JPH02865A - 感光材料およびそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ｆ１′業上の利用分野〕 本発明は、主に半導体デバイス製造等に用いるフォトリ
ソグラフィ用感光材料とそわを用いたパターン形成方法
に関するものである。

（発明の背景） 近年、半導体デバイスの高密度大集積化に伴い、微細加
工、中でもフォトリソグラフィに用いる露光装置の使用
波長は益々短波長化し、今では、にｒＦエキシマレーザ
（２４８，４ｎｍ）が検討されるまでになってきている
。しかしながら、この波長に適した感光材料は未だ適当
なものがなかった。

現在広く知られているレジストで、ＨｒＦエキシマレー
ザに対してかなり感光性が高く、光透過率もよいと言わ
れているＭＰ２４００　（シブレイ社製）を用いた場合
でも、現像後のパターン形状は非常に悪く、使用出来そ
うにもない。

例えば、ＭＰ２４００を用いて、ＫｒＦエキシマレーザ
露光でパターンを形成した場合について第４図を用いて
説明すると、まず、Ｓｉ基板１上にＭＰ２４００を回転
塗布し、ホットプレートにて９０℃で２分間プレベータ
を行った後、１．２μｎ厚のレジスト１漠３を得る（第
４図（ａ））。次に２４８．４ｎｍのＫｒＦエキシマレ
ーザ４をマスク５を介して選択的に露光する（第４図（
ｂ））。最後に、ＭＰ２４０１　（シブレイ社製）の２
０％水溶液（アルカリ性ンを用いて６０秒間現像を行う
ことにより樹脂パターン３ａが得られる（第４図（Ｃ）
）、。

ところかＭＰ２４００を用いた場合、この波長の光に対
して感度が悪いため相当露光量を大きくする必要があり
、結果として未露光部まで光が入り込み、パターン３ａ
の形状か第４図（Ｃ）に示されるように大幅に劣化して
、アスペクト比は６０度程度しか得られなかった。

このようにパターン形状か悪い原因は、ＭＰ２４００レ
ジストの露光光に対する表面吸収が大きいことに起因し
ていると考えられる。

このことは、レジストに用いられているメインポリマー
（樹脂ン自身か露光光に対して大きな光吸収性を持って
いるかレジスト中の感光材料の光反応性が良くないため
である。即ち、従来のレジストに使用されているナフト
キノンジアジド系の感光材料は、一般に２４８．４ｒ＋
ｕ＋付近の光に対して吸収が大きく、また、露光後の透
過率も殆どよくならないつ例えば、膜厚１戸のＭＰ２４
００では、にｒｌ’エキシマレーザ（２４８，４ｎｌ）
を用いた露光１萌ｉ麦の光透過率変化は、第５図に示す
ように２４１１．４ｎｍにおいてわずか３％程度であり
、反応性が悪いことか理解される。

従って、２４８．４０ｍのエキシマレーザに対してより
反応性の晶い感光材料の出現が、ゴい換えれば、同レー
ザに対してより光反応性の高い感光剤の出現が待ち望ま
れている現状にある。

このような目的のために開発された感光剤としては、例
えばグレイにより報告されているＮ２０ でボされる基を有する化合物がある（米国特許第４．６
２２，２８３号）、シかしながら、この特許明細書に於
て具体的に開示されている化合物は、上記した基の両端
の官能基が、単なるアルキル基、アリール基若【ノくは
両端が結合してアルキレン環を形成しているもの等であ
り、これらの化合物を感光剤とするレジストをフォトリ
ングラフィに用いた場合、未露光部のアルカリ現像液に
対する阻止能が強いとは考えられず、’Ｈｔのレジスト
膜減りを起こし、それに伴って、コントラストの低下が
起こることが予測され、必ずしも実用的な感光剤とは言
い難い。

（発明の目的） 本発明は、２４８．４ｎｍのエキシマレーザに対して反
応性の良い新規な感光材料とこわを用いたパターン形成
方法を提供することを目的としたものである。

即ち、本発明は２４８．４ｎｍ付近の遠紫外光に対して
感光性が大きく、史には露光直後の光透ＩＡ率変化か大
きな感光性試薬の開発と、この試薬と２４８．４ｎｍ付
近の光に対して光透過十か大きな樹脂（メインポリマー
）との組み合わせによる２４８．４ｎｍ付近の光を用い
たフォトリングラフィに有効な感光材料（レジスト及び
コントラストエンハンスト用材料）の開発並びにこの感
光材料を用いた効果的な微細パターンの形成方法の開発
を目的とする。

〔発明の構成〕

本発明は、一般式［Ｉ］ は夫々独伍して水素原子又は置換基を有していてもよい
アルキル甚を表わすか、又は［２、ＨＴｈ及びＮとでピ
ペラジン環、ピペリジン環、ピロリジン環又はモルホリ
ン環等の如き環を形成していてもよい。）又は樹脂と反
応しマｉ？る官能基を表わし、１（はアルキル基、シク
ロアルキル基、ヒドロキシするパターン形成方法の発明
である。

史に、本発明は、一般式［ＩＪ 又は置換基を有していてもよいアルキル基を表わすか、
又はＲ５，ＨＧ及びＮとでピペラジン環、ピペラジン環
、ピロリジン環又はモルホリン環等の如き環を形成して
いてもよい。）又は樹脂と反応し得る官能基を表わす。

また、ｎは自然数を表わす。）、ｍは自然数を表わす。

コで示される感光性化合物を含むことを特徴とする感光
材料の発明である。

また、本発明は、−・数式［ＩＪ ［式中、Ｘ、　Ｒ及びｍは前記に同じ。コで示される感
光性化合物と樹脂を含む感光材料の薄膜を基板表面のレ
ジスト十に形成した後、遠紫外光を用いて露光し、現像
を行い前記感光材料の層を除去して、前記のレジストの
パターンを形成することを特徴とするパターン形成方法
の発明である。

史に、また、本発明は、一般式［ｒｌ、１〔式中、Ｘ、
　Ｒ及びｍは前記に同じ。］で示される感光性化合物と
樹脂を含む感光材料を基板−Ｆに塗布した後、遠紫外光
を用いて露光し、現像を行い前記感光材料パターンを形
成することを特徴とＲ′及びＲ３はｍｌ記に同し。また
、−５ｏ２ｃｃ、−３Ｏ２［］ｒ及び−５０３１＋はそ
の第４級塩を含む。）、Ｈ’はアルキル基、シクロアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基
又は−（Ｃ１０・）。６”をＲ４，１１５及びＲ６は前
記に同じ、、また、−Ｓ　ｌ）　２α、−５０２１１ｒ
及び−５０１１１はその第４級塩を含む。）。また　、
ｌは１〜２０の整数を表わす、）、ｍｏは１〜２０の整
数を表わす。］で示される化合物の発明である。

数式［ＩＪで示される本発明に係る化合物に官能基が挙
げられる。また、−５Ｏ，Ｒ’に於けるＲ１としては例
えばメチル基、エチル基、プロピル基。

ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基。

オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基）３Ｈ
４ｔ、例えばメチル基、エチル基、プロピル基。

ブチル基、アミル基、・＼キシル基、ヘプチル基。

オクチル基１．ノニル基、デシル基等のアルキル基（直
鎖状或は分枝状の何ｊにてもよい。）又はこわらアルキ
ル基に水酸基、アルコキシ基等の置換基がついたもの等
が挙げられ、また、Ｒ’１．　ＩＪ及びＮとでピペラジ
ン環、ピペリジン環、ピロリジン環又はモルホリン環等
の如き環を形成していてもよい。また、樹１１ｎと反応
し得る官能基としては、例えば−８０２α、　−３Ｏ２
Ｂｒ、　−５ｏ、Ｈ，−ＣＯＯＩＩ。

−に０α、　−ＣＯＢｒ、−Ｎｌ１２等の官能基が挙げ
られ、−５Ｏ２Ｃｌ、　−５Ｏ□Ｂｒ、−５ｏ３Ｉｔ及
び−ＣＯＤｌｌ等はその第４級塩となっていてもよく、
これらと第４級塩を形成し得る塩基としては、例えばア
ンモニア、ピリジン、ピペラジン、ピペリジン、Ｎ−メ
チルピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン、トリメ
チルアミン等か挙げられる。一般式［ＩＪで示される本
発明に係る化合物のＲとしては例えばメチル基。

エチル店、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基。

デシル基等のアルキル基（直鎖状或は分枝状の何わにて
もよい７）、例えばシクロプロピル基、シクロベンチル
基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、例えばヒ
ドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基、ヒドロキシブチル基等のヒドロキシアルキル
基、例えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、メト
キシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシメチル基
。

エトキシエチル基、エトキシプロピル基、エトキシブチ
ル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基、プロ
ポキシプロピル基、プロポキシブチル基、ブトキシメチ
ル基、ブトキシエチル基。

又は樹脂と反応し得る官能基が挙げられる。また、−３
Ｏ３Ｈ’の１＜４としては例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基
（直鎖状或は分枝状の何れＲ５，Ｒ’としては水素原子
、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基等のアルキル基（直′ｉｎ状或は分枝状
の何れにてもよい。）又はこれらアルキル基に水酸基。

アルコキシ基等の置換基がついたもの等が挙げられ、ま
た、Ｒ５，ｌｌｉ及びＮとでピペラジン環、ピペリジン
環、ピロリジン環又はモルホリン環等の如き環を形成し
ていてもよい。また、樹脂と反応し得る官能基としては
、例えば−Ｓ０２α、−３Ｏ２Ｂｒ。

−３Ｏ３Ｈ，−ＧＯ（Ｉｌｌ、　−ＣＯα、−ＣＯ口ｒ
、−Ｎｔ（２等の官能基が挙げられ、−５０２α、−３
Ｏ２Ｂｒ、−５０３１１及び−（：００１１等はその第
４級塩となっていてもよく、これらと第４級塩を形成し
得る塩基としては１例えばアンモニア、ピリジン、ピペ
ラジン、ピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリ
ン、ジエチルアミン、トリメチルアミン等が挙げられる
。

数式［ｒｌｌで示される本発明化合物に於けるｍｏは１
〜２０の整数であり、ｙとしては水素原−３０３Ｈか挙
げられ（１１，Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。）、−５０
２αどＳＯ□Ｂ「及び−３Ｏ３Ｈは第４級塩となってい
てもよく、これらと第４級塩を形成し得る塩基としては
、例えばアンモニア、ピリジン、ピペラジン、ピペリジ
ン、Ｎ−メチルピロリジン、モルホリン、ジエチルアミ
ン、トリメチルアミン等が挙げられる。

２一般式［１１］に於けるＲ７としては例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等
のアルキル基（直鎖状或は分枝状の何れにてもよい。）
、例えばシクロプロピル店、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基等のシクロアルキル基、例えばヒドロキシメ
ヂル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、
ヒドロキシブチル基等のヒドロキシアルキル基、例えば
メトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピ
ル基、メトキシブチル基、エトキシメチル基、エトキシ
エチル基、エトキシプロピル基。

エトギシブチル基、プロポキシメチル基、プロポキシエ
チル基、プロポキシプロピル基、プロボキシブヂル基、
ブトキシメチル基、ブトキシエチル（１（４，１（５及
びＲ６は前記に同じ、）、−５ｏ２ｃｃ、−５Ｏ□Ｂ「
及び−３Ｏ１Ｈはその第４級塩となっていてもよく、こ
れらと第４級塩を形成し得る塩基とし°Ｃは、例えばア
ンモニア、ピリジン、ピペラジン、ピペリジン、Ｎ〜メ
チルピロリジン、モルホリン、ジエチルアミン、トリメ
デルアミン等が挙げられる。

数式［＋１］で示される本発明化合物には、Ｆ記一般式
［［ｎｌ及び［ＩＶ］で示される化合物か含まれる。

０　Ｎ２０ （式中、Ｙ及びＩ゛は前記に同し。また、Ｒ８はアルギ
ル基、シクロアルキル基、ビトロキシアルキル基又はア
ルコキシアルキル基を表わす。）（式中、Ｙ、　Ｙ’、
ｍ’及びｎｏは前記に同じ。）本発明に係る化合物の製
法を一般式［Ｉ［１］で示される化合物の場合を例にし
て示すと以下の如くなる。

（式中、Ｉ゛及びＨａは前記に同じ。）［］Ｎ２（１ 即ち、先ず、一般式［ＩＩ［−１］で示される化合物（
以下、化合物［ｌｌｌ−１］と略記する。）に塩基の存
在下ジアゾ化剤を作用させると、一般式［Ｉ１１］に於
いてＹが水素原子の本発明化合物（以下、化合物［ｌｌ
ｌ−２］と略記する。）か得られ、次いでこねにクロル
スルホン酸を反応させると、一般式ｒｌＩＩ］に於いて
Ｙが−５０２Ｃｊ／、である本発明化合物か得られる。

シアン化反応は、通常、化合物［Ｉ［［−１］　と化合
物［１−１］　１モル当たり　０．５〜３モル、好まし
くは　０．８〜１．５モルのジアゾ化剤と、化合物［■
−月　１モル当たり　０，５〜５モル、好ましくは０．
８〜１．５モルの塩基とを適当な反応溶媒中、−１０〜
３０℃、好ましくは一５〜１０℃で１５分乃至５時間、
好ましくは１〜２時間反応させることにまりなされる。

ジアゾ化反応に於いて用いられる反応溶媒としては、例
えばエタノール、イソプロパツール等のアルコール類、
例えばエチルエーテル、イソプロピルニーデル、デトラ
ヒドロフラン等のエーテル類、例えば儀式ノナレン、ク
ロロホルム、四塩ｉｆｆ素、■、２−ジクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素類、例えばｎ−ヘキサン、シクロ
ヘキサン、トルエン等の炭化水素類等が挙げられ、ジア
ゾ化剤としては例えばｐ−）ルエンスルホニルアジド、
ペンセンスルホニルアジド、２−アジド−３−エチルベ
ンゾチアゾリウムフルオロボレート等が挙げられ、塩基
としては例えばピペリジン、トリエチルアミン、Ｎ−メ
チルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、ジ
エチルアミン等の有機塩基、例えばＮａ（１（、Ｉｌｌ
、　Ｎａｐ（：２Ｈ５、ＭＯ（：　（Ｇｔｌ＋）　＊　
、　ＫＯＣ２１４＝、等のアルカリ土類金属ナトリウム
、水素化ナトリウム、水素化カリウム等が挙げられる。

また、クロルスルホン化反応は、化合物［ＩＩＩ　−２
］　と化合物しｌｌｌ−２］　　１モル当たり１〜ｌＯ
モル、好ましくは２．５〜４．５モルのクロルスルホン
酸とを溶媒の存在上又は不存在Ｆに一２０〜２０℃、好
ましくは−ｌＯ〜５℃で、１５分乃至５時間、好ましく
は１〜２時間反応させればよい。

クロルスルホン化反応に於いて用いられる反応溶媒とし
てはクロルスルホン化反応を阻害することなく、■つそ
れ自身かクロルスルホン化される恐れのない有機溶媒で
あれば特に限定されないが、例えば四塩化炭素、四塩化
エタン、クロロホルム、ｌ、２−ジクロロエタン、駈メ
（１）ｉテレン等のハロゲン化炭化水素類や、二硫化炭
素等か、通常好ましく用いられる。

このようにして得られたＳθ□α体を、例えば常法によ
り加水分解すれば、一般式［Ｉ１１］に於いてＹが一５
Ｏ，１１の本発明化合物が得られる、また、加水分解の
代りに加アルコール分解すれば、一般式［１１１１に於
いてＹが一５０１８’（Ｒ’は前記と同じ。）の本発明
化合物が得られる。更に、加水分解や加アルコール分解
する代りに、　Ｓ０２α体をアンモニア、或は例えばモ
ノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプロピルアミ
ン、モノブチルアミン、モノペンチルアミン、ジメチル
アミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジェタノールアミン等の脂肪族アミン、
（式中、ｍ゛は前記と同じ。）で示されるケトン類と一
般式 化合物［［１−１］は、例えば一般式 （式中、１じはアルキル基を表わし、ｍ゛は前記と同し
。）で示されるエステル類と一般式（式中１８はｍｌ記
と同じ。）で示さむるケトン類とを、例えば金属ナトリ
ウム、水素化ナトリウム、金属アルコキシド等の存在下
に縮合反応させるか、或は一般式 （式中、Ｒ８，Ｈ’は前記と同じ。）で示されるエステ
ル類とを、金属ナトリウム、水素化ナトリウム、金属ア
ルコキシド等の存在ドに縮合反応させることにより容易
に得られるから、このようにして得られたものを用いる
ことで足りる。

また、本発明に係る化合物の製法を一般式［ｒＶ］で示
される化合物の場合を例にし７て示すと以下の如くなる
。

（式中、ｍ゛及びｎｏは前記に同じ。）↓クロルスルホ
ン化 １式中、ｌ、　７’は共に一５０２αを表わすが、若し
くは何れか一方が一５Ｏ□αを表わし、他方は水素原子
を表わす。また、ｍ′及びｎｏは前記に同じ。］即ち、
先ず、一般式（ＩＶ−１］で示される化合物（以下、化
合物［ｒＶ−１］と略記する。）に塩基の存在ドジアゾ
化剤を作用させると、一般式［■］に於いてＹ及びＹｏ
が水素原子の本発明化合物（以上、化合物［ＩＶ−２］
と略記する。）が得られ、次いでこれにクロルスルホン
酸を反応させると、数式［ＩＶ］に於いてＹ及びＹｏの
少なくとも−・方か一３０２αである本発明化合物が得
られる。ジアゾ化反応及びクロルスルホン化反応の反応
条件等は、前記した一般式［１１１１ｒ］で示される本
発明化合物の製法に準じてこれを行なえばよい。得られ
た５０２Ｃｆ１．体を加水分解すれば、一般式［］に於
て、Ｙ、　Ｙ’か−ＳＯ，Ｉ＋（又はＹとＹｏのいずれ
か一方か一５Ｏ，１１で他方か一５Ｏ２α）、或はＹと
Ｙｏのいずれか一力が−ＳＯ，１１で他方か水素原子の
本発明化合物が得られる。また、加水分解の代りに加ア
ルコール分解すわば、Ｙか一５Ｏ，Ｈ’（Ｒ’は前記と
同じ、）でＹ。

か−５Ｏ，Ｒ’（１１’は前記に同じ。）（又はＹとＹ
ｏのいずれか一方が一３ｏ３ｎ’　（Ｒ’）で他方が一
３０２ＣｊＬ）、或はＹとＹｏのいずれか一方が一３０
３Ｒ’（１１’）で他方が水素原ｆの本発明化合物が得
られる。更に、加水分解や加アルコール分解する代りに
、　５ｏ２ｃｔ体をアンモニア、或は例えばモノメチル
アミン、モノエチルアミン、モノプロピルアミン、モノ
ブチルアミン、モノペンチルアミン、ジメチルアミン、
ジエチルアミン、ジプロピルアミン、モノエタノールア
ミン、ジェタノールアミン等の脂肪族アミンや、ピペリ
ジン、ピペラジン、ピロリジン、モわるので、このよう
にして得たものを用いれば足が得ら九る。

化合物［ＩＶ−１３は、例えば一般式 （式中、Ｑは塩素原子、臭素原子又は沃素原子を表わし
、ｍｏは前記に同じ。） で示される化合物及び一般式 （式中、Ｑ及びｎｏは前記に同じ。） でボされる化合物と２．４−ペンタンンオンとを、例え
ばシクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、トルエン、イソプロ
ピルエーテル等の溶媒中、例えばｎ−ブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミド。

リチウム　１，１．１，３，３．３−ヘキサメチルジシ
ラザン、にＨ／ｎ−ロｕＬｉ、　ＮａＨ／ｎ−Ｂｕｌ、
ｉ等の縮合剤を用いて低温、例えばＩＯで以Ｆで反応さ
せれば容易に得らつる。

また、化合物［ＩＶ−１］は、例えば、一般式（式中、
ｍｏは前記と同じ。）で示されるケトン類と一般式 （式中、Ｒ゛及びｎｏは前記と同じ、）で示されるニス
デル類とを、金属ナトリウム、水素化ナトリウム、金属
アルコキシド等の存在下に縮合反応させることによって
も容易に得られるから、このようにして得たものを用い
ても良い。

数式［Ｉ］で示される本発明に係る化合物は、２４８．
４ｎｍ光に対する反応性が大きい。また、本発明に係る
化合物を用いたレジストは露光前後における透過率変化
が大きく（約５０％以上）、さらに露光後の透過率も７
０％以上と大きい。また、一般式ｒＩ］に於て×（又は
／及びＸ’）か樹脂と反応し得る官能基である感光性化
合物を叶基を含む樹脂と混合した感光材料では、塗布後
加熱すると、架橋反応が進行し、現像液に対して、樹脂
の溶解性を減少させる効果がある。従って、これをレジ
スト等の材料として用いることにより、形状の良い樹脂
パターンを得ることができる。

