JPH03112980A - 光学活性δラクトン化合物の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はアクチノボリンやバタトポリン等のδラクトン
系抗生物質の母核をなす式（９）（式中＊は不斉炭素を
表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物の製法に関する
。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）上記式
（９）で表わされるδラクトン化合物の製造に関しては
、ラセミ体についてはＲ，Ｃ０ｒｄＯＶａ等（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、、２５．２９４５（１９８
４）　’）　、　Ｋ、Ｈ。

ＰｉｅｔｒｕＳｉｅＷｉＣＺ等（Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ
、　５３．２８３７（１９８８）　）が報告しているが
光学活性体についてはに、トｔｏｒｉ等（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ、　、　４１．５２９５　（１９８５）　）
が知られているのみでおる。

光学純度の高い該化合物を容易に収率よく得る方法は未
だ知られていない。

（課題を解決するための手段） 本発明者は上記の点に鑑み、効率よく、ラセミ化を起す
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検討した結果、下記反応経路（［）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラク］〜ン化合物（９）が容易に得られ
ることを見出した。

反応経路（ｎ） （６） （Ａ） （７） （Ｂ） 本発明はこの反応経路（ｎ）により１ｑられるδラクト
ン化合物（９）の製法を提供するものである。

すなわち本発明は、 式（９） く＊は不斉炭素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造するに必
たり、−数式（Ｃ） （Ｒ３は低級アルキル基、アルケニル基又はベンジル基
を、Ｘ′は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉炭
素を表わす。） で表わされるδラクトン化合物を塩基と反応させること
を特徴とする光学活性δラクトン化合物の製法でおる。

本発明に用いる、−数式（Ｃ）で表わされる化合物（Ｃ
）のＲ３としては、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル基等炭素数１〜
５のアルキル基、アリル。

２−メチルアリル、２−ブテニル、３−ブテニル。

２−ペンテニル基等炭素数３〜５のアルケニル基又はベ
ンジル基を挙げることができる。

本発明の化合物（９）は化合物（６）から化合物（Ｃ）
を経て合成され、化合物（６）は、反応経路（１）に従
って、グリシジルエーテル（２）から合成される。

すなわら、光学活性なα、β不飽和δラクトン化合物（
６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機合
成化学協会誌４５巻、　１１５７頁（１９８７））によ
りグリシジルエーテル（２）から、反応経路（Ｉ＞に示
すようにして製造することができる。

反応経路（１） （２） （３） （４） （５）　　　　　　　　　　　　　　　（６）反応経路
（Ｉ）においてＲ１は容易に脱離可能な保護基を表わし
、具体的にはベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ク
ロルベンジル基等のアラルキル基、メトキシメチル、ｔ
−ブトキシメチル。

１−エトキシエチル、　１−イソプロポキシエチル基等
のアルキルオキシアルキル基、アリル、メタリル基等の
アルケニル基又はテトラヒドロフフニル、テトラヒドロ
ピラニル基等の環内に異項原子を含むシクロアルキル基
を表わす。またＲ２はｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブ
チル、メチルなどの低級アルキル基を表わす。＊は不斉
炭素を表わす。

前記反応経路（ｎ）において、Ｘは水酸基、フ工二ルヂ
オ塞若しくは一０Ｒ１を、Ｙは水素原子若しくは−ＣＯ
２Ｒ３を表わす。Ｘ′とＲ１及びＲ３は上記と同一のも
のを表わす。

以下詳細反応経路（ＩＩａ）、（Ｉ［ｂ）に従って、こ
の化合物（６）より出発して化合物（Ｃ）より本発明の
化合物（９）を合成する方法を詳細に説明する。

詳細反応経路（ＩＩａ） 詳７＋Ｌ８１反応経路（Ｉ［Ｉ）） （９） ａ）δラクトン化合物への合成 光学活性α、β不飽和δラクトン化合物（６）に不活性
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、トルエン、ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステル（式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中のＲ３は前記と同一のものを表わす。）のアニ
オンを１，４−付加させて化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＲ
１、Ｙ−ＣＯ２Ｒ３）を合成し、これから工程１）エス
テルの加水分解と脱炭酸、工程２）保護基の脱離。

