JPH01319121A - 薄膜磁気ディスク - Google Patents
薄膜磁気ディスクInfo
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- JPH01319121A JPH01319121A JP15193088A JP15193088A JPH01319121A JP H01319121 A JPH01319121 A JP H01319121A JP 15193088 A JP15193088 A JP 15193088A JP 15193088 A JP15193088 A JP 15193088A JP H01319121 A JPH01319121 A JP H01319121A
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Landscapes
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は記録媒体として好適な薄膜磁気ディスクに係り
、特に製造上の前処理を改善した薄ＷＡｌｉ！気ディス
クに関する。
、特に製造上の前処理を改善した薄ＷＡｌｉ！気ディス
クに関する。
〔従来技術及び発明が解決しようとする課題〕磁気記録
媒体の一種である磁気テープを製造する技術では、高分
子ラテックス粒子等の微粒子をバインダーに分散させ、
チーブベース上にスピンコードさせて、その上に磁性層
を作り、表面に突起を形成させ、耐スチル特性を向上さ
せるという製造方法、技術内容が、例えば特開昭５９−
９４２２７号公報、特開昭５９−９２４２８号公報、特
開昭６１−８７２０号公報等に紹介されている。また、
バインダーを用いず、高分子ラテックス粒子を塗布分散
させる方法もあり、これは例えば特開昭６１−９８２２
号公報等に開示されている。
媒体の一種である磁気テープを製造する技術では、高分
子ラテックス粒子等の微粒子をバインダーに分散させ、
チーブベース上にスピンコードさせて、その上に磁性層
を作り、表面に突起を形成させ、耐スチル特性を向上さ
せるという製造方法、技術内容が、例えば特開昭５９−
９４２２７号公報、特開昭５９−９２４２８号公報、特
開昭６１−８７２０号公報等に紹介されている。また、
バインダーを用いず、高分子ラテックス粒子を塗布分散
させる方法もあり、これは例えば特開昭６１−９８２２
号公報等に開示されている。
しかるに、微粒子をバインダーに分散させて基板上に形
成させる方法は、スパッタリングを用いる薄膜形成法で
は、真空中において基板加熱、イオンエツチング等を受
けるために好ましくなく、また、高分子ラテックス粒子
も硬度や耐熱性が不十分であるという問題点があった。
成させる方法は、スパッタリングを用いる薄膜形成法で
は、真空中において基板加熱、イオンエツチング等を受
けるために好ましくなく、また、高分子ラテックス粒子
も硬度や耐熱性が不十分であるという問題点があった。
本発明の薄膜磁気ディスクは、非磁性の基板上に粒径１
００八〜１０００人の同一粒径の球形セラミック微粒子
をほぼ均一に分散させ、その上に少なくとら強磁性金属
膜及び保護層薄膜を形成して作成することにより上記問
題点を解決した。
００八〜１０００人の同一粒径の球形セラミック微粒子
をほぼ均一に分散させ、その上に少なくとら強磁性金属
膜及び保護層薄膜を形成して作成することにより上記問
題点を解決した。
以下、第１図を参照しながら、具体的な実施例について
説明する。第１図は、本発明になる薄膜磁気ディスクの
一実施例の断面図である。この図に示すように、薄膜磁
気ディスク用の基板２上に、真球に近い粒径１００〜１
０００＾の範囲の球形セラミック微粒子３をほぼ均一に
分散させ、その上に下地金属層４１強磁性金属ＷＡ５．
保護層６．潤滑層７等の薄膜を形成して薄膜磁気ディス
ク１を完成する。
説明する。第１図は、本発明になる薄膜磁気ディスクの
一実施例の断面図である。この図に示すように、薄膜磁
気ディスク用の基板２上に、真球に近い粒径１００〜１
０００＾の範囲の球形セラミック微粒子３をほぼ均一に
分散させ、その上に下地金属層４１強磁性金属ＷＡ５．
保護層６．潤滑層７等の薄膜を形成して薄膜磁気ディス
ク１を完成する。
球形セラミック微粒子として例えばシリカ微粒子を用い
る場合は、シリカ微粒子水溶液（例えばスノーテックス
、口座化学工業（株））等を水溶液に分散させ、必要に
応じて粗大粒子を濾過除去して使用するとよい。
る場合は、シリカ微粒子水溶液（例えばスノーテックス
、口座化学工業（株））等を水溶液に分散させ、必要に
応じて粗大粒子を濾過除去して使用するとよい。
磁気ディスク基板２上に吸着分散させる場合は、スピン
コード、浸漬引上げ後、スピン乾燥する等の方法を用い
