JPH03101668A - ブチル３′―（１ｈ―テトラゾール―５―イル）オキサニレートの製造法 - Google Patents
ブチル３′―（１ｈ―テトラゾール―５―イル）オキサニレートの製造法Info
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- JPH03101668A JPH03101668A JP1180547A JP18054789A JPH03101668A JP H03101668 A JPH03101668 A JP H03101668A JP 1180547 A JP1180547 A JP 1180547A JP 18054789 A JP18054789 A JP 18054789A JP H03101668 A JPH03101668 A JP H03101668A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D257/00—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D257/02—Heterocyclic compounds containing rings having four nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D257/04—Five-membered rings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）産業上の利用分野
本発明は優れた抗アレルギー剤であるタザノラストを工
業的に有利な方法で製造するものである。
業的に有利な方法で製造するものである。
（２）従来の技術
タザノラストは特公昭５９−１７０５に開示されている
ように、３−（ＩＨ−テトラゾール−５一イル）アニリ
ンとシュウ酸誘導体を反応させることにより容易に製造
できる。シュウ酸誘導体として、プチルオキサリルクロ
ライドを用いる場合は、不活性有機溶媒中、トリエチル
アξン、ピリジン等の塩基存在下、室温以下で実施する
必要がある。一方、シュウ酸ジブチルを用いる場合は不
活性有機溶媒中で行なっても良いが、反応の進行が遅く
、しかも低収率となる。そこで原料自体を溶媒として用
い、反応温度１００〜１８０゜Ｃに加熱し、反応させ、
再結晶により精製し、タザノラストを得ている。しかし
、これらの方法では工業的に不利な点が多く、実際にタ
ザノラストを製造する上で適切な方法とは言えない。例
えば、プチルオキサリルクロライドを用いる場合は、原
料の入手、安定性ならびに反応の際の無水条件の確保が
必要である。また、シュウ酸ジブチルを用いる場合は、
反応温度が１００〜１８０″Ｃの高温条件が必須である
ため著しい着色が生じ、脱色に煩雑な工程を組む必要が
あり、しかもテトラゾール基を有するため、１００℃以
上の高温での反応は安全性確保の点で不適当である。さ
らに両反応共に、得られるタザノラストにはブチルエス
テルが水解した３’−（ＩＨ−テトラゾール−５−イル
）オキサニリフクアシドが副生成物として含有されてお
り、医薬品原体としては不適当である。この３’−（Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）オキサニリンクアンドは
再結晶、カラムクロマトグラフィー等、従来の精製法で
は完全に除去することが困難であった。
ように、３−（ＩＨ−テトラゾール−５一イル）アニリ
ンとシュウ酸誘導体を反応させることにより容易に製造
できる。シュウ酸誘導体として、プチルオキサリルクロ
ライドを用いる場合は、不活性有機溶媒中、トリエチル
アξン、ピリジン等の塩基存在下、室温以下で実施する
必要がある。一方、シュウ酸ジブチルを用いる場合は不
活性有機溶媒中で行なっても良いが、反応の進行が遅く
、しかも低収率となる。そこで原料自体を溶媒として用
い、反応温度１００〜１８０゜Ｃに加熱し、反応させ、
再結晶により精製し、タザノラストを得ている。しかし
、これらの方法では工業的に不利な点が多く、実際にタ
ザノラストを製造する上で適切な方法とは言えない。例
えば、プチルオキサリルクロライドを用いる場合は、原
料の入手、安定性ならびに反応の際の無水条件の確保が