工程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い
、化合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝ト１）
を合成する。

１）エステルの加水分解と脱炭酸、２）保護基の脱離、
３）生じた水１ｇのフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）→１）→３）でも、２）
→３）→１）でも良い。

１）、２）、３）の工程は各々それ自体公知の方法によ
って行うことができる。

工程１）はアルカリあるいは酸触媒を用い、含水溶媒中
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どを用いることができる。

酸としては硫酸、塩酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱酸
あるいは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸銅などのル
イス酸を用いることができる。溶媒としては極性溶媒、
例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、アセトニトリル。

アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメヂルアゼトアミ
ドなどが使用できる。

工程２）の保護基の脱離は選択させるＲ１により適宜様
々の方法を使いわけることができる。例えばＲ１がベン
ジル、アリル基のときはパラジウム触媒を用いて水素化
分解あるいは異性化分解の手法が、メトキシメチルや１
−エトキシエヂルの場合は鉱酸や有機酸、ルイス酸を用
いて含水溶媒中で加水分解する手法が使用できる。水ｙ
Ｂをフェニルチオ基に変換する工程３）はトリフェニル
ホスフィン、トリーローブチルホスフィン、１，２−ビ
ス（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィン
の存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールをピ
リジン、トリエチルアミンなどを溶媒として反応させる
ことにより達成できる。

また化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ１、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）
を工程２）→３）→１）の経路で反応さけると化合物（
Ａ−５＞（Ｘ＝Ｏ）−１，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）、（Ａ−６
）（Ｘ＝ＳＣａ　Ｈｓ　、Ｙ−ＣＯ２Ｒ３）を経て化合
物（Ａ−４＞（Ｘ−３Ｃｅ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）に導くこ
ともできる。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ’　、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）か
ら化合物（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ。

Ｙ＝Ｈ＞への変換の具体例を以下に示すが、製法はこの
具体例に限られるものではない。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｂｎはベンジル基を示
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２Ｒ５）を塩化マグネシウムとジメチ
ルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで分離、精製し、化合
物（Ａ−２）（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｙ＝Ｈ）のトランス体、シ
ス体を各々得ることができる。このものをパラジウム触
媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３＞（Ｘ＝ＯＨ
。

Ｙ＝Ｈ）とし、トリーローブチルホスフィン、ジフェニ
ルスルフィドとピリジン中で反応させて化合物（Ａ−４
＞（Ｘ−８Ｃｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ＞を得る。

ｂ）へミアセタール化合物（７）の合成化合物（Ａ−４
＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）をジイソブチルアル
ミニウムハイドライドなどの水素化アルミニウム試剤で
還元するとヘミアセタール（７−１＞が得られる。反応
はテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル。

ジオキサンなどの不活性溶媒中、０〜−８０’の低温で
行う。化合物（７−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）は化合物（７−
１＞　　（Ｘ’　＝−８Ｃａ　Ｈｓ　）をラネーニッケ
ルを用いて還元することにより得られる。

Ｃ）カルボン酸エステル化合物Ｂの合成化合物（７−１
＞を−数式Ｒ３０ＣＯＣＨ＝ＰＺＲ４（８）で表わされ
るｐ−イリド（式（８）で７は酸素、（ＯＲ３）２また
は（０６Ｈｓ　）　２を、Ｒ４はＯＲ３またはＣ６Ｈ５
を、Ｒ３は前記と同一のものを表わす。）と反応させて
化合物（Ｂ−１）　　　（Ｄ−Ｅ　　：ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ
’　　＝ＳＣａ１−１ｓ＞を得る。化合物（Ｂ−１＞か
ら化合物（Ｃ−２）（Ｘ’　＝Ｈ）へは工程４）二重結
合の還元。

工程５）フェニルチオ基の還元、工程６）ニトリルの加
水分解、工程７）δラクトン環への閉環の４つの工程を
行うことにより達成できる。尚、化合物（７−２）（Ｘ
’　−ト１）を原料とした場合は工程５）は必要ない。

