムを得た。
４−ブロモブタンスルホン酸ナトリウム（15.5
ｇ）、２−ヒドロキシチオキサントンのナトリウ
ム塩（15.0ｇ）およびジメチルホルムアミド
（200ml）を還流下に２時間かきまぜた。生成混合
物を冷却し、アセトン600mlにかきまぜながら注
入した。沈殿した固体をロ過して集め、沸騰メタ
ノールから再結晶させ、２−（４−スルホブトキ
シ）チオキサントンのナトリウム塩を得た。
実施例 ５ 濃硫酸（300ml）をチオサリチル酸（30.9ｇ）
にゆつくりと加え、混合物を十分に混合するため
５分かきまぜた。かきまぜた混合物に２，３−ジ
メチル−フエノール（138ｇ）を30分間にゆつく
りと加えた。添加後、混合物を室温で１時間、次
いで80℃で２時間かきまぜ、その後室温で１夜放
置した。生成混合物をその容量の10倍の沸騰水に
かきまぜながら注意して注入し、その後更に５分
間沸騰し、冷却し、ロ過した。残渣をアセトンか
ら再結晶し、黄色生成物である２−ヒドロキシ−
３，４−ジメチル−チオキサントンを得た。
２−ヒドロキシ−３，４−ジメチル−チオキサ
ントン（10.2ｇ）と5M水酸化ナトリウム溶液
（150ml）をかきまぜ、黄色が完全に赤色に変わる
まで、いつしよにかきまぜ加熱した。反応混合物
を冷却し、ロ過した。残渣をアセトンで洗浄し、
乾燥し、２−ヒドロキシ−３，４−ジメチルチオ
キサントンのナトリウム塩を得た。
２−ヒドロキシ−３，４−ジメチルチオキサン
トンのナトリウム塩（6.5ｇ）、３−クロロ−プロ
パン−スルホン酸ナトリウム（4.3ｇ）およびジ
メチルホルムアミド（150ml）を還流下に４時間
かきまぜた。生成混合物を冷却し、大過剰のアセ
トンに注入した。固形分を分離し、メタノールか
ら再結晶し、３，４−ジメチル−２−（３−スル
ホプロポキシ）−チオキサントンのナトリウム塩
を得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 水に分散性、混合性または可溶性である１種
    またはそれ以上の末端エチレン性不飽和単量体、
    促進剤である任意的に末端エチレン性不飽和基を
    含有する１種またはそれ以上の第三級窒素含有化
    合物、水溶性コロイドおよび式 〔式中、R1はハロゲン、アルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、ニトロ、アミノ、アルキルアミ
    ノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシアルキルアミ
    ノ、アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、Ｎ
    −アルカノイル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、スルホ
    ンアミドまたはアセチルであり、 R2は１個〜４個の炭素原子を有するアルキレ
    ンであり、 ｎは０、１または２であり、 ｍは１または２であり、 Ａは−COOH、−SO3H、−OSO3H、または−
    OCO−Ｘ−COOH（ただし、ＸはHOOC−Ｘ−
    COOHが８個までの炭素原子を有するジ−また
    はトリ−カルボン酸であるような基である）であ
    り、 前記アルキル、アルコキシ、およびアルケニル
    残基はそれぞれ４個までの炭素原子を含有する〕 を有するか、またはその水溶性塩である水溶性光
    開始剤からなる水系光重合性組成物。 ２ １種またはそれ以上の末端エチレン性モノ不
    飽和単量体および交さ結合剤として１種またはそ
    れ以上の末端エチレン性ジ−またはトリ−不飽和
    単量体からなる特許請求の範囲第１項に記載の組
    成物。 ３ モノ−不飽和単量体がアクリルアミド、Ｎ−
    メチロールアクリルアミド、メタクリルアミドお
    よびＮ−ビニル−ピロリドンの１種またはそれ以
    上である特許請求の範囲第２項に記載の組成物。 ４ ジ−またはトリ−不飽和単量体がポリエチレ
    ングリコール（200）ジアクリレート、トリエチ
    レングリコールジアクリレート、トリプロピレン
    グリコールジアクリレート、テトラエチレングリ
    コールジアクリレート、Ｎ，N′−メチレン−ビ
    ス−アクリルアミド、Ｎ，N′−トリメチレン−
    ビス−アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレン
    −ビス−アクリルアミド、トリメチロール−プロ
    パントリアクリレートおよびペンタエリトリツト
    トリアクリレートの１種またはそれ以上である特
    許請求の範囲第２項または第３項に記載の組成
    物。 ５ 前記促進剤がトリエタノールアミン、メチル
    ジエタノールアミン、エチル−ジエタノールアミ
    ン、Ｎ−Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレー
    ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート
    またはウベクリルP101である特許請求の範囲第
    １項〜第４項のいずれか１項に記載の組成物。 ６ 前記コロイドがポリビニルアルコール、ポリ
    ビニルピロリドン、ゼラチン、ヒドロキシエチル
    −セルロース、またはヒドロキシプロピル−セル
    ロースである特許請求の範囲第１項〜第５項のい
    ずれか１項に記載の組成物。 ７ 前記光開始剤が２−（カルボキシ−メトキシ）
    −チオキサントン、２−（３−カルボキシプロポ
    キシ）−チオキサントン、２−（３−スルホプロポ
    キシ）−チオキサントン、２−（２−スルホエトキ
    シ）−チオキサントン、３，４−ジメチル−２−
    （３−スルホプロポキシ）−チオキサントンであつ
    て、それぞれが遊離酸またはその水溶性塩である
    特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項に
    記載の組成物。 ８ １分子当り少なくとも１個の第三級窒素を含
    有するポリオキシエチレンまたはポリオキシプロ
