JPH03100019A - ポリアミド酸及びポリイミド - Google Patents
ポリアミド酸及びポリイミドInfo
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- JPH03100019A JPH03100019A JP23787489A JP23787489A JPH03100019A JP H03100019 A JPH03100019 A JP H03100019A JP 23787489 A JP23787489 A JP 23787489A JP 23787489 A JP23787489 A JP 23787489A JP H03100019 A JPH03100019 A JP H03100019A
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Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、耐熱性と密着性に優れた芳香族ポリイミドに
関するものであり、更に詳しくは、耐熱性を損なうこと
なく金属への密着性を向上させた芳香族ポリイミドに関
するものである。
関するものであり、更に詳しくは、耐熱性を損なうこと
なく金属への密着性を向上させた芳香族ポリイミドに関
するものである。
(従来の技術)
従来、各種の有機合成高分子からなる金属被覆材が知ら
れており、比較的耐熱性を有するものとしては、エポキ
シ系、シリコーン系樹脂が知られている。しかし、これ
らの使用範囲は通常200℃内外とされており、より高
温での使用には耐えない。
れており、比較的耐熱性を有するものとしては、エポキ
シ系、シリコーン系樹脂が知られている。しかし、これ
らの使用範囲は通常200℃内外とされており、より高
温での使用には耐えない。
また、より耐熱性のある樹脂としては、芳香族ポリイミ
ドが知られているが、−船釣にポリイミドは金属に対す
る密着性に乏しく、高温環境下においてはがれを生じる
という問題点を有する。
ドが知られているが、−船釣にポリイミドは金属に対す
る密着性に乏しく、高温環境下においてはがれを生じる
という問題点を有する。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、優れた耐熱性と密着性とを合わせ持つ
樹脂を金属に被覆することにより、より優れた耐熱性と
耐腐食性を有する金属材料を開発することにある。
樹脂を金属に被覆することにより、より優れた耐熱性と
耐腐食性を有する金属材料を開発することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意検討した結
果、ポリアミド酸に一部イソシアネートを反応させるこ
とにより、耐熱性を損なうことなく金属への密着性を向
上させることができることを見い出し本発明を完成させ
た。
果、ポリアミド酸に一部イソシアネートを反応させるこ
とにより、耐熱性を損なうことなく金属への密着性を向
上させることができることを見い出し本発明を完成させ
た。
即ち本発明は、下記一般式(I)で表される繰り返し単
位を有するポリアミド酸、 (式中Mは4価の芳、香族あるいは脂肪族基を示し、A
r’は2価の芳香族あるいは脂肪族基を表す。)と下記
一般式(II)で表されるイソシアネートをRNCO(
II) (式中Rは炭素数1.20の炭化水素基、フェニル基、
炭素数1.20の炭化水素基を置換基に有するフェニル
基、炭素数1−20のアルコキシ基を置換基に有するフ
ェニル基、シアノ基を置換基に有するフェニル基、ハロ
ゲン基を置換基に有するフェニル基を表す。)ポリアミ
ド酸(I)に対して0.1−10wt%反応させて得ら
れてなるポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を15
0℃以上の温度にて熱処理または脂肪族酸無水物により
脱水閉環させることにより得られる、密着性の優れたポ
リイミドを提供することである。
位を有するポリアミド酸、 (式中Mは4価の芳、香族あるいは脂肪族基を示し、A
r’は2価の芳香族あるいは脂肪族基を表す。)と下記
一般式(II)で表されるイソシアネートをRNCO(
II) (式中Rは炭素数1.20の炭化水素基、フェニル基、
炭素数1.20の炭化水素基を置換基に有するフェニル
基、炭素数1−20のアルコキシ基を置換基に有するフ
ェニル基、シアノ基を置換基に有するフェニル基、ハロ
ゲン基を置換基に有するフェニル基を表す。)ポリアミ
ド酸(I)に対して0.1−10wt%反応させて得ら
れてなるポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を15
0℃以上の温度にて熱処理または脂肪族酸無水物により
脱水閉環させることにより得られる、密着性の優れたポ
リイミドを提供することである。
上記一般式(I)のポリアミド酸は、芳香族二酸無水物
類とジアミン類とを、溶媒中で反応させるなどの周知の
方法により合成することが出来る。
類とジアミン類とを、溶媒中で反応させるなどの周知の
方法により合成することが出来る。
芳香族二酸無水物としては、ピロメリット酸二無水物、
3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルポン酸
二無水物、4,4′−オキシシフタル酸二無水物、3.