この４つの工程は工程７）のまえに工程６）を行う事を
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４）、５）の工程、６）、７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことができる。すなわち、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸あるいはパラジウム、白金、ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸、
硫酸、臭化水素酸なとの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。

また工程７）のδラクトン環への閉環はニトリルの加水
分解で生じたカルボン酸を酸処理すれば達成できる。こ
れらの各工程を適宜選択すれば望ましい生成物を選択的
に得ることができる。

例えば化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ：ＣＨ＝ＣＨ。

Ｘ’　−８Ｃｓ　Ｈｓ　）を亜鉛−酢酸で還元すると化
合物（Ｂ−２）（Ｄ−Ｅ　；ＣＨ２ＣＨ２、Ｘ’　＝Ｓ
Ｃｅ　Ｈｓ　）が得られ、化合物（Ｂ−１＞（Ｄ−Ｅ　
：ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈｓ　）をラネーニッ
ケルで還元するとフェニルチオ基の還元と二重結合の還
元が同時におこり、化合物（Ｂ−３＞（Ｄ−Ｅ　：　Ｃ
Ｈ２ＣＨ２、Ｘ’　−Ｈ）が１昇られる。

ｄ）δラクトン化合物Ｃの合成 上記化合物（Ｂ−３＞のニトリル基を水酸化ナトリウム
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−２
＞（Ｘ’　＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ）とし、低級アルコールと酸
触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと反応させエ
ステル化して化合物（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）とする。

工程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（Ｂ）から（
Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）から（９）へ
の変換の際に行っても良い。この場合は化合物（Ｂ）か
ら（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくはパラジウム
や白金による水素化で行い、工程６）、７）を前述の方
法で行って化合物（Ｃ−１＞（Ｘ’　＝ＳＣａ　ｈｌｓ
　）を得、これをラネーニッケルで水素化し、化合物（
Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ＞としたのち最後の分子内縮環反
応を行う。

ここで得られたδラクトン化合物（Ａ）、ヘミアセター
ル化合物（７）、カルボン酸エステル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に述べる光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を製造する上で重要な中間体でおる。

ｅ）δラクトン化合物（９）の製造 化合物（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）の分子内縮環反応は不
活性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ｔ−ブタノール、ジメチルホル
ムアミドなどを用い、カリウム−ｔ−ブトキシド、水素
化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の塩基と反応させて公知の目的物質、光学活性δラクト
ン化合物く９）を光学純度よく高収率で得る事ができる
。

（発明の効果） 本発明はδラクトン系抗生物質の母核をなす化合物の製
法であり、本発明により光学純度の高いδラクトン化合
物（９）を効率よく製造することができる。

（実施例） 以下具体例を実施例にもとづき、述べる。

実施例１ １）化合物（Ａ−１）の合成 （６） （Ａ−１） （Ｂｎはベンジル１．Ｅｔはエチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、シアノ酢酸エチルエステル１．２４ｇ
（１１＋ｎＨ）を鉱油でけんだくした６０Ｗ／Ｗ％の水
素化ナトリウム４４０ｍ（１（ＩＩＩＩＩＨ）のテトラ
ヒドロフラン１５ｒｄけんだく液中に水冷下で加え１０
分間至空温撹拌した。次に８体のα、β不飽和δラクト
ン（６）２、Ｏａ　（９，１’ｉ’ｍＭ＞のテトラヒド
ロフラン溶液５ｄを水冷下ゆっくり加え、同温で１時間
撹拌した。反応液をジエチルエーテル５０ｍで希釈し、
１０％塩酸を加え中和し、分液し、有ｔＪ層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶
媒を留去すると１，４−付加体（Ａ−１＞が黄色油状物
質として３．５ｇ得られた。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＯ２３＞ δ：１．３２　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈ２）２．０
　　（２１−１，ｍ） ２．６０　（２Ｈ，ｍ＞ ２．９０（什（２ｍ） ３．６０　（３Ｈ，ｍ＞ Ｊ＝７．１Ｈｚ ４．３０（２Ｈ，ｑ。