    ピレン化合物であるカチオン性界面活性剤もまた
    含有する特許請求の範囲第１項〜第７項のいずれ
    か１項に記載の組成物。 ９ 不活性重合体エマルジヨンもまた含有する特
    許請求の範囲第１項〜第８項のいずれか１項に記
    載の組成物。 １０ 着色剤および（または）充てん剤もまた含
    有する特許請求の範囲第１項〜第９項のいずれか
    １項に記載の組成物。 １１ チオインジゴイドまたはインジゴイド染料
    を含有する特許請求の範囲第１０項記載の組成
    物。 １２ 前記組成物が水40〜80重量％、末端エチレ
    ン性不飽和単量体４〜30重量％、第三級窒素含有
    化合物0.7〜６重量％、コロイド４〜14重量％、
    カチオン性界面活性剤０〜５重量％、および前記
    光開始剤0.1〜５重量％からなる特許請求の範囲
    第１項〜第１１項のいずれか１項に記載の組成
    物。 １３ 前記組成物が水50〜70重量％、一官能末端
    エチレン性不飽和単量体３〜８重量％、二官能末
    端エチレン性不飽和単量体0.5〜９重量％、三官
    能末端エチレン性不飽和単量体０〜２重量％、第
    三級窒素含有化合物１〜４重量％、コロイド６〜
    10重量％、重合体エマルジヨン５〜15重量％（固
    形分含有量に基づき）、カチオン性界面活性剤０
    〜３重量％、充てん剤５〜12重量％、可塑剤０〜
    ３重量％、および前記光開始剤0.12〜1.8重量％
    からなる特許請求の範囲第１２項に記載の組成
    物。 １４ 水に分散性、混合性または可溶性である１
    種またはそれ以上の末端エチレン性不飽和単量
    体、促進剤である任意的に末端エチレン性不飽和
    基を含有する１種またはそれ以上の第三級窒素含
    有化合物、水溶性コロイドおよび式 〔式中、R1はハロゲン、アルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、ニトロ、アミノ、アルキルアミ
    ド、ジアルキルアミノ、ヒドロキシアルキルアミ
    ノ、アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、Ｎ
    −アルカノイル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、スルホ
    ンアミドまたはアセチルであり、 R2は１個〜４個の炭素原子を有するアルキレ
    ンであり、 ｎは０、１または２であり、 ｍは１または２であり、 Ａは−COOH、−SO3H、−OSO3H、または−
    OCO−Ｘ−COOH（ただし、ＸはHOOC−Ｘ−
    COOHが８個までの炭素原子を有するジ−また
    はトリ−カルボン酸であるような基である）であ
    り、 前記アルキル、アルコキシ、およびアルケニル
    残基はそれぞれ４個までの炭素原子を含有する〕 を有するか、またはその水溶性塩である水溶性光
    開始剤からなる水系光重合性組成物で被覆加工さ
    れ、そして乾燥された支持体シート。 １５ 水に分散性、混合性または可溶性である１
    種またはそれ以上の末端エチレン性不飽和単量
    体、促進剤である任意的に末端エチレン性不飽和
    基を含有する１種またはそれ以上の第三級窒素含
    有化合物、水溶性コロイドおよび式 〔式中、R1はハロゲン、アルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、ニトロ、アミノ、アルキルアミ
    ノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシアルキルアミ
    ノ、アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、Ｎ
    −アルカノイル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、スルホ
    ンアミドまたはアセチルであり、 R2は１個〜４個の炭素原子を有するアルキレ
    ンであり、 ｎは０、１または２であり、 ｍは１または２であり、 Ａは−COOH、−SO3H、−OSO3H、または−
    OCO−Ｘ−COOH（ただし、ＸはHOOC−Ｘ−
    COOHが８個までの炭素原子を有するジ−また
    はトリ−カルボン酸であるような基である）であ
    り、 前記アルキル、アルコキシ、およびアルケニル
    残基はそれぞれ４個までの炭素原子を含有する〕 を有するか、またはその水溶性塩である水溶性光
    開始剤からなる水系光重合性組成物で被覆加工さ
    れ、そして乾燥されたスクリーン プリンテイン
    グ用スクリーン。 １６ 水に分散性、混合性または可溶性である１
    種またはそれ以上の末端エチレン性不飽和単量
    体、促進剤である任意的に末端エチレン性不飽和
    基を含有する１種またはそれ以上の第三級窒素含
    有化合物、水溶性コロイドおよび式 〔式中、R1はハロゲン、アルキル、アルコキシ、
    アルキルチオ、ニトロ、アミノ、アルキルアミ
    ノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシアルキルアミ
    ノ、アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、Ｎ
    −アルカノイル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、スルホ
    ンアミドまたはアセチルであり、 R2は１個〜４個の炭素原子を有するアルキレ
    ンであり、 ｎは０、１または２であり、 ｍは１または２であり、 Ａは−COOH、−SO3H、−OSO3H、または−
    OCO−Ｘ−COOH（ただし、ＸはHOOC−Ｘ−
    COOHが８個までの炭素原子を有するジ−また
    はトリ−カルボン酸であるような基である）であ
    り、 前記アルキル、アルコキシ、およびアルケニル
    残基はそれぞれ４個までの炭素原子を含有する〕
    を有するか、またはその水溶性塩である水溶性光
