JPH03112975A - 光学活性δラクトン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はアクチノボリンやバクトポリン等のδラクトン
系抗生物質の母核をなす式（９）（式中＊は不斉炭素を
表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造する際の
中間体に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）上記式
（９）で表わされるδラクトン化合物の製造に関しては
、ラセミ体についてはＲ，Ｃ０ｒｄＯＶａ等（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、、２５．２９４５（１９８
４）　）　、　Ｋ、）１゜ＰｉｅｔｒｕＳｉｅＷｉＣＺ
等（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｃｍ、、５３．２８３７（１９８
８）　）が報告しているが光学活性体についてはに、Ｈ
ｏｒｉＷ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、　、４１．５２９
５（１９８５）　）が知られているのみである。

光学純度の高い該化合物を容易に収率よく得る方法は未
だ知られていない。

（課題を解決するための手段） 本発明者は上記の点に鑑み、効率よく、ラセミ化を起す
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検問した結果、下記反応経路（ｎ）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラクトン化合物（９）が容易に得られる
ことを見出した。

反応経路（Ｉｆ） （６） （Ａ） （７） 本発明はこの反応経路（ｎ）において得られる中間体を
提供するもので必る。

すなわち、本発明は 一般式（Ａ） （×は水酸基、フェニルチオ基若しくは一〇ＲＩを、Ｙ
は水素原子若しくは一〇〇２Ｒ３を表わす。Ｒ１はアラ
ルキル基、アルキルオキシアルキル基、アルケニル基及
び環内に異項原子を含むシクロアルキル基から選ばれた
容易に脱離可能な保護基を、Ｒ３は低級アルキル基、ア
ルケニル基若しくはベンジル基を表わす。＊は不斉炭素
を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物（Ａ）を提供す
るものである。

一般式（Ａ）及び一般式（６）で表わされる化合物にお
けるＲ１としては容易に脱離可能な保護基、例えばペン
シル、ｐ−メトキシベンジル。

ｐ−クロルベンジル基等のアラルキル基、メトキシメチ
ル、ｔ−ブトキシメヂル、１−エトキシエチル、　１−
イソプロポキシエチル基等のアルキルオキシアルキル基
、アリル、メタリル基等のアルケニル基又はテトラヒド
ロフラニル、テトラヒドロピラニル基等の環内に異項原
子を含むシクロアルキル基などが挙げられ、Ｒ３として
は、メチル。

エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、１−ブチル
、ペンデル基等炭素数１〜５のアルキル基、アリル、２
−メチルアリル、２−ブテニル、３ブテニル、２−ペン
テニル基等炭素数３〜５のアルケニル基又はベンジル基
を挙げることができる。

本発明の化合物（Ａ）は化合物（６）から合成され、化
合物（６）は、反応経路（Ｉ＞に従って、グリシジルエ
ーテル（２）から合成される。

すなわら、光学活性なα、β不飽和δラクトン化合物（
６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機合
成化学協会誌４５巻、　１１５７頁（１９８７））によ
りグリシジルエーテル（２）から、反応経路（Ｉ）に示
すようにして製造することができる。

反応経路（工〉 （２） （３） （４） （５）　　　　　　　　　　　　　　　　　　＜６）反
応経路（Ｉ＞においてＲ１は前記と同一の−ｂのを表わ
す。またＲ２はｎ−ブチル、イソブチル。

ｔ−ブチル、メチルなどの低級アルキル基を表わす。

以下詳細反応経路（ＩＩａ＞、（ＩＩｂ＞に従って、こ
の化合物′（６）より本発明の化合物（Ａ）を合成する
方法を詳細に説明する。

詳細反応経路（Ｉ［ａ） 詳細反応経路（ｎｂ） （９） ａ）δラクトン化合物Ａの合成 光学活性α、β不飽和δラクトン化合物（６）に不活性
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、トルエン、ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステルく式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中のＲ３は前記と同一のものを表わす。）のアニ
オンを１．４−付加さセテ化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ
１、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を合成し、これから工程１）エス
テルの加水分解と脱炭酸、工程２）保護基の脱離。

