JPH0294111A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気記録媒体に関し、特に、合成樹脂製基板
を用いたＣＳＳ特性に優れた磁気記録媒体に係る。

［従来の技術］ （技術背景） 従来、磁気記録媒体としては、アルミ合金製基板の表面
をアルマイト処理または金属メツキし、さらにその表面
を鏡面研磨仕上した磁気ディスク基板を用いたものか知
られている。

しかるに、近時、磁気記録媒体にも軽量化、加工容易性
か強く要請されており、かかる要請に基づぎ、アルミ合
金製基板よりも軽量で加工が容易な合成樹脂製基板が提
案されている。しかし、合成樹脂製基板はアルミ合金製
基板に比べ硬度が十分ではなく、そのため、合成樹脂製
基板を用いた磁気記録媒体のＣＳＳ特性は不十分なもの
となってしまう。そこで、十分なＣ８Ｓ特性を有する磁
気記録媒体が探究され、いくつかの試みがなされている
。

（直近の従来技術） 上記試みの１つとして、合成樹脂製基板上に、Ｔｉ、Ｔ
ｉ合金またはＴ１化合物の被膜をイオンブレーティング
等の手段で形成した磁気ディスク基板か提案されている
（特開昭６１−１８７１１７号公報）。

なお、硬度を高め、磁気記録媒体のＣＳＳ特性を向上さ
せ、その信頼性を高める技術としては、アルミ合金製基
板を用いたものついててはあるが次の技術か知られてい
る。

■基板上に、Ｎ１−Ｐ合金を基本組成とする厚さ５〜２
０μｍの被膜を湿式メツキ等の方法により施す技術。

■硝酸アルミニウムのメタノール溶液を基板上に塗布し
、これを高温で焼成することにより基板上にＡｌ２Ｏ２
の被膜を形成する技術（特開昭６２−２５２５２６号公
報）。

［発明か解決しようとする課題］ しかし、上記従来技術には次のような課題が存在する。

■特開昭６１−１８７１１７号公報に開示されている、
Ｔ１、Ｔ１合金またはＴＩ化合物の被膜を合成樹脂製基
板上に形成する技術は、必要にして十分な膜厚を得るこ
とが非常に困難である。ざらにＴｉ、Ｔｉ合金またはＴ
１化合物の被膜は合成樹脂製基板との密着性に劣るため
、酸化シリコン等の中間層を設けねばならないという問
題点があり、酸化シリコン等の中間層を設けたとしても
必すしも十分な硬度か得られず、従って十分なＣＳＳ特
性か得らねない。

さらに、合成樹脂製基板を用いた上記従来技術において
は、摩擦等により容易に静電気を発生し、磁気ディスク
基板上に空気中の塵埃を吸着する。磁気ディスク基板上
に磁気記録層を形成する前段階において磁気ディスク基
板表面に塵埃が付着すると、その後に形成された磁気記
録層に信号欠陥か発生する原因となる。この塵埃は除去
することが容易ではなく、磁気記録媒体としての性能を
著しく低下させる。

■合成樹脂製基板に対して、Ｎ１−Ｐメツキにより基板
硬度を向上させる方法を適用した場合、メツキ層と合成
樹脂製基板とは密着性が悪いため、その界面で剥離か生
じ、実際上の使用が困難である。また、Ｎ１−Ｐを基本
組成とした合金被膜は組成のわずかな変化によって磁性
を持ち易くなり、かかる磁性は磁気記録媒体としての性
能を損なう原因と／ｌる。

■特開昭６２−、２５２５２６号公報に開示されている
、焼成によりＡｊ２２０３の被覆を得る方法は、５００
℃という高温下での成膜処理が必要であるため、合成樹
脂製基板に対しては全く適用することかできない。

本発明は、上記課題を解決し、耐摩耗性、耐擦傷性に優
れ、静電気による塵埃の付着のない、合成樹脂製基板を
用いた磁気記録媒体を提供することを目的とし、かつ、
軽量かつ安価でＣ５Ｓ特性に優れ、信頼性に優れた磁気
記録媒体を提供することをも目的とする。

［問題点を解決するための手段コ 本発明の要旨は、合成樹脂製基板上に、電気抵抗値が１
０９Ω／口以下となるようにカーボンを含有せしめた光
硬化性樹脂からなる光硬化性塗膜か形成され、該光硬化
性塗膜上に磁気記録層を有していることを特徴とする磁
気記録媒体に存在する。