3’、4.4−ビスフェニルテトラカルボ、ン酸二無水
物、3.3’、4.4’−ジフェニルメタンテトラカル
ボン酸二無水物、3.3’、4.4’−ジフェニルスル
フィドテトラカルホン酸二無水物、3,3’、4.4−
ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等を使用
することができ、一種または、二種以上のものを併用す
ることもできる。
3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルポン酸
二無水物、4,4′−オキシシフタル酸二無水物、3.
3’、4.4−ビスフェニルテトラカルボ、ン酸二無水
物、3.3’、4.4’−ジフェニルメタンテトラカル
ボン酸二無水物、3.3’、4.4’−ジフェニルスル
フィドテトラカルホン酸二無水物、3,3’、4.4−
ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等を使用
することができ、一種または、二種以上のものを併用す
ることもできる。
ジアミン類としては、芳香族ジアミン、脂肪族ジアミン
等、特に制限はなく、例えば、p、フェニレンジアミン
、m−フェニレンジアミン、ベンジジン、4,4’−オ
キシジアニリン、3.3’−オキシジアニリン、3.4
’−オキシジアニリン、4,4−ジアミノジフェニルメ
タン、4,4−ジアミノジフェニルスルホン2、2.ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン
、p−ジアミノキシリレン、2,6.ジアミノトルエン
、2,4.ジアミノトルエン、1.6−’\キサメチレ
ンジアミン等を挙げることができ、一種または、二種以
上のものを併用することもできる。
等、特に制限はなく、例えば、p、フェニレンジアミン
、m−フェニレンジアミン、ベンジジン、4,4’−オ
キシジアニリン、3.3’−オキシジアニリン、3.4
’−オキシジアニリン、4,4−ジアミノジフェニルメ
タン、4,4−ジアミノジフェニルスルホン2、2.ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン
、p−ジアミノキシリレン、2,6.ジアミノトルエン
、2,4.ジアミノトルエン、1.6−’\キサメチレ
ンジアミン等を挙げることができ、一種または、二種以
上のものを併用することもできる。
一般式(I)のポリアミド酸を合成する溶媒としては、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメ・チルホ
ルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルス
ルホキシドなどのような非プロトン性極性溶媒、または
ビス(2−メトキシエチル)エーテル(略称ジグライム
)、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4
−ジオキサン、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)
エタン等のエーテル系溶媒を使用することができる。
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメ・チルホ
ルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルス
ルホキシドなどのような非プロトン性極性溶媒、または
ビス(2−メトキシエチル)エーテル(略称ジグライム
)、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4
−ジオキサン、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)
エタン等のエーテル系溶媒を使用することができる。
本発明のポリアミド酸は、上述の如くにして得られた一
般式(I)のポリアミド酸溶液に、一般式(I)のポリ
アミド酸に対して0.1− 10wt%の一般式(II
)のイソシアネートを添加して150℃以下の温度に
て反応させることにより簡便に得ることができる。一般
式(II )のイソシアネートの添加量がこの範囲より
少ない場合には、ポリイミドにしたときの密着性の改良
効果が得られず、逆にこの範囲より多い場合には、ポリ
イミドの耐熱性が低下したり、機械物性が損なわれたり
するために好ましくない。一般式(I)のポリアミド酸
と一般式(II )のイソシアネートとの反応は、炭酸
ガスが発生するため容易に確認することができる。
般式(I)のポリアミド酸溶液に、一般式(I)のポリ
アミド酸に対して0.1− 10wt%の一般式(II
)のイソシアネートを添加して150℃以下の温度に
て反応させることにより簡便に得ることができる。一般
式(II )のイソシアネートの添加量がこの範囲より
少ない場合には、ポリイミドにしたときの密着性の改良
効果が得られず、逆にこの範囲より多い場合には、ポリ
イミドの耐熱性が低下したり、機械物性が損なわれたり
するために好ましくない。一般式(I)のポリアミド酸
と一般式(II )のイソシアネートとの反応は、炭酸
ガスが発生するため容易に確認することができる。
本発明に用いられた一般式(II )のイソシアネート
の具体例としては、メチルイソシアネート、工チルイソ