工程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い
、化合物（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣａ　Ｈｓ、Ｙ＝ト１）を
合成する。

１）エステルの加水分解と脱炭酸、２）保護基の脱離、
３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）→１）→３）でも、２）
→３）→１）でも良い。

１）、２＞、３）の工程は各々それ自体公知の方法によ
って行うことができる。

工程１）はアルカリあるいは酸触媒を用い、含水溶媒中
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どを用いることができる。

酸としては硫酸、塩酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱酸
あるいは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸銅なとのル
イス酸を用いることができる。溶媒としては極性溶媒、
例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、アセトニトリル。

アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどが使用できる。

工程２）の保護基の脱離は選択させるＲ１により適宜様
々の方法を使いわけることができる。例えばＲ１がベン
ジル、アリル基のときはパラン「クム触媒を用いて水素
化分解あるいは異性化分解の手法が、メトキシメチルや
１−エトキシエチルの場合は鉱酸ヤ有機酸、ルイス酸を
用いて含水溶媒中で加水分解する手法が使用できる。水
１１をフェニルチオ基に変換する工程３）はトリフェニ
ルホスフィン、トリー〇−ブチルホスフィン、１，２−
ビス（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィ
ンの存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールを
ピリジン、トリエチルアミンなどを溶媒として反応させ
ることにより達成できる。

また化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＲ１、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）
を工程２）→３）→１）の経路で反応させると化合物（
Ａ−５＞（Ｘ＝ＯＨ，Ｙ−ＣＯ２Ｒ３）、（Ａ−６）（
Ｘ＝ＳＣａ　Ｈｓ、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を経て化合物（Ａ
−４＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）に導くこともで
きる。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ１，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）から
化合物（Ａ−４＞　　（Ｘ＝ＳＣｅ　Ｈｓ　。

Ｙ＝Ｈ＞への変換の具体例を以下に示すが、製法はこの
具体例に限られるものではない。

化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｂｎはベンジル基を示
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２Ｈｓ　）を塩化マグネシウムとジメ
チルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分離、精製し、化
合物（Ａ−２）（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｙ＝Ｈ）の１〜ランス体
、シス体を各々得ることができる。このものをパラジウ
ム触媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３＞（Ｘ＝
ＯＨ。

Ｙ＝Ｈ）とし、トリー〇−ブチルホスフィン、ジフェニ
ルスルフィドとピリジン中で反応させて化合物（Ａ−４
）（Ｘ＝ＳＣｅ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）を得る。

本発明の化合物Ａは前記反応経路（ｎ）に従って、光学
活性δラクトン化合物（９）とすることができる。以下
順に説明する。

ｂ）ヘミアセタール化合物（７）の合成化合物（Ａ−４
）（Ｘ＝ＳＣｅ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）をジイソブチルアル
ミニウムハイドライドなどの水素化アルミニウム試剤で
還元するとヘミアセタール（７−１）が得られる。反応
はテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル。

ジオキサンなどの不活性溶媒中、Ｏ〜−８０°の低温で
行う。化合物（７−２＞（Ｘ’　−Ｈ）は化合物（７−
１＞　　（Ｘ’　＝−８Ｃｓ　Ｒ５）をラネーニッケル
を用いて還元することにより得られる。

Ｃ）カルボン酸エステル化合物Ｂの合成化合物（７−１
）を−数式Ｒ３０ＣＯＣＨ−ＰＺＲ４（８）で表わされ
るｐ−イリド（式（８）で７は酸素、（ＯＲ３）２また
は（Ｃ６Ｈ５）２を、Ｒ４はＯＲ３またはＣａＨｓを、
Ｒ３は前記と同一のものを表わす。）と反応させて化合
物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ　：ＣＨ−ＣＨ，Ｘ’　−３Ｃｓ
Ｈｓ）を得る。化合物（Ｂ−１＞から化合物（Ｃ−２）
　　（Ｘ’　＝Ｒ１）へは工程４）二重結合の還元。

工程５）フェニルチオ基の還元、工程６）ニトリルの加
水分解、工程７）δラクトン環への閉環の４つの工程を
行うことにより達成できる。尚、化合物（７−２）（Ｘ
’　−Ｈ）を原料とした場合は工程５）は必要ない。