即ち、一般式［１１で示される本発明に係る感わる。従
って、感光材料は未露光部のノボラック樹脂等のアルカ
リｉ＋）溶性を抑制出来ることが望ましい。

数式［ｉ］に於て、Ｘ（又は／及びｘｏ）が樹脂と反応
し得る官能基である本発明に係る感光性化合物は、その
点、末端基に例えば、−５０２α。

−５Ｏ２Ｂｒ、−５ｏ３Ｈ，−ｃｏａｌｌ　、　−ＧＯ
ＣＩ　、−Ｃ（ｌＢｒ、−Ｎｌ２等の官能基を含んでい
ることから、加熱することにより樹脂のアルカリ可溶部
である一叶基と例えばＵｖ光）、例えばエキシマレーザ
売等によりる。従って、本発明の感光材料はその光照射
部分のみがアルカ＋７可溶性となり、所謂ポジ型となる
。

ところが一般のポジ型レジスト材料は、感光物質・樹脂
・溶媒の組合せであり、樹脂としてアルカリ可溶性のノ
ボラック樹脂等が主に用いらために架橋が進４ｉシ、樹
脂のアルカ＋７可溶性を抑えることができる。従って、
感光材料に用いたとき未露光部の膜減りの問題は、大幅
に改善される。

尚、一般式ＩＩ］で示される本発明に係る感光−Ｃυｌ
ｌｒ、−Ｎｉｌ、等の置換基のベンゼン環上の置換位置
、及び一般式［１１１で示される本発明化合物に置換位
置は、メチレン基に対してｏ−、ｍ−、ｐ−位のいずれ
にてもよく、いずれも全く感光材料としての効果に相違
はない。また、メチレン１ｎの長さもｍ及びｎが夫々何
わの自然数の組み合わせであっても、またｍ’、ｎ’が
１〜２０の整数の何れの組合せであっても同様に効果に
大差はないが、一般にメチレン鎖の長い感光性化合物は
、アルカリ現像液に対する溶解性が低いため、少ない使
用量に於ても高い溶解阻止能か得られる。そのため、現
像液濃度を高くする事か可能となり、現像条件の安定化
を計る事ができる。しかしながらメチレンｉｎかあまり
長くなると（例えば２０より大きな化合物）、溶媒への
溶解性が乏しくなり、実用的な溶解阻止能及び感光性を
有する濃度に溶解させる事か難しい、従って、メチレン
鎖は溶媒への溶解性が乏しくならない程度にある程度長
い方か好ましい。

尚、ポジ型レジスト材料に於いて用いられる樹脂と１７
では、例えばバラクレゾール・ノボラック樹脂、メタク
レゾール・ノボラック樹Ｊｌｉ、オルトクロロメタクレ
ゾール・ノボラック樹脂、マレイミド樹脂、ヒドロキシ
スチレン樹脂、ポリ（パラビニルフェノール）樹脂、フ
ェノール樹脂、スチレン樹脂、マレイン酸樹脂等の２４
８．４ｎｒａ付近の光透過性の良いアルカリ１ｒ溶性の
樹脂が挙げられ、これら樹脂と一般式［１］で示される
本発明に係る感光性化合物との、ポジ型レジスト材料に
於ける混合比としては、樹脂１重量に対して本発明に係
る感光性化合物１〜０，０５重量、好ましくは０．１５
１扛量付近が挙げられ、樹脂二本発明に係る感光性化合
物＝１：０．１５の場合が、レジスト材料の光に対する
反応性が最も高く、最も良いアスペクト比のレジストパ
ターンが得られる。

また、上記レジスト材料は通常有機溶媒に溶解して用い
られるが、このような目的で用いられる有機溶媒として
は、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、エチルセロソル
ブアセテート、メチルセロソルブアセテート等が挙げら
九るが、これらに限定されるものではなく、感光性化合
物及び樹脂を溶解し得る溶媒であればいずれにてもよい
。

本発明に係る化合物を含むレジスト材料を用いてパター
ン形成を行うには、例えば以下の如く行えばよい。

本発明に係る化合物を含むレジスト材料を、シリコンウ
ェハー等の基板の上に厚みが０．５〜２μｎ程度となる
ように塗布しく３層の上層として用いる場合には０．１
〜０．５μ欝程度）、これをオーブン中で７０〜１１０
℃、１０〜３０分間、若しくはホットプレート上で７０
〜１１０℃、１〜２分間ブレベークする。次いで、目的
のパターンを形成するためのマスクを上記のレジスト膜
−ヒにかざし、３００ｎｍ以下の遠紫外光を露光−＠　
（ｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｄｏｓｅ）２０〜３００ｍＪ／ｃ
ｍ２程度となるように照射した後、０．１％テトラメチ
ルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭΔＨ）水溶液
等の現像液を用い、０．５〜３分程度、浸漬法、パドル
（ｐｕｄｄｌｅ）法、スプレー法等の常法により現像す
れば、基板上に目的のパターンが形成される。

また、本発明に係る化合物を含むレジスト材料は、コン
トラストエンハンスト材料としても用いることかできる
。

即ち、例えば適当なレジスト材料（例えばＭＰ２４００
　（シブレイ社製））をシリコンウェハー等の基板のト
に厚みが０．５〜２μｎ程度となるように塗布し、これ
をオーブン中で７０〜１１０℃、１０〜３０分間、若し
くはホットプレート上で７０〜１１０℃、１〜２分間ブ
レベークした後、更にこの上に本発明に係る化合物を含
むコントラストエンハンスト材料を厚みが０．１〜０．
５μ欝程度となるように塗布する。次いで、目的のパタ
ーンを形成するためのマスクを上記のレジスト股上にか
ざし、３００ｎｍ以トの遠紫外光を、露光量（ｅｘｐｏ
ｓｕｒｅ　ｄｏｓｅ）か下層レジストのみを用いてパタ
ーン形成を行う際の１．５倍程度となるように照射した
後、２４０Ｉ現像液（シブレイ社製）の２０％水溶液等
の現像液を用い、　０．５〜３分程度、浸漬法、パドル
−（ｐｕｄｄｌｅ）法、スプレー法等の常法により現像
すれば、基板ヒに目的のパターンが形成１される。

また、上記した如き各種パターン形成法に於いて用いら
れる現像液としては、レジスト材料に使用する樹脂のア
ルカリ溶液に対する溶解性に応じて、未露光部は殆ど溶
解させず、露光部は溶解させるような適当な濃度のアル
カリ溶液を選択１−ればよく、通常０．旧〜５０％の範
囲から選択される。また、使用されるアルカリ溶液とし
ては、例えば１ＭＡＨ等の＃機アミン類、例えばＮａＯ
Ｈ，ＫＯＩＩ等の無機アルカリ類を含む溶液が挙げられ
る。

以下に参考例、実施例却伊瞭井舛を挙げて本発明を史に
詳細に説明するが、本発明はこれらにより何等制約を受
けるものではない。

〔実施例〕

参考例１．ｐ−ｈルエンスルホニルアジド（トシルアジ
ド）の合成 アジ化ナトリウム２２．５ｇ　（０，３５モル）を少量
の水に溶解させた後、９０％合水エタノール１３０−で
希釈した。次いで１０〜２５℃でρ−トルエンスルホニ
ルクロライド６０ｇ（０，３２モル）を溶解させたエタ
ノール溶液を滴下し、室温下、　２．５時間撹拌反応さ
せた。反応液を室温上減圧濃縮し、残渣油状物を数回水
洗した後無水ｇｇｓｏ、で乾燥した。乾燥剤を枦去し、
ｐ−トルエンスルホニルアジド５０．７ｇを無色油状物
として得た。

’ｔｌＮＭＲ１５ｐｐｒＢ（１１：Ｄα、、）　：　２
．４３　（：ｌＨ，ｓ、ｅｌＬＬ）　、　７．２４（２
Ｈ，ｄ、Ｊ−８１１ｚ、ｐｈｅｎＶＩ　−Ｇ’ｌ＋　ｃ
５）、７　、６７　（２ＩＩ　、　ｄ　、　、１−１ｌ
Ｈｚ、　ｐｌ＋ｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃ：、、）。

ｌ１ｌ（Ｎｅａｔ）　：　２１２０ｃｍ”　（−Ｎ３）
。

参考例２．１．７−シフエニルー３．５−へブタンジオ
ンの合成 シクロヘキサン２００ｍ１中に６０％水素化ナトリウム
１７ｇを仕込み、これに２０〜２５℃でアセチルアセト
ン３７ｇ　（０，３７モル）を溶解したシクロヘキサン
溶液を滴下し、同温度で４０分間撹拌反応させた。

次いでＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラメチルエチレンジア
ミン９１．８ｇを注入後−５〜Ｏ℃でｎ−ブチルリチウ
ムの１．６Ｍ　ｎ−ヘキサン溶液３３７ｇを滴下し更に
室温まで昇温し２４時間反応させた。次いでこの反応液
に０〜５℃で塩化ベンジル９３．７ｇを滴下し、１夜放
置した後、希塩酸中に注入した。静置、分液して有機層
を分取し、数回水洗した後無水ＭｇＳＯ４で乾燥した。

乾燥剤を枦去後溶媒留去して赤色油状物７９ｇを得、こ
れを減圧蒸留してｂｐ、　１８５〜１９０’Ｃ１０，４
＋ｎｍ）Ｉｇ留分の１．７−ジフエールー３．５へブタ
ンジオン２３．５ｇを淡黄色油状物として得た。

実施例１．１．７−ビス（４−クロルスルホニルフェニ
ル）−４−ジアゾ−３，５−へブタンジオン（一般式［
ｒＶ］に於いて、Ｙ　＝Ｙ’・−３Ｏ２Ｃｅ、　ｍ’−
ｎ’＝２の化合物）の合成１１）４−ジアゾ−１，７−
ジフェニル−３，５−ヘプタンジオンの合成 参考例２で得た１、７−ジフェニル−３，５−ヘプタン
ジオン１６．ｔｉｇ　（６０ミリモル）を塩化メチレン
１２０　Ｔｎｌに溶解しピペリジン５．Ｉｇ（６０ミリ
モル）を加えた接、０〜５℃で参考例！で得たｐ−）ル
エンスルホニルアジト用２．４ｇ　（６３ミリモル）を
滴下し、更に同温度で２時間撹拌反応させた。反応液を
希カセイカリ水溶液で洗浄後、数回水洗し無水Ｍ）ＪＳ
Ｏ４で乾燥した。乾燥剤な枦去後溶媒留去して赤橙色油
状物１９ｇを得た。次いで残渣油状物をカラム分離［シ
リカゲル：ワコーゲルＧ−２００（和光純薬工業■製）
、溶離液：塩化メチレンコし、４−ジアゾ−１，７−ジ
フェニル−３，５−へブタンジオン８．Ｏｇを微黄色結
晶として得た。ｍｐ、６２．５〜６４．０℃。

’ＨＮＭＩＩδｐｐｍ（（：Ｄ（ｆ、、）　：　２．９
７　（８１１，ｓ、−［；％−Ｘ　４）、７．２０（１
０ｆｌ、ｓ、芳香環×２）。

Ｉｎ（Ｋｌｌｒ−ｄｉｓｋ）　＋　２１２０ｃｍ−’（
−Ｎ２）、１６５０ｃｍ−’　（ＣＪ）。

Ｃ２１１，７−ビス（４−クロルスルホニルフェニル）
−１−ジアゾ−３，５−へブタンジオンの合成りコルス
ルホン酸２２．４ｇ中に（１）で得た４−ジアブー１．
フージフエニル−３，５−へブタンジオン７．５ｇ（２
４ミリモル）を溶解したクロロホルム溶液を０〜５℃で
滴下し、同温度で１時間撹拌反応させた。反応液を氷水
０．５４２中に注入後クロロホルム抽出し、分取したク
ロロホルム層を数回水洗した後無水Ｍｇ５０４で乾燥し
た。乾燥剤を枦去後溶媒留去して残渣の橙色油状物５ｇ
を得た。次いで油状物をカラム分離［シリカゲル：ワコ
ーゲルＧ−２００、溶！ｙ＆：ｎ−ヘキサン／′塩化メ
チレン＝３／Ｉ　−＋ｌ／Ｉ　　（Ｖ／Ｖ）　］　Ｌ／
、１．７−ビス（４−クロルスルホニルフェニル）−４
−ジアゾ−３，５−へブタンジオン３．０ｇを黄色結晶
として得た。ｍｐ、］２１〜１２２．５℃。

直ＩＩ　Ｎ　Ｍ　１１　　δｐｌ）ｍ（ＣＤ（Ｊ！　３
）　　：　　３．１０　　（ａ　肌ｓ　、　−（：％　
−Ｘ　４）　、１旧ＫＢｒ−ｄｉｓｋ）　：　２１３０
ｃｍ−’　（−Ｎ２）、１５４０ｃｍ−’　（（：Ｊ）
。

元素分析値　（（：＋Ｊ（＋ｅα２　Ｎ　２０６　Ｓ　
２　）理論値：　ｃ＊、　４５Ｊ４：　ＨＪ　：１．２
０　；　Ｎ＊、　！ｉ、！’ｉ７゜実ｄ：１１値：Ｃ木
、　４５．２５；　Ｈ＊、　３．３６　　：　Ｎ’Ｊ４
．　！ｉ、５６゜実施例２　、　Ｉ　、７−ビス（４−
エトキシスルホニルフェニル）−４−ジアゾ−３，５−
へブタンジオン（一般式［ｒＶ］　に於て、Ｙ　＝Ｙ’
＝−５Ｏ３に２Ｈ，、ｍ　’　＝ｎ　’　・２の化合物
）の合成実施例１の（２）で得た１、７−ビス（４−ク
ロルスルホニルフェニル）−４−ジアゾ−３，５−へブ
タンジオ’ｙ　７００ｍｇ（１，４ミリモル）をエタノ
ール１５ｍ１及び塩化メチレン１０ｍ６に溶解させ、こ
わに５〜１０℃でトリエチルアミン４２０ｍｇを滴−ド
した。室温で８時間撹拌反応させた後、減圧濃縮し残渣
を塩化メチレン４０−で希釈し、数回水洗後無水Ｍｇ５
ＣＪａで乾燥した。乾燥剤を枦去後溶媒留去し残渣の粗
油状物８２０ｍｇをカラム分離［シリカゲル：ワコーゲ
ルＧ−２００．溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５
／１−Ｔｈ　３／ｌ　（Ｖ／Ｖ）　ｌ　シ、１．７−ビ
ス（４−ｃトキシスルホニルフェニル）−４−ジアゾ−
３，５−へブタンジオン４５０ｍｇを微黄色粘稠油状物
として得た。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤ（ｆ、、）　：　Ｉ　、３
１　（６１１，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ、ＳＱ、、Ｃ１１２Ｃｙ
　ｘ　２）　、：Ｊ、０８　（８ｆｌ、ｂｓ　、−ＣＤ
、ＣＤ、ｃｏ−ｘ　２）、４．１２（４１１゜ｑ、Ｊ＝
７１１ｚ、　５Ｏ３（ｊｊ、Ｃｌ１３ｘ　２）、　７．
４１　　（４１１，ｄ、　Ｊ−８Ｈｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，（：６Ｘ２）、　　７．８３（４
１１，ｄ、　　Ｊ・８Ｈｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−ｃ、、Ｃ
，、ｘ２）。

ＩＲ（Ｎｅａｔ）　：　２１３０ｃｍ−’（−（：Ｎ２
）、　　１６５０ｃｍ−’（Ｃ＝Ｏ）。

ＵＶ（ＣＩｌ、ＣＮ）　　λｍａｘ　（ε）：２２９．
Ｏｎｍ（４１８８０）。

元素分析値（Ｇ２３Ｈ２６Ｎ２０８Ｓ２）理論値：　Ｃ
！ｔ、　５２．８６．　Ｈ！に、　５．０１　　：　Ｎ
！に、　５．３６゜実測値：　Ｃ％、　５２．６５；　
８％、　５．２１　　；　Ｎ＊、　５．：Ｊｌ。

実施例３．Ｉ、７−ビス（４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ
スルホニルフェニル）−４−ジアゾ−３，５−へブタン
ジオン（一般式［ＩＶ］に於て、Ｙ＝Ｙ’＝−５Ｏ２Ｎ
（ｆ；Ｊｓ）　２　、ｍ’・ｎｏ・２の化合物）の合成
実施例１の（２）で得たｔ、７−ビス（４−クロルスル
ホニルフェニル）−４−ジアゾ−３，５−ヘプタンジオ
ン７００ｍｇ（１，４ミリモル）をアセトニトリル１５
Ｆｎｌに溶解し、５〜１０℃でＮ、Ｎ−ジエチルアミン
ｔｇを滴下した。次いで室温で１０時間撹拌反応させた
後、減圧濃縮し、残渣を塩化メチレン４０ｍ１で希釈し
、数回水洗後無水ＭｇＳＯ４で乾燥した。乾燥剤を枦去
後溶媒留去し、残渣の粗油状物８００ｍｇをカラム分Ｂ
［シリカゲル：ワコーゲルＣ−２０−０．溶雛７夜：ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１→３／Ｉ　（Ｖ７Ｖ）
　］　Ｌ、１．７−ビス（４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ
スルホニルフェニル）−４−シアソー３．５−へブタン
ジオン３７０Ｂを微黄色粘稠油状物と［７て得た。

１１ＮＭＲδｐｐｍ（（：ＤＣＬ＋）　：　１．１３　
（１２Ｎ、ｔ、Ｊ＝７１１ｚ、　Ｎ−Ｃ！ｌ。

ＣシＸ４）、３．０５（８１１，ｂｓ、−％％Ｃ０−Ｘ
２）、　：１．２：１（８１１゜ｑ、Ｊ・７１１ｚ、Ｎ
−Ｃｊｊ、Ｃ１３Ｘ４）、　７．３４（４Ｎ、ｄ、Ｊ＝
８１ｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃ６ｘ２）、　７．７３
（４Ｂ、ｄ、Ｊ＝８１１ｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３，Ｃ
，、ｘ２）、。

１ｌｌ（Ｎｅａｔ）　：　２１２Ｕｃｌ’（−（：Ｎ２
）、　１６５０ｃｍ−’（Ｇ＝０）。

ＵＶ　（１；ＩＩ、ＧＮ）λｍａｘ　（ε）　：２：１
４．４ｎｍ（３８１６０）。

元素分析値（Ｃ２７＋１３６Ｎ４０Ｒ５２）理論値：　
Ｃ’＜、　５ｆｉ。２３．　Ｈ’４．６．２９　　、　
Ｎ’！、　９．７＋。

実測値：Ｃ木、　５６．４０：　Ｈ本、　６．４２　　
、　Ｎ！！、　９．６０゜実施例４．１．７−ビス（４
−スルホフェニル）−４−ジアゾ−３，５−へブタンジ
オン（一般式［ＩＶ］に於て、Ｙ　”Ｙ’＝−５（ｈ）
Ｉ　、　ｍ’＝ｎ’＝２の化合物）の合成 実施例１の（２）で得た１、７−ビス（４−クロルスル
ホニ、ルフェニル）−４−シアシー３．５−ヘプタンジ
オン２．Ｏｇ（４，０ミリモル）をアセトニトリル７０
艷及び水５〇−中に混合し３０〜３５℃で２５時間撹拌
した。

反応後塩化メチレン３０ｒｎｌで３回洗浄し、水層を減
１１−濃縮し、１．７−ビス（４−スルホフェニル）−
４−シアシー３．５−へブタンジオン１．６ｇを淡黄色
粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ごＤαｊ−ＤＭＳＯ−ｄ６）：
　　２．８５（４ｔｌ、ｔ、Ｊ・７Ｈｚ。

Ｃ）１２ｃｊｌ、Ｇｏ−ｘ　２）、　　：３．０８（４
ｔｌ、ｔ、Ｊ＝７１１ｚ、八ｒ−ＣｊｊｌＣ１１２（：
０−Ｘ　２）　、　５．３２（２ｔｌ、ｂｓ、Ｓｏ、Ｉ
Ｉ　Ｘ　２）　、　７．２１（４１１，ｄｌ＝８Ｈｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−に３．Ｃ，、Ｘ２）、　７．５４（４１
１，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，（：、
　Ｘ２）。

ｌ１ｌ（Ｎｅａｔ）　：　２１１０ｃｍ−’　（−にＮ
２）、　１６３５ｃＩＩ］−’（Ｃ＝０）。

元素分析値　（に＋ＪＩ＋５Ｎ２０８Ｓ２）理論値：Ｃ
亀、　４８．９２．８！Ｉｉ、　３．８９　　；　Ｎ！
に、　６．０＋。

実測値：　Ｃ９６，４９，２０；　Ｈ！に、　４．１５
　　；　Ｎ＊、　５．７９゜実施例５．１．７−ビス（
４−スルホナトフェニル）−４−ジアゾ−３，５−へブ
タンジオンジアンモニウム塩（一般式　［ＩＶ］　に於
て、Ｙ−Ｙ“−ｓｏ”Ｊｕ４゜＋ｎ’・ｎ゛・２の化合
物）の合成 実施例４で得た１、７−ビス（４−スルホフェニル）−
４−シアソー３．５−へブタンジオン７００Ｂ（１，５
ミリモル）をアセトニトリル２（７に溶解し、こねに０
〜５℃で２８％アンモニア水溶液０．４ｇを滴下し、同
温度で３時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し残渣をアセ
トニトリルで数回洗浄後減圧乾固し、１．７−ビス（４
−スルホナトフェニル）−４＝シアソー３．５−へブタ
ンジオン　ジアンモニウム塩６５０＋ｎＨを微黄色粘稠
油状物として得た。