シアネート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシア
ネート、フェニルイソシアネート、メトキシフェニルイ
ソシアネート、エチルフェニルイソシアネート、クロロ
フェニルイソシアネート、シアノフェニルイソシアネー
ト等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
の具体例としては、メチルイソシアネート、工チルイソ
シアネート、プロピルイソシアネート、ブチルイソシア
ネート、フェニルイソシアネート、メトキシフェニルイ
ソシアネート、エチルフェニルイソシアネート、クロロ
フェニルイソシアネート、シアノフェニルイソシアネー
ト等を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
本発明のポリアミド酸からポリイミドへの変換は、周知
の方法が適用される。例えば、1500C以上の温度に
て熱処理を行う方法、脂肪族酸無水物を添加して脱水閉
環反応させる方法などである。
の方法が適用される。例えば、1500C以上の温度に
て熱処理を行う方法、脂肪族酸無水物を添加して脱水閉
環反応させる方法などである。
以下、実施例及び比較例にて本発明を説明するが、本発
明はかかる実施例に限定されるものではない。
明はかかる実施例に限定されるものではない。
(実施例)
実施例1
撹はん機、窒素導入管、温度計を付したフラスコ内に4
,4′−オキシジアニリン801g(4,00mol)
を仕込み、系内を窒素で置換した後、N、N−ジメチル
アセトアミド5,200gを入れ、4,4′−オキシジ
アニリンを溶解させた。これに、4,4′−オキシシフ
タル酸二無水物1216g(3,92mol)を徐々に
添加した。添加終了後、4,4′−オキシシフタル酸二
無水物が完溶した時点より、70’Cにて2時間撹はん
を行い243poise /25℃(固形分28%)の
溶液粘度を有するポリアミド酸溶液を得た。このポリア
ミド酸溶液に、フェニルイソシアネート14.4gを添
加し、60℃にて1時間反応させた。この間に炭酸ガス
の発生がみられた。
,4′−オキシジアニリン801g(4,00mol)
を仕込み、系内を窒素で置換した後、N、N−ジメチル
アセトアミド5,200gを入れ、4,4′−オキシジ
アニリンを溶解させた。これに、4,4′−オキシシフ
タル酸二無水物1216g(3,92mol)を徐々に
添加した。添加終了後、4,4′−オキシシフタル酸二
無水物が完溶した時点より、70’Cにて2時間撹はん
を行い243poise /25℃(固形分28%)の
溶液粘度を有するポリアミド酸溶液を得た。このポリア
ミド酸溶液に、フェニルイソシアネート14.4gを添
加し、60℃にて1時間反応させた。この間に炭酸ガス
の発生がみられた。
こうして得られたポリアミド酸溶液を
JIS3141に規定する冷間圧延鋼板上に塗布し、1
20℃X10m1n+180℃X30m1n+250℃
X30m1nの熱処理を行い、膜厚25pmの塗膜を得
た。
20℃X10m1n+180℃X30m1n+250℃
X30m1nの熱処理を行い、膜厚25pmの塗膜を得
た。
得られた塗膜の剥離強度は、830g / amであり
、剥離した塗膜のガラス転移温度は268℃であった。
、剥離した塗膜のガラス転移温度は268℃であった。
実施例2
実施例1において、フェニルイソシアネートをn−ブチ
ルイソシアネートに替えた以外は実施例1と同様にして
ポリアミド酸溶液を合成しな。こうして得られたポリア
ミド酸溶液をJIS3141に規定する冷間圧延鋼板上
に塗布し、 120℃X10m1n+180℃X30m1n+250
℃X30m1nの熱処理を行い、膜厚25pmの塗膜を
得た。
ルイソシアネートに替えた以外は実施例1と同様にして
ポリアミド酸溶液を合成しな。こうして得られたポリア
ミド酸溶液をJIS3141に規定する冷間圧延鋼板上
に塗布し、 120℃X10m1n+180℃X30m1n+250
℃X30m1nの熱処理を行い、膜厚25pmの塗膜を
得た。
得られた塗膜の剥離強度は、850g / amであり
、剥離した塗膜のガラス転移温度は265℃であった。
、剥離した塗膜のガラス転移温度は265℃であった。
実施例3
無水酢酸60m1、ピリジン120m1. N、N−ジ
メチルアセトアミド600m1の混合液中に、室温で撹
はんしながら実施例1により得られたポリアミド酸溶液
150gを徐々に滴下した。その後−晩装置すると、ポ
リイミド粉末が析出した。これを大量のメタノールで洗
浄したのち、150℃で真空乾燥して約40gのポリイ
ミド粉末を得た。得られたポリイミドのガラス転移温度
は267℃であった。
メチルアセトアミド600m1の混合液中に、室温で撹
はんしながら実施例1により得られたポリアミド酸溶液
150gを徐々に滴下した。その後−晩装置すると、ポ
リイミド粉末が析出した。これを大量のメタノールで洗
浄したのち、150℃で真空乾燥して約40gのポリイ
ミド粉末を得た。得られたポリイミドのガラス転移温度
は267℃であった。
比較例1
実施例1において、フェニルイソシアネートを添加しな
いポリアミド酸溶液を用いた以外は、実施例1と同様の
操作を行った。
いポリアミド酸溶液を用いた以外は、実施例1と同様の
操作を行った。
得られた塗膜の剥離強度は、420g / amであり
、剥離した塗膜のガラス転移温度は269℃であった。
、剥離した塗膜のガラス転移温度は269℃であった。
(発明の効果)