    開始剤からなる水系光重合性組成物を使用する、
    スクリーン プリンテイング用ステンシールの製
    造方法。
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Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH640849A5 (de) * 1979-05-18 1984-01-31 Ciba Geigy Ag Thioxanthoncarbonsaeureester, -thioester und -amide.
GB2109392B (en) * 1981-11-03 1985-06-26 Sericol Group Ltd Photopolymerisable materials for use in producing screen printing stencils
GB2137626B (en) * 1983-03-31 1986-10-15 Sericol Group Ltd Water based photopolymerisable compositions and their use
US4602097A (en) * 1984-06-11 1986-07-22 Ulano Corporation Water soluble photoinitiator benzophenone and thioxanthenone ethoxy-ether derivatives
GB8529448D0 (en) * 1985-11-29 1986-01-08 Ward Blenkinsop & Co Ltd Thioxanthone derivatives
US4748049A (en) * 1986-03-27 1988-05-31 Chemfil Corporation Clear paint booth coating composition and method
JPH0769607B2 (ja) * 1986-07-25 1995-07-31 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE3738567A1 (de) * 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
JP2800004B2 (ja) * 1987-04-23 1998-09-21 東京応化工業 株式会社 水現像型光硬化性絶縁ペースト組成物
GB8716378D0 (en) * 1987-07-11 1987-08-19 Autotype Int Ltd Photopolymerisable compositions
DE3738864A1 (de) * 1987-11-16 1989-05-24 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
JPH01238656A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Nippon Paint Co Ltd 高感度光重合性組成物
US5248805A (en) * 1988-12-31 1993-09-28 Basf Aktiengesellschaft Radiation-senstive, ethylenically unsaturated, copolymerizable compounds and their preparation
JP2644898B2 (ja) * 1989-11-16 1997-08-25 旭化成工業株式会社 レリーフ形成用感光性樹脂組成物
US5362786A (en) 1990-11-16 1994-11-08 Cal-West Equipment Co., Inc. Protective coating and method of using such coating
US5411760A (en) * 1990-11-16 1995-05-02 Cal-West Equipment Company, Inc. Protective coating and method of using such coating
US5750190B1 (en) * 1990-11-16 2000-01-25 Cal West Equipment Co Inc Protective coating and method of using such coating
GB2263699B (en) * 1992-02-03 1995-11-29 Sericol Ltd Photopolymerizable alcohols and compositions containing them
US5391464A (en) * 1993-12-28 1995-02-21 International Business Machines Corporation Thioxanthone sensitizer for radiation sensitive polyimides
US6025408A (en) * 1997-03-27 2000-02-15 First Chemical Corporation Liquid thioxanthone photoinitiators
JP3893262B2 (ja) 2000-09-14 2007-03-14 キヤノン株式会社 水性光硬化型樹脂組成物、水性インク、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置
GB0125098D0 (en) * 2001-10-18 2001-12-12 Coates Brothers Plc Multi-functional thioxanthone photoinitiators
GB0216311D0 (en) * 2002-07-13 2002-08-21 Great Lakes Uk Ltd An improved process for the production of substituted thioxanthones
US20040237814A1 (en) * 2003-05-29 2004-12-02 Benjamin Caplan Printing stencil and method for preparation thereof