この４つの工程は工程７）のまえに工程６）を行う事を
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４）、５）の工程、６）、７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことかできる。すなわち、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸おるいはパラジウム、白金、ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸、
硫酸、臭化水素酸なとの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。

また工程７）のδラクトン環への閉環はニトリルの加水
分解で生じたカルボン酸を酸処理すれば達成できる。こ
れらの各工程を適宜選択すれば望ましい生成物を選択的
に得ることができる。

例えば化合物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ：ＣＨ＝ＣＨ。

Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈｓ　）を亜鉛−酢酸で還元すると化
合物（Ｂ−２＞　　（Ｄ−Ｅ　：ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　
＝ＳＣｃ＋　Ｈｓ　＞が得られ、化合物（Ｂ−１）（Ｄ
−Ｅ　：ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ’　−３Ｃａ　Ｈｓ　）をラネ
ーニッケルで還元するとフェニルチオ基の還元と二重結
合の還元が同時におこり、化合物（Ｂ−３）（Ｄ−Ｅ　
：　ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　＝Ｈ＞が得られる。

ｄ）δラクトン化合物Ｃの合成 上記化合物（Ｂ−３）のニトリル基を水酸化ナトリウム
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−２
＞　　（Ｘ’　＝１−１．　Ｒ３＝Ｈ）とし、低級アル
コールと酸触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと
反応させエステル化して化合物（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ
）とする。工程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（
Ｂ）から（Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）か
ら（９）への変換の際に行っても良い。この場合は化合
物（Ｂ）から（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくは
パラジウムや白金による水素化で行い、工程６）、７）
を前述の方法で行って（Ｅ合物（Ｃ−１）（Ｘ’　＝Ｓ
Ｃｓ　Ｈｓ　）を得、これをラネーニッケルで水素化し
、化合物（Ｃ−２）（Ｘ’　−ト１）としたのち最後の
分子内縮環反応を行う。

ここで得られたδラクトン化合物（△）、ヘミアセター
ル化合物（７）、カルボン酸エステル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に述べる光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を製造する上で重要な中間体である。

ｅ）δラクトン化合物（９）の合成 化合物（（、−２）（Ｘ’　＝Ｈ）の分子内縮環反応は
不活性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリ
コールジメチルエーテル、　ｔ−ブタノ−／し、ジメチ
ルホルムアミド ム−ｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどの塩基と反応させて公知の目
的物質，光学活性δラクトン化合物（９）を光学純度よ
く高収率で１ｑる事ができる。

（発明の効果） 本発明の光学活性化合物はδラクトン系抗生物質の母核
をなす化合物を製造する際の中間体として重要な化合物
であって、この化合物を用いることにより光学純度の高
いδラクトン化合物（９）を効率よく製造することがで
きる。

（実施例） 以下具体例を実施例にもとづき、述べる。

実施例１ 化合物（Ａ−１＞の合成 （６）　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−１＞
（Ｂｎはベンジル１，Ｅｔはエチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、シアン酢酸エチルニスデル１、２４０
　（　１１ｍＭ）を鉱油でけんだくした６０ｗ／ｗ％の
水素化ナトリウム４４０ｍ（］　（１１１１１１Ｍのテ
トラヒドロ７ラン１５威けんだく液中に水冷下で加え１
０分間至温で撹拌した。次に８体のα，β不飽和δラク
トン（６）　２．０（１　（９．１７ｍ）ｌ）のテトラ
ヒドロフラン、溶液５戒を水冷下ゆっくり加え、同温で
１時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル５０ｄで希
釈し、１０％塩酸を加え中和し、分液し、有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
上溶媒を留去すると１．４−付加体（Ａ−１＞が黄色油
状物質として３．５ｇ得られた。