１１ＨＭＩＩδＰｐｍ（（：Ｄ（ｆ３−ＤＭＳＯ−ｄ６
３　：　２．８４（４Ｈ，ｔ、Ｊ−７Ｈ２゜−Ｃｔｌｄ
：０−　　ｘ２ン　、　　３．０８（４Ｈ，ｔ、Ｊ−７
Ｈｚ、Ａｒ−に１１２−　　ｘ２）４．０４（８Ｈ，ｂ
ｓ、−ＷＨ，Ｘ２）、７．ｌ８（４１１，ｄ、Ｊ＝８ｔ
（ｚ、ｐｈｅｎＶｌ−Ｃ，、ｌ；６ｘ２）、　７．５２
　（４ｔｌ、　ｄ、　Ｊ−８１１ｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−
Ｃ３，ＣｓＸ２）。

１１ｔ（Ｎｅａｔ、）　：　３：ｌＯＯｃｍ−’　（−
ＮＨ４）　、　２］１０ｃｍ−’　（−ＣＮ２）　。

１６２０ｃｍ−’　（ＣＪＩ　。

実ｔｌｉ例６　、　ｌ　、７−ビス（４−スルホナトフ
ェニル）−４−ジアゾ−３，５−ヘプタンジオンジトリ
エチルアンモニウム塩（一般式［■］に於て、ｙ−ｙ’
−５ｏＨ胃１１（Ｃ２Ｈ５）３．　ｍ’ｓｎ’ｓ２の化
合物）の合成 実施例４で得た！、７−ビス（４−スルホフェニル）−
４−シア’ｊ’−３，５−ヘプタンジオン７００ｍｇ（
１，５ミリモル）をアセトニトリル２０−に溶解し、こ
れに０〜５℃でトリエチルアミン０．６ｇを滴−ドし、
同Ｉ品度で３時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し残ｉｎ
をアセトニトリルで数回洗浄後減圧乾固し、１．７−ヒ
ス（４−スルホナトフェニル）−４−ジアゾ−３，５−
へブタンジオン　ジｉ・リエチルアンモニウム塩９００
ｍｇを淡黄色粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮ）４Ｒδｐｐｍ（ＣＤＣｌ２−ＤＭＳＯ−ｄ、
）　：１．１６（１８Ｈ，ｔ、Ｊ−７１１ｚ。

Ｎ−Ｇ１１２１；ＩＬＬＸ　６１　、２．８４（４ｔｌ
、Ｌ、Ｊ＝７ｔｌｚ、−（：ｊｌＣｔ）−Ｘ　２　）　
。

：Ｊ、０４〜３．１２（１６１１，＋ｎ、　Ｎ−［１：
Ｈ，ｅｌ１３Ｘ６及びＡｒ−Ｇ％−ｘ２）、　３．４９
（２Ｈ，ｂｓ、’Ｎｔｌｘ２）、　７．１８（４１１，
ｄ、Ｊ−８Ｈｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，ｆｌ：６Ｘ２）、　７．５１（４
１１，ｄ、　Ｊ・８１１ｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−１：、、
Ｉ：５　Ｘ２）。

１８（Ｎｅａｔ、）　　：　　２１１０ｃｍ−’（−（
：Ｎ２）、　　１６５０ｃｍ−’（Ｃ−０）。

参考例３゛、１．トラフェニル−４，６−ツナンシオン
の合成 シクロヘキサン５１０ｍ１中に６０％水素化ナトリウム
４３ｇを仕込み、こねに２０〜２５℃でアセチルアセト
ン９：１．８ｇ（０，ｇ４干ル）を溶解したシクロヘキ
サン溶液を滴ドし、同温度で４０分間撹拌反応させた３
゜次いでＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラメチルエチレンジ
アミン２：Ｉ：１．２ｇを注入後、−ｓ〜ｏ’ｃでｎ−
ブチルリチウムのｎ−ヘギサン溶液８５ｆｉｇを滴下し
更に室温まで昇温し２４時間反応させた。次いでこの反
応液に０〜５℃で臭化　β−フェネチル４０５ｇを滴ド
し、以下、参考例２と同様にして反応及び後処理を行い
、赤褐色油状物３５０ｇを得た。こわをカラム分子ｌｌ
［シリカゲル：フコ−ゲルＣ−２００，溶趙液：ベンゼ
ン］し、１．９−ジフェニル−４，６−ブタンジオン６
６、’１ｇを淡黄色油状物として得た。

１１ＨＭＩ（δｐｐｍ　（ＣＯα、、）　：　１．８５
〜１．９７　　（４Ｈ，ｍ、−（：Ｉｔ、（：Ｈ□１：
０−　Ｘ　２）　、　２．２７　（４１１，ｔ、、Ｊ□
８Ｈｚ、−ＧＨ２Ｇｌｌ、ＧＯ−Ｘ　２）　。

２．６２（４１１，ｔ、、Ｉ＝８Ｈｚ、八ｒ−（：Ｉｆ
、ｅｌｌ□−ｘ２）、　　３．４３　　（２１１，ｓ。

ノール型５メロ）、　７．１０〜７．３３　（１０８，
ｍ、芳香環×２）。

１５．５：ｌ　　（ＩＮ、ｂｓ、−０ｆｆ　　（エノー
ル））、。

ｌ１１ｆＮｅａｔ）　：　１７２５ｃｍ−’、　　１７
００ｃｍ−’、　　１６１０ｃＩｆｆ−’実施例７．１
．９−ビス（４−クロルスルホニルフェニル）−５−ジ
アゾ−４，６−ノナンジオン（一般式％式％ 化合物）の合成 （１）５−シアソー１，９−ジフェニル−４，６−ノナ
ンジオンの合成 参考例３で得た１、９−ジフェニル−４，６−ノナンジ
オン６０ｇ　（０，１９５モル）を塩化メチレン２７（
７に溶解し、トリエチルアミン１９．８ｇ　（０，１９
５モル）を加えた後、０〜５℃で参考例１で得たＰ−１
ルエンスルホニルアジド４０．１ｇ　（０，２０３モル
）を滴下し、史に同温度で２時間撹拌反応させた。反応
液を希カセイカリ水溶液で洗浄後、数回水洗し無水Ｍｇ
ＳＯ４で乾燥した。乾燥剤をか人後、溶媒留去して赤褐
色結晶６．８ｇを得た。次いでエタノールより再結して
５−ジアゾ−１，９−ジフェニル−４，６−ノナンジオ
ン１．Ｏｇを微黄色鱗片状晶として得た。ｍｐ、　５４
．５〜５６．５℃。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ　（ＣＤα３）　：　１．９：ｌ
〜２．０４　（４ｔｌ、ｍ、−ｆ：Ｈ１ＣＩＩ２ＧＯ−
Ｘ　２）　、　２．６５〜２．７５（８ｔｌ、ｍ、　Ａ
ｒ−ＧＩＸ［；Ｈ２ＧＨ２（：０−Ｘ２）、　７．１４
〜７．：１１（１０１１，ｍ、芳香環×２）。

１ｔｌ（Ｋｌｌｒ錠）　：　２０８０ｃｍ−’（−ＣＮ
２）、　１６４０ｃｍ−’（Ｃ＝０）。

（２１１、！］−ビス（４−クロルスルホニルフェニル
）−５−ジアゾ−４，６−ノナンジオン（一般式［ＩＶ
］に於て、Ｙ−Ｙ’−３Ｏ２α、　ｍ’叶゛＝３の化合
物）の合成 りロルスルホン酸６０．（１ｇ中に（１）で得た５−ジ
アゾ−１，９−ジフェニル−４，６−ノナンジオン２１
．５ｇ（６４，：ｊミリモル）を溶解したクロロホルム
溶液を０〜５℃で滴下し、以下、実施例１の（２）と同
様にして反応及び後処理を行い、粗油状物１０ｇを得た
。これをカラム分Ｍ［シリカゲル：ワコーケルＣ−２０
０、溶離液二〇−ヘキサン／′塩化メチレン＝１／１→
ｌ／ＩＩ　（Ｖ／Ｖ）　］　Ｌ、、１．９−ビス（４−
クロルスルホニルフェニル）−５−ジアゾ−４，６−ノ
ナンジオン６．８ｇを黄色粘稠油状物として得た。

’ＨＮＭＩ（δｐｐｍ　（ＣＤＣ９い：　１．９８〜２
．１：、１　（４Ｈ，ｍ、−Ｇｊｊ、Ｃ１１２ＧＯ−Ｘ
　２）、　２．７１ｉ　〜２．８９（８Ｎ、ｍ、　Ａｒ
−（：！ｈＣ１１２Ｃ１ｆ、ＧＯ−Ｘ２）、　　７．４
！１（４Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、ｐｔ＋ｅｎｙｌ−Ｃ２，
ｆ１６Ｘ２）、　　７．９７（４１１，ｄ、Ｊ□８１１
ｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３ｊ；５ｘ　２）。

［Ｒ（Ｎｅａｔ）　　：　　２１１０ｃｍ　−鳥（−Ｃ
Ｎ２）、　　１６５０ｃｍ−ｌ（Ｃ”０）　。

ｔＪＶ（ＣＩ＋３にＮ）　　λｍａｘ（ε）　：　２４
４．２Ｎｍ（３３４５０）。

元素分析値（１；２＋１１２゜（ｆ　２　Ｎ　２０６　
Ｓ　２　）理論値：　Ｃ！！、　４７．４６．　Ｈ９６
，３，７９：　Ｎ！Ｉｉ、　５．２７゜実ｄ１す値：　
Ｃ！に、　４７．３９：　Ｈ％、　３．９６　；　Ｎ’
！、　５．３３゜実施例８．１．９−ビス（４−メトキ
シスルホニルフェニル）−５−ジアゾ−４，６−ノナン
ジオン（一般式［ＩＶ］に於て、Ｙ　−Ｙ’□−５０，
Ｃｔ１３．　ｍ’＝ｎ’□３の化合物）の合成 実施例７の（２１で得た１、９−ビス（４−クロルスル
ホニルフェニル）−５−ジアゾ−４，トノナンジオン１
１００ｍｇ　（１，５ミリモル）をメタノール１６艷及
び塩化メチレン１０艷に溶解した溶液に、５〜１０℃で
トリエチルアミン４２０Ｂｆ！−滴下し、以−ド、実／
ｉζ例２と同様にして反応及び後処理を行い、粗油状物
７００＋ｎｇを得た。これをカラム分離［シリカゲル：
ワコーゲルＧ−２００．溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エ
チル＝５／１→３／Ｉ（Ｖ／Ｖ）、１　　Ｌ、、１，９
−ビス（４−メトキシスルホニルフェニル）−５−ジア
ゾ−４，トノナンジオン３５０ｍｇを微黄色粘稠油状物
としで得た。

’ｌｌＮ１１ｌｌｌδｐｐｍ　（ＣＤα３）　：　２．
０２　（４１１，ｑ、Ｊ＝８１１ｚ、−ＧＨ，、ｅｌｆ
□に０−　Ｘ２）、２．７７（８１（、Ｌ、Ｊ＝８ｆｌ
ｚ、−（ニジＧｌｆ２（：Ｉｆ、ＧＯ−Ｘ　　２）。

３．７５（旧１．ｓ、５Ｏ３１；ｉｆ、Ｘ　２）　、　
　７．３９（４１１，ｄ、Ｊ＝ＩＩＨｚ、ｐｈｅｎｙｌ
−（：、、Ｃ６Ｘ２）、　７．８：ｔ（４ｆｌ、　ｄ、
　Ｊ＝８１１ｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３ｊ：５Ｘ２）。

Ｉｎ（Ｎｅａｔ）　：　２１１０ｃｌｌ（−ＣＮ２）、
　１６４５ｃｌＩ＋−’（Ｃ＝０）。

ＵＶ（Ｃ１＋３にＮ）　λｍａｘ　（ε）　　：　２２
８．３Ｎｍ（３９１１０）。

元素分析値　（ＣｚｆｆｌｈＪ２０，１Ｓ２）理論値：
　Ｃ’４．５２．８６．　Ｈ％、　５．０１　　：　Ｎ
＊、　５．３６゜実測＆Ｉ　：　Ｃ＊、　５２．７３；
　Ｈ！に、　５．１９　　、　Ｎ！に、　５．２２゜実
施例９．１．９−ビス（４−スルホフェニル）−５−ジ
アゾ−４，６−ノナンジオン（一般式［ＩＶ］に於て、
Ｙ−Ｙ’−３ｆｌ、ｔｌ、　ｍ’＝ｎ’−３の化合物）
の合成 実施例７で得られた！、９−ビス（４−クロルスルホニ
ルフェニル）−５−ジアゾ−４，６−ノナンジオン５ｇ
ｆ５．６ミリモル）をアセトニトリル１００　ｍＩ！及
び水７０ｒｎｌ中に混合し、以下、実施例４と同様にし
て反応及び後処理を行い、１．９−ビス（４−スルホフ
ェニル）−５−ジアゾ−４，６−ノナンジオン２．０ｇ
を淡貨色粘稠油状物として得た。

’ＩＮＭＩ（δｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ６）　：　１．７
８〜１．８９　（４Ｈ，ｒｎ、　−ｅｌ１２Ｃ％Ｃ１１
２ＧＯ−Ｘ　２）　、　２．［１１（４）１．ｔ、Ｊ−
７，５１１ｚ、　−ＧＨｚＬＯ−ｘ２）、　２．７６（
４Ｈ，ｔ、Ｊ□７．５ｔｌｚ、Ａｒ−（：Ｈ，Ｃ１ｌ□
−ｘ　２）、　４．Ｉｆｌ（２Ｈ，ｂｓ、−５Ｏ辻Ｘ２
）、７．１８（４１１，ｄ、、Ｉ・７．５Ｈｚ、　ｐｈ
ｅｎｙｌ−ｃ、、ｃ、Ｘ２）、　７．５４（４ｆｌ、ｄ
、　、１−７．５ｔｌｚ、　ｐｔ＋ｅｎｙｌ−Ｃｚｌ；
６×２）。

ｌ１１（Ｎｅａｔ）　：　２１５０ｃｍ−’（−ＣＮ２
）、　１６４０ｃｍ−’（（＞０）。

元素分析値　（Ｃ２＋）Ｉ２Ｊ２０ｇＳ２）理論値：　
Ｃ％ｉ、　５１．００；　Ｈ！に、　４．４８　；　Ｎ
’４．５．６６゜実測値：　Ｃ＄、　５０．９＋　、　
Ｈ＊、　４．６３　　：　ｌ、　５．７９゜実施例１０
．１．９−ビス（４−スルホナトフェニル）−５−ジア
シー４，６−ノナンジオン　ジトリエチルアンモニウム
（一般式［ｒＶ］に於て、　Ｙ＝Ｙ’・−３Ｏ３ＮＨ（
ＧＪｓ）３．　Ｉｌ！’−ｎ”’３の化合物）の合成 実７ｉに例９で得た１、９−ビスロースルホフェニル）
−５−シアソー４．６〜ノナンジオン１．７５ｇ（３，
５４ミリモル）及びトリエチルアミン０．７５［をアセ
トニトリル２０ｍ１中、２０〜２５℃で３時間撹拌した
。反応後、減圧濃縮し残渣をアセトニトリルで数回洗浄
した後、派圧−ト乾固し、１．９−ビス（４−スルホナ
トフェニル）−５−ジアゾ−４，６−ノナンジオン　ジ
トリエチルアンモニウム２．２：Ｉｇを微黄色粘稠油状
物として１）；た。

直ＨＮ　Ｍ　ＲδＩ）ｐｍ（［１Ｍ５Ｏ−ｄｆｉ）　：
　１．１７（１８１１，ｔ、Ｊ＝７．５１１ｚ。

Ｎ−（：ＩＩ、ｌ：ｌＩ＊ｘ６）、　１．７６〜１．８
８（４１１，ｍ、　−Ｃｊｊ、にＨ２ＧＯ−Ｘ２）、２
．６０（４ｔｌ、ｔ、Ｊ・７．７ｆｌｚ、−１；１１２
ＣＯ−ｘ２）、　２．７４（４Ｎ、ｔ。

Ｊ＝７１１Ｚ、　Ａｒ−Ｃｊｊ、−Ｘ２）、　３．０８
　（１２１１，ｑ、　Ｊ−７，５Ｈｚ。

Ｎ−ｆ；１Ｉ２ｆ：１１３Ｘ６）、　１．：１７（２１
１，ｂｓ、　Ｎ■Ｘ２）、　７．１５（４１１゜ｄ、Ｊ
＝）ｌｌＩｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃｔ、ｘ２）、　
７．５２（４１１，ｄ、、１−８）１ｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３Ｊ：５Ｘ　２）。

Ｉｔ（（Ｎｅａｔ）　：　２７００ｃｍ−’、　２１５
０ｃｌ’、　１７００ｃｍ−’１６４０ｃｌ’ 元素分析値（Ｇ３３１１ｓ２Ｎａ０８Ｓ２）理論値：　
Ｃ！に、　５６．８７；　８％、　７．５２　７　Ｎ’
！、　８．０４゜実−１１１イｄｉ　　：　　ＣＬ　　
５６．６１　　：　　８％、　　？、８３　　：　　Ｎ
’？、、　　８．２９゜参考例４．１．１３−ジフェニ
ル−６，８−トリデカンジオンの合成 （１）４−フェニルブタノールの合成 窒素気流下、テトラヒドロフラン２．５Ｉｌ中に水素化
リチウムアルミニウム６７．２ｇを加えて懸濁し、こわ
に４−フェニル酪酸２２５ｇ　（１，：３７モル）を溶
解したテトラヒドロフラン溶液を１５〜２５℃で滴トし
、更に室温で１時間撹拌反応させた。反応後、氷水３．
Ｑ、及び硫酸２００ｇ中に注入し、酢酸エチル抽出した
。酢酸エチル層を無水ＭｇＳＯ４で乾燥後、溶媒留去し
残渣２２７ｇを減圧蒸留しｂｐ、１１３〜１１５℃７０
．５ｍ＋ｎ１１ｇ留分の４−フェニルブタノール１９１
ｇを無色油状物として得た。

（２）１−クロル−４−フェニルブタンの合成［１）で
得た４−フェニルブタノール１８９ｇ　（１，２６モル
）に室温下、塩化チオニル３００ｇを滴下し、次いで４
時間撹拌還流した。反応液を濃縮後。

残渣を減圧蒸留しｂｐ、１２２〜１２３℃７１７ｍｍ１
ｇ留分の１−クロル−４−フェニルブタン１４９ｇを無
色油状物としてｔＦた。

（３１１，１３−ジフェニル−１ｉ、８−）リゾカンジ
オンの合成 窒素気流下、シクロヘキサン　１４０ｍ１に６０％水素
化ナトリウム（油性）　ＩＯ，７ｇを懸濁させ、これに
撹拌下、２．４−ペンタンジオン２６．７ｇ　（０，２
６７モル）のシクロヘキサン溶液を室温で滴ドし、更に
２時間撹拌した。更にＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラメチ
ルエチレンシアミン３４．１　ｇ次いでｎ−ブチルリチ
ウム（１，６Ｍｎ−ヘキサン溶液）　　１８５ｍ１を０
℃で滴下した。室温で２時間撹拌した後、（２）で得た
１−クロル−４−フェニルブタン　ｌＩＯｇ（０，６５
モル）を滴ドし、更に室温で！２時間反応させた。反応
液を氷水ｌｌ中に柱入し、希塩酸を滴五して中和し、酢
酸エチル抽出した。分取した酢酸エチル層を水洗した後
無水ＭｇＳＯ４で乾燥した。乾燥剤を枦人後、溶媒留去
し残渣をカラム分ｌ！！［シリカゲル：フコ−ゲルＣ−
２００，溶離液：ベンゼン／ｎ−ヘキサン＝４／Ｉ＋　
１０／ｌ（Ｖ／Ｖ）］シ、１．１３−シフ　ｘ　ニー　
ル−６．８−トリデカンジオン２．５ｇを淡黄色油状物
として得た。

１１　Ｎ　Ｍ　Ｒδｐｐｍ　（（：Ｄα３１　：　ｌ　
、２６〜１．４２　（４Ｎ、［１１，−ＣＨｚＣＨ２（
：ｌｌ□に（］−ｘ２）、　１．５６〜１．６９（８１
１，ｍ、　−Ｃ％Ｃ１ｈＧ％Ｃｌ１２Ｇ。

ｘ２）、　２．２６（４Ｎ、ｔ、Ｊ＝ＢＨｚ、−ＣＩ１
２ＣＨ２ＣＯＣｌｈ　　Ｘ２）２．６１（４１−１，ｔ
、Ｊ４１１ｚ、八ｒ−Ｃ％−ｘ２）、　　３．５２　　
（２Ｈ，ｓ、−ＣＯノール型４１５）　、７．１５〜７
．３０　（１０１１，＋ｎ、芳香環×２）。