必要である。また、シュウ酸ジブチルを用いる場合は、
反応温度が１００〜１８０″Ｃの高温条件が必須である
ため著しい着色が生じ、脱色に煩雑な工程を組む必要が
あり、しかもテトラゾール基を有するため、１００℃以
上の高温での反応は安全性確保の点で不適当である。さ
らに両反応共に、得られるタザノラストにはブチルエス
テルが水解した３’−（ＩＨ−テトラゾール−５−イル
）オキサニリフクアシドが副生成物として含有されてお
り、医薬品原体としては不適当である。この３’−（Ｉ
Ｈ−テトラゾール−５−イル）オキサニリンクアンドは
再結晶、カラムクロマトグラフィー等、従来の精製法で
は完全に除去することが困難であった。
（３）問題点を解決するための手段
本発明者等は上記の問題点を解決し、医薬品原体として
許容できうる高純度のタザノラストを工業的に有利に製
造する方法を確立すべく鋭意研究を重ねた結果、反応工
程では、３−（１Ｈ−テトラソール−５−イル）アニリ
ンとシュウ酸ジブチルの混液に反応促進剤として酸を添
加することにより、１００℃以下の反応温度で反応を完
結することができる。また精製工程では活性アルミナを
用いることにより、従来除去することが困難であった３
’−（ＩＨ−テトラゾール−５−イル）オキサニリソク
アシドを容易に除去できることを見出した。これらに基
づいてさらに研究した結果、本発明を完威させた。
許容できうる高純度のタザノラストを工業的に有利に製
造する方法を確立すべく鋭意研究を重ねた結果、反応工
程では、３−（１Ｈ−テトラソール−５−イル）アニリ
ンとシュウ酸ジブチルの混液に反応促進剤として酸を添
加することにより、１００℃以下の反応温度で反応を完
結することができる。また精製工程では活性アルミナを
用いることにより、従来除去することが困難であった３
’−（ＩＨ−テトラゾール−５−イル）オキサニリソク
アシドを容易に除去できることを見出した。これらに基
づいてさらに研究した結果、本発明を完威させた。
すなわち、本発明は、３−（ＩＨ−テトラゾールー５−
イル）アニリンとシュウ酸ジブチルの混液に反応促進剤
として酸を添加することにより１００℃以下の反応温度
で反応させ、反応終了後、活性アルミナを用いて精製す
ることを特徴とするタザノラストの工業的に有利な製造
方法である。
イル）アニリンとシュウ酸ジブチルの混液に反応促進剤
として酸を添加することにより１００℃以下の反応温度
で反応させ、反応終了後、活性アルミナを用いて精製す
ることを特徴とするタザノラストの工業的に有利な製造
方法である。
本発明に於いて、反応工程で用いられるシュウ酸ジブチ
ルの使用量は、それ自体、反応溶媒として用いることが
できるため、何等制限を受けるものではないが経済性を
考慮すると、３− （ＩＨテトラゾール−５−イル）ア
ニリンに対して５〜１０倍量が好ましい。反応促進剤と
して添加する酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸又は酢酸
、シュウ酸、マロン酸、ピルビン酸、オキサル酢酸等の
有機酸が挙げられ、特に酢酸が好ましい。使用量として
は、３− （ＩＨ−テトラゾール−５−イル）アニリン
に対し、０．０５〜等モル濃度使用することが好ましく
、特に０．３〜０．４モル濃度が好ましい。反応温度、
反応時間は適宜選択すれば良いが、テトラゾール基の安
定性を考慮し、８０〜１ｏｏ℃（好ましくは８５〜９０
℃）でｌ２〜２０時間（好ましくは１５〜１８時間）反
応させることにより有利に進行する。
ルの使用量は、それ自体、反応溶媒として用いることが
できるため、何等制限を受けるものではないが経済性を
考慮すると、３− （ＩＨテトラゾール−５−イル）ア
ニリンに対して５〜１０倍量が好ましい。反応促進剤と
して添加する酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸又は酢酸
、シュウ酸、マロン酸、ピルビン酸、オキサル酢酸等の
有機酸が挙げられ、特に酢酸が好ましい。使用量として
は、３− （ＩＨ−テトラゾール−５−イル）アニリン
に対し、０．０５〜等モル濃度使用することが好ましく
、特に０．３〜０．４モル濃度が好ましい。反応温度、
反応時間は適宜選択すれば良いが、テトラゾール基の安
定性を考慮し、８０〜１ｏｏ℃（好ましくは８５〜９０