’ＨＮＭＲ　（ＣＤＣｂ　） δ　：　　１．３２　　（３！−１，ｔ、　　Ｊ＝７．
１１１２　　）２．０　　（２Ｈ，ｍ＞ ２．６０　（２Ｈ，ｍ） ２．９０　（ＩＨ，ｍ＞ ３．６０　３Ｈ，ｍ） ４゜３０　２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７．１Ｈ２）４．５６　２
Ｈ，Ｓ） ４．６０　１Ｈ，ｍ＞ ７．３３　５Ｈ，ｓ＞ ＪＲ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４０．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ３３２　（Ｍ＋１　）　、　９１　（１００％〉ｍ−１ 実施例２ 化合物（Ａ−２＞の合成 （Ａ １） （Ａ−２） アルゴン気流下、上記１，４−付加体（Ａ−１＞３．５
ｇを水１０滴、塩化マグネシウム６水塩１．８６ｑ（９
，１７ｍＭ）とジメチルアセトアミド３０ｄ中で１７０
’Ｃ，１２時間加熱還流し、至温にもどしたのち、水と
ジエチルエーテルを加え、抽出分離し、水層は塩酸で酸
性にしたのち酢酸エチルで抽出した。有機層をあわせて
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去し、
残渣をベンゼン５０ｍ１にとかし、１２時間加熱還流し
た。次に反応液を減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン（１００：１ｖ／ｖ　）流出し、３Ｒ，５Ｓのδラク
トン化合物（Ａ−２）を無色油状物質として１．４７！
ＩＪ　（（６）より６２％）得た。更にエーテルで溶出
して３Ｓ、　５３のδラクトン化合物（Ａ−２＞１８５
ｍ１（６）より７．８％）を得た。３Ｒ，５Ｓのδラク
トン化合物（Ａ−２）のデータは次の通りである。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｆ１３） δ：１．７〜２．９　　（７日、　ｍ）３．６５　　　
　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝４．４Ｈｚ　）４．５８　　　　
（２１七Ｓ） ４．６（什１．　ｍ） ７．３３　　　　　（５Ｈ，５） ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９ａ０．２２５０．１７４０．　７４２．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ２５９　（Ｍ＋）　、　９１　（１００％）ｃｍ−を 実施例３ 化合物（Ａ−３＞の合成 （Ａ−２）　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−３）
上記３Ｒ，５３体のδラクトン化合物（Ａ−２’）１．
３８Ｑ　（５，３３ｍＭ＞を酢Ｉエチル４０威にとかし
、水酸化パラジウム１８０ｍｇ、濃塩酸１滴を加え水素
ガス雰囲気下苗温で３時間撹拌した。反応液をセライト
ろ過し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチル留分より化合物
（Ａ−３＞を無色油状物質として８６６、７ｍｇ得た。

収率９６％ ＩＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．６５〜３．１　（８Ｈ，ｍ＞ ３．７８　　　　　（２Ｈ，ｍ） ４．５７　　　　　（１ｆ−ｆ、　５ｅｘｔｅｔ、　　
Ｊ＝４■Ｒ（ｎｅａｔ） ３３３０、２２５０．１７３５　　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ
／ｅ １７０（Ｍ＋１＞、　　１３８（１００％）４＋１２ ） 実施例４ 化合物（Ａ−４＞の合成 （Ａ−３＞　　　　　　　　　　　　　　　（△−４）
（ｐｈはフェニル基を、３ｕはブヂル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、上記化合物（Ａ−３＞５０ｍｇ（０，
２９６ｍＭ）　、ジフェニルジスルフィド１９３ｍ（１
（０，８８８ｍ）ｌ）　、　　ｔ’リーｎ−プチルフォ
スフィン０．２２ｍ１　（０，８８８ｍＭ＞をピリジン
２ｄに加え、室温で１２時間撹拌する。反応液を酢酸エ
チル３０ｍ１で希釈し、１０％塩酸で洗浄し、次いで飽
和硫酸銅水溶液、飽和重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒沼去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エ
ーテル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４）　７１
ｍ０　（９２％）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｂ　） δ：１．８５〜２．７５（仕１１ｍ） ２．９４　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１４．５．９．
０Ｈ７）３．３０　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１４．
５．５．８＋１Ｚ　）４．４５　　　　（１Ｎ、　ｔｔ
、　Ｊ＝　９．０．５．８ｔｌｚ　）７．３０　　　　
　　　（５Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９３０、２２５０．１７４０．　７４０．　６９５　
　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ／ｅ ２６１　（Ｍ十　）、　　１２３　（１００％）合成例 化合物（７−１）の合成 （Ａ−４＞　　　　　　　　　　　　　（７−１）アル
ゴン気流下、上記フェニルスルフィド（Ａ−４）　　９
８４ｍｇ（３，７７ｍ１４）のテトラヒドロフラン溶液
２５ｍ１に一３０℃撹拌下ジイソブチルアルミニウムハ
イドライドの２Ｍトルエン溶液２ｍ１（４ｍＨ）をゆっ
くり加え、−３０’Ｃで１０分間撹拌した。反応液に１
０％Ｎａｏ！−（水溶液を少咄加え、室温で２時間撹拌
し、セライトろ過した後、減圧上溶媒を苗去し、ヘミア
セタール（７−１）　　９８６ｍｇを得た。

ＩＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．５〜１．９　　（４１−１，ｍ＞２．２〜２．
５　　（２Ｈ，ｍ＞ ２．７　　　　　（１Ｈ，ｍ＞ ２．９〜３．６　　（２Ｈ，ｍ） ３、γ〜４．４　　（ＩＨ，ｍ） ５．０〜５．４　　（ＩＨ，ｍ＞ ７．２〜７．４５　（５Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２９１０．２２５０．　７４５．　６９５Ｍ
５　　ｍ／ｅ ２６３　（Ｍ＋　）　、　　１２／ｌ　（１００％）化
合物（Ｂ−１）の合成 ｍ−１ （７−１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　＜８−１　）アルゴン気流下、上記ヘミアセタール（
７−１＞９８６ｍｇ（３，７５ｍ）ｌ）の塩化メチレン
溶液２０ｄにトリフェニルフォスフインのエトキシカル
ボニルメチルイリド３．９ｇ（１１，２５ｍ）ｌ）を加
え、室温で１５時間撹拌する。反応液を減圧上溶媒留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸
し、エーテル：ヘキサン（３：１　ｖ／ｖ）留分より５
−シアンメチル−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオオ
クタ−２−エノイックアシッドエチルエステル（Ｂ−１
＞を１．０３（１（８２％）無色油状物質とじて得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤ（Ｊ３　　） δ　：１．２９　　　　　　（３Ｈ，ｔ、　　Ｊ＝７．
１）１２　　＞１．６０　　　　（２Ｈ，ｍ＞ ２．０〜２．７　　（５Ｈ，ｍ＞ ２．８８　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１３．９．８．
８ｔｌｚ　）３．１５　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１
３．９．３．７Ｈｚ　＞３．７０　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ４．９０　　　　　（２Ｈ，Ｑ、、　Ｊ＝　７．１Ｈ２
）５．９０　　　　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝１５．６１
１２）６．８０　　　　　（ＩＨ，ｄｔ、　　Ｊ＝１５
．６．７．１Ｈｚ　）ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４５０、２９１０．２２５０．１９１０．１６５０゜
７４０、　６９０　　ｃｍ−１ ＭＳ　　ｍ／ｅ ３３３　（Ｍ”　）　、　　１２４　（１００％）化合
物（Ｂ−３＞の合成 （Ｂ−１） （Ｂ−３＞ （Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。）上記化合物（
Ｂ−１）　８７ｎ＋ｇ　（０，２６ｎ＋Ｈ）のエタノー
ル１ｄ溶液にラネーニッケル０．６ｍＭのエタノール溶
液０．６ｄを加え、９０℃で２０分加熱還流した後、反
応液をセライトろ過し、減圧下溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：
ヘキサン（７：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より化合物（Ｂ−３＞
３７．２ｍｃ＋（６３％）を無色油状物質として得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤ（１’３　） δ：１．２３　　　　＜　３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ
　＞１．２６　　　　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ　
）１．４〜１．８　　（７Ｈ，ｍ＞ １．９５　　　　（ＩＨ，ｍ） ２．３３　　　　（２Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．６Ｈｚ　）２
．４８　　　　　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．４ＮＺ３．９
０　　　　　（１Ｈ，ｍ＞ ４．１４　　　　　（２Ｈ，ｑ、　　Ｊ＝７．１Ｈｚ（
Ｒ（ｎｅａｔ） ３４００、２２５０．１７２５　　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ
／ｅ ２２８　（Ｍ＋１　）　、　　１６４　（１００％）化
合物（Ｃ−２＞の合成 ） ） （Ｂ−３＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　（Ｃ−２＞アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３＞　
　２５０！１１１Ｊ（１，１ｍＭ＞を３０％水酸化カリ
ウム水溶液１ｍｌ、エタノール８ｍｆ！にとかし、１２
時間加熱還流した。反応液にエーテル３０威、水２０威
を加え、抽出分離し、水層に１！塩酸を加え酸性とし、
塩化メチレンで抽出した。有機層をあわせて無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣を塩
化メチレンでとかし、ジアゾメタンのエーテル溶液を加
えてメチルエステルとした。これを減圧上溶媒留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エ
ーテル：ヘキサン（１：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より（Ｃ−２
）　　１９２．１ｍａ（８２％）を無色結晶として１ｑ
た。