１５．５２（ＩＮ、ｂｓ、０旧工ｌ−ル））。

ＩＲ（Ｎｅａｔ、）　：　１７００ｃｍ−’、　　Ｉｆ
ｉｏｏｃｍ−’実ｈ”６例１１．１．１３−ビス（４−
クロルスルホニルフェニル）−７−シアシー６．８−ト
リデカンジオン（＝一般式［ｒＶ］に於て、Ｙ−Ｙ’−
５Ｏ□α５ｍ°＝ｎ°＝５の化合物）の合成 （１）７−ジアシー１．１３−ジフェニル−６，８−）
リゾカンジオンの合成 参考例５の（３）で得た１、１３−ジフェニル−６，８
−ドリデカンジオン２．０ｇ　（５，５ミリモル）を塩
化メチレンｌ１ｍ１に溶解し、ピペリジン４７０ｍｇ（
５，５ミリモル）を加えた後、０〜５℃で参考例１で得
たｐ−トルエンスルホンアジド１．１４ｇ（５，８ミリ
モル〉を滴ドした。以ト実施例１の（１）と同様にして
反応及び後処理を行い、褐色油状物２．８ｇを得た。こ
れをカラム分端［シリカゲル：ワコーケル（ニー　２　
ｏ　ｏ　。

溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル・４／１　（Ｖ／Ｖ
）　］し、］７−ジアシー１．１３−ジフェニル６．８
−　トリデカンジオン　１．９ｇを淡黄色粘稠油状物と
して得た。

’　ＨＮＭＩ（δｐｐｍ（ＣＤα３）　：　１．３４〜
１．４３（４１１，ｍ、−（：ｊｊ２Ｇｆ１２（：１１
２ＧＯ−Ｘ２）、　１．５８〜１．７３（８Ｈ，ｍ、−
（：Ｈ２ＣｌＩ２％Ｃ１１２ＧＯ−Ｘ　２）　、　２．
５７〜２．６４（４ｔｌ、　ｍ、−ｉ：１Ｉ２Ｃｊｊｌ
ＧＯ−Ｘ　２）　、　２．６７〜２．７４（４１１９ｍ
、　Ａｒ−（：Ｈ，−Ｘ２）、　７．１４〜７．３０（
ＩＯＨ，ｍ。

芳香環Ｘ２）、。

Ｉｎ（Ｎｅａｔ）　：　２１００ｃｍ−’（−ＣＮ２）
、　１６５０ｃｍ−’（Ｇ＝０）。

（２１１，１：Ｉ−ビス（４−クロルスルホニルフェニ
ル）７−シアシー６．８−トリデカンジオン（一般式％
式％ りロルスルホン酸３．７ｇ中に（１）で得た７−ジアシ
ー１．１３−ジフェニル−６，８−トリデカンジオン　
１．６ｇ（４ミリモル）を溶解したクロロホルム溶液を
０〜５℃で滴ドし、以下、実施例１の１２）と同様にし
て反応及び後処理を行い、粗油状物８００Ｂを得た。こ
れをカラム分離［シリカゲル：ワコーゲルＣ−２００、
溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル・２／１４１／ｌ　
（Ｖ／Ｖ月　し、１．１３−ビス（４−クロルスルホニ
ルフェニル）−７−シアシー６．８−トリデカンジオン
３００ｍｇを微黄色粘稠油状物として得た。

１１ＮＭＲδ９ｐｍ（ＣＤＣｆｔ３）　：　１．＋９〜
１．：１５（４Ｈ，ｍ、　−ｅｌｉｅｌ１２０Ｈ，に０
−ｘ２）、　１．５１〜１．９４　（１２）１．　ｒｎ
、　−８％−Ｘ　６）　。

２．７０〜２．７７　（４ｔｌ、　ｍ、＾ｒ−Ｇ：ｌ１
ｌ−ｘ２）、　７．４１　（４Ｈ，ｄ。

、Ｉ・８．５Ｈｚ、ｐｈｅｎｙｉ（：２．Ｃ：、Ｘ２）
、　７．９５（４１１，ｄ、、ｈ８．５１１ｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃｓｘ　２）。

ＩＲ（Ｎｅａｔ）　　：　　２１６０ｃｍ−’（−ＣＮ
、）、　　１６５０ｃｍ　−皇（Ｃ−Ｏ）　。

１：１７０ｃｍ−’　（５０２）。

元素分析値（Ｇ２ｑ１１２８Ｇ１２Ｎ２０ｃＳ２）理論
値：　Ｃ！％、　５１．＋１．　Ｈ！ｌｉ、　４．８０
：　　Ｎ！％ｉ、　４．７７゜実測値：　Ｃｆに、　５
０．８３；　Ｈ！ｔｉ、　５．０６；　　Ｎ％ｉ、　４
．５８゜窓考例５．１−フェニルー２．４−ペンタンジ
オンの合成 フェニル酢酸エチル６００ｇ　（３，１ｉ６モル）とア
セトン７０．７ｇ　（１，２２モル）を仕込み、こ２Ｎ
！、：、１０〜４０ででナトリウム２８ｇ　（１，２２
原子）をゆっくり加えた。更に３０〜４０℃で１時間撹
拌して溶解させた後、７０〜８０℃で４．５時間反応さ
せた。反応後、水１．２　Ｉｌ、を注入し希塩酸を滴ド
して中和し、次いでクロロホルム抽出した。分取したク
ロロホルム層を水洗した後無水ＭｇＳＯ４で乾燥した。

乾燥剤を枦去し、溶媒留去して赤褐色油状物５１５ｇを
得た。次いで残渣を減圧蒸留しｂｐ１４２〜１４６℃／
１５ｍｎ＋ｌＩｇ留分の１−フェニル−２，４−ペンタ
ンジオン５３．２ｇを無色油状物として得た。

実施例１２．　１−（４−クロルスルホニルフェニル）
−３−ジアゾ−２，４−ペンタンジオン（一般式％式％
） 参考例５で得たｌ−フェニル−２，４−ペンタンジオン
、’１６．２ｇ　（０，２１モル）を塩化メチレン５０
０ｍ１に溶解し、ピペリジン１７．５ｇ　（０，２１モ
ル）を加えた律０〜５℃で参考例１で得たＰ−トルエン
スルホニルアジド４Ｃ５ｇ　（０，２３モル）を滴ドし
、更に同温度で１時間反応させた。反応液を希カセイカ
リ水溶液で洗浄後水洗し、無水Ｍｇ５０４で乾燥させた
。乾燥剤を枦人後、溶媒留去して褐色油状物５０ｇを得
た。次いで残渣油状物をカラム分離（シリカゲル：フコ
−ゲルＣ−２００，溶離ン夜：ｎ−ヘキサン／酢酸エチ
ル＝　１０／ｌ　（ｖ／ｖ））　Ｌ／、３−シアソー１
−フェニル−２，４−ペンタンジオン３３．ｆｌｇを橙
赤色粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮＭＩＩ　　δ１）ｐｌ［ｌ（にＤにＩ、）　：
　２．３６（３Ｈ，ｓ、（：Ｈ，）、　４．００（２＋
１．Ｓ、　−（：ｌＩ、−）、　７．２３（５１１，ｓ
、芳香環）。

ＩＲＯＪ　ｅａｎ）　　　二　２１４１）ｃｍ−’（−
Ｎ　２）、　　１６６０ｃｍ−’（に＝０）。

（２１１−（４−クロルスルホニルフェニル）−３＝シ
アソー２．４−ペンタンジオンの合成ｉｌ＋で得た３−
シアソー１−フェニル−２，４−ベンタンジオン１６．
５ｇ　（８２ミリモル）をクロロホルム５０ｒｎ１！に
溶解し−１５〜−１０℃でクロルスルホン酸３８ｇを滴
下した。−１５〜−１０℃で２時間撹拌後、１０〜１５
℃で更に３時間反応させた。反応液を氷水１．５ρ中に
注入後クロロホルム抽出し、分取したクロロホルム層を
水洗した後無水Ｍｇ５Ｏ，で乾燥した。乾燥剤をか人後
溶媒留去し、残ｉｎの赤褐色油状物２０ｇをカラム分離
（シリカゲル：ワコーゲルＣ−２００，溶康液；ｎ−ヘ
キサン／酢酸エチル＝５／ｌ　（Ｖ／Ｖ）　）　Ｌ／、
赤褐色油状物１０ｇを得、これをエチルエーテルより再
結晶して１−（４−クロルスルホニルフェニル）−３−
ジアゾ−２，４−ベンタンジオン４．０ｇを黄色プリズ
ム晶として得た。

ｍ　ｐ　、　８４．０〜８６．５℃（ｄｅｃ、）。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＩ：Ｉ、）：　　２．４５
　　（Ｆｌｌ、ｓ、−Ｃｊｊ、、）、　　４．３０（２
１１，ｓ　、−（Ｈｌ−）　、　７．５４　（２１１、
ｄ　、Ｊ＝８１１ｚ　、ｐｈｅｎｙ　１−Ｃ２，Ｃ６）
　。

８．００（２１１，ｄ、Ｊ−１ｔ）ｌｘ、ｐｈｅｎｙｌ
−（３，１；５）。

１０（にＢｒ−ｄｉｓｋ）　：　２１２５ｃｍ−’（−
Ｎ２）、１８６０ｃｍ−’（Ｃ＝Ｏ）。

元素分析値（Ｇ＋　＋１ＩｑＣＩＮ２０．＋Ｓ）理論値
：　Ｃ％、４：１．９４；８％、：１．０２　：　Ｎ％
、９．：１２゜実測値：　Ｃ＊、４４．Ｏ２，Ｎ９６，
３．Ｉ４　；　Ｎ！に、９．３０゜参考９１１６．６−
フェニル−２，４−ヘキサンジオンの合成 ヘンシルアセ］・ン１４８ｇ（１モル）を酢酸エチル２
６４ｇに溶解し、これに２０〜６０℃でナトリウム２３
ｇをゆっくり加えた。更に撹拌通流２時間行なった後、
冷却し水１１を注入し、次いで濃塩酸を滴下して中和し
静置、分液して酢酸エチル層を分■へした。酢酸エチル
層を水洗後無水Ｍｇ５Ｏ，で９２煙した。乾燥剤を枦去
し、溶媒留去して濃赤色油状物１７１ｇを得た。次いで
残渣油状物を減圧蒸として得た。

実施例１３．　６−（４−クロルスルホニルフェニル）
−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン（一般式％式％
） 参考例６で得た６−フェニル−２，４−ヘキサンジオン
２９．０ｇ　（０，１５モル）を塩化メチレン３００　
ｒＭ！に溶解し、ピペリジン１２．８ｇ　（０，１５モ
ル）を加えた？１０〜５℃で参考例１で得たｐ−１ルエ
ンスルホニルアジド３１．２ｇ　（０，１６モル）を滴
下し、更に同温度で１時間反応させた。反応液を希カセ
イカリ水溶液で洗浄後水洗し、無水Ｍ）ｇｓＯ，、で乾
燥した。乾燥剤をか人後、溶媒留去して暗赤色油状物３
８ｇを得た６次いで残１ｎ油状物をカラム分離〔シリカ
ゲル：フコ−ゲルＣ−２００，溶離液二〇−ヘキサン／
酢酸工ｆＪｖ＝　ＩＯ／ｌ　（Ｖ／Ｖ））　Ｌ、３−ジ
アゾ−６−フェニル−２，１−ヘキサンジオン２７．０
ｇを橙赤色粘稠油状物として得た。米量は冷却後、結晶
化１７た。ｍρ、　３０．０〜３２．０℃。

ＨＮＭＲδｐｐｍ（（：ＤＣｌｌ）　：　２．４７（３
Ｈ，ｓ、Ｃｔｌ、）、　３．１０（４１１，ｓ、−４：
ｊｊｌ−Ｃ！Ｌ２−　）、　７．２８（５Ｎ、ｓ、芳香
環）。

Ｉｆ（（Ｎｅａｔ、）　　：　２１００ｃｍ”（−Ｎ７
）、　１６５０ｃ＋ｎ−’（１：＝０）。

（２１６−（４−クロルスルホニルフェニル）−３−ジ
アゾ−２，４−ｌ＼キサンジオンの合成［１）で得た３
−ジアゾ−６−フェニル−２，４−ヘキサンジオンＩＯ
，Ｉ１ｇ　（５０ミリモル）をクロロホルム：ｌ５ｍ１
！に溶解し−１０〜−５℃でクロルスルホン酸：（５ｇ
を滴下した。−５〜０℃で２時間撹拌後氷水ＩＩｌ中に
注入し、クロロホルム抽出して分取したクロロホルム層
を水洗後無水ＭｇＳＯ４で乾燥した。

乾燥剤を枦人後溶媒留去し、残渣の橙色油状物４ｇをカ
ラム分！（シリカゲル：ワコーゲルＣ−２００、溶層液
：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／Ｉ（Ｖ／Ｖ）　）し
、６−（４−クロルスルホニルフェニル）−３−ジアゾ
−２，４−ヘキサンジオン３．０ｇを黄色粘稠油状物と
して得た。氷晶は冷却後、結晶化した。、ｍｐ、　５８
．０〜５９．５℃。

’ＨＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣｌ２）　：　２．４０　（
３Ｈ，ｓ、−６１１，）、　３．２０（４ｔｌ　、ｓ　
、−（：ｔｌ、−ＯＨ，−ＣＯ−）　、　７．３２　（
２１１、ｄｄ　、　Ｊ−８Ｈｚ　、　ｐｈｅｎｙＬｌ；
２．Ｃ６１，７，９７（２１１，ｄｄ、Ｊ−８１１Ｚ、
ｐｈｅｎ／Ｌ−Ｃ３，（：５）。

ＩＲ（Ｎｅａｔ）　：　２１３０ｃｍ−’（−Ｎ２）、
１６６０ｃ＋ｎ−’（Ｃ−０）。

元素分析値（Ｃ＋２ｔｌ＋＋にｌＮ２Ｏ，＋Ｓ）理、倫
値：Ｃ木、４５．６５　　、８木、３．５１　；　Ｎ！
に、８．８７゜実測値：　Ｃ！に、４５．５９　　；　
Ｈ！ｌｉ、３．７９；　Ｎ９６，８．６８゜実ｈ’ｔ＋
例１４．　４−（４−シアソー３．５−ジオキソヘキシ
ル）ベンゼンスルホン酸（−ａ式［Ｉ［［］％式％） 実施例１３の（２）で得た６−（４−クロルスルホニル
フェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン２．
０　ｇ　（ｆｉ、４ミリモルフをアセトニトリル１５ｍ
！！及び水４５ｍ１中にｉｆＡ合し、３０〜３５℃で２
時間撹拌反応させた。反応後、塩化メチレン４０ｄで２
回洗浄し水層を減圧濃縮し４−（４−ジアゾ−３，５−
ジオキソヘキシル）ベンゼンスルホン酸１．４ｇを淡黄
色粘稠油状物として得た。

’ｌＩＮＭｒｌ　　δｐｐｍ（ＣＤＣｌ２−ＤＭＳＯ−
ｄ６）　：　２．３７　（３１１，ｓ。

−（：ＩＩＪ、　２．８８（２１１，Ｌ、Ｊ□７）１ｚ
、−Ｇム−（：Ｏ−）、：１．（１７（２Ｈ，ｔＪ＝７
Ｈｚ、−１；ＩＩ、−Ｃ：Ｎ２−１−）　　、　　　７
．２］　　　（２Ｈ，ｄ、　　、Ｉ＝８．５１１ｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ：３．Ｃ５）、７．５８（２Ｈ，ｄ、
Ｊ・８．５１１ｚ、　ｐｈｅｎ、ｙｌ−Ｇ２Ｃ６）、　
１０．５３（ＩＩＩ、ｂＳ、−３Ｏ３１１＞。

Ｉｔ（（Ｎｅａｔ）　　　：　　３３７Ｑｃｍ−’（叶
）、　　２１２０ｃｍ−’（−Ｃ：Ｎ２）。

１６３０ｃｍ−’　（（：＝０）　。

ＵＶ　（に１１３ｃＮ）λｍａｘ　（ε）　：　２２６
．４Ｈｍ（２８Ｂ３０）。

元素分析値（Ｇ＋ｚｌｌ＋２Ｎ２０５Ｓ）理論値：　Ｃ
！に、４８．６４　　；　Ｈ！ｔ、４．υ８；　Ｎ’＊
、９．４５゜実測値：　Ｃ＊、４８．７５　　、　Ｎ９
６，４．１１　、　Ｎ％、９．２９゜実施例１５．　４
−（４−ジアゾ−３，５−ジオキソヘキシル）ベンゼン
スルホン酸アンモニウム（一般式　［ｆｆｌ］ニ於て、
　Ｒａ＝　−Ｃ１１３，Ｙ＝−５０？ＦＨ４，ｍ’・２
）の合成 実施例１４で得た４−（４＝ジアゾ−３，５−ジオキソ
ヘキシル）ベンゼンスルホン酸８９０ｍｇ（３，０ミリ
モル）をアセトニトリル５−及び２８％アンモニア水３
ｍｌ中、５〜ｌＯ℃で２時間撹拌反応させた。

反応後、減圧濃縮し残渣をアセトニトリルより結晶化さ
せ、枦取、洗浄、乾燥して４−（４−シアシー：（，５
−ジオキソヘキシル）ベンゼンスルホン酸アンモニウム
７５０Ｂを白色粉末品として得た。

ｍｐ、旧℃（ｄｅｃ、）。

’ＨＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣｌ２−ＤＭＳＯ−ｄ６）　
：　２．４０（３ｆｌ、ｓ、　−ＧＯ−（：ｌｂ＋）、
　　２．９：ｔ（２Ｈ，ｔ、Ｊ−８ｔｌｚ、−Ｃ１１２
−（：０−）、３．０６（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝８Ｈｚ、−Ｃｌｌ、−Ｃ１２−ＣＯ−）、　３．３
４　（４Ｈ，ｂｓ、−ｆｆｆｉｌ、）、　７．２０（２
１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３，Ｃｓ
）、７．７０（２１１，ｄ、、Ｊ’８１１ｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃ６）。

ＩＲ（にＢｒｉｍ）　：　３４３０ｃｍ−’（ＦｔｌＪ
、　２１２０ｃｍ−’（−ＣＮ２）。

１６４０ｃｒ’　（Ｃニー０）。

ＵＶ（ＩＩ２０１　　人ｍａｘ　（ε）　　＋　２２５
．０ｔ＋＋ｎ（２２８９０）。

元素分析値（Ｌ１２１１＋ｒ、Ｎ、０ｉＳ）理論値：　
（に、４ｆｉ、００　；　Ｈ！ｔ、４．８３：　Ｎ木、
１３．４＋。

実測値：　Ｃ％、４５．７２　　；　ＨＪ５．０９；　
Ｎ木、１３．３０゜実施例ＩＳ、　　４−＋４−シアシ
ー３．５−ジオキソヘキシル）ベンゼンスルホン酸トリ
エチルアンモニウム（一般式［１１１］　に於て、１１
”＝−ＣＨＩ　、　Ｙ　＝−５Ｏ？ｆ？’Ｈ４（（：２
Ｈ！、）　３．　Ｉｎ　’・２）の合成実施例ｔ４で得
た４−（４−ジアゾ−３，５−ジオキソヘキシル）ベン
ゼンスルホン１１８９０Ｂ　（３，０ミリモル）をアセ
トニトリル５ｒｎｌ及びトリエチルアミン３艷中、５〜
１０℃で２時間撹拌反応させた。反応後、減圧濃縮し残
渣をエチルエーテルで数回洗浄した後、減圧上乾固し４
−（４−ジアゾ−３，５−ジオキソヘキシル）ベンゼン
スルホン酸トリエチルアンモニウム７００ｍｇを微黄色
粘稠油状物として得た。

Ｉ　Ｎ　Ｍ　Ｒδｐｐｍ（１：Ｄ［ｌ：ｌ　３）　　：
　　１．３６（９ｆｌ、　　ｔ、Ｊ＝７１１ｚ、Ｎ−Ｃ
Ｈ２−ｅｌｌ、Ｘ３）、　２．４２（３１１，Ｓ、−Ｇ
ｏ（：１１．）、　　２．９６〜３．０ｔｉ（・ＩＨ。

ｍ、　−Ｃｌ１２−Ｃｊｉ２−）、　３．１６　（６ｔ
ｌ、ｑ、Ｊ・７Ｈｚ、　Ｎ−Ｃｊｉ、、−ＧＨ，、、ｘ
３）、　　７．２４（２１１，ｄ、Ｊ＝８ｔｌｚ、　　
ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３，Ｃ５）、　　７．８１（２ｔｌ。

