JPH03112976A - 光学活性δラクトン化合物の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はアクヂノボリンやバタトボリン等のδラクトン
系抗生物質の母核をなす式（９）（式中＊は不斉炭素を
表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物を製造する際の
中間体に関する。

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）上記式
（９）で表わされるδラクトン化合物の製造に関しては
、ラセミ体についてはＲ，Ｃｏｒｄｏｖａ等　（丁ｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔ、、２５．２９４５（１
９８４）　　）　　、　　に、ＨｌＰｉｅｔｒｕＳｉｅ
ＷｉＣＺ等（Ｊ、０ｒ（１，Ｃｈｅｍ、、５３．２８３
７（１９８８）　）が報告しているが光学活性体につい
てはに、）ＩＯｒｉ等（Ｔｅｔｒａｈｃｄｒｏｎ、　皿
５２９５　（１９８５）　）が知られている−のみであ
る。

光学純度の高い該化合物を容易に収率よく得る方法は未
だ知られていない。

（課題を解決するための手段） 本発明者は上記の点に鑑み、効率よく、ラセミ化を起す
ことなく簡単な反応経路で、収率よくδラクトン化合物
を得る目的で鋭意検討した結果、下記反応経路（ｎ）に
従い、光学活性δラクトン化合物（６）から光学純度の
高い光学活性δラクトン化合物（９）が容易に得られる
ことを見出した。

反応経路（Ｉ［） （６） （△） （７） 本発明はこの反応経路（ＩＩ）において１９られる中間
体を提供するものである。

すなわち、本発明は 一般式（Ｃ） （Ｒ３は低級アルキル基、アルケニル基又はベンジル基
を、Ｘ′は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉炭
素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物（Ｃ）を提供す
るものである。

一般式（Ｃ）で表わされる化合物（Ｃ）のＲ３としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
　ｔ−ブチル、ペンチル基等炭素数１〜５のアルキル基
、アリル、　２−メチルアリル。

２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペンテニル基等炭素
数３〜５のアルケニル基又はベンジル基を挙げることが
できる。

本発明の化合物（Ｃ）は化合物（６）から化合物（Ｂ）
を経て合成され、化合物（６）は、反応経路（１）に従
って、グリシジルエーテル（２）から合成される。

すなわち、光学活性なα、β不飽和δラクトン化合物（
６）は、既に本発明者らにより開示された方法（有機合
成化学協会誌４５巻、　１１５７頁（１９８７）　）に
よりグリシジルエーテル（２）から、反応経路（Ｉ＞に
示すようにしてＩｎすることができる。

反応経路（１） （２） （３） （４） （５） （６） 反応経路（Ｉ＞においてＲ１は容易に脱離可能な保護基
を表わし、具体的にはベンジル、ｐ−メトキシベンジル
、０−クロルベンジル基等のアラルキル基、メトキシメ
チル、ｔ−ブトキシメチル。

１−エトキシエチル、１−イソプロポキシエチル基等の
アルキルオキシアルキル基、アリル、メタリル基等のア
ルケニル基又はテトラヒドロフラニル、テトラヒドロピ
ラニル基等の環内に異項原子を含むシクロアルキル基を
表わす。またＲ２はｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチ
ル、メチルなどの低級アルキル基を表わす。＊は不斉炭
素を表わす。

前記反応経路（ｎ）において、Ｘは水酸基、フェニルチ
オ基若しくは一０Ｒ１を、Ｙは水素原子若しくは一〇〇
２Ｒ３を表わす。Ｘ′　とＲ１及びＲ３は上記と同一の
ものを表わす。

以下詳細反応経路＜ＩＩａ）、（Ｉ［ｂ）に従って、こ
の化合物（６）より出発して化合物（Ｂ）より本発明の
化合物（Ｃ）を合成する方法を詳細に説明する。

詳細反応経路（Ｉ［ａ） ｆＪＮ１反ｌ１５７１１Ｖ路（ＩＩ　ｂ　）（９） ａ）δラクトン化合物Ａの合成 光学活性α、β不飽和δラクトン化合物（６）に不活性
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、トルエン、ジメチルホルムアミドな
どの溶媒中シアノ酢酸エステル（式ＣＨ２（ＣＮ）ＣＯ
２Ｒ３中のＲ３は前記と同一のものを表わす。）のアニ
オンを１，４−付加させて化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ
１、Ｙ−ＣＯ２Ｒ３）を合成し、これから工程１）エス
テルの加水分解と脱炭酸、工程２）保護基の脱離。

工程３）生じた水酸基のフェニルチオ基への変換を行い
、化合物（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝ｌ−（
＞を合成する。

１）エステルの加水分解と脱炭酸、２）保護基の脱離、
３）生じた水Ｍｌのフェニルチオ基への変換の工程の順
序は１）→２）→３）でも２）−〉１）→３）でも、２
）→３）→１）でも良い。

１）、２＞、３）の工程は各々それ自体公知の方法によ
って行うことができる。

工程１）はアルカリあるいは酸触媒を用い、含水溶媒中
で加熱還流して行う。アルカリとしては炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どを用いることができる。

酸としては硫酸、塩酸、臭化水素酸、リン酸などの鉱酸
あるいは塩化マグネシウム、塩化亜鉛、硫酸銅なとのル
イス酸を用