JPH029653A - Elエッジエミッタ - Google Patents
ElエッジエミッタInfo
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- JPH029653A JPH029653A JP63161279A JP16127988A JPH029653A JP H029653 A JPH029653 A JP H029653A JP 63161279 A JP63161279 A JP 63161279A JP 16127988 A JP16127988 A JP 16127988A JP H029653 A JPH029653 A JP H029653A
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
の
本発明は電界発光を利用するELエツジエミッタに関す
るものであり、光プリンタ用の光ヘッドや微小面発光素
子として利用できるものである。
るものであり、光プリンタ用の光ヘッドや微小面発光素
子として利用できるものである。
従mL蓋−
薄膜ELエツジエミッタは、基本的には面発光型の薄M
ELと同様な素子構造を有している。その素子構造を第
3図に示す。まずガラス等の平面基板1上にM等の反射
率の大きい金属よりなる下部電極2を形成する。次にM
2O3+ SiO2+ Ta 20S等を、スパッタ
あるいは蒸着法により2000〜+ooooXの厚さに
成膜して第1絶縁層3を形成し、さらにその上にMn等
を0.1〜10 vt%含む硫化亜鉛等よりなる発光層
4を蒸着法あるいはスパッタ法で5000〜20000
Aの厚さに形成する。さらにその上に第2絶縁層5を
第1絶縁層3と同じ要領で形成する。最後に、上部電極
6をM等の反射率の大きい金属にて形成する。
ELと同様な素子構造を有している。その素子構造を第
3図に示す。まずガラス等の平面基板1上にM等の反射
率の大きい金属よりなる下部電極2を形成する。次にM
2O3+ SiO2+ Ta 20S等を、スパッタ
あるいは蒸着法により2000〜+ooooXの厚さに
成膜して第1絶縁層3を形成し、さらにその上にMn等
を0.1〜10 vt%含む硫化亜鉛等よりなる発光層
4を蒸着法あるいはスパッタ法で5000〜20000
Aの厚さに形成する。さらにその上に第2絶縁層5を
第1絶縁層3と同じ要領で形成する。最後に、上部電極
6をM等の反射率の大きい金属にて形成する。
このELエノジエミノタを、光プリンタ用光へラドとし
て/使用する場合、光を発光層4内に閉じ込めて素子の
端部から効率よく取り出すために、第1.第2絶縁層3
,5の屈折率は発光層4のそれより小さいものを選ぶ。
て/使用する場合、光を発光層4内に閉じ込めて素子の
端部から効率よく取り出すために、第1.第2絶縁層3
,5の屈折率は発光層4のそれより小さいものを選ぶ。
また、発光層4をストライブ状に加工し、隣接する発光
ラインの光が混合しない構造にする。さらに素子端面か
ら光を効率よく取り出すために、エツチング等の方法で
素子端部の光取出し面を凹凸のないシャープなステップ
状の端面に加工する。このとき、端面はできるだけ鏡面
に近い程、光の取出し効率はよい。(SID l98G
International Symposlu+
s Digest ofTechnical Pap
ers、Vol、17.P、270−272 )ELエ
ノジエミソタを光プリンタの光へ、ドとして使用する場
合を想定して、光プリンタの動作原理について、第4図
を参照にして説明する。まず、ドラム状の感光体7上に
帯電器8で正又は負電荷を一様に帯電させる。帯電され
た感光体7は、図中矢印方向への回転により光ヘッド9
まで回転移動し、ここでプリントされるべき文字あるい
はグラフィックパターンが露光される。露光された部分
の感光体7上の電荷は、感光体7の光導電性により消失
ないし減衰するので、静電潜像が形成される。次に静電
潜像は現像器10中の現像剤で静電的に現像される。感
光体7上に現像された像は記録紙11上に転写器12に
より転写される。最後に定着器13で加熱あるいは加圧
されて記録紙11上にトナーが定着される。
ラインの光が混合しない構造にする。さらに素子端面か
ら光を効率よく取り出すために、エツチング等の方法で
素子端部の光取出し面を凹凸のないシャープなステップ
状の端面に加工する。このとき、端面はできるだけ鏡面
に近い程、光の取出し効率はよい。(SID l98G