ｄ、Ｊ−８１１ｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，（６）。

ＩＲ（Ｎｅａｔ）　：　３４ＪＯｃｍ−’（ｆＲＩ）、
　２１２０ｃ＋ｎ−’（−にＮ２）。

１６５０ｃｍ−’　（Ｃ・０）。

ＵＶ（ＣＩ＋３（：Ｎ）　　λｍａｘ　（ε）　　：　
２２６．４Ｈｍ（２３３９０）。

元素分析値（Ｃ＋Ｊ１２７Ｎ３（Ｌ；Ｓ）理論値：　Ｃ
％、５４．３９　　：　Ｈ＊、６．８５　；　Ｎ％、１
０．５７゜実測値：Ｃ木、５４．１１　　、８！Ｉｉ、
７．＋４．　Ｎ！Ｉｉ、＋０．３６゜実施例１７．　４
−（４−ジアゾ−３，５−ジオキソヘキシル）ペンセン
スルホン酸メチル（−数式［［１１］に於て、１１８＝
　−ＣＮ５．Ｙ＝　−３Ｏ３ＣＨ１。

ｍ’＝２１の合成 実施例１３の（２）で得た６−（４−クロルスルホニル
フェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン２．
０ｇ　（６，４ミリモル）をトリエチルアミン１．５１
ｎＩ！、メタノール２．５ｄ及びクロロポルム１Ｏｒｎ
ｌ中に混合し、１０〜１５℃で６時間撹拌反応させた。

反応液を人中に注入した後クロロホルム抽出し・、分取
したクロロホルム層を水洗後無水ＭｇＳＯ４で乾燥した
。乾燥剤を枦人後、溶媒留去し残渣をカラム分子！Ｉ［
シリカゲル：ワコーケルＣ−＝　２００゜溶腑液：クロ
ロホルムコし、４−（４−ジアゾ−３，５−ジオキソヘ
キシル）ベンゼンスルホン酸エチル７：ｌ０ｍｇを淡黄
色粘稠油状物として得た。

’ＨＮＭＩｔ　　δｐｐｍ（ＣＤＣｌ２）　：　２．４
２（３ｆｌ、　ｓ、　Ｇｌｌ、）、　３．１）３〜．’
１．ｌ８（４１１，ｍ、−ＣＪ−Ｃｌｈ−）、　３．７
６（：）Ｈ，ｓ、−３Ｏ３ＧＨ，、）。

７．４’、Ｉ（２１１，ｄ、　Ｊ−８，５Ｈｚ、　ｐｈ
ｅｎｙｌ−Ｃ３，Ｇ、）、　７．８３（２Ｈ。

ｄ、Ｊ＝８．５１１ｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃ６）。

ｌｉｔ　（Ｎｅａｔ）　　：　２１００ｃｍす（−（：
Ｎ２）　、　１６５０ｃｍ−’　（ｃ−ｏ）。

ＵＶ（Ｃ１ｈｌ：Ｎ）λｍａｘ　（ε）　　：　２２７
．８Ｈｍ（３０２２０）。

元素分析値（（：＋３１１＋４Ｎｔ（Ｊ、Ｓ）理論値：
　Ｃ％、５０．３２　　；　Ｈ％、４．５５　、　Ｎ％
、９．０：ｌ。

実測値：　Ｃ％、５０．２５　　、　Ｈ％、４．６１　
、　Ｎ９６，８．９７゜実施例１８．　４−（４−ジア
ゾ−３，５−ジオキソヘキシル）ベンゼンスルホン酸エ
チル（−数式　［Ｉ１１］　に於て、Ｒ８・−ＣＩ＋３
．Ｙ−５Ｏ３Ｃ２１１５゜ｍ′・２）の合成 実施例１３の（２）で得た６−（４−クロルスルホニル
フェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン２．
０　ｇ　（６，４ミリモル）をトリエチルアミン１．５
艷及びエタノールｌ０ｍ１中に混合し、２０〜２５℃で
１６時間撹拌反応させた。反応液を水中に注入した後ク
ロロホルム抽出し、分取したクロロホルム層を水洗、乾
燥後溶媒留去した。残液をカラム分離［シリカゲル：フ
コ−ゲルＣ−２００，溶踵液：クロロホルム］し、４−
（４−ジアゾ−３，５−ジオキソヘキシル）ベンゼンス
ルホン酸エチル５５０ｍｇを淡黄色粘稠油状物として得
た。

’ｉＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣｌ２）：　　１．３１（３
Ｈ，Ｌ、Ｊ＝７１１Ｚ、５Ｏ３ＣＩＩ２Ｃ１ｌ、、）、
２．４２（３１１，ｓ、−ＣＯＯ追）、　３．０４〜３
．１７（４）１．ｍ、−（：ＩＩ。

（：ＩＩ、ＧＯ−）、　４．１１（２Ｈ，ｑ、　Ｊ−７
１１ｚ、　５０３６Ｈ２ＣＨ３）、　７．４２（２ｔｌ
、　ｄ、　Ｊ□８．５Ｈｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ：３．
Ｇ、、）、　７．８２（２Ｈ，ｄ。

、Ｉ＝８．５Ｈｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ２，Ｃ６）。

ｌｉｔ　（Ｎｅａｔ）　：　２１２（ＪＣｍ−’（−Ｃ
Ｎ２）、１６４５ｃｎ＋−’（Ｃ−０）。

ＵＶ　（１１１，［；Ｎ）λｍａｘ　（ε）　　：　２
２９．Ｏｎｍ（２８９３０）。

元素分析値（ＣＩ　４１１１６Ｎ２０５ｓ）理論値：　
Ｃ９６，５＋、８４　　；　Ｈ％、４．９７．　Ｎ＊、
８．６４゜実測値：　Ｃ％ｉ、５１．７７　；　Ｈ！に
、４．８５；　Ｎ！に、８．７３゜実ｈζ例１９．　６
−（４−アミノスルホニルフェニル）−３−シアソー２
．４−へキサンジオン（一般式［ＩＯ］ニ於て、ｌ＋８
＝−ＣＨ３，Ｙ＝−５０２Ｎｌ１２．　ｍ”・２）の合
成 実施例１３の（２）で得た６−（４−クロルスルホニル
フェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオンＩｇ
（３，２ミリモル）をアセトニトリル（５ｍｌ）に溶解
し、こわに２８％アンモニア水２ｇを５〜１０′Ｃで滴
トし、更に室温で６時間撹拌反応させた。

反応後、減圧濃縮し残７＆をカラム分離［シリカゲル：
フコ−ゲルＣ−２００，溶難液；ｎ−ヘキサン／酢酸エ
チル＝５／］　−＋２／ｌ（Ｖ／Ｖ）］　シ、６−　（
４−アミノスルホニルフェニル）−３−ジアゾ−２，４
−ヘキサンジオン８００Ｂを白色結晶として得た。

ｍｐ、＋０９．５〜１１１．５℃。

’ＩＩＮＭ＋（δｐｐｍ（ＣＤＣＩ＋−ＤＭＳＯ−ｄ６
）　：　２．４１（３Ｈ，ｓ。

［：０に１１．、）　、　：１．０２〜３．１１（４１
１，ｍ、−ｅｌｌ、ｌ；ＩＩ、−）　、６．４２（２）
１゜ｂｓ、−Ｎｌｈ）、　７．３５（２１Ｌｄ、　Ｊ□
８Ｈｚ、　ｐｈｃｎｙｌに２．Ｃ６）。

？、Ｂ３（２１１，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ、ｐｈｅｎｙｌ−１
；＋、（：５）。

１１１（Ｋｌｌｒｊ２）：　　２１２０ｃｍ−’（−Ｃ
Ｎ２）、　　１６２５ｃｍ−’（Ｃ−０）。

ＵＶ（Ｃ１１３ＣＮ）　　λｍａｘ　（ε）　　：　２
２８．８ｒ＋ｍ（２９８２０）。

元素分析値（１；１２１１１３Ｎ３０４ｓ）理論値：　
Ｃ！に、４８．８０　　；　Ｈ＊、４．４４　；　Ｎ！
ｌｉ、１４．２：Ｉ。

実測値：　Ｃ＊、４８．６９　　；　Ｈ！Ｉｉ、４．３
９；　Ｎ＊、１４．４＋。

実施例２０．　６−（４−Ｎ、Ｎ−シエチルア°ミノス
ルホニルフェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジ
オン（一般式［ＩＵ］に於て、１ｌＩ＝−Ｃ１１，、Ｙ
＝−５０２Ｎ　（Ｃ２１＋、）２．　［１１’−２）の
合成実施例！３の（２）で得た６−（４−クロルスルホ
ニルフェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン
１　ｇ　（３，２ミリモル）をアセトニトリル５ｍｌに
溶解し、これにジエチルアミン０．６ｇを５〜１０℃で
滴−トし、以−ト、実ｈ’ｔ＋例１９と同様にして反応
及び後処理を行い、粗油状物を得た。これをカラム分課
Ｅシリカゲル：ワコーゲルＣ−２００，溶離液：ｎ−Ａ
キサン／酢酸エチル−５／Ｉ−＋２／Ｉ（Ｖ／Ｖ）］　
Ｌ／、６−　（４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノスルホニル
フェニル）−３−ジアゾ−２，４＝　ヘキサンジオン７
７０ｍｇを微黄色粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤ（：Ｉ３）　：　１．１：
Ｉ（６Ｎ、ｔ、Ｊ−７１１ｚ、　Ｎ−（：Ｉｔ２Ｃｌｉ
　　Ｘ２）、２．４２（３１１，ｓ、ＧＯＣＩ、）、３
．００〜３．１５（４１１，ｍ。

−ＣＩＩｚＧＩＩｚＣ（１）　、　３　、２３　（４１
１、ｑ　、　Ｊ＝７１１ｚ　、　Ｎ−（：ＩｂＣＨ＊　
Ｘ　２）　。

７、：１５（２１１，ｄ、　Ｊ＝８．５１１ｚ、　ｐｈ
ｅｎｙｌ−（：＋、Ｃ，，）、　７．７２（２８ｄ、Ｊ
□８．５ｔｌｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｇ、　、Ｃ６）。

ＩＩＩ　（Ｎｅａｔ）　　：　２１１０ｃｌ’（−ＣＮ
２）、１６４０ｃｍ−’（［；＝０）。

ＵＶ（［；Ｈ，ｌ；Ｎ）　　λｌｌ１ａｘ（ε）　　：
　２３２．５ｎｒｎ（１８９５０）。

元素分析値（Ｃ，６１１□１Ｎ３０４ｓ）理論値：　Ｃ
％、５４．６９　　、　Ｈ！１１，６．０２．　Ｎ＊、
１１．９６゜実測値：　Ｃ！ＩＩ；、５４．６Ｑ　、　
Ｈ！に、５．８６．　Ｎ！に、１２．１１゜実施例２１
．　６−（４−モルホリノスルボニルフェニル）−３−
ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン（一般式［ＩＩｒ］１
．：於て、Ｒ８＝　−ｃｏ、、ｙ＝実／ｉｅｉ例１３の
（２）で得た６−（４−クロルスルホニルフェニル）−
３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオンＩｇ（：１．２ミ
リモル）をアセトニトリル５ｍｌに溶解し、これにモル
ホリン０．８３ｇを５〜ＩＯ”Ｃで滴下し、以下、実施
例１９と同様にして反応及び後処理を行い、粗油状物を
得た。こゎをカラム分！［シリカゲル：ワコーゲルｃ−
２００．溶曙ａ：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル・５／１→
２／ｌ（Ｖ／Ｖ）］　Ｌ、ｂ−（４−モルホリノスルホ
ニルフェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン
８００ｍｇを微黄色粘稠油状物として得た。

’）ＩＮＭＩ（δｐｐｍ（ＩＩ：ＤＣＩ３）　：　２．
４２（３ｆｌ、ｓ、ＣＯＣｌ＊）、　２．９９（４Ｈ，
ｔ、　　　Ｊ−５１１ｚ、　　ｍｏｒｐｈｏｌｉｎｅ−
Ｃ２，［；２□、Ｃ６，Ｃ６□）、　　　３．０４〜：
＋、ｌ６（４１１，ｍ、−ｃｌ１２ｃ１１２ｃｏ−）、
　３．７４　（４８，ｔ、、Ｊ＝５Ｈｚ。

ｍｏｒｐｈｏｌｉｎｅ−Ｃ３，Ｃ３′、Ｇ、、、Ｃ９・
）、７．４：Ｉ（２ｆ１．　ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３，（：５）、　７．６７　（２１１
，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ、ｐｔ＋ｅｎｙｌ−Ｃ２゜Ｇ６）。

ＩＲ（Ｎｅａｔ）　：　２１３０ｃｍ−’（−ＣＮ２）
、１６４５ｃｍ−’（１１ニー０）。

ＩＪＶ（Ｃ１１３（：Ｎ）　λｍａｘ　（ε）　　：　
２３０．９ｎｎ（２９３５０）。

元素分析値（Ｃ＋ｃ、ｔｌ＋Ｊ３０ｑｓ）理論値：　Ｃ
本、５２．５９　　；　Ｈ！％、５．２４　；　ＮＪｌ
ｌ、５０゜実ｄ）り値：　Ｃ’４，５２．４２　　；　
Ｈ′）ｉ、５．３０；　Ｎ！に、Ｉｌ、６１ｉ。

実ｈ’ｔｚ例２２．　６−（４−ピペリジノスルホニル
フェニル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン（一
般式［ＩＩ［］ｉ、：於て、１１’＝　−Ｃ：１１３．
Ｙ＝−５Ｏ２０、ｍ’・２）の合成 実施例１３の（２）で′得た６−（４−クロルスルボニ
ルフェニル Ｉｇ（３．２ミリモル）をアセトニトリル５ｄに溶解し
、これにピペリジン０．６５ｇを５〜ＩＯ℃で滴ドし、
以ド、実施例１９と同様にして反応及び後処理を行い、
粗油状物を得た。これをカラム分離［シリカゲル：フコ
−ゲルＣ−２００，溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
・５／１→２／Ｉ（Ｖ／Ｖ）］　ｔ，、ト（４−ピペリ
ジノスルホニルフェニル）−３−シアソー２．４−ヘキ
サンジオン７３０ｍｇを微黄色粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮＭＩ（　　δｐｐｌ！ｌ（ＣＤＩ；１３）　：
　１．３７　〜１．５１（２１１，＋＋＋，ｐｉｐｅｒ
ｉｄｉｎｅ−に４，Ｃ．・）、　１．６０　〜１．７４
　（４Ｈ，　ｒｎ，　ｐｉｐｅｒｉｄｉｎｅ−ｃ，、ｃ
，−、［；５，ｃイ）、　２．４２（３１１，ｓ，ＣＯ
Ｇ）１３）、　２．９６　〜３．１８（８１１，ｍ，−
ＣＨｌｆ；Ｈ，ＧＯ−及びｐｉｐｅｒｉｄｉｎｅ−Ｃ２
Ｊ：２□，Ｃ６，Ｃ６□）７、：１８（２１１，　　ｄ
，　　Ｊ・８１１ｚ，ｐｔ＋ｅｎｙｌ−Ｇ３．Ｃ５）、
　　７．６７（２ｔｌ，　　ｄ。

Ｊ＝８１１ｚ，ｐｈｅｎｙｌ−１；２．ｃｌｉ）、ＩＩ
　（Ｎｅａｔ）　：　２１３０ｃｍ−’（−ＣＮ２）、
１６４０ｃｍ−’（Ｇ＝０）。

ＵＶ（ｅｌｌ，ＯＮ）　λｍａｘ　（ε）　　：　２３
１．２ｎｍ（２９］−１Ｑ）。

元素分析値（ＣＩ７１１２１Ｎ３０４Ｓ）理論値：　Ｃ
ｑ６，５［ｉ、Ｉ８　、　Ｈ！ｌｌｉ、５．８２．　Ｎ
主、１１．５６゜実測値：Ｃ木、５６．旧　：　８％、
ｔｉ、ＩＯ；　Ｎ零、１１．４９゜参考例　７．９−フ
ェニル−２，４−ノナンジオンの合成 （１）４−フェニルブタノールの合成 窒素気流下、テトラヒドロフラン２．５Ｉ中に水素化リ
チウムアルミニウム６７．２ｇを加えて懸濁し、これに
４−フェニル酪酸２２５ｇ　（１，３７モル）を溶解し
たテトラヒドロフラン溶液を１５〜２５℃で滴下し、更
に室温で１時間撹拌反応させた。反応後、氷水３１及び
硫酸２００ｇ中に注入した後、酢酸エチル抽Ｊｊシた。

酢酸エチル層を無水Ｍ、ｑＳＯ，。

で乾燥後、溶媒留去し残渣２２７ｇを減圧蒸留しｂｐ、
　１１３〜＋　１５℃１０．５ｍｍＨ３留分の４−フェ
ニルブタノール１９１ｇを無色油状物として得た。

（２）１−クロル−４−フェニルブタンの合成（１）で
得た４−フェニルブタノール１８９ｇ　（１，２６モル
）に室温下、塩化チオニル３００ｇを滴下し、次いで４
時間撹拌還流反応させた。反応液を濃縮後、残渣を減圧
蒸留しｂｐ、　１２２〜１２３℃／１７ｍｍＨｇ留分の
１−クロル−４−フェニルブタン１４９ｇを無色油状物
として得た。

（３ｊ９−フェニル−２，４−ノナンジオンの合成窒素
気流下、シクロヘキサン１４０ｒｎＩ！に６０％水素化
ナトリウム（油性）　１０．７ｇを懸濁させ、これに撹
拌下、２．４−ペンタンジオン２６．７１＜　（０，２
６７モル）のシクロヘキサン溶液を室温で滴下し、更に
２時間撹拌反応させた。更にＮ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テト
ラメチルエチレンジアミン３４．１ｇ次いでｎ−ブチル
リチウム（１，６Ｍｎ−ヘキサン溶液）１８５ｍｌを０
℃で滴トし、室温で２時間撹拌した後、（２）で得た！
−クロルー４−フェニルブタン５２．３ｇ（ＯＪ１モル
）を摘丁し、更に室温で３時間撹拌反応させた。反応液
を氷水ＩＯ中に注入し希塩酸で中和した後、酢酸エチル
で抽出した。分取した酢酸エチル層を水洗した後無水Ｍ
ｇ５Ｏ，で乾燥した。乾燥剤を枦人後、溶媒留去１７残
ｆｈをカラム分離［シリカゲル：フコ−ゲルＣ−２００
，溶離液：ベンゼン／ローヘキサン＝４／Ｉ　（Ｖ／Ｖ
）］Ｌ、９　７　エニ）Ｌｉ−２，４−／チンジオン８
．５ｇを淡黄色油状物として得た。

’ＩＮＭＲδｐｐｍ（ｆ：Ｄｆｌ：Ｉ、）　：　１．３
４〜１．７１（６！Ｉ、ｍ、−ｃＪＣｌｌ、ｅｌｌ、−
ＧｌｈＧＯ−）、　２．０４（３１１，Ｓ、ＧＯＣｌｌ
ａ）、２．２６（２１１゜し、Ｊ−８ｔｌＺ、−Ｃｌ１
２ＣＨａ−ＣＯＯ旦１−）、　　２．６１　　（２１１
，Ｌ、　　Ｊ＝８Ｈｚ。

Ａｒ−Ｃ１２−Ｊ、　３．５５（２ｆｌ、ｓ、−ＧＯＧ
８２ＧＯ−：ケト型］／７）　。

５．４７　　（目、ｓ、−１；−ｆ；Ｈ−ＧＯ−：エノ
ール　型　６／７）、　　７．１６　〜７、：ｌｏ（５
Ｈ，＋ｎ、芳香環）、１５．４９（Ｉｌｌ、ｂｓ、ＯＨ
（工ｌ−ル））。

ＩＲ（Ｎｅａｔ）　　：　　１７２５ｃｍ−’、　　１
６００ｃｍ−実施例２３．　９−（４−クロルスルホニ
ルフェニル）−３−シアシー２．４−ノナンジオン（一
般式　［［１１］　に於て、ｌ１８＝　−Ｃ１１，、Ｙ
＝−３Ｏ２ＣＪ／、。

ｍ″・５）の合成 （１）３−ジアゾ−９−フェニル−２，４−ノナンジオ
７．１ｉ　ｇ　（０，０３４モル）を塩化メチレン２５
艷に溶解し、トリエチルアミン３．４ｇ（０，０３４モ
ル）を加えた後、０〜５℃で参考例１で得たρ−トルエ
ンスルホニルアジド　６．７ｇ　（０，０３４モル）を
滴下し、同７Ｍ度で１時間反応させた。反応液を希カセ
イカリ水溶液で洗浄後、水洗し、無水ＭｇＳＯ４で乾燥
した。乾燥剤をか人後、溶媒留去して暗赤色油状物＆、
２ｇを得た。次いで残渣油状物をカラム分！［シリカゲ
ル：フコ−ゲルＣ−２００，溶離液：ｎ−ヘキサン／塩
化メチレン・２／１→１／１→１／４（Ｖ／Ｖ）　］　
シ、３−ジアゾ−９−フェニル−２，４−ノナンジオン
５．２ｇを黄色粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮＭ＋（δｐｐ＋ｎ（ＣＤＣＩｓ）：　　１．３
５〜１．７４　（６１１，ｍ、−Ｃ：ムｃ１１．ｃｌｉ
［：１１２ｃｏ−）、２．４ａ（：＋１１．ｓ、　ｃｏ
ｃ＋１）、　２．６１　（２１１，ｊ。