℃）でｌ２〜２０時間（好ましくは１５〜１８時間）反
応させることにより有利に進行する。
活性アルミナによる精製方法は反応混液からあらかじめ
タザノラストの粗精製品を得た後に行なう方法及び反応
混液に直接行なう方法どちらでも良く、またバッチ法、
カラム法両者を任意に選択できる。
タザノラストの粗精製品を得た後に行なう方法及び反応
混液に直接行なう方法どちらでも良く、またバッチ法、
カラム法両者を任意に選択できる。
タザノラストの粗精製品を得る方法としてはｎ一ヘキサ
ン、エチルエーテル、イソプロビルエーテル、ベンゼン
、トルエン等、タザノラストが不溶の有機溶媒で反応液
から晶出させる方法や反応混液に炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え、反応生成物をナトリウム塩として水層に移
し、シュウ酸ジブチルを除去後、塩酸酸性にすることに
まり晶出させる方法などが挙げられる。両者ともにシュ
ウ酸ジブチルを回収できるため工業的に有利な方法と言
える。
ン、エチルエーテル、イソプロビルエーテル、ベンゼン
、トルエン等、タザノラストが不溶の有機溶媒で反応液
から晶出させる方法や反応混液に炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え、反応生成物をナトリウム塩として水層に移
し、シュウ酸ジブチルを除去後、塩酸酸性にすることに
まり晶出させる方法などが挙げられる。両者ともにシュ
ウ酸ジブチルを回収できるため工業的に有利な方法と言
える。
使用する活性アルミナは特に限定されるものではないが
、吸着精製用が良く、特にガンマーアル妄ナが好ましい
。灼熱ｍｔは１〜６％が良く、特に３〜５％が好ましい
。使用量は、精製方法の違いによりことなるが、粗精製
品を用いる場合は、粗精製品に対し０．６〜３．０倍量
が良く、特に０．８〜等倍量が好ましい。また、反応液
から直接精製する場合は、３−（ＩＨ−テトラゾール−
５−イル）アニリンの仕込量に対し、２．０〜５．０倍
量が良く、特に２．５〜３．０倍量が好ましい。
、吸着精製用が良く、特にガンマーアル妄ナが好ましい
。灼熱ｍｔは１〜６％が良く、特に３〜５％が好ましい
。使用量は、精製方法の違いによりことなるが、粗精製
品を用いる場合は、粗精製品に対し０．６〜３．０倍量
が良く、特に０．８〜等倍量が好ましい。また、反応液
から直接精製する場合は、３−（ＩＨ−テトラゾール−
５−イル）アニリンの仕込量に対し、２．０〜５．０倍
量が良く、特に２．５〜３．０倍量が好ましい。
使用する有機溶媒は一般に活性アルミナに使用できうる
有機溶媒であれば特に制限されるものではないが、タザ
ノラストの安定性および溶解性を考慮すると、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン類及び酢酸エチル、酢
酸メチル等のエステル類が挙げられ、特に酢酸エチルが
好ましい。使用量は、タザノラストの粗精製品から行な
う場合は、タザノラストの粗精製品に対し、２０〜６０
倍量が良く、特に３０〜５０倍量が好ましい。
有機溶媒であれば特に制限されるものではないが、タザ
ノラストの安定性および溶解性を考慮すると、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン類及び酢酸エチル、酢
酸メチル等のエステル類が挙げられ、特に酢酸エチルが
好ましい。使用量は、タザノラストの粗精製品から行な
う場合は、タザノラストの粗精製品に対し、２０〜６０
倍量が良く、特に３０〜５０倍量が好ましい。
反応液から直接精製する場合は、３− （１｝１−テト
ラゾール−５−イル）アニリンの仕込量に対し、３０〜
ｉｏｏ倍量が良く、特に５０〜６０倍量が好ましい。
ラゾール−５−イル）アニリンの仕込量に対し、３０〜
ｉｏｏ倍量が良く、特に５０〜６０倍量が好ましい。
上記の方法で得られたタザノラストの溶液を通常行なわ
れる濃縮工程、再結晶工程を経ることにより、高純度の
タザノラストを高収率で得ることができる。
れる濃縮工程、再結晶工程を経ることにより、高純度の
タザノラストを高収率で得ることができる。
なお、再結晶工程で使用される有機溶媒としては、特に
限定されるものではないが、タザノラストの安定性およ