International Symposlu+
s Digest ofTechnical Pap
ers、Vol、17.P、270−272 )ELエ
ノジエミソタを光プリンタの光へ、ドとして使用する場
合を想定して、光プリンタの動作原理について、第4図
を参照にして説明する。まず、ドラム状の感光体7上に
帯電器8で正又は負電荷を一様に帯電させる。帯電され
た感光体7は、図中矢印方向への回転により光ヘッド9
まで回転移動し、ここでプリントされるべき文字あるい
はグラフィックパターンが露光される。露光された部分
の感光体7上の電荷は、感光体7の光導電性により消失
ないし減衰するので、静電潜像が形成される。次に静電
潜像は現像器10中の現像剤で静電的に現像される。感
光体7上に現像された像は記録紙11上に転写器12に
より転写される。最後に定着器13で加熱あるいは加圧
されて記録紙11上にトナーが定着される。
以上が電子写真プロセスであるが、この中で潜像形成時
において従来次の様な問題があった。例えば文字の潜像
を形成する場合、文字を縦横のマトリクスに分割しく例
えば16X18ドツト)、マトリクスを形成するドツト
毎に、第5図に示す様な100μmX100μm程度の
光源面積14が必要である。ところが、ELエノジエミ
ンタを光源として用いる場合、その素子構造諷端面の発
光幅は十分であるが発光層4の厚みが、従来065 〜
2μ層と非常に薄いので、光源面積15は例えば100
μrp Xo、5〜2μ層になる。従来、1ドツト分の
面積14を露光するには、ELエツジエミッタを発光さ
せた状態のまま、感光体17を回転させて必要な面積の
露光を行っていた。そのため印刷スピードが遅くなると
いう課題があった。
において従来次の様な問題があった。例えば文字の潜像
を形成する場合、文字を縦横のマトリクスに分割しく例
えば16X18ドツト)、マトリクスを形成するドツト
毎に、第5図に示す様な100μmX100μm程度の
光源面積14が必要である。ところが、ELエノジエミ
ンタを光源として用いる場合、その素子構造諷端面の発
光幅は十分であるが発光層4の厚みが、従来065 〜
2μ層と非常に薄いので、光源面積15は例えば100
μrp Xo、5〜2μ層になる。従来、1ドツト分の
面積14を露光するには、ELエツジエミッタを発光さ
せた状態のまま、感光体17を回転させて必要な面積の
露光を行っていた。そのため印刷スピードが遅くなると
いう課題があった。
・ −の
本発明は、ELエツジエミッタを複数貼り合わせること
により、光とり出し面積を太き(したELエツジエミッ
タを提供するものである。
により、光とり出し面積を太き(したELエツジエミッ
タを提供するものである。
作」1
本発明に係るELエツジエミッタによれば、複数のEL
エツジエミッタを貼り合わせることにより、光とり出し
面積を大きくできるため、光プリンタとして利用する場
合、感光板上の面積が増加し、素子の発光時間を従来よ
り短くでき、印刷スピードを上昇させることができる。
エツジエミッタを貼り合わせることにより、光とり出し
面積を大きくできるため、光プリンタとして利用する場
合、感光板上の面積が増加し、素子の発光時間を従来よ
り短くでき、印刷スピードを上昇させることができる。
実」E例−
本発明に係るELエツジエミッタの一実施例を。
第1図を参照にしながら説明する。尚、第1図aはEL
エツジエミッタを光取出し側から見た正面図、第1図す
は正面に直角な方向の側断面図である。第1図において
、16は第1ELエノジエミ7)夕、17は第2ELエ
ツジエミツタである。この第1.第2ELエツジエミッ
タ1B、17における18はガラス等からなる基板、1
9はこの基板18上にM等の反射率の大きい金属を蒸着
法等により形成した下部電極、20は下部電極19上に
M2O3や5j02. Ta205等を、スパッタある
いは蒸着法により2000〜1000OAの厚さに形成
した第1絶縁層、21はこの第1絶縁層20上に形成し
たMn等を0.1〜10wt%付活した硫化亜鉛からな
る発光層、22はこの発光層21及び第1絶縁層20上
に第1絶縁層20と同じ要領で形成した第2絶縁層、2
3はこの第2絶縁層22上に、M等の反射率の大きい金
属を蒸着法等により形成した上部電極、24.25は前
記下部電極19および上部電極23よりそれぞれ導出し
た引き出し電極、26は前記19〜23からなる薄膜E
L素子を気密封止し、かつ第1ELエツジエミツタ16