ｍｐ　　　　７２．５〜７３°Ｃ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：１．３８　　　　（３１〜Ｉ、　ｄ、　Ｊ＝８゜３
ｔｌｚ　）１．１〜２．９　　（１１Ｈ，ｍ＞ ３．６８　　　　　　　　（３ｆ−１，ｓ）４．４　　
　　　（ＩＨ，ｍ） Ｉ　Ｒ（ＣＨＣｂ　）　　　２９００．１７２０　　ｃ
ｍ−’ＭＳ　　ｍ／ｅ ２１５　（Ｍ＋１　）　、　７４　（１００％）化合物
（９）の合成 （Ｃ−２＞ （９） アルゴン気流下、化合物（Ｃ−２＞　　１７８ｍｇ（０
，８３ｍ）！＞のテトラヒドロフラン溶液２ｄをカリウ
ム−ｔ−ブトキシド２８９．５ｍ（Ｊ　（２，６８ｎ＋
Ｈ）のテトラヒドロフランけんだく液８ｒＩ１１に室温
で加え、更に同温度で１０分間撹拌した。反応液に水２
０ｄ、エーテル３０ｒＩｔｌを加え、抽出分離した。水
層をｇ塩酸で酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有機層
を必わせで無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、エーテル：ヘキサン（１：５　Ｖ／Ｖ）
留分より化合物（９）　　１０６ｍｇ（７０％）を無色
針状晶として得た。

ｍ０１２１〜１２２°Ｃ （ｌｉｔ、　ｍｌ）　１２０〜１２１℃、Ｆ、ｌＩ。５
ｔｏｄｏｌａ、ｅｔ　ａｌ。

Ｂｉｏｃｈｅｍ、　Ｊ、　、　９３．９２（１９６４）
　）［α］￥＋１８，１°　（Ｃ＝１．０３．エタノー
ル）（ｌｉｔ、　［α］Ｄ→−１８，２°　（ｃｍ１．
ｔ５．エタノール。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（Ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ） （Ｘは水酸基、フェニルチオ基若しくは−ＯＲ＾１を、
   Ｙは水素原子若しくは−ＣＯ＿２Ｒ＾３を表わす。Ｒ＾
   １はアラルキル基、アルキルオキシアルキル基、アルケ
   ニル基及び環内に異項原子を含むシクロアルキル基から
   選ばれた容易に脱離可能な保護基を、Ｒ＾３は低級アル
   キル基、アルケニル基若しくはベンジル基を表わす。＊
   は不斉炭素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物。
2. （２）一般式（Ａ）において、Ｒ＾１がベンジル、ｐ−
   クロルベンジル、ｐ−メトキシベンジル基からなるアラ
   ルキル基、メトキシメチル、ｔ−ブトキシメチル、１−
   エトキシエチル、１−イソプロポキシエチル基からなる
   アルキルオキシアルキル基、アリル、メタリル基からな
   るアルケニル基及びテトラヒドロフラニル、テトラヒド
   ロピラニル基からなる環内に異項原子を含むシクロアル
   キル基の中から選ばれる容易に脱離可能な保護基である
   請求項１記載の光学活性δラクトン化合物。