JP2005162962A (ja) * 2003-12-05 2005-06-23 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 活性光線硬化型組成物及び活性光線硬化型インク、それを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
US20070207269A1 (en) 2004-06-14 2007-09-06 Cal-West Specialty Coatings, Inc. Masking solutions comprising siloxane-based surfactants for using in painting operations
EP1783552B1 (de) 2005-11-03 2015-10-07 Kissel & Wolf GmbH Photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Herstellung von Druckformen
US20070154518A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 Robert Falotico Photoactive biocompatible coating composition
GB2476275A (en) * 2009-12-17 2011-06-22 Dublin Inst Of Technology Photosensitive holographic recording medium comprising glycerol
US9845400B2 (en) 2014-05-29 2017-12-19 Sun Chemical Corporation Water-based UV inkjet ink
WO2016122454A1 (en) 2015-01-27 2016-08-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric photo active agents
WO2016122452A1 (en) 2015-01-27 2016-08-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric amine synergists
US10400066B2 (en) 2015-01-27 2019-09-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric photoactive agents
JP2017003911A (ja) * 2015-06-15 2017-01-05 株式会社ムラカミ 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、スクリーン印刷用版材および感光性レジストフィルム
JP6681527B2 (ja) * 2015-06-15 2020-04-15 株式会社ムラカミ 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、スクリーン印刷用版材、スクリーン印刷用ステンシルおよび感光性レジストフィルム、ならびにそれらの製造方法
US10414862B2 (en) 2015-07-09 2019-09-17 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric amine synergist
FR3067030B1 (fr) * 2017-06-02 2019-07-05 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Dispositif et procede de realisation d'un objet
CN113308137A (zh) * 2021-06-11 2021-08-27 安徽强邦印刷材料有限公司 一种免处理印刷版保护涂层及其制备方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3926643A (en) * 1974-05-16 1975-12-16 Du Pont Photopolymerizable compositions comprising initiator combinations comprising thioxanthenones
CH640849A5 (de) * 1979-05-18 1984-01-31 Ciba Geigy Ag Thioxanthoncarbonsaeureester, -thioester und -amide.
US4348530A (en) * 1980-02-05 1982-09-07 Ciba-Geigy Corporation Thioxanthonecarboxylic acids, esters, thioesters and amides with reactive functional groups
CH643552A5 (de) * 1980-05-06 1984-06-15 Ciba Geigy Ag Thioxanthoncarbonsaeuren und thioxanthoncarbonsaeurederivate.
JPS57163377A (en) * 1981-03-16 1982-10-07 Nippon Kayaku Co Ltd Dialkylthioxanthone compound, its preparation, and curing of photopolymerizable resin composition using it

Also Published As

Publication number Publication date
EP0081280B1 (en) 1985-12-11
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AU8783282A (en) 1983-05-12

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