と第2ELエツジエミツタ17を貼り合わせるために、
2光11の低融点ガラス素材等を溶着した接合部である
。さらに、素子端面から光を効率よく取り出すために、
研磨等の方法で、接合部の光取出し面を凹凸のないシャ
ープなステップ状の端面に加工する。このとき、端面は
できるだけ鏡面に近い程、光取出し効率はよい。尚、前
記接合部26はシリコン樹脂系、エポキシ系等の気密性
の高い接着剤にて接着してもよい。
エツジエミッタを光取出し側から見た正面図、第1図す
は正面に直角な方向の側断面図である。第1図において
、16は第1ELエノジエミ7)夕、17は第2ELエ
ツジエミツタである。この第1.第2ELエツジエミッ
タ1B、17における18はガラス等からなる基板、1
9はこの基板18上にM等の反射率の大きい金属を蒸着
法等により形成した下部電極、20は下部電極19上に
M2O3や5j02. Ta205等を、スパッタある
いは蒸着法により2000〜1000OAの厚さに形成
した第1絶縁層、21はこの第1絶縁層20上に形成し
たMn等を0.1〜10wt%付活した硫化亜鉛からな
る発光層、22はこの発光層21及び第1絶縁層20上
に第1絶縁層20と同じ要領で形成した第2絶縁層、2
3はこの第2絶縁層22上に、M等の反射率の大きい金
属を蒸着法等により形成した上部電極、24.25は前
記下部電極19および上部電極23よりそれぞれ導出し
た引き出し電極、26は前記19〜23からなる薄膜E
L素子を気密封止し、かつ第1ELエツジエミツタ16
と第2ELエツジエミツタ17を貼り合わせるために、
2光11の低融点ガラス素材等を溶着した接合部である
。さらに、素子端面から光を効率よく取り出すために、
研磨等の方法で、接合部の光取出し面を凹凸のないシャ
ープなステップ状の端面に加工する。このとき、端面は
できるだけ鏡面に近い程、光取出し効率はよい。尚、前
記接合部26はシリコン樹脂系、エポキシ系等の気密性
の高い接着剤にて接着してもよい。
第2図は本発明の実施例2のELエツジエミソ!夕を光
取出し側から見た正面図である。尚、第1図と同一符号
は同一物を示し、その説明は省略する。この実施例2に
おける27は第1ELエンンエミノタ16と12ELエ
ツジエミツタ17をエポキシ樹脂等の接着剤により接着
した接合部、28は前記19〜23からなる薄膜EL素
子を気密封止するために5102やガラス素材等を蒸着
又はスハソタ法により形成した透光性のバンシベーショ
ン膜である。
取出し側から見た正面図である。尚、第1図と同一符号
は同一物を示し、その説明は省略する。この実施例2に
おける27は第1ELエンンエミノタ16と12ELエ
ツジエミツタ17をエポキシ樹脂等の接着剤により接着
した接合部、28は前記19〜23からなる薄膜EL素
子を気密封止するために5102やガラス素材等を蒸着
又はスハソタ法により形成した透光性のバンシベーショ
ン膜である。
この実施例によれば、第1ELエンジエミツタ16と第
2ELエツジエミツタ17の接合時に特別な注意を要す
ることなく接合できるため、簡単な工程に出来る利点が
ある。
2ELエツジエミツタ17の接合時に特別な注意を要す
ることなく接合できるため、簡単な工程に出来る利点が
ある。
以上述べたように、本発明によるエツジエミッタは光取
出し面積が大きく、シかも光取出し面を鏡面に近いステ
ップ状の端面に加工したので光取出し効率が良い。さら
に同一構造の2個のエツジエミッタを接合部を介して貼
り合わせているだけの簡単な構成で形成されるので、耐
圧信頼性や歩留向上が期待できる。
出し面積が大きく、シかも光取出し面を鏡面に近いステ
ップ状の端面に加工したので光取出し効率が良い。さら
に同一構造の2個のエツジエミッタを接合部を介して貼
り合わせているだけの簡単な構成で形成されるので、耐
圧信頼性や歩留向上が期待できる。
尚、上記各実施例は2個のEL工、ンエミ、り16.1
7を接合するものであるが、本発明はこれに限定される
ものではなく、3個以上のEL工、ジエミノタを接合す
る構造であってもよいことは言うまでもない。
7を接合するものであるが、本発明はこれに限定される
ものではなく、3個以上のEL工、ジエミノタを接合す
る構造であってもよいことは言うまでもない。
光朋4じJl
本発明に係るELエソジエミソタを用いることにより、
光とり出し面積を大きくできるため、光プリンタとして
利用する場合、感光板上の露光面積が増加し、素子の発