、Ｊ＝８１１ｚ、Ａｒ−ＣＨ，−）、　　２．７０（２
１１，ｔｌ＝８ｔｌｚ、−Ｃ１ｌｚｆ：０−）。

７．１５〜７．：ｔｏ（５１１，ｍ、　方香環）、１１
ｔ　（Ｎｅａｔ）　：　２１００ｃｍ−’（−ＣＮ２）
、１６５０ｃｍ−’（［：＝０）。

＋２１９−　（４−クロルスルホニルフェニル）−３−
シアソー２．４−ノナンジオンの合成 ｆｉｌで得た３−ジアゾ−９−フェニル−２，４−ノナ
ンジオン３．６　［（１４ミリモル）をクロロホルム１
０ｍ１に溶解し、−５〜０℃でクロルスルホン酸６．５
ｇを滴下した。同温度で２時間撹拌反応させた？＆氷氷
水５註０ し、分取したクロロホルム層を水洗後無水ＭｇＳＯ４で
乾燥Ｉ７た。乾燥剤をか人後、溶媒留去し、残液の橙色
油状物！、７ｇをカラム分離［シリカゲル：フコ−ケル
Ｃ−２００，溶離液：ｎ−”＼キサン／酢酸エチル＝５
／ｌ　（Ｖ／Ｖ月し、９−（４−クロルスルホニルフェ
ニル）−３−ジアゾ−２，４−ノナンジオン１．４　ｇ
を淡黄色粘稠油状物として得た。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣＩ＊）　：　１．３７〜
１．７５（６Ｈ，ｍ、−Ｃｊｉ。

Ｃｊｊ、ＣＪｉ：Ｈ，ＣＤ−）、２．４３（：団、ｓ、
ＧＯ（：ｌｂ）、２．７４　　（４１１，ｍ。

ｃｏ、ｃｏ−）１び八ｒ−ｅｌｆ、−）、　　７．４１
ｆ２ｔｌ、ｄ、Ｊ□８１１ｚ、ｐ）＋ｅｎｙｌ−Ｃ２，
Ｃｇ）、　　７．９５　　（２ｔｌ、　　ｄ、　　Ｊ・
８１１ｚ、ｐｌ＋ｅｎｖｌ−＋３．（：、）。

ＩＲ（Ｎｅａｔ、）　：　２１００ｃｍ−’（−（：Ｎ
２）、１６４５ｃｌ’（（：＝Ｏ）。

ＵＶ　　（ＣＩ１３ｆ；Ｎ）　λｍａｘ　（ε　）　　
　：　　２４２．２Ｈｍ（１８６８０）。

元素分析値（Ｇ＋５Ｈ＋７αＮ、、０４Ｓ）理論値：Ｃ
零、５０．４９　　；　Ｈ！に、４．８０．　Ｎ’Ｘ、
７．８５゜実測値：　ＣＬ５０．６：ｌ　　；　Ｈ’！
、４．ｉｉ９；　Ｎ＊、７．７７゜実／ｉｈ例２４．　
４−（７−シアシー（ｊ、８−ジオキソノニル）ベンゼ
ンスルホン酸エチル（一般式％式％ 実施例２３の１２）で得た９−（４−クロルスルホニル
フェニル）−３−シアソー２．４二ノナンジオン１．１
　ｇ　Ｎ、１　ミリそル）をトリエチルアミン０．７−
及びエタノール７．３　ｄに混合した後、実施例１８と
同様の操作により反応及び後処理を行い、粗油状物を１
：？た。これをカラム分離［シリカゲル：ワコーケルＣ
−２００，溶離ｉ：クロロホルムコし、４−（７〜ジア
ゾ−６，８−ジオキソノニル）ペンセンスルホン酸エチ
ル８５０Ｂを淡黄色粘稠油状物として得た。

’　ＨＮ　Ｍ　１１　　δｐｐｍ（（：ＤＣＩ３）　：
　１．２３〜１．３４（５ｔ（、ｍ、　−ＣＨ。

ＣＨ２（：ＩＩ□ｌ；Ｏ−及び−３ｔｌ、Ｃ１１２Ｃ１
１１）　、１．５９〜１．ｉｉ４　（４１１，ｍ。

Ａｒ−［：１１２ｃｊｊｌ−及び−ＣＪ（：Ｎ２（：０
−）　、２．３６　（３１１，ｓ、−［１１１）　。

２．６０〜２．６９（４１１，ｍ、Ａｒ−Ｃ１１，−及
び−ＣＨ，ＧＯ−）、４．０４（２１１，ｑ、Ｊ−７１
１２，−５Ｑ、、Ｃ１ｌ、Ｉ：ｌ−１，）、　７．２７
　（２Ｈ，ｄ、、Ｉ＝８．５１１ｚ。

ｐｈｃｎ、ｙｌ−Ｃ２，Ｃ６）、　７．７３（２１１，
ｄ、　、Ｉ＝８Ｈｚ、ｐｈｅｎｙｌａ、、Ｃ５）、。

ＩＩＩ　　　ｆＮｅａｔ、）　　　：　　　２１００ｃ
ｍ−’（−（：Ｎ２）、１６４０ｃｍ−’（Ｃ＝０）。

元素分析値（［；＋　７１１２２Ｎ２０ｓｓ）埋１ｆｊ
ｆ４　　コ　Ｃ＊、５５．７２　　　、　　Ｈ！Ｉ、、
６．０５；　　Ｎ！に、７．６４　。

実測値：　Ｃ’ｌｉ、５５．６１　　、８’ｌｉ、ｉｉ
、２！　：　Ｎ本、７．８８１参考例　８．１−フェニ
ル−３，５−オクタンジオンの合成 ４−フェニル−２−ブタノン４６．８ｇ　（０，，３１
モル）及び酪酸エチルｌｌ０ｇ　（（１，９５モル）を
トルエン＋２０ｒｎｌ中に混合し、これに２０〜６０℃
でナトリウム７．３ｇをゆっくり加えた。更に撹拌通流
ド９時間反応させた後、−夜装置した。次いで水３０〇
−及び濃塩酸４５ｒｎ！！中に反応液を注入、中和し、
酢酸エチル抽出した、有機層を分取し、水洗後無水Ｍｇ
５Ｕ４で乾燥した。乾燥剤を駅別し、溶媒留去し、残渣
の赤橙色油状物８４ｇを減圧蒸留しｂｐ、１６６〜ｂ タンジオン１５．４ｇをｒａ　Ｒ色油状物として得た１
゜’ＨＮＭＲδｐｐｍ（（：ＤＣＩ　３）　　：　　０
．９：ｌ（：）ＩＩ、ｔ、Ｊ−７）１ｚ、−Ｃｆｌ、、
）　。

１．５３〜１．６７（２１１，ｍ、−１；ＩＩ、ｆ；Ｉ
Ｉ３）、　２．２３（２＋１．　ｊ、、Ｉ＝７１１２゜
−［：ｊｊｘ（：ｌ１２ｃｌ＋、、）　、　２　、６　
Ｏｆ２Ｈ、Ｌ　、　Ｊ　＝７１１ｚ　、　Ａｒ−（、ｌ
ｌ２Ｌｌ１１（：０−）　。

２．９４　（２１１，Ｌ、　Ｊ＝７１１ｚ、　Ａｒ−Ｇ
１１．−）、　３．５２（２Ｈ，ｓ、　−にＯｃｕ、ｃ
ｏ−：　ケト型３／１０）　、５．４５　（ＩＩＬｓ、
−Ｃ＝Ｃｊｊ−ＧＯ−：エノール型７／１０）、　’７
．１６〜７．２１１（５１１，ｍ、芳香環）１５．４６
　（ＩＩＩ、　　ｂｓ、　　０１ｌ（ｘノール））。

ｌｉｔ　　（Ｎｅａｌｊ　　：　　１Ｂ００ｃｍ−実施
例　２５．１−＋４−クロルスルホニルフェニル）−１
−ジアゾ−３，５−オクタンジオン（一般式ｒＩ［１］
に於て、Ｒ８・ＣＩｌ、Ｃｌｌ２ｃ１１□−１Ｙ＝−５
Ｏ□α、　ｍ’＝２　）の合成（１）４−シアシー１−
フェニル−３，５−オクタンジオンの合成 参考例８で得たｌ−フェニル−３，５−オクタンジオン
７．６ｇ　（Ｊ５ミリモルンを塩化メチレン７０ｍｆｆ
に溶解し、ピペリジン３．０　ｇ　（３５ミリモル）を
加えた後、参考例１でｊｔＩたｐ−トルエンスルホニル
アジド７．４２ｇ　（３８，３ミリモル）を０〜５℃で
滴トし、以ド、実施例１２の（１）と同様にして反応及
び後処理を行い、粗油状物１２ｇｅｔ９た。これをカラ
ム公刊［シリカゲル：フコ−ゲルＣ−２００，溶離液：
ｎ−ヘキサン／塩化メチレン・５／１→３／１→＋７＋
　（ｖ／Ｖ）　］し、］４−ジアゾー１−フェニルー３
，５オクタンジオン５．３ｇを黄色油状物として得た。

１１ＮＭＩＩ　　δＩ）ｐｉｌ（１；ＤＣＩ３）　：　
０．９７　（：］）Ｉ、ｔ、、Ｊ−７）１ｚ、（：ＩＩ
、、）　。

１．６：１〜１．７７（２１１，ｍ、−（：＋１２ＣＩ
＋３）、２．６８（２１＋、　ｔ、Ｊ＝７１１ｚ。

−ＣｊｊｌＧＩＩ□（：ＩＩ、）、　　２．４１４　〜
３．１１（４１１，ｍ、へｒ−ｅｌｌ、Ｉシシ−）。

７．１９〜７．３：Ｊ　（５ｔｌ、　ｍ、芳香環）。

ＩＩＩ　　（Ｎｅａｔ、）　　：　２１４０ｃｍ−’（
−ＣＮ２）、１６５０ｃ＋ｎ−’（Ｇ−０）。

（２）　１−　（４−クロルスルホニルフェニル）−４
−ジアゾ−３，５−オクタンジオンの合成（１）で得た
４−ジアゾ−１−フェニル−３，５−オクタンジオン５
．２ｇ　（２１，：ｌミリモル）を溶解したクロロホル
ム溶液にクロルスルホン酸１５ｇを−１０〜−５℃で滴
ドし、以上、実施例１２の（２）と同様にして反応及び
後処理を１−ｒい、粗油状物３ｇを得た。これをカラム
分離［シリカゲル：ワコーゲルＣ−２００，溶離液：ｎ
−ヘキサン／酢酸エチル・５／１−＋：ｌ／Ｉ（ｖ／Ｖ
）］　　Ｌ、１−（４−クロルスルホニルフェニル）−
４−シアソー３．５−オクタンジオン９００＋ｎｇを淡
黄色粘稠油状物として得た。

１１ＮＭＩＩ　　δｐｐｍ（ｆ；ＨＣＨ３）　：　０．
９８　（：ｌＨ，ｔ、、Ｉ＝７Ｈｚ、Ｃ：１１１）　。

１．６３〜１．７７　（２１１，ｍ、−じＨＣＨ３）、
　　２．６３（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ。

−（：ｌｌ２Ｃ：ｆ１２ＧＩＩ３）、　３．０９　（２
１１，ｔ、　Ｊ−７１１ｚ、Ａｒ−Ｇ１１．、ＧＨ−）
。

３．２２（２Ｈ，ｔ、Ｊ・７１１ｚ、Ａｒ−Ｃ８，−）
、７．４９　（２ｔｌ、ｄ、Ｊ−９Ｈｚ。

ｐｈｃｎｙｌ−Ｃ２、Ｃ６）　、７．９５　（２）１　
、　ｄ　、Ｊ＝９Ｈｚ　、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ３，Ｃ５）
。

ＩＩＩ　　（Ｎｅａし）　　　：　　２１４０ｃｍ−’
（−ＣＮ２）、１６５０ｃｍ−’（Ｇ−０７゜元素分析
値（Ｃ：＋Ｊｌ＋ｒ、αＮ２０．Ｓ）理論値：　Ｃ’４
ｉ、４９．＋１５　　、　Ｈ！％ｉ、４．４１；　Ｎｋ
、１１．＋７゜実ｄ（り値二〇本、４８．８！Ｉ　　、
　Ｈ！に、４．６６；　Ｎｋ、８．３４゜参考例　９．
１３−７エニルー２．４−　）リゾカンジオンの合成 ｆｉ＋　　セバシン酸モノメチルクロライドの合成セバ
シン酸モノメチル４３２．６ｇ　（２モル）じ塩化チオ
ニル３６０ｇを６０℃で滴下し、撹拌還流下２時間反応
させた後、反応液を濃縮して得られた粗油状物を減圧蒸
留しｂｐ、１４５〜１５０℃／　４　＋ｎｍ１１ｇ留分
のセバシン酸モノメチルクロライド　４００ｇを無色油
状物として得た。

（２）９−ベンゾイルノナン酸メチルの合成（１１で得
たセバシン酸モノメチルクロライド２１３、ｆｉ　ｇ　
（０，９１モル）をベンゼン　９００ｄに溶解し、５℃
以Ｆで塩化アルミニウム１５３ｇを徐々に添加した。次
いで１時間撹拌通流反応を行った後、反応液を氷水１ｆ
ｆｉ中に注入し、分液してベンゼン層を分取した。有機
層を水洗（５００ｍ７！　Ｘ　３　、）、乾燥（無水Ｎ
ａ２５Ｏ４）　、溶媒留去し、残流の赤橙色油状物＋２
００ｇ）をカラム分Ｉｌｌ［シリカゲル：フコ−ケルＣ
−２００，溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル−４／］
　（Ｖ／Ｖ）　］し、］９−ヘンソイルノナン酸メチル
７３８ｇを無色粘稠油状物として得た。尚、氷晶は冷却
後、結晶化した。ｍｐ、３７．０〜３８．０℃。

’ＨＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣ１１）川、２６〜１．４０
（８１１，ｍ、−Ｌｊｊｚ−ｘ４）、　！、５９〜１．
７５　（４）１．Ｉｌｌ、−Ｃ（Ｈ：１ｈｃｌｌｚ−及
び−ＣしＣＨ２（：０ＯＣＩＩ：＋）　、２．３０（２
１１，ｔ、Ｊ・７．３Ｈｚ、−ＣＩ、［’：０ＯＣＩＩ
、）。

２．９ｆｉ　（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．３Ｈｚ、Ａｒ−ＧＯ
Ｃｔｌ、−）、３．６７　（：ｌＩｌ、ｓ、−にＵＵＧ
ＩＬ！ｌ、　　７．４２〜７．５８（：ＩＩＩ、ｍ、ｐ
ｈｅｎｙｌ−Ｇ３．（：４．Ｃ５）。

７．９６　（２１１、ｄ　、Ｊ−７，３ｔｌｚ、ｐｔ＋
ｅｎｙ　ｌ−Ｃ，、Ｃａｌ。

Ｉｔ（（ＫＢｒ３７）：　２９００ｃ＋ｎ−’　、　２
８５０ｃｍ−’　、　１７４０ｃｍ−’（ＣＯＯＩ’：
ＩＩ３）　、　１６８０ｃｍ−’（Ｃ・０）。

（３１１０−フェニルデカン酸の合成 （２）で得た９−ベンゾイルノナン酸メチル１８，３ｇ
（６６ミリモル）をジエチレングリコールＩＱＯｍｔ’
に溶解し、これに８０％抱水ヒドラジンＩ１．６ｇし、
希塩酸でＰｆｉ性化し、酢酸エチル抽出した。

有機層を水洗、乾燥（無水Ｍｇ５Ｏ，、）、溶媒留去し
、残渣をリグロインより再結晶してＩＯ−フェニルデカ
ン酸１４．５ｇを白色鱗片状晶して得た。ｍｐ、Ｉ！４
．５〜４６．５℃。

１１ＮＭＲδｐｐｍ（ＧＤＣ：１３）　：　１．２４〜
１．３１（ＩｆｌＨ，＋＋＋、−ＧＨ，，−Ｘ　１０）
、　１．５８〜１．ｌｉ３　（４１１，ｍ、Ａｒ−Ｃｌ
１２Ｇｊｌ−及び−ｃ６ｆ：＋１２（：００１１）　、
２　、３４　＋２１１　、　ｔ　、Ｊ＝７．３１１ｚ　
、　−Ｃｌｌ、ｆ：００１１）　、　２　、８０（２１
１，ｔ、Ｊ＝７．７ｆｌｚ、Ａｒ−ｆｌ：Ｉｔ、−）、
　　７．１４〜７．１９　１１１１．　　ｍ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ，、、Ｇ、＋、Ｃ６）、　　７．２ｆ
ｉ〜７．３４（２１１，［Ｉｌ、ｐｌ＋ｅｎｙｌ［＋３
．［；５）。

ＩＲ（ＫＢｒ１２）：　１６７０ｃｍ−’（Ｃ＝０）。

（４１１０−フェニルデカン酸メチルの合成（３）で得
た１０−フェニルデカン酸１３．７ｇ　（５５ミリモル
）を塩化、メチレン　Ｉ　ＯＯｒｎｔ！に溶解し、４０
℃で塩化チオニル１３．１　ｇを滴下し、１時間撹拌５
流ド反応させた。反応液を濃縮後、残渣をメタノール２
０ｍ１及びトリエチルアミン１１．２ｇ中に２０℃以）
で滴下し、２０±５℃で１時間撹拌反応させた。反応液
を水１０（Ｗ中に注入し、塩化メチレン抽出し、有機層
を水洗（１００ｍｌＸ　３　）　、乾燥（無水Ｍｇ５Ｏ
：＋）、溶媒留去した。残渣（１５，４ｇ）をカラム分
離［シリカゲル：フコ−ゲルＣ−２００，溶離液：塩化
メチレンコし、１０−フェニルデカン酸メチルｌ０１ｇ
を談凌色油状物として得た。

１．１１ＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣ１３）　：　１．２４
〜１．３２（１０１１，ｍ、−ＧＪ−ｘ　５）　、　Ｉ
　、５６〜１．６１　（４Ｈ，ｍ、　Ａｒ−Ｃｆ１２Ｃ
ム−及び−ｅｌｆ。

に１ｈｃ００−）、２．２９（２１１，ｔ、Ｊ＝７．３
１１ｚ、−Ｇｊｊ、Ｃ００−）、　２．５９（２Ｈ，ｔ
、Ｊ＝７．３１１ｚ、Ａｒ−Ｃ１１−）、　７．１６〜
７．１８（３１１，ｎ＋。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｇ、Ｃ４，Ｃ，、）、　７．２４〜７．
３０（２Ｈ，［Ｉｌ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ＊。

Ｃ６）。

Ｉｌｌ　（Ｎｅａｔ、）　：　１７２０ｃｍ”（Ｇ＝０
）。

（５）　　１３−フェニル−２，４−トリデカンジオン
の合成 （４）で得た１０−フェニルデカン酸メチル９．２ｇ（
３５ミリモル）とアセトン２．４　ｇ　（４２ミリモル
）を仕込み、こ打に１０〜４０℃でナトリウム２６８＋
ｎｇ（１１，７ミリ原子）をゆっくり加え、以丁、参考
例５と同様にして反応及び後処理を行い、粗油状物１０
．８ｇを得た。これをカラム分子ｌ［シリカゲル：フコ
−ゲルＣ−２００，溶離液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
＝　＋ｏ／ｌ（Ｖ／Ｖ）ＩＬ、ｌｊ−７ｓ−ニル−２，
４ｔ・リゾカンジオン　１．２ｇを黄色油状物として得
た。

’ＩＩＮＭＩＩ　　δｐｐｍ（ＬＤＣＩ：＋）　：１．
２９　（１０ｔｌ、ｂｓ、−Ｃｊｊｚ−ｘ　５）　。

Ｉ　、５９　　（４１１，ｂｓ、Ａｒ−（、Ｉｔ２１’
４−及び−１，：Ｉｌ、ｅ１＋２ｆｌ：０ｆｌ１２−）
２．０５　（３ｔｌ、ｓ　、−ｃｏａｌｌ、）　、２．
２６　（２１１，ｔ、Ｊ−）ｉ　、５１１ｚ　、−ｃｏ
ｃ。

ａｌ１２ｃｏｃ）ｌ：＋）、２．ａｏ　（２ｔｌ、　ｔ
、　Ｊ＝７．２１１ｚ、Ａｒ−６％−Ｊ、３．５６（２
１１，ｓ、−ＧＯＣ肚ＣＯ−：ケト型３／１０）　、　
５．４８　（ＩＩＩ、ｓ。