る。吸着させる球形セラミック微粒子３の密度は、１０
万個／ｄ以下では耐久性の向上は望めず、１００万個／
−以上では薄膜の生成に悪影響を及ぼし、磁気記録特性
に劣化を生じさせる。
コード、浸漬引上げ後、スピン乾燥する等の方法を用い
る。吸着させる球形セラミック微粒子３の密度は、１０
万個／ｄ以下では耐久性の向上は望めず、１００万個／
−以上では薄膜の生成に悪影響を及ぼし、磁気記録特性
に劣化を生じさせる。
また、薄膜の密着性も低下するので、２０万〜３０万個
／−が適当である。なお、分散させる表面形状は特定し
なくてもよい。
／−が適当である。なお、分散させる表面形状は特定し
なくてもよい。
また、用いる球形セラミック微粒子３の粒径は、１００
八より小さければ効果がなく、１０００人より大きいも
のでは磁気ヘッドの浮上量を越えてしまい、ヘッドクラ
ッシュを引起すことが実験結果かられかったので、粒径
は１００人〜１０００＾とする。
八より小さければ効果がなく、１０００人より大きいも
のでは磁気ヘッドの浮上量を越えてしまい、ヘッドクラ
ッシュを引起すことが実験結果かられかったので、粒径
は１００人〜１０００＾とする。
〈実施例１〉
無電解Ｎ１ＰｌＪ金（メツキ）を施され、ポリッシュさ
れたＡ４基板２上に、シリカ微粒子を２０万〜３０万ａ
！／−の密度となるように、１０％の水溶液に浸漬させ
、引上げ後、水によるリンスを行ないながらスピン乾燥
させ、１０００への粒状突起を形成させた。次いで、こ
の基板２上にスパッタリングを用いてＣｒ下地層４ 、
Ｃｏ−Ｎ ｉ−Ｃｒ合金５．カーボン保護ＷＡ６を夫
々 ６００人、５００人、４００＾形成させた。
れたＡ４基板２上に、シリカ微粒子を２０万〜３０万ａ
！／−の密度となるように、１０％の水溶液に浸漬させ
、引上げ後、水によるリンスを行ないながらスピン乾燥
させ、１０００への粒状突起を形成させた。次いで、こ
の基板２上にスパッタリングを用いてＣｒ下地層４ 、
Ｃｏ−Ｎ ｉ−Ｃｒ合金５．カーボン保護ＷＡ６を夫
々 ６００人、５００人、４００＾形成させた。
〈実施例２〉
実施例１で用いたＡ１基板２に、ホワイトアルミナ粒径
５μｍの研磨テープでテクスチャリングを施した。この
基板をシリカゾル１０％水溶液を含ませた布テープで擦
り、シリカ微粒子３を基板２上に吸着させ、その浸水で
リンスし乍らスピン乾燥させた。
５μｍの研磨テープでテクスチャリングを施した。この
基板をシリカゾル１０％水溶液を含ませた布テープで擦
り、シリカ微粒子３を基板２上に吸着させ、その浸水で
リンスし乍らスピン乾燥させた。
この基板２を実施例１と同様に金属薄［４，５をスパッ
タリングにより形成させた。
タリングにより形成させた。
比較例として、実施例１．２の方法で作製した基板２に
、シリカ微粒子３を吸着させずに金属薄膜４．５をスパ
ッタリング形成したものを作製し、夫々弗素系潤滑剤７
を塗布した後、各ディスクについて初期の勤牽擦係数を
測定し、Ｃ８５ｆＣｏｎｔａｃｔｓｔａｒｔ ５ｔＯＩ
））試験を行なった。その結果を第１表に示す。
、シリカ微粒子３を吸着させずに金属薄膜４．５をスパ
ッタリング形成したものを作製し、夫々弗素系潤滑剤７
を塗布した後、各ディスクについて初期の勤牽擦係数を
測定し、Ｃ８５ｆＣｏｎｔａｃｔｓｔａｒｔ ５ｔＯＩ
））試験を行なった。その結果を第１表に示す。
この第１表から、本発明の薄膜磁気ディスクの方が、従
来例（比較例）よりも動牽擦係数が小さく、これにより
寿命は大幅に増加することがわかる。その理由は、真球
に近い同一粒径１００〜１０００人のシリカ微粒子等の
球形セラミック微粒子３をほぼ均一に分散させたために
、ディスクの表面粗さが均一になったためと思われる。
来例（比較例）よりも動牽擦係数が小さく、これにより
寿命は大幅に増加することがわかる。その理由は、真球
に近い同一粒径１００〜１０００人のシリカ微粒子等の
球形セラミック微粒子３をほぼ均一に分散させたために
、ディスクの表面粗さが均一になったためと思われる。
（第 １ 表 ）
（注：第１表において、「実１」、「比２」等は夫々実
施例１．比較例２のことである。また、◎は３万回の試
験でも貼着き及びヘッドクラッシュが生じなかったこと
を意味し、Ｘは貼着きが生じたこと及びその時点での回
数を示す、）〔効果〕 本発明の薄膜磁気ディスクは以上のようにして製造する
ので、ディスクの表面粗さを均一にでき、そのため動Ｉ
ＩＩ擦係数が小さくなり、ディスクと磁気ヘッドの間の
貼着きゃクラッシュが起り難くなり、寿命は大幅に増加
し、信頼性が格段に向上するという優れた特長を有する
。
施例１．比較例２のことである。また、◎は３万回の試
験でも貼着き及びヘッドクラッシュが生じなかったこと
を意味し、Ｘは貼着きが生じたこと及びその時点での回