光時間を従来より短くでき、印刷スピードを上昇させる
ことができる。
光とり出し面積を大きくできるため、光プリンタとして
利用する場合、感光板上の露光面積が増加し、素子の発
光時間を従来より短くでき、印刷スピードを上昇させる
ことができる。
第1図は本発明に係るELエツジエミッタの一実施例を
示し、aはELエッジエミ、夕の光とり出し側から見た
正面断面図、bは正面に直角な方向の側断面図である。 第2図は本発明の実施例2のELエッジエミ’7りを光
とり出し倒から見た正面断面図である。 第3図は従来のELエツジエミンタの構造例を示す側断
面図である。 第4図は光プリンタの動作原理を示す説明図である。 第5図は文字印刷例の1ドツトを表す説明図である。 16・・・if ELエツジエミッタ、17・・・12
ELエツジエミンタ、 18・・・基板、 19・・・下部電極、 20・・・第1絶縁層、 21・・・発光層、 22・・・第2絶縁層、 23・・・上部電極、 26・・・接合部。 12WJ m 3 図 (Q) ] 図
示し、aはELエッジエミ、夕の光とり出し側から見た
正面断面図、bは正面に直角な方向の側断面図である。 第2図は本発明の実施例2のELエッジエミ’7りを光
とり出し倒から見た正面断面図である。 第3図は従来のELエツジエミンタの構造例を示す側断
面図である。 第4図は光プリンタの動作原理を示す説明図である。 第5図は文字印刷例の1ドツトを表す説明図である。 16・・・if ELエツジエミッタ、17・・・12
ELエツジエミンタ、 18・・・基板、 19・・・下部電極、 20・・・第1絶縁層、 21・・・発光層、 22・・・第2絶縁層、 23・・・上部電極、 26・・・接合部。 12WJ m 3 図 (Q) ] 図
Claims (1)
- 基板上に、上部電極と下部電極とで発光層及び発光層
の両側に設けた絶縁層を挟持したEL層を形成し、前記
発光層の端面から基板と平行方向に光をとり出すELエ
ッジエミッタにおいて、前記ELエッジエミッタを複数
貼り合わせてなることを特徴とするELエッジエミッタ
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161279A JPH029653A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | Elエッジエミッタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161279A JPH029653A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | Elエッジエミッタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH029653A true JPH029653A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15732088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63161279A Pending JPH029653A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | Elエッジエミッタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH029653A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03216357A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-24 | Tokyo Electric Co Ltd | 端面発光型elプリンタ |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP63161279A patent/JPH029653A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03216357A (ja) * | 1990-01-22 | 1991-09-24 | Tokyo Electric Co Ltd | 端面発光型elプリンタ |
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