び経済性等を考慮すると活性アルミナ精製工程で使用し
た酢酸エチルが好ましい。
限定されるものではないが、タザノラストの安定性およ
び経済性等を考慮すると活性アルミナ精製工程で使用し
た酢酸エチルが好ましい。
使用量は、精製されたタザノラストに対し６〜１０倍量
が良く、特に８〜１０倍量好ましい。
が良く、特に８〜１０倍量好ましい。
上記に示した本発明の製造方法により医薬品原体として
十分許容できる純度を持つタザノラストを工業的に有利
に、しかも再現性良く高収率で得ることができる。
十分許容できる純度を持つタザノラストを工業的に有利
に、しかも再現性良く高収率で得ることができる。
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明す
るが、本発明は、これらに何等限定されるものではない
。
るが、本発明は、これらに何等限定されるものではない
。
実施例１
３−（ＩＨ−テトラソールー５−イル）アニリン５ ｇ
（３ １ｍｍｏＡ）をシュウ酸ジプチル２ ５ｎ／！
（１２３＋＋＋ｍｏ７！）に懸濁させ、この懸濁に酢酸
０．６ ５ ｍｌ （１ １．４ｍｍｏＡ）を加え、
内温８５〜９０℃で１７時間攪拌した。この反応液を液
体クロマトグラフィーにより定量するとタザノラストは
、９８．２％であった。
（３ １ｍｍｏＡ）をシュウ酸ジプチル２ ５ｎ／！
（１２３＋＋＋ｍｏ７！）に懸濁させ、この懸濁に酢酸
０．６ ５ ｍｌ （１ １．４ｍｍｏＡ）を加え、
内温８５〜９０℃で１７時間攪拌した。この反応液を液
体クロマトグラフィーにより定量するとタザノラストは
、９８．２％であった。
実施例１で使用した酢酸の他に種々の酸を使用した結果
を表１に示す。
を表１に示す。
実施例２
３−（１Ｈ−テトラヅールー５−イル）アニリン２ ０
ｋｇ （１ ２ ４ｍｏ６）をシュウ酸ジブチル１００
１２ （４ ９ ５ｍｏＲ） 、酢Ｍ２．６ ｊ！ （
４ ５．５ｍｏ６）を加え、内温８５〜９０゜Ｃで１７
時間攪拌した。反応終了後、冷却し、反応混液に炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、室温で３０分間攪拌溶解後
静置し、有機層を分液により除去した。水層を塩酸で酸
性とし、粗精製タザノラストを晶出させた。得られた粗
精製タザノラストを酢酸エチルに懸濁させた後、活性ア
ルごナ３０ｋｇを加え、室温で攪拌した。その後、活性
アル≧ナを減圧濾過し、酢酸エチルで洗浄し、濾液と洗
液を合せ、減圧濃縮し、再結晶し、タザノラストを２
６ ｋｇ得た。収率７２．４％ 融点 １５７〜１５８℃ 元素分析 Ｃ＋：Ｊ＋ｓＮｓＯ３ ＣＨＮ 理論値（％） ５３．９７ ５．２３ ２
４．２１実測値（％） ５３．６５ ５．３９
２４．１３ｒ．Ｒ．ヌジョールν，．ＸＣｆｆｌ
−’ ： ３３５０ ， １７３０ １５００１２９
０ ，１１８０ ．１２４０ ，１０００ ．
７５０Ｎ．Ｍ．Ｒ． （ＤＭＳＯ−ｄｂ） δ ：
０．９５（ｔ，３｝１） ， １．５０（ｍ，２Ｂ
），１．８０（ｍ，２Ｈ） ， ４．３３（ｔ，２
Ｈ） ， ７．６０（ｔ，ＩＩ｛），７．９０（ｍ
．２Ｈ） ， ８．６５（ｍ，１Ｈ），１１．０８
（ｓ，ＩＩＩ）Ｍａｓｓ ： ｍ／ｚ ２ ８
９ （Ｍ” ）実施例３ 実施例２と同じく反応させた反応混液Ｇ；酢酸エチル５
００ｚを加え、この悲濁液に活性アルミナ５０ｋｇを加
え、室温で攪拌した。その後、活性アルミナを減圧濾過
し、酢酸エチルで洗浄し、濾液と洗液を合せ、減圧濃縮
した。得られた濃縮残渣よりｎ−ヘキサンで結晶化し、
析出したタザノラストを減圧濾過し、再結晶し、タザノ
ラストを２７ｋｇ得た。収率７５．２％ ａ器分析データは、実施例２と一致した。
ｋｇ （１ ２ ４ｍｏ６）をシュウ酸ジブチル１００
１２ （４ ９ ５ｍｏＲ） 、酢Ｍ２．６ ｊ！ （
４ ５．５ｍｏ６）を加え、内温８５〜９０゜Ｃで１７
時間攪拌した。反応終了後、冷却し、反応混液に炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、室温で３０分間攪拌溶解後
静置し、有機層を分液により除去した。水層を塩酸で酸
性とし、粗精製タザノラストを晶出させた。得られた粗
精製タザノラストを酢酸エチルに懸濁させた後、活性ア
ルごナ３０ｋｇを加え、室温で攪拌した。その後、活性