数を示す、）〔効果〕 本発明の薄膜磁気ディスクは以上のようにして製造する
ので、ディスクの表面粗さを均一にでき、そのため動Ｉ
ＩＩ擦係数が小さくなり、ディスクと磁気ヘッドの間の
貼着きゃクラッシュが起り難くなり、寿命は大幅に増加
し、信頼性が格段に向上するという優れた特長を有する
。
第１図は本発明の薄Ｍｌｉ！気ディスクの一実施例の断
面図である。 １・・・薄膜磁気ディスク、２・・・基板、３・・・球
形セラミック（シリカ）微粒子、４・・・下地金属層、
５・・・強磁性金属膜、６・・・保護層、７・・・潤滑
層。 特許出願人 日本ビクター株式会社 代表者 埋木 邦人 第１１図 手続補正書 １、事件の表示 昭和６３年特許願第１５１９３０号 ２、発明の名称 薄膜磁気ディスク ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 神奈川県横浜市神祭用区守屋町３丁目１２番地ス
クと磁気ヘッド間の接触面積が低下し」と補正する。 （２）同、第６頁第１７行の「そのｊを「かつディスク
と磁気ヘッド間の接触面積が低下する」と補正する。
面図である。 １・・・薄膜磁気ディスク、２・・・基板、３・・・球
形セラミック（シリカ）微粒子、４・・・下地金属層、
５・・・強磁性金属膜、６・・・保護層、７・・・潤滑
層。 特許出願人 日本ビクター株式会社 代表者 埋木 邦人 第１１図 手続補正書 １、事件の表示 昭和６３年特許願第１５１９３０号 ２、発明の名称 薄膜磁気ディスク ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 神奈川県横浜市神祭用区守屋町３丁目１２番地ス
クと磁気ヘッド間の接触面積が低下し」と補正する。 （２）同、第６頁第１７行の「そのｊを「かつディスク
と磁気ヘッド間の接触面積が低下する」と補正する。
Claims (1)
- 非磁性の基板上に粒径１００Å〜１０００Åの同一粒径
の球形セラミック微粒子をほぼ均一に分散させ、その上
に少なくとも強磁性金属膜及び保護層薄膜を形成して作
成したことを特徴とする薄膜磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15193088A JPH01319121A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 薄膜磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15193088A JPH01319121A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 薄膜磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01319121A true JPH01319121A (ja) | 1989-12-25 |
Family
ID=15529308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15193088A Pending JPH01319121A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 薄膜磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01319121A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0542423A3 (en) * | 1991-12-11 | 1994-09-14 | Minnesota Mining & Mfg | Improved recording disk hub bond |
| KR100438802B1 (ko) * | 1996-12-17 | 2004-08-31 | 삼성전자주식회사 | 양자디스크및그제조방법 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP15193088A patent/JPH01319121A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0542423A3 (en) * | 1991-12-11 | 1994-09-14 | Minnesota Mining & Mfg | Improved recording disk hub bond |
| KR100438802B1 (ko) * | 1996-12-17 | 2004-08-31 | 삼성전자주식회사 | 양자디스크및그제조방법 |
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