−［ニー＋ｌｌｆ；０−　：エノール型７／１０）、　
７．１４〜７１９（：Ｊｌｌ、ｍ。

ｐｈｅｎｙｉに２．Ｃ４，Ｃ６）、　７．２５〜７．３
０（２１１，ｍ、　ｐｈｅｎｙｌ−（：、、、Ｃ，、）
、１５．５１（Ｉｌｌ、ｓ、Ｑ　　（エソール））。

ＩＲ（Ｎｅａｔｌ　：　１６００ｃｍ−’（（ニー０）
。

実施例　２６．１：Ｉ−（４−クロルスルホニルフェニ
ル）−３−ジアゾ−２，４−トリデカンジオン（一般式
　［［］　に於て、Ｒ８＝　−ｅｌｌ、、Ｙ＝−５Ｏ２
ｃｆＬ、　ｍ’　＝　９）（７）合成（１１３−ジアゾ
−１３−フェニル−２，４−トリデカンジオンの合成 参考例９の（５）で得た、Ｉ３−フェニル−２，４−ト
リデカンジオン　１．１ｇ（４ミリモル）を塩化メチレ
ン１０ｍ１に溶解し、ピペリジン０．３３ｇ　（４，０
ミリモル）を加えた彼、参考例！で得たｐ−トルエンス
ルホニルアジド８５０Ｂ　（４，４ミリ千ルンを０〜５
℃で滴ドし、以゛ト、実施例１２の（１）と同様にして
反応及び後処理を行い、粗油状物１．１ｇを得た。こわ
をカラム分離［シリカゲル；ワコーケルＣ−２００゜溶
離液：塩化メチレン］し、３−シアシー１３−フェニル
−２，４−トリデカンジオン　１．０ｇを面角粘稠油状
物とし°Ｃ得た。

尚、氷晶は冷却後、結晶化した。

＋ｎｐ、２９．０〜３１．０℃０ ＨＮ　Ｍ　Ｉｔ　　δｐｐｍ（ＬＤＣＩ３）　：１．２
９（１０１１，ｂｓ、−Ｃ１ｌ、−ｘ　５）　。

１．５９〜ｌ　、６’ｌ　（４１１，ｍ、Ａｒ＜１ｈＧ
ｌｈ−及び−Ｃ８，Ｇ１１２ｃｏ−）　。

２．４４（、ｉｔｌ、　ｓ、−ＧＯＧＩＩ、、）、　２
．５９（２１１，ｔ、、１−７．７１１ｚ、−Ｃ１ｆ。

Ｇｏ−）　、　２．６９　（２ｔｌ、　（Ｊ−７、５ｆ
ｌｚ、Ａｒ−１：ｌｊ２−）　、　７　、１６〜７　、
１８（：ＩＨ，＋ｎ、ｐｔ＋ｅｎｙｌ−Ｇ２．Ｃ４，５
）、　７．２４〜７．３０　（２Ｎ、　ｍ。

ｐｈｅｎｙｌ−ｆ：＊、Ｃｓ）。

ＩＩ　（Ｎｅａｔ）　：　２０！ＪＯｃｍ−’（−（：
Ｎ２）、１６４０ｃｍ−’（Ｃ＝０）。

（：Ｉｌ　　１３−（４−クロルスルホニルフェニル）
−３−シアシー２．４−トリデカンジオン（一般式％式
％） ＋１１で１ｉｔた３−ジアゾ−１３−フェニル−２，４
−）リゾカンジオン０．８８ｇ　（２，８ミリモル）を
溶解したクロロホルム溶液にクロルスルホン酸１．：ｌ
Ｏｇを＝ＩＯ〜−５℃で滴下し、以トー１実施例１２の
（２）と同様にして反応及び後処理を行い、粗油状物：
１００ｍｇを得た６、こわをカラム分離［シリカゲル：
フコ−ゲルＣ−２００，溶灘液：塩化メチレンコし、ｌ
ｊ（４−クロルスルホニルフェニル）−３−シアシー２
．４−トリデカンジオン　１５０Ｂを淡黄色粘稠油状物
として得た。

尚、氷晶は冷却後、結晶化した。

ｍｐ、　４８．５〜５０．０℃。

ＩＩ　ＮＭ　Ｒ６９０ｍ（（：ＤＧＩ３１　：１．３０
（ｌｕｌｌ、ｂＳ、−（：ＩＩ、−Ｘ　５）　。

１．５９〜１．６４（４Ｎ、ｍ、Ａｒ−（：１１２（ｌ
ｊ、−及び−（：ＪＣ１１２ＧＯ−）　。

２．４５（’、１１１．ｓ、−［：０ＣＩＩ、、ｌ　、
２．６８〜２．７５（４ｔｌ、＋ｎ、八「−Ｃし及び−
ＧｊｊｌＧＯ−）　、　７．４１（２１１，ｄ、　Ｊ＝
６．６Ｈｚ、ｐｈｃｎｙｌ−（：２゜に１．）、７．９
４　　ｌ２ｌ１．ｄ、Ｊ＝６．６１１ｚ、　　ｐｈｅｎ
ｙｌ−Ｇ３．に、、）。

ＩＲｔＮｅａｔ）　　：　　２０９０ｃｍ−’（−ＣＮ
２）、１６３０ｃｍ−’（Ｇ＝０）。

１１Ｖ　　（＋ｌＬ、ＧＮ）λｍａｘ　（ε）　　：　
２４１．３ｎｍ　　（２５７９０）。

元素分析値　（（：＋ｑｌｈｓαＮ２０４Ｓ）理論値：
　０％、５５．２６　；　［，６，１０；　［，６，７
＋１゜実測値二〇木、５５．３８　、　Ｈ！ｔ、６．＋
７．　Ｎ！に、ｔｉ、６９゜参考例　１０．１６−フェ
ニル−２，４−ヘキサデカンジオンの合成 ｆｉ＋　　１０−オキソ−１３−フェニルトリデカン酸
メチルの合成 窒素気流ト、エチルエーテル３００ｍｔ’とマグネシウ
ム（削り状）１７．１ｇ中に激しく撹拌しながら臭化β
−フェネチル１４０ｇ　（０，７モル）のエチル試薬溶
液）を参考例６の（１）で得たセバシン酸モノメチルク
ロライド　１５０．１ｇ　（０，６４モル）をエチルエ
ーテル（５００ｄ）に溶解した液に−５０〜−３０℃で
滴ドした。室温迄稈１品させ、室温で２時間撹拌反応さ
せた後、水５００ｒｎ！中に注入し、分液して得たニー
デル層を水洗、乾燥（無水Ｍｇ５Ｏ，、）、溶媒留去し
て粗油状物２０３ｇをｊｉ？た。粗油状物をカラム分＃
Ｉ［シリカゲル；フコ−ゲルＣ−２００，溶離液二〇−
ヘキサン／酢酸エチル・４／Ｉ　ｆＶ／Ｖ）　］　Ｌ、
１〇−才キソー１３−フェニルトリデカン酸メチル９９
．７ｇを無色油状物としてＩＲ７だ。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（（：ＤＧｌ＋）　：　Ｉ　、２
３〜１．：１０（８Ｈ，ｍ、−Ｇ％−ｘ４１．１．５１
〜１．７０　（４１１，ｍ、−（：０１；Ｈ２ＧＨ，−
及び−ｃｙ［；ｌＩ２［；００［：ｌＬ＋）、　　Ｉ　
、８１Ｎ２．Ｑｌ（２１１，ｍ、八ｒ−ＧＩ１２（：％
−）、２．３０（’、！ＩＩ、ｔ、Ｊ”７ＪＨｚ、−Ｃ
１１２（：００Ｇｌ１３）、２．３６〜２．４：］　（
４１１，ｍ。

−ＣＩｈＣＯＧｊｌ−）、２．５：］　〜２．７２（２
Ｈ，ｍ、Ａｒ−Ｃｊｊ−）、　３．６６（３１１，Ｓ、
−ＣＯＯＣＩ＋３）、　７．１３〜７．：ＩＩ（５１１
，ｍ、芳香環）。

ｌ１ｌ（ＮＣａｔ）：　２！１５０ｃｍ−’　、　２８
００ｃｍ−’　、　１７３０ｃ＋ｎ−’（（：０ＵＣ）
Ｌ＋）　　、　　ｌ’７１０ｃｍ−’　（Ｃ＝Ｏ）　。

（２）　　１３−フェニルトリデカン酸の合成（１）で
得たｌＯ−オキソ−１３−フェニルトリデカン酸メチル
５６．８ｇ　（０，１７８モル）をジエチレングリコー
ル６００Ｔｎｌに溶解し、８０％抱水ヒドラジン５０ｒ
ｎＩ！及希塩酸で酸性とし、クロロホルム抽出した。有
機層を水洗、乾燥（無水Ｍｇ５Ｏ４）、溶媒留去し、残
渣をリグロインより再結晶して１３−フェニルトリデカ
ン酸４４．４ｇを白色鱗片状晶として得た。ｍρ。

５１．５〜５２．５℃。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ＤＭＳＯ−ｄ、ｌ　：　１．２
４〜１Ｊ３（１６ｔ１．ｍ、−ｆ：１ｈ−Ｘ　８）　、
　Ｉ　、４７〜Ｉ　、５８　（４ｔｌ、ｍ、Ａｒ−ＣＨ
２Ｃｊｊ、Ｈ−及び−Ｃｊｊｚ（１：Ｊ　ＧＯＯｆｌ）
　、　２　、１８　（２１１、ｔ　、　Ｊ−７、３Ｈｚ
　、　−ＧＩＩｚＣＯＯＩＩ）　。

２．４８〜２．５８　（２１１，ｍ、Ａｒ−Ｃ１１，−
）、　７．１１〜７．２１１（５Ｎ、ｍ。

芳香環）、　１１．８９（ＩＩＩ、　ｂｓ、　−に０Ｏ
Ｈ）。

１１１（ＫＢｒ錠）：　２９００ｃ＋ｎ−’、２８５０
ｃｍ−’、１６８０ｃｍ−’（（ニー０）。

（３１１３−フェニルトリデカン酸メチルの合成（２）
で得た１：１−フェニルトリデカン酸２２．４ｇ（７７
ミリモル）をメタノール６０ｒｎＩ！及び硫酸２．２ｇ
と撹拌還流下１時間反応させた。反応液を濃縮し、水１
００Ｉｎｌを注入した後、塩化メチレン抽出した。有機
層を水洗、乾燥（無水Ｍｇ５Ｏ，、）、溶媒留去し、残
Ｍ（３３ｇ）をカラム分離［シリカゲル：フコ−ゲルＣ
−２００，溶票液：塩化メチレンコし、１３−フェニル
トリデカン酸メチル１７．６ｇを白色結晶として得た。

畦３０，５〜３１．５℃。

＋１ＮＭＲδｐｐｌ［ｌｔ［：ＤＣｌｔ）　：　１．２
５〜１．２９　（１６ｔｌ、ｍ、−ＣＪ−ｘｌｌ）、　
１．５６〜１．６３　（４）１．ｍ、−Ｃ１１，ＣＩｌ
□Ｃ００Ｃｆ１３及びＡｒ−Ｇ１１□Ｇｊｊｚ−’ｌ　
、　２．３０　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ−７、５１１ｚ、−１
；％（：００（：ｌｌ＋）　、　２．６０（２Ｈ，ｔ、
、ｌ＝７．８１１２．八ｒ−ＣＩＩ２−）、３．６６　
（３Ｈ，ｓ、−ＧＯＯＣＨａ）７、ｌｔｉ　〜７．２１
１　　（３１１，ｍ、ｐｈｅｎｙｌ−６３，Ｃ，、、Ｃ
，、）、　　７．２４〜７．２９（２Ｈ，ｍ、ｐｈｅｎ
ｙｌ−Ｃ２，（：ｅ）。

１１（ＫＢｒ鋺）　＋　２９００ｃｍ′″’　、２８５
０ｃｍ−’　、　１７３０ｃｍ−’　（Ｃ−０）。

ｉ４１　１６−フェニル−２，４−ヘキサデカンジオン
の合成 （３）で得た１３−フェニルトリデカン酸メチル１５．
９ｇ　（５５ミリモル）とアセトン３．８　ｇ　（６６
ミリモル）を仕込み、これに１０〜４０℃でナトリウム
４２０ｕ＋ｇ（１８，３ミリ原子）をゆっくり加え、以
下、参考例５と同様にして反応及び後処理を行い、粗油
状物を得た。これをカラム分離［シリカゲル：ワコーゲ
ルＣ−２００，溶離ｍ：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１
０／ｌ（Ｖ／Ｖ）　］　Ｌ／、１６−７　エール−２，
４−ヘキサデカンジオン　１．８ｇを黄色油状物として
得た。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ（ＣＤＣｌ２）：１．２９　（＋
６１１．ｂＳ、−ｃｌｌ、−ｘ　ａ）　。

１．５６〜１．ｌｉ３　（４１１，＋ｎ、　−ｃｌｌ、
ｃｏ２ｃｏ−及びＡｒ−Ｇ１１２ＧＨｚ−）　。

２．０５０１１１．ｓ　、　４：ＯＣＲ，）　、２　、
２６　（２１＋、　ｔ、、Ｊ−６，５Ｈｚ、−ｅｌｌ、
ｌ：０ｃ）１２ｃｏａｌｌｉ　）　、　２．６０（２Ｎ
、Ｌ、Ｊ・７．２ｔｌｚ、Ａｒ−Ｃｔ１２−）　、　３
．５５（２ｔｌ、ｓ、−ＧＯ（：Ｉｔ、［：０−：ケト
型３／１０）、　５．４７　（ＩＨ，ｓ、−Ｇ＝（：Ｈ
（：０−　：エノール型７／１０）、　７．１４〜７．
１９（：ｉｌｌ、ｍ。

ｐｈｅｎｙｌ−に２．（：、、Ｇ６）、　７．２５〜７
．：１０（２Ｈ，ｍ、ｐｈｅｎｙｌ−（：１゜Ｃ１）、
　　１５．５１（ｌ）Ｉ、ｓ、−０Ｊｉ（エノール））
。

Ｉｌｌ　（Ｎｅａｔ）　　：　　１６０５ｃｍ−’（Ｃ
＝０）。

実１６例２７．１６−　（４−クロルスルホニルフェニ
ル）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサデカンジオン（一般
式［ＩＩｒ］に於て、Ｒ’＝　−（ＩＩ、、Ｙ＝−５０
２Ｃ１、ｍ’　＝　１２）の合成（ｌ（３−シアソー１
６−フェニル−２，４−ヘキサデカンジオンの合成 参考例ＩＯの（４）で得た、１６−フェニル−２，４−
ヘキサデカンジオン　１．５ｇ　（４，５ミリモル）を
塩化メチレン１ｉＩｎＩ！に溶解し、ピペリジン３７５
Ｂ　（４，５ミリモル）を加えた後、参考例１で得たｐ
−トルエンスルホニルアジド　９５４ｍｇ　Ｃ４，！ｌ
ミリモル）を０〜５℃で滴ドし、以−トー、実ｈｈ例１
２の（１）と同様にして反応及び後処理を行い、粗油状
物を得た。

こわをカラム分５１［シリカケル：ワコーケルＣ−２０
０、溶離液：塩化メチレンＪし、３−シアソーＩ６−フ
ェニルー２，４−ヘキサデカンジオン　Ｉ　、　：ｌ　
ｇを黄色粘稠油状物として１ｊ；た。

ＩＩ　Ｎ　Ｍ　Ｉｔ　　δｐｐｍ（ＣＤＣｌ２）　：１
．２９　（１６Ｈ，ｂｓ、−Ｃｊｉ−ｘ　８）　。

１　、５９〜Ｉ　、　６：ｌ　（４１１、ｍ　、Ａｒ−
Ｃ１１２Ｃｊｊｚ−及び−［：％に１１２［１０−）　
。

２．４４（３１１，ｓ、−ＣＯＣ肚）、　２．５９（２
Ｈ，ｔ、Ｊ・７．５１１ｚ、−％ｆ；０−）、２．７０
（２１１，ｔ、Ｊ＝７．５１１ｚ、Ａｒ−（：Ｉｆ、−
）、　７．１６〜７．１８（：ｌＩｌ、ｍ、ｐｈｅｎｙ
ｌ−Ｇ２．Ｇ、＋、ＧＪ、　７．２４〜７．３０　（２
１１，ｍ。

ｐｈｃｎｙｌ−Ｇ、、ＩＩ：Ｊ。

ＩＲ（Ｎｅａｔｌ　：　２０９Ｑｃｌ’（−ＧＮ２）、
ｉＬｔＯｃｍ−’（Ｃ＝Ｏ）。

（：＞ｌ　　１６−（４−クロルスルホニルフェニル−
３−シアソー２．４−ヘキサデカンジオン（一般式％式
％ キ サデカンジオン　１．１ｇ（３ミリモル）を溶解したク
ロロホルム溶液にクロルスルホン酸１．３９ｇを−１０
〜−５℃で滴トし、以下、実施例１２の（２）と同様に
して反応及び後処理を行い、粗油状物］００＋ｎｇを得
た。これをカラム分Ｍ［シリカゲル：クコ−ゲルＣ−２
００，溶離液：塩化メチレン］し、１６−（４−クロル
スルホニルフェニル）−３−ジアヴー２．４−へキサデ
カンジオン　１４０ｍｇを淡黄色粘稠油状物として得た
。

’ＨＮＭＲδｐｐｍ（（：Ｄｆｌ：Ｉ、）　：１．３０
　（１６１１，ｂｓ、−Ｃ％−Ｘ　８）　。

１．５９〜１．ｂ：］　（４Ｈ，！１１．Ａｒ−Ｃ１１
２ＣＩＩ２−１び−ｃ！Ｌ、ｃＨ２ｃｏ−）　。

２．４５　（３）１．ｓ　、−に０Ｃ１１３）　、２　
、６８〜２．７５　（４ｔｌ、ｍ、Ａｒ−％及び−（：
１４．、ＧＯ−）、　７．４１（２＋１、ｄ、　Ｊ＝６
．６ｆｌｚ、ｐｈｅｎｙｌ−Ｇ２Ｇ、；）、７．９５　
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．６１１ｚ、　ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ＊
、（：、、）。

ＩＲ（Ｎｅａｔｌ　：　２０！ｌＯｃｍ−’（−ＧＮ２
）、１６３５ｃｍ−’（（＞Ｏ）。

参考例１１．１−シクロへキシル−５−フェニル−１，
３−ペンタンジオンの合成 （１）　　シクロヘキサンカルボン酸エチルの斤成シク
ロヘキサンカルボン酸クロライド７５ｇ　（０，５１モ
ル）をエタノール４５−、トリエチルアミン７８ｇ及び
トルエン　１２０ｍ１中に１５℃以下で滴ドし、室温で
３時間撹拌反応させた。反応液を冷水３５０ｒｎ！！中
に注入し、希塩酸で酸性化し、酢酸エチル抽出した。有
機層を水洗（＋５０ｄ　Ｘ　３　）、乾燥（無水Ｎａ２
５ＯＪ、溶媒留去し、残渣（９３ｇンを減圧蒸留してｂ
ｐ、１０１〜ｂ カルボン酸エチル１；４ｇを無色油状物として得た。

’ＩＩＮＭＲδｐｐｍ　（（：υＣ１３）：　１．１３
〜１．９２（１：Ｉｌｌ、［ＩＩ、ｃｙｃｌ。

ｈｅｘｙｌ−Ｇ２．Ｃ２’、［：３．Ｃ３’　、Ｃ４，
Ｇ、°、Ｃ１，Ｃ５°、Ｃ６，Ｃ，，°及び−［：００
ＧＨ２（：ｔｌ、）　、　２．２２〜２．３５　（Ｉｌ
ｌ　、ｒａ　、ｃｙｃ　１ｏｈｅｘｙ　Ｉ−（：　、　
）　。

４．１１（２ｔｌ、　ｑ、　、Ｉ＝１７１１ｚ、−Ｃｏ
ｏ（：ｌｌ２Ｃ１ｈｌ。

Ｉｌｌ　　（ＮｅａＬｌ　　：　　１７２５ｃ［ｌ＋　
−五（Ｃ＝０　）。

（２）１−シクロへキシル−５−フェニル−１，３−ペ
ンタンジオンの合成 （１）で得たシクロヘキサンカルボン酸エチル６３ｇ（
０，４モル）と４−フェニル−２−ブタン２０ｇ　　（
０，１３モル）を仕込み、これに１０〜４０℃でナトリ
ウム：１．ｌ　ｇ　（０，１：ｌ原子）をゆっくり加え
、以ド、参考例５と同様にして反応及び後処理を行い、
粗暗橙赤色油秋物２３ｇを（！；た。これをカラノー分
蹟［シリカゲル：フコ−ゲルＣ−２００，溶ｍ液：ｎ−
ヘキサン／酢酸エチル−１ｏｏ／＋−＋Ｉ００／２４１
０ｏ／ａ　（Ｖ／Ｖ）］し、ｌ−シクロへキシル−５−
フェニル−１，３−ペンタンジオン２．５ｇを黄色油状
物として得た。

＋１ＮＭＲδｐｐｍ（（：Ｄｌ：＋３）：　１．（１５
〜１．８！１（１０１１，ｍ、ｃｙｃｌ。

ｈｅｘｙｌ−Ｃ２，Ｃ２’　、Ｇ、　、Ｃ３’　、Ｃ４
，Ｉ：４’　、Ｃ５，Ｃ５’　Ｊ：６．（：６’）２．
２０〜２．３７（ＩＩＩ、＋ｎ、ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ
−Ｃ，）、　２．６５（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７１１Ｚ、−ＣＩ１２（：％Ｃ１］−）、２．９０
（２１１，ｊ、Ｊ□７１１ｚ、八ｒ’：！ｈ−）。