アル≧ナを減圧濾過し、酢酸エチルで洗浄し、濾液と洗
液を合せ、減圧濃縮し、再結晶し、タザノラストを２
６ ｋｇ得た。収率７２．４％ 融点 １５７〜１５８℃ 元素分析 Ｃ＋：Ｊ＋ｓＮｓＯ３ ＣＨＮ 理論値（％） ５３．９７ ５．２３ ２
４．２１実測値（％） ５３．６５ ５．３９
２４．１３ｒ．Ｒ．ヌジョールν，．ＸＣｆｆｌ
−’ ： ３３５０ ， １７３０ １５００１２９
０ ，１１８０ ．１２４０ ，１０００ ．
７５０Ｎ．Ｍ．Ｒ． （ＤＭＳＯ−ｄｂ） δ ：
０．９５（ｔ，３｝１） ， １．５０（ｍ，２Ｂ
），１．８０（ｍ，２Ｈ） ， ４．３３（ｔ，２
Ｈ） ， ７．６０（ｔ，ＩＩ｛），７．９０（ｍ
．２Ｈ） ， ８．６５（ｍ，１Ｈ），１１．０８
（ｓ，ＩＩＩ）Ｍａｓｓ ： ｍ／ｚ ２ ８
９ （Ｍ” ）実施例３ 実施例２と同じく反応させた反応混液Ｇ；酢酸エチル５
００ｚを加え、この悲濁液に活性アルミナ５０ｋｇを加
え、室温で攪拌した。その後、活性アルミナを減圧濾過
し、酢酸エチルで洗浄し、濾液と洗液を合せ、減圧濃縮
した。得られた濃縮残渣よりｎ−ヘキサンで結晶化し、
析出したタザノラストを減圧濾過し、再結晶し、タザノ
ラストを２７ｋｇ得た。収率７５．２％ ａ器分析データは、実施例２と一致した。
Claims (2)
- （１）３−（１Ｈ−テトラゾール−５−イル）アニリン
とシュウ酸ジブチルとを酸の存在下、反応させることを
特徴とするタザノラストの製造法。 - （２）特許請求の範囲第１項の方法で反応後、活性アル
ミナを用いたタザノラストの精製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1180547A JP2598703B2 (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | ブチル３′―（１ｈ―テトラゾール―５―イル）オキサニレートの製造法 |
| KR1019890014038A KR910003709B1 (ko) | 1989-07-14 | 1989-09-29 | 부틸 3'-(1h-테트라졸-5-일)옥사닐레이트의 제조법 |
| ES90120051T ES2075110T3 (es) | 1989-07-14 | 1990-10-19 | Un metodo para producir 3'-(1h-tetrazol-5-il) oxanilato de butilo. |
| EP90120051A EP0481118B1 (en) | 1989-07-14 | 1990-10-19 | A method for producing butyl 3'-(1H-tetrazol-5-yl) oxanilate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1180547A JP2598703B2 (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | ブチル３′―（１ｈ―テトラゾール―５―イル）オキサニレートの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03101668A true JPH03101668A (ja) | 1991-04-26 |
| JP2598703B2 JP2598703B2 (ja) | 1997-04-09 |
Family
ID=16085187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1180547A Expired - Lifetime JP2598703B2 (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | ブチル３′―（１ｈ―テトラゾール―５―イル）オキサニレートの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0481118B1 (ja) |
| JP (1) | JP2598703B2 (ja) |
| KR (1) | KR910003709B1 (ja) |