本発明に使用される合成樹脂製基板としては、例えば、
アクリル系、ポリカーボネイト系、ポリイミド系、エポ
キシ系等の合成樹脂よりなる基板か使用できる。例えは
、ポリエーテルイミド、ポリエーテルサルホン、ポリフ
ェニレンサルファイド、ボリアリレート、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ポリエーテルケトン等の樹脂よりな
る基板を挙げることができる。さらに、必要に応じて、
上記合成樹脂中にガラス繊維、アルミナ粒子等の無機質
充填剤を適宜添加してもよい。なお、合成樹脂からなる
基板は、２層以上の多層構造でもよい。

本発明ではこの合成樹脂製基板上に光硬化製樹脂よりな
る光硬化性塗膜を形成してあり、この光硬化製塗膜は、
カーボンを、電気抵抗値が１０９Ω／口以下となるよう
に含有している。

電気抵抗値は、含有せしめるカーボン含有量、光硬化性
塗膜内における分布状況等によって変化するのて、１０
９Ω／口以下とするには、予めこれらと電気抵抗値との
関係を求めておき適宜決定すればよい。−船釣には、光
硬化性樹脂１００重量部に対し５０〜１５０重量部含有
させればよい。

光硬化性塗膜を形成する方法としては、例えば、デイツ
プ法、スプレー法、スピンコーティング法その他の方法
を用いることか可能である。

光硬化性塗膜の膜厚としては、２〜２０μｍが好ましく
、５〜１０μｍがより好ましい。

光硬化性樹脂としては、例えば、ジペンタエリスリトー
ルへキサアクリレート、テトラメチロールメタントリア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
トあるいはこれらの混合物が挙げられる。

カーボンの形態には特に限定されず、例えは、粉状、粒
状、鱗片状、繊維状（ウィスカーを含む）あるいは塊状
のいずれであってもよい。また、膜内の分布についても
特に限定されないが、表面近傍を高密度とすることが好
ましい。さらに、表面にその一部が露出していてもよい
。

このカーボンは、磁気記録媒体の平面平滑性を維持する
上からは直径０５μｍ以下の粒状、もしくは、直径１μ
ｍ以下で厚さ０３μｍ以下の鱗片状であることが望まし
い。

なお、硬化後の光硬化性塗膜表面に、テープ研磨等の方
法で中心から同心円状に微細な凹凸を設けてもよい。

また、硬化後の光硬化性塗膜表面に対し、コロナ放電、
プラズマ照射等の処理を行ってもよい。

光硬化性塗膜上の磁気記録層は、記録再生に関与する層
であり、かかる作用を奏するならばいかなるものでもよ
い。例えば、Ｃｏ−Ｃｒ。

Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、酸化鉄、酸化クロム等からなる場合
、磁性粉末（例えば、炭化鉄粉、γＦｅ２Ｏ３粉等）を
樹脂で結合してなる場合等でもよい。なお、光硬化性塗
膜と磁気記録層との間には下地膜（例えばＣｒ膜）を介
在させてもよい。

［作　用］ 以下に本発明の詳細な説明する。

本発明では、樹脂製基板に被膜を設け、その被膜として
光硬化性塗膜を用いているので（すなわち、光硬化性樹
脂塗料を合成樹脂製基板上に塗布し光により硬化させる
ので）、光硬化性塗膜と合成樹脂製基板との間で良好な
密着性を得ることかてきる。さらに、硬化は光により行
なうことができるので、合成樹脂製基板に過大な熱を加
えることなく高硬度な被膜を形成することが可能である
。

さらに、本発明では、光硬化性樹脂中に、光硬化性塗膜
の表面電気抵抗値が１０９Ω／口以下となるように、カ
ーボンを含有せしめているため、光硬化性塗膜に導電性
が付与され、磁気記録媒体の帯電が防止される。

なお、光硬化性塗膜の膜厚を２〜２０μｍとした場合に
は硬度か一層高くなり、また、膜厚を５〜１０μｍとし
た場合には硬度がより一層高くなり、Ｃ５Ｓ特性は一段
と向上する。

硬化後の光硬化性塗膜表面に、テープ研磨等の方法で中
心から同心円状に微細な凹凸を設けることで、磁気ヘッ
トの吸着か生じにくい磁気記録媒体を得ることも可能で
あり、光硬化性塗膜と磁気記録層（光硬化性塗膜と磁気
記録層との間に下地層か設りられている場合には、光硬
化性塗膜と下地層）との密着性も向上する。