：１．５５（２１１，ｓ、−ＣＯＣＩＩ、ＧＯ−：ケト
型１／２０）、　５．４５（Ｉｌｌ、ｓ。

−Ｃ−ＣＩＩＧＯ−：　エノール型１７／２０）、　７
．１５〜７．２７（５１１，ｍ芳香環）、１５．５８（
ＩＩＩ、ｂｓ、−０且（エノール））。

ＪＲ（Ｎｅａｔ）　：　１７１０ｃｍ”（Ｃニー０）。

実施例　２８．５−（４−クロルスルホニルフェニル）
−１−シクロへキシル−２−ジアゾ−！、３ペンタンジ
オン（一般式［１１１］に於て。

１（８＝シクロヘキシル基、Ｙ＝−５０２α１ｍ°＝２
）の合成 ０＋　１−シクロへキシル−２−ジアゾ−５−フェニル
−１，３−ペンタンジオンの合成 参考例１１の（２）で得た、１−シクロへキシル−５フ
ェニル−１，３−ペンタンジオン２．４　ｇ　（９，３
ミリモル）を塩化メチレン２２ｒｎｌに溶解し、ピペリ
ジン７７５１＋１ｇ（９，３ミリモル）を加えた後、参
考例１で得たｐ−トルエンスルホニルアジド１．９７ｇ
　（１０，２ミリモル１を０〜５℃で滴下し、以下、実
施例Ｉ２の（１）と同様にし′Ｃ反応及び後処理を行い
、粗黄色油状物４ｇを得た。これをカラム分離［シリカ
ゲル；フコ−ゲルＣ−２００，溶離液：ｎ−ヘキサン／
酢酸エチル＝　１００／ｌ→１００／２（Ｖ／Ｖ）］　
Ｌ／、１−シクロへキシル−２−ジアゾ−５−フェニル
−１，３−ペンタンジオン　１．９ｇを淡黄色粘稠油状
物として得た。

’ＨＮＭＩ？　　δｐｐｍ（ＣＤＣｌ２）：　１．１８
〜１．５３　（６）１．ｏ＋、ｃｙｃｌ。

ｈｃｘｖｌ−Ｇ、、　、Ｃ，°、Ｃ４，Ｃ４°、Ｃ５，
Ｃ，°）　１．６８〜１．８２（４Ｈ，＋ｎ。

ｃｙｃ　Ｉｏｈｅｘｙｌ−１；２　、に２　’　、Ｃ６
，Ｃ６’　）　、　２．８：Ｊ〜３．００１１．ｍ。

ｃｙｃ１ｏ１＋ｃｘｙｌ−Ｃ，及び−Ｃ１１２Ｃ１１２
（：０−）　、：１．０５〜３．１１（２＋１゜ｍ、Ａ
ｒ−に１ｈ−）、　７．１７〜？Ｊｌ（５ｔｌ、　ｍ、
芳香環）、ＩＲ（Ｎｃａし）　　　：　　　２０８０ｃ
ｍ−’（−ＣＮ２）、１６３０ｃｍ−’（Ｃ＝０）。

（２１５−（４−クロルスルホニルフェニル）−１−シ
クロへキシル−２−ジアゾ−１，３−ペンタンジオン（
一般式［１１１１に於て、Ｒ８＝シクロヘキシル基、　
Ｙ　＝−５Ｏ□α、＋＋＋’＝２）の合成＋１１で得た
１−シクロへキシル−２−ジアゾ−５−フェニル−１，
３−ペンタンジオン１．７ｇ（６ミリセルフを溶解した
クロロポルム溶液にクロルスルホン酸２．７８ｇを−Ｎ
］〜−５℃で滴下し、以斗、実Ｂｋ例１２の（２）と同
様にして反応及び後処理を行い、組曲状物４１）Ｏｍｇ
を得た。これをカラム分離［シリカゲル：ワコーゲルＣ
−２００，溶離液二〇−ヘキサン／酢酸エチル：　３／
Ｉ　（Ｖ／Ｖ）　Ｉ　Ｌ／、５−（４−クロルスルホニ
ルフェニル）−１−シクロへキシル−２−ジアゾ−１，
１−ペンタンジオン２００ｍｇを淡黄色粘稠油状物とし
て得た。

１１１ＮＭＲδｐｐＩＩｌ（ＣＤＣｌ３）：　１．１８
〜１．６４（６１１，ｍ、ｃｙｃｌ。

ｈｅＸｙｌ−Ｃ３，Ｃ，ｌ’、Ｃ４，Ｃ４°、Ｃ５，Ｃ
５’）、１．６７〜１．９０（４１１，＋ｎ。

ｃｙｃｌｏｔ＋ｅｘｙｌ−Ｃ２，Ｃ２’、Ｃ，、、Ｃ６
°）、　２．６５〜２．７８（団、ｎｌ。

ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−Ｃ，）、　３．０Ｍ２）１．ｔ
、Ｊ＝７１１ｚ、−ｅｌ１２Ｃ％ＧＯ−）。

Ｃ２０（２１１，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ、へｒ−Ｃｒリー、
−３，７，４９（２Ｈ，ｄ、、Ｉ・８ｔ！ｚ。

ｐｈｅｎｙｌ−Ｇ２．Ｇ、）、７．９５　（２１１、ｄ
　、Ｊ−８１１ｚ　、ｐｈｅｎｙｌ−［：ａ　、ＧＦ、
）。

ｆＲ（Ｎｅａｔ）　：　２１００ｃｍ−’（−ＣＮ２）
、１６４０ｃｍ−’（（１：＝０）。

実施例　２９゜ 実施例１で得た１、７−ビス（４−クロルスルホニルフ
ェニルシン−４−シアソー：１，５−ヘプタンジオン３
ｇとバラクレゾール・ノボラック樹脂（分子量１万）７
ｇとをジエチレングリコールジメチルエーテル５０ｇに
撹拌溶解させて感光材料Ａを得た。

第１図を用いて本発明に係る感光材料を用いたパターン
形成方法を説明する。半導体等の基板１にに上で得た感
光材料Ａを回転塗布し、９０℃で２分間ホットプレート
にてプレベーク後、　１．２μｑの膜厚の感光材料膜２
を得た。（第１図（ａ））。なお、基板１上には絶縁Ｍ
、導電膜等が形成されていることが多い。次に２４８．
４ｒ＋ｍのエキシマレーザ４をマスク５を介して選択的
に露光した。

（第１図（ｂ））。そして、最後にＭＰ　２４０１（シ
ブレイ社製）の２０％水溶液で６０秒間現像することに
より感光材料膜２の露光部を溶解除去し樹脂パターン２
ａを得た。（第１図（Ｃ））。樹脂パターン２ａはアス
ペクト比が９０度の好形状で、膜減り数％以ドのサブミ
クロンパターンであった。このパターン２ａをエツチン
グマスクとして基板１表面をエツチングした。

この）ＩＱ２のレジスト材料としての紫外分光を第２図
に示す。尚、第２図に於いて、実線（−）は露光前の、
破線（−−−）は露光１麦の結果を夫々示す。この結果
から明らかな如く、２４８．４万ｍにおける露光面後の
透過率変化は約７４％という大きい値であり、この感光
材料及び本発明の感光性化合物かにｒＦエキシマレーザ
に対して好反応性を示したことがわかる。

実施例　３０゜ 実施例１で得た１、７−ビス（４−クロルスルホニルフ
ェニル）−４−ジアゾ−３，５−ヘプタンジオン４ｇと
メタクレゾール・ノボラック樹脂（分子１ｉ１２万）８
ｇとをエチルセロソルブアセデート４２ｇに撹拌溶解さ
せて感光材料を得た。

これを用いて、実施例２９と同様にしてパターン形成及
び紫外分光の測定を行ったところ、実施例２９とほぼ同
等の良好な結果が得られた。

実施例　３１゜ 実施例１２で得た１−（４−クロルスルホニルフェニル
）−３−ジアゾ−２，４−ペンタンジオン３ｇとバラク
レゾール・ノボラック樹脂（分子１１ｈ）７ｇとをジエ
チレングリコールジメチルエーテル５０ｇに撹拌溶解さ
せて感光材料を得た。

これを用いて、実施例２９と同様にしてパターン形成及
び紫外分光のｍｌ＋定を行ったところ、実施例２９とほ
ぼ同等の良好な結果が得られた。

実施例　３２゜ 実施例１３で得た６−（４−クロルスルホニルフェニル
）−３−ジアゾ−２，４−ヘキサンジオン４ｇとメタク
レゾール・ノボラック樹脂（分子量２万）８ｇとをエチ
ルセロソルブアセテート４２ｇに撹拌溶解させて感光材
料を得た。

これを用いて、実施例２９と同様にしてパターン形成及
び紫外分光の測定を行ったところ、実施例２９とほぼ同
等の良好な結果が得られた。

尚、感光材料中の樹脂は感光材料の光表面吸収を低減す
るために、２４８．４ｎａ＋などの遠紫外光に対して透
明性の高いちのが必要とされる。実施例２９〜３２で用
いられた以外の樹脂として、スチレン樹脂、マレイミド
系樹脂、とドロキシスチレン樹脂、オルトクロロメタク
レゾール・ノボラック樹脂などを用いても同様に好結果
が得られるが、もちろんこＪｌらに限定されるわけでは
ない。

溶媒についても同様の透明性か必要であり、他に、ジエ
チレングリコールジエチルエーテルなども用いることが
可能である。

実施例　３３〜６２゜ 各実施例で得た本発明化合物を夫々感光剤とエーテルを
用いて感光材料を得た。

これらの感光材料を、半導体基板上に回転塗布し、プレ
ベークして、　１．０μｍの膜厚の感光材料膜を作製し
、アルカリ現像液［２，３８％テトラメチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液］に対する溶
解速度を測定した。

また、上記の感光材料を用いた、実施例２９と同様の方
法によりパターン形成を行った。

結果を表１−１及び１−２に併せて示す。

表１−１及び１−２の結果から明らかな如く、各感光材
料により良好なパターンが得られた。

また、各感光材料により作製した膜の溶解速度は何れも
４００ｎｍ／ｍｉｎ以下で、ポリ（パラビニルフェノー
ル）樹脂（分子量７，０００）のみを用いて同様に作製
した膜の溶解速度（４，００Ｏｎ＋ｎ／ｍ１ｎ）に比較
して非常に良好な値か得られた。

この結果から明らかな如く、本発明に係る化合物には、
感光材料のアルカリ現像液に対する溶解速度を低下させ
る働きがあることが判る。

また、実施例３３の結果と実施例３４〜３７の結果との
比較、実施例犯の結果と実施例３９〜４１の結果との比
較、実施例４６の結果と実施例４７．〜５６の結果との
比較、実施例デの結果と実施例５８の結果との比較、実
施例５つの結果と実施例６ｏの結果との比較、或は実施
例６．１の結果と実施例６２の結果との比較等から明ら
かなように、一般式［１］で示さゝれる本発明に係る化
合物に於いて、Ｘ及びＸ′が単なる水素原子である場合
とＸ及び／又はＸ゛が本発明に係る各種置換基である場
合とでは、置換基が導入された化合物の方が感光材料の
アルカリ現像液への耐性向トに寄与するところが大きい
ことが判る。

更に、これら置換基を有する本発明に係る化合物を感光
剤とする感光材料の中で最もアルカリ現像液への耐性を
有しているのは、置換基としてクロルスルホニル鳩か導
入された本発明に係る化合物を含む感光材料であること
も判る。

また、実施例３３．４０．４２及び個の結果の比較、実
施例３４．４１　、４３及び４５の結果の比較、実施例
４６．５７．５９及び６１の結果の比較、或は、実施例
４７．５Ｂ、６０及び６２の結果の比較から明らかな如
く、一般式［１］に於けるｍ及びｎは大きいほうか、言
い換えれば、メチレン鎖の長い本発明に係る化合物の方
が、少ない使用量で良好な結果か４ｉＪらね、感光剤と
しての感度が高いことかＦｌｌる。

尚、実ｈ％　４’Ａ万〜６２に於て、　　　　　、　、
　　゛樹脂、メタクレゾール・ノボラック樹脂、オルト
クロロメタクレゾール・ノボラック樹ＪＩＮ等を用いて
も金く同様の結果が得られる。

実施例　６３゜ 以トの組成から成るパターン形成用コントラストエンハ
ンスト材料を調製した。

１．７−ビス（４−クロルスルホニルフェニル）−４−
ジアゾ−３，５−へブタンジオン　　　　４，０ｇパラ
クレゾール・ノボラック樹脂 （分子量５，０００）　　　　　　　　　　　　　２．
５ｇエチルセロソルブアセデート　　　　　　２０．０
ｇこのように調製されたパターン形成コントラストエン
ハンスト材料はこれを膜としてパターン形成有機膜とし
たとき、厚さ０．１２μｎで２４８．４ｒｏｎのＫｒｌ
’エキシマ・レーザでの露光前後で２４８．４ｎｍにお
けるｉ８過率の差か７０％以上と非常に大きくなり、入
射光のコントラストを向トさせる（動きをすることがわ
かった。

この本発明に係るパターン形成コントラストエンハンス
ト材料を用いてレジストパターン形成を行ったりソグラ
フィ下程を第３図に示す。

半導体等の基板１トにポジレジスト３　（ＭＰ２４００
＋シブレイ社）を１．５μｒｒＮに回転塗布する（第３
図（ａ））。次にポジレジスト３Ｆに水溶性有機膜６、
例えばプルランとポリビニルピロリドンの混合溶液を塗
布形成する。このときプルランとポリビニルピロリドン
の混合重量比は４：１であり、このときの膜厚はパター
ン形成に影響のないように０．１〜０．３μ％程度とし
た。なおこの中間層である水溶性有機膜は下層レジスト
と上層パターン形成有機膜か混合しないように設けてい
るもので必ずしも必要ではない（第３図（ｂ））。次に
、本発明のパターン形成コントラストエンハンスト材料
の層７を厚さ約０．１２Ｉｉｍで回転塗布形成した。な
お、ここで下層レジストと中間層水溶性有機膜、水溶性
有機膜とＦ層パターン形成１ｒ機膜は全く密着性良く積
層できた。そして、縮小投影露光法（５：１縮小、ＮＡ
＝　０．３６）によりマスク５を介して選択的ｉ１：２
４８．４０ｍＫｒＦエキシマ・レーザー４を露光する（
第３図（Ｃ））。そして通常のアルカリ現像液によって
コントラストエンハンストの層である本発明のパターン
形成コントラストエンハンスト７および中間層である水
溶性有機膜６を同時に除去すると同時に１乃レジスト３
を現像してレジストパターン３ｂを形成した（第３図（
ｄ））。このときレジストパターン３ｂはコントラスト
の向上した（アスペクト比８９°）０．３μｍのライン
アンドスペースを解像できた。

尚、実施例出に於て　１．７−ビス（４−クロルスルホ
ニルフェニル）−４−ジアゾ−３，５−へブタンジオン
の代りに実施例２〜２８で得られた本発明化合物を感光
剤として用いても、１）＋５’同様の結果が得られる。

（発明の効果） 本発明は、例えば２４８．４ｎｍのエキシマレーザ亮な
どに対して優れた反応性を有する新規な感光性化合物と
この化合物を含んで成る感光材料及びこわを用いたパタ
ーン形成方法を提供するものであり、本発明に係る感光
性化合物を用いた感光材料を、例えばＫｒＦエキシマレ
ーザ（２４８，４ｎｍ）などの遠紫外線（Ｄｅｅｐ　Ｉ
ＪＶ）露光用レジストやコントラスられるので、半導体
産業等に於ける超微量パターンの形成にとって価値大な
るものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明化合物を含んでなる感光材料を用いた
実施例２９のパターン形成方法の工程断面図、第２図は
本発明化合物を含んでなる実施例２９の感光材料の２４
８．４ｎｍ近傍の紫外分光特性図（但し、実線は露光前
、破線は露光後）、第３図は、実施例６３のパターン形
成方法の工程断面図、第４図は従来のレジスト（ＭＰ２
４００）を用いたパターン形成方法ノ工程断面図、第５
図はＭＰ２４００（７）　２４８．４ｎｍ近傍の紫外分
光特性図（但し、実線は露光部、破線は露光後）である
、。 １・・・基板、２・・・パターン形成用感光材料膜、３
・・・ポジレジストＷ、４−Ｋ　ｒＦエキシマレーザ、
５・・・マスク、２ａ、３ｂ・・・樹脂パターン、６・
・・水溶性有機膜、７・・・パターン形成用コントラス
トエンハンスト材料膜。 第１図 第 図 ＣＯ 夫 長 （ｎｍ） 第 図 第 図 第 図 遥 長 （ｎｍン

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［式中、Ｘは水素原子、−ＳＯ＿３Ｒ＾１（但し、Ｒ＾
   １はアルキル基を表わす。）、▲数式、化学式、表等が
   あります▼（但し、Ｒ＾２、Ｒ＾３は夫々独立して水素
   原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表わす
   か、又はＲ＾２、Ｒ＾３及びＮとでピペラジン環、ピペ
   リジン環、ピロリジン環又はモルホリン環等の如き環を
   形成していてもよい。）又は樹脂と反応し得る官能基を
   表わし、Ｒはアルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキ
   シアルキル基、アルコキシアルキル基又は ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし（但し、Ｘ
   ′は水素原子、 −ＳＯ＿３Ｒ＾４（但し、Ｒ＾４はアルキル基を表わす
   。）、▲数式、化学式、表等があります▼（但し、Ｒ＾
   ５、Ｒ＾６は夫々独立して水素原子又は置換基を有して
   いてもよいアルキル基を表わすか、又はＲ＾５、Ｒ＾６
   及びＮとでピペラジン環、ピペリジン環、ピロリジン環
   又はモルホリン環等の如き環を形成していてもよい。）
   又は樹脂と反応し得る官能基を表わす。また、ｎは自然
   数を表わす。）、ｍは自然数を表わす。］で示される感
   光性化合物を含むことを特徴とする感光材料。
2. （２）一般式［ I ］で示される感光性化合物が、一般
   式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［式中、Ｙは水素原子、−ＳＯ＿２Ｃｌ、−ＳＯ＿２Ｂ
   ｒ、−ＳＯ＿３Ｒ＾１、−ＳＯ＿３Ｈ又は▲数式、化学
   式、表等があります▼を表わし（但しＲ＾１、Ｒ＾２及
   びＲ＾３は前記に同じ。また、−ＳＯ＿２Ｃｌ、−ＳＯ
   ＿２Ｂｒ及び−ＳＯ＿３Ｈはその第４級塩を含む。）、
   Ｒ＾７はアルキル基、シクロアルキル基、ヒドロキシア
   ルキル基、アルコキシアルキル基又は▲数式、化学式、
   表等があります▼を 表わし｛但し、Ｙ′は水素原子、−ＳＯ＿２Ｃｌ、−Ｓ
   Ｏ＿２Ｂｒ、−ＳＯ＿３Ｒ＾４、−ＳＯ＿３Ｈ又は▲数
   式、化学式、表等があります▼を表わす（但し、Ｒ＾４
   、Ｒ＾５及びＲ＾６は前記に同じ。また、−ＳＯ＿２Ｃ
   ｌ、−ＳＯ＿２Ｂｒ及び−ＳＯ＿３Ｈはその第４級塩を
   含む。）。 また、ｎ′は１〜２０の整数を表わす。｝、ｍ′は１〜
   ２０の整数を表わす。］で示される化合物である、請求
   項（１）に記載の感光材料。
3. （３）一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［式中、Ｘ、Ｒ及びｍは前記に同じ。］で示される感光
   性化合物と樹脂を含む感光材料を基板上に塗布した後、
   遠紫外光を用いて露光し、現像を行い前記感光材料パタ
   ーンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
4. （４）一般式［ I ］で示される感光性化合物が、一般
   式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［式中、Ｙ、Ｒ＾７及びｍ′は前記に同じ。］で示され
   る化合物である、請求項（３）に記載のパターン形成方
   法。
5. （５）一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［式中、Ｘ、Ｒ及びｍは前記に同じ。］で示される感光
   性化合物と樹脂を含む感光材料の薄膜を基板表面のレジ
   スト上に形成した後、遠紫外光を用いて露光し、現像を
   行い前記感光材料の層を除去して、前記のレジストのパ
   ターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
6. （６）一般式［ I ］で示される感光性化合物が、一般
   式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［式中、Ｙ、Ｒ＾７及びｍ′は前記に同じ。］で示され
   る化合物である、請求項（５）に記載のパターン形成方
   法。
7. （７）一般式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［式中、Ｙ、Ｒ＾７及びｍ′は前記に同じ。］で示され
   る化合物。
8. （８）一般式［II］で示される化合物が一般式［III］ ▲数式、化学式、表等があります▼［III］ ［式中、Ｒ＾８はアルキル基、シクロアルキル基、ヒド
   ロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基を表わし、
   Ｙ及びｍ′は前記に同じ。］で示される化合物である、
   請求項（７）に記載の化合物。
9. （９）一般式［II］で示される化合物が一般式▲数式、
   化学式、表等があります▼［IV］［式中、Ｙ、Ｙ′、ｍ
   ′及びｎ′は前記に同じ。］で示される化合物である、
   請求項（７）に記載の化合物。