４．５６　（２Ｈ，Ｓ　） ４．８０　（ＩＨ，ｍ） ７．３３（５Ｈ，５） ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４ｏ、　２２５０．１７４０゜ ｍ／ｅ ３３２　（Ｍ＋１　＞　、　９１　（ ２）化合物（Ａ−２＞の合成 ７４０゜ Ｓ ００ １００％） ） ｃｍ”４ （Ａ−１）　　　　　　　　　　　　　＜Ａ−２＞アル
ゴン気流下、上記１，４−付加体（Ａ−１＞３．５ｇを
水１０滴、塩化マグネシウム６水塩１．８６ｇ（９，１
７ｍＭ）とジメチルアセトアミド３０ｍ１中で１７０’
Ｃ，１２時間加熱還流し、￥温にもどしたのち、水とジ
エチルエーテルを加え、抽出分離し、水層は＠酸で酸性
にしたのち酢酸エチルで抽出した。有機層をあわぜて無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去し、残
漬をベンゼン５０ｄにとかし、１２時間加熱還流した。

次に反応液を減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン（
１００：ＩＶ／Ｖ　）流出し、３Ｒ，５３のδラクトン
化合物（八−２）を無色油状物質として１．４７（］　
（（６）より６２％）得た。更にエーテルで溶出して３
Ｓ、　５３のδラクトン化合物（Ａ−２＞　　１８５ｍ
（１（（６）より７．８％）を得た。３Ｒ，５３のδラ
クトン化合物（Ａ２）のデータは次の通りである。

’ｆ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣＩ！：＋　　）δ：１．７〜２
．９　　（７Ｈ，ｍ＞ ３．６５　　　　　　　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝４．４
Ｈｚ　　＞４．５８　　　　（２Ｈ，ｓ＞ ４．６　　　　　（ＩＨ，ｍ） ７．３３　　　　（５Ｈ，ｓ） ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４２．　７００　
　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２５９　（Ｍ十　）、９１　（１００％）３）化合物（
Ａ−３＞の合成 （Ａ−２＞　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−３＞
上記３Ｒ，５３体のδラクトン化合物（Ａ−２’）１、
３８ｇ　（５，３３ｍＭ　）を酢［エチル４０ｍｅにと
かし、水酸化パラジウム１８０ｍ０．濃塩酸１滴を加え
水素ガス雰囲気下空温で３時間撹拌した。反応液をセラ
イトろ過し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル密会より化
合物（Ａ−３＞を無色油状物質として８６６、７１１１
ｇ得た。収率９６％’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：１．６５〜３．１　（８Ｈ，ｍ＞ ３．７８　　　　（２Ｈ，ｍ） ４．５７　　　　（ＩＨ，５ｅｘｔｅｔ、　Ｊ＝４．４
Ｈｚ　＞ＩＲ（ｎｅａｔ） ３３３０、２２５０．１７３５　　ｃｎｒｉＭＳ　　ｍ
／ｅ １７０（Ｍ＋１＞、　　　１３８（ｌｏｏ％）４）化合
物（Ａ−４）の合成 （Ａ−３）　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−４＞
（ｐｈはフェニル基を、１３ｕはブチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、上記化合物（Ａ−３）５０ｍ（］（０
０，２９６８Ｍ　、ジフェニルジスルフィド１９３ｍｇ
（０，８８８ｍＭ＞　、　　トリー〇−ブチルフがスフ
ィン０．２２ｄ　（０，８８８ｍＭ＞をピリジン２ｒＩ
Ｉｌに加え、空温で１２時間撹拌する。反応液を酢酸エ
チル３０ｍ１で希釈し、１０％塩酸で洗浄し、次いで飽
和硫酸銅水溶液、飽和重曹水、飽和食塩水の順に洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ甘し、
エーテル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４＞　７
１ｍｇ　（９２％）を得た。

１ＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．８５〜２．７５（ ２，９４（ ３，３０（ ４，４５（ ７，３０（ ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９３０、２２５０゜ ＭＳ　　ｍ／ｅ ２６１　（Ｍ＋　＞ ５）化合物（７−１ γｌ−（、ｍ＞ ＩＨ，（１（１，Ｊ＝１４．５．９．ＯＨ２）ＩＨ，ｄ
ｄ、　Ｊ＝１４．５．５．８Ｈ２”）ＩＨ，ｔｔ、　Ｊ
＝　９．０．５．８ｔｌＺ　）５Ｈ，ｍ） １７４０、　７４０．　６９５ ｍ−１ 、１２３（１００％） ）の合成 ＜Ａ−４）　　　　　　　　　　　　　　　　　（７−
１）アルゴン気流下、上記フェニルスルフィド〈Ａ−４
＞　　９８４＋ｎｇ（３，７７ｍ）Ｉ）のテトラヒドロ
フラン溶液２５ｍ１に一３０’Ｃ撹拌下ジイソブチルア
ルミニウムハイドライドの２Ｍトルエン溶液２ｄ　（４
１１１Ｈ）をゆっくり加え、−３０℃で１０分間撹拌し
た。反応液に１０％ＮａＯＨ水溶液を少量加え、空温で
２時間撹拌し、セライトろ過した後、減圧上溶媒を留去
し、ヘミアセタール（７−１＞９８６…ｑを得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＪ１３　） δ：１．５〜１．９　　（４Ｈ，ｍ＞ ２．２　〜２．５　　　（２Ｈ，ｍ） ２．７　　　　（１）−１，ｍ） ２．９〜３．６　　（２ｆ−１，ｍ＞ ３．７〜４．４　　（ＩＨ，ｍ＞ ５．０〜５．４　　（１Ｈ，ｍ＞ ７．２〜７．４５　（５Ｈ，ｍ） ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２９１０．２２５０．　７４５．　６９５　
　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２６３　（Ｍ＋　）　、　　１２４　（１００％）６）
化合物（Ｂ−１）の合成 （７−１） ＜８−１） アルゴン気流下、上記へミアセタール（７−１＞９８６
ｍｇ　（３，７５ｍＭ＞の塩化メチレン溶液２（）ｄに
トリフェニルフォスフインのエトキシカルボニルメチル
イリド３，９ｇ　（１１，２５ｍＭ）を加え、空温で１
５時間撹拌する。反応液を減圧上溶媒留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：
ヘキサン（３：１　ｖ／ｖ）留分より５−シアンメチル
−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオオクタ−２−エノ
イックアシッドエチルエステル（Ｂ−１＞を１．０３（
］　（８８２％無色油状物質として得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｂ　） δ：１．２９　　　　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．ｆｌｚ　
）１．６０　　　　　　　　　２Ｈ，ｍ）２．０〜２．
７　　５Ｈ，ｍ＞ ２．６８　　　　１Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝１３．９．８．８
１１７）３．１５　　　　　１Ｈ，（ｌｄ、　Ｊ＝１３
．９．３．７Ｈ２）３．７０　　　　　１Ｈ，ｍ＞ ４．９０　　　　（２Ｈ，Ｑ、　Ｊ＝　７．１ｔｌＺ）
５．９０　　　　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５．６１１２）
６．８０　　　　　　（１七　ｄｔ、　　Ｊ＝１５．６
■Ｒ（ｎｅａｔ） ３４５０、２９１０．２２５０．１９１０．１６５０゜
７４０、　６９０　　ｃｍ−１ ＭＳ　　ｍ／ｅ ３３３　（Ｍ＋　）　、　　１２４　（１００％）７）
化合物（Ｂ−３＞の合成 ７、１Ｈ２ ） （Ｂ−１＞　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｂ−
３）（Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。〉上記化合
物（Ｂ−１）　８７ｍｇ　（０，２６ｍＭ＞のエタノー
ル１ｒｎｌ溶液にラネーニッケル０．６ｍｔ４のエタノ
ール溶液０，６ｍｌを加え、９０’Ｃで２０分加熱還流
した後、反応液をセライトろ過し、減圧上溶媒を留去し
、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
エーテル：ヘキサン（７：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より化合物
（Ｂ−３＞　３７．２ｍｇ（６３％）を無色油状物質と
して得た。

１ＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．２３　　　　３Ｈ。

１．２６　　　　３１−（。

１．４〜１．８　　　　７Ｈ。

１．９５　　　　　　１七 ２．３３　　　　２１−（。

２．４８　　　　２Ｈ。

３．９０　　　　　１Ｈ。

４．１４　　　　　２日。

ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２２５０．１７２５　　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ
／ｅ ２２８（Ｍ＋１）、　　１６４（ ８）化合物（Ｃ−２＞の合成 ｄ、　　Ｊ＝６．３Ｈｚ　＞ ｔ、　　Ｊ＝７．１１１２　） ｍ） ｍ） ｔ、　Ｊ＝６．６ｔ＋Ｚ　） ｄ　　Ｊ＝５．４ＮＺ　） ｍ） ｑ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ　） １００％） （Ｂ−３＞ （Ｃ ２） アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３＞　　２５Ｏｎ＋
ｇ（１，１１１１Ｍ）を３０％水酸化カリウム水溶液１
ｍ！、エタノール８ｒｎｉにとかし、１２時間加熱還流
した。反応液にエーテル３０７．水２０ｄを加え、抽出
分離し、水層に濃塩酸を加え酸性とし、塩化メチレンで
抽出した。有機層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧上溶媒を留去した。残渣を塩化メチレンでと
かし、ジアゾメタンのエーテル溶液を加えてメチルエス
テルとした。これを減圧上溶媒留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン（１：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より（Ｃ−２）　　ｉ９ｚ、
ｔｍｇ（８２％）　ラミ色結晶として得た。

ｍｐ　　　　７２．５〜７３℃ １ＨＮＭＲ（ＣＤα３） δ　：１．３８　　　　　　　　（３日、　　ｄ、　　
Ｊ＝６．３ｔｌｚ　　）１．１　〜２．９　　　（１１
Ｈ，ｍ＞３゜６８　　　　　　　　（３Ｈ，ｓ＞４．４
　　　　　　　　　（１Ｈ，ｍ）ＩＲ（ＣＨＣＪＩ！３
　）　　　２９００．１７２０　　ｃｍ−’ＭＳ　　ｍ
／ｅ ２１５　（Ｍ＋１　＞　、　７４　（１００％）９）化
合物（９）の合成 （Ｃ−２＞　　　　　　　　　　　　　　　　（９＞ア
ルゴン気流下、化合物（Ｃ−２）　　１７８ｍｇ（０，
８３ｍＭ）のテトラヒドロフラン溶液２ｄをカリウム−
１−ブトキシド２８９．５ｍ（１（２，６８ｍ）ｌ）の
テトラヒドロフランけんだく液８Ｉｒｉｌに空温で加え
、更に同温度で１０分間撹拌した。反応液に水２０威、
エーテル３０ｒｎＩ！を加え、抽出分離した。水層を濃
塩酸で酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有機層をあわ
せて無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒
を留去し、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、エーテル：ヘキサン（１：５　ｖ／ｖ）留分よ
り化合物（９）　　１０６…ｑ（７０％）を無色針状晶
として得た。

ｍｌ）　　　１２１〜１２２℃ （ｌｉｔ、　ｍｐ　１２０〜１２１°Ｃ，Ｆ、Ｈ，５ｔ
ｏｄｏｌａ、ｅｔ　ａｌ。

Ｂｉｏｃｈｅｍ、Ｊ、、９３．９２（１９６４））［α
］Ｖ＋１８．１°　（ｃ＝１．０３．エタノール）（ｌ
ｉｔ、　［α］　Ｄ＋１８．２°　（ｃ＝１．１５．エ
タノール。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 式（９） ▲数式、化学式、表等があります▼（９） （＊は不斉炭素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造するにあ
   たり、一般式（Ｃ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｃ） （Ｒ＾３は低級アルキル基、アルケニル基又はベンジル
   基を、Ｘ′は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉
   炭素を表わす。） で表わされるδラクトン化合物を塩基と反応させること
   を特徴とする光学活性δラクトン化合物の製法。