また、硬化後の光硬化性塗膜表面に対し、コロナ放電、
プラズマ照射等の処理を行うことにより、光硬化性塗膜
と磁気記録層（光硬化性塗膜と磁気記録層との間に下地
層が設けられている場合には、光硬化性塗膜と下地層）
との密着性をさらに向上させることが可能である。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を製造工程とともに説明する。

まずテトラメチロールメタントリアクリレートとテトラ
メチロールメタンテトラアクリレートの混合物（重量比
８４　：　１６）からなる光硬化性オリゴマー１００重
量部に対し、光重合開始剤ベンゾフェノン５重量部、メ
チルメタクリレ−１・−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト共重合体２０重量部、粒径０．３μｍのカーボン粉体
１００重量部からなる光硬化性塗料を、メチルエチルケ
トン、エチルセロソルブを希釈剤として用いて、サンド
ミル型分散機により作製した。この塗料をスピンコード
法を用いて、ポリエーテルイミド製の５．２５インチ樹
脂製基板３上に乾燥硬化後の膜厚か１０μｍになるよう
に塗布した。

光硬化性塗料を塗布したのち、６０℃の熱風乾燥器を用
いて３０分間乾燥を行なうことにより希釈剤の除去を行
い、続いて水銀ランプを用いて５０Ｊ／ｃｍ２の光線を
照射して塗料を硬化させ光硬化性塗膜を形成して磁気デ
ィスク基板を得た。

なお、本例ては、硬化後、光硬化性塗膜に対し、テープ
研磨機を用いて研磨テープで同心円状の微細な凹凸を施
した。このとき、磁気ディスク基板の半径方向の表面粗
さは８ｎｍであった。また、この磁気ディスク基板の表
面電気抵抗は２×１０−７Ω／口であった。

以上の工程て得られた磁気ディスク基板に対して、Ｃｒ
下地層を厚さ２００ｎｍに、Ｃｏ−ＮｉＣｒ６ｍ気記録
層（Ｃｏ＋Ｎｉ　：Ｃｒ＝７５１５：１０）を厚さ８０
ｎｍに、カーホン保護層を厚さ３０ｎｍに、Ｄ、Ｃマグ
ネトロン方式スパッタ装置により順次形成し、本発明に
係る磁気記録媒体を得た。この磁気記録媒体の表面には
フッ素樹脂系潤滑剤により潤滑処理を施した。

この６ｎ気記録媒体に対してＣＳＳ試験を行い、再生出
力の低下を測定した。その結果を第１表に示す。比較の
ために、光硬化性塗膜を形成しない樹脂製基板上に上記
実施例と同じ下地層、磁気記録層、保護層を設は潤滑処
理を施した従来型磁気記録媒体の評価結果を併記する。

ＣＳＳ試験にはトラック幅２４μｍ１荷重９．５ｇの３
３７０型ミニモノシリツクタイプヘツトを使用した。

第１表 第１表から明らかなように、従来型の磁気記録媒体では
、ＣＳＳ回数１００００回で既に出力か５％低下してい
るのに対し、本発明に係る磁気記録媒体ては２００００
回てもまた出力の低下が生じず、４００００回でようや
く５％の出力低下が測定された。すなわち、本発明に係
る磁気記録媒体では、ＣＳＳ耐久性が著しく向上し、従
来の数倍の耐久性を得ることができる。

また、上記の２種類の磁気記録媒体の信号欠陥個数を測
定した結果を第２表に示す。

第２表 を付与することか可能であり、基板の平面性が良好であ
る。

■光硬化性塗膜に、カーホンを含有させることにより導
電性が付与されており、摩擦等による静電気の発生、ひ
いては塵埃の吸着という、合成樹脂製基板を用いた場合
に生ずる特有の問題点を解決することができる。

■耐摩耗性、耐擦傷性に優れ、ＣＳＳ特性に優れた、合
成樹脂製基板を用いた磁気記録媒体を実現することが可
能である。

第２表から明かなように、本発明に係る磁気記録媒体は
、静電気の帯電を効果的に解消でき、塵埃のイ」着か全
く生じないため、これに起因する信号欠陥の発生を完全
に防止できる。

［発明の効果］ 本発明は、次に述へる諸々の効果を奏する。

■光硬化性塗膜を形成しているため、合成樹脂製基板に
対して過大な熱を加えることなく高硬度特許出願人　積
水化学工業株式会社 代表者　廣　１）　馨

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 合成樹脂製基板上に、電気抵抗値が１０＾９Ω／口以下
   となるようにカーボンを含有せしめた光硬化性樹脂から
   なる光硬化性塗膜が形成され、該光硬化性塗膜上に磁気
   記録層を有していることを特徴とする磁気記録媒体。