| ES (1) | ES2075110T3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007287879A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Sumco Corp | 貼り合わせウェーハ及びその製造方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5091399B2 (ja) * | 2005-11-15 | 2012-12-05 | ハスクバーナ・ゼノア株式会社 | チェーンソウ |
| KR20220055706A (ko) | 2020-10-27 | 2022-05-04 | 엘지전자 주식회사 | 냉장고 |
| KR20220067186A (ko) | 2020-11-17 | 2022-05-24 | 엘지전자 주식회사 | 냉장고 |
| KR20220102770A (ko) | 2021-01-14 | 2022-07-21 | 엘지전자 주식회사 | 냉장고 |
| CN115572238B (zh) * | 2022-09-27 | 2023-10-17 | 常州永和精细化学有限公司 | N-(2-乙氧基苯基)-n'-(2-乙基苯基)-草酰胺的制备方法 |
| KR20250068159A (ko) | 2023-11-09 | 2025-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 냉장고의 그릴팬어셈블리 및 이를 가지는 냉장고 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2170403B (en) * | 1984-12-24 | 1989-08-09 | Wakamoto Pharma Co Ltd | Medicament for treatment of asthma and preparation thereof |
| JPS6344570A (ja) * | 1986-08-12 | 1988-02-25 | Wakamoto Pharmaceut Co Ltd | ３−（１ｈ−テトラゾ−ル−５−イル）オキサニリツクアシツド及びその製造法 |
| US5055481A (en) * | 1989-03-24 | 1991-10-08 | Wakamoto Pharmaceutical Co., Ltd. | Tetrazole derivatives and aldose reductase inhibition therewith |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP1180547A patent/JP2598703B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-29 KR KR1019890014038A patent/KR910003709B1/ko not_active Expired
-
1990
- 1990-10-19 ES ES90120051T patent/ES2075110T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-19 EP EP90120051A patent/EP0481118B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007287879A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Sumco Corp | 貼り合わせウェーハ及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR910002814A (ko) | 1991-02-26 |
| JP2598703B2 (ja) | 1997-04-09 |
| EP0481118B1 (en) | 1995-08-02 |
| KR910003709B1 (ko) | 1991-06-08 |
| EP0481118A1 (en) | 1992-04-22 |
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