実施例及び比較例にて明らかなように、本発明にて得ら
れるポリアミドは、その優れたの耐熱性を保持したまま
金属への密着性が著しく向上しているのが解る。従って
、その優れた密着性、耐熱性、及び耐腐食性により、自
動車のマフラー、石油ファンヒーター吹き出し口、オー
ブントースタ−の窓枠等の他に、電気、電子分野におけ
る耐熱性絶縁材料、建設、構造材料、航空、宇宙材料な
ど様々な分野において使用が期待される。
れるポリアミドは、その優れたの耐熱性を保持したまま
金属への密着性が著しく向上しているのが解る。従って
、その優れた密着性、耐熱性、及び耐腐食性により、自
動車のマフラー、石油ファンヒーター吹き出し口、オー
ブントースタ−の窓枠等の他に、電気、電子分野におけ
る耐熱性絶縁材料、建設、構造材料、航空、宇宙材料な
ど様々な分野において使用が期待される。
Claims (3)
- (1)下記一般式( I )で表される繰り返し単位を有
するポリアミド酸 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Arは4価の芳香族あるいは脂肪族基を示し、A
r’は2価の芳香族あるいは脂肪族基を表す。)と下記
一般式(II)で表されるイソシアネートをRNCO(I
I) (式中Rは炭素数1−20の炭化水素基、フェニル基、
炭素数1−20の炭化水素基を置換基に有するフェニル
基、炭素数1−20のアルコキシ基を置換基に有するフ
ェニル基、シアノ基を置換基に有するフェニル基、ハロ
ゲン基を置換基に有するフェニル基を表す。)ポリアミ
ド酸( I )に対して0.1−10wt%反応させて得
られてなるポリアミド酸。 - (2)請求項(1)のポリアミド酸を150℃以上の温
度にて熱処理することにより得られるポリイミド。 - (3)請求項(1)のポリアミド酸を脂肪族酸無水物に
より脱水閉環させることにより得られるポリイミド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23787489A JPH03100019A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ポリアミド酸及びポリイミド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23787489A JPH03100019A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ポリアミド酸及びポリイミド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100019A true JPH03100019A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17021698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23787489A Pending JPH03100019A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ポリアミド酸及びポリイミド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100019A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5624343A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-07 | Hitachi Ltd | Photosensitive heat resistant polymer composition |
| JPS6440513A (en) * | 1987-07-23 | 1989-02-10 | Basf Ag | Manufacture of radiation reactive precursor of oligomer or polymer |
| JPH01118513A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性重合体組成物 |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP23787489A patent/JPH03100019A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5624343A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-07 | Hitachi Ltd | Photosensitive heat resistant polymer composition |
| JPS6440513A (en) * | 1987-07-23 | 1989-02-10 | Basf Ag | Manufacture of radiation reactive precursor of oligomer or polymer |
| JPH01118513A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性重合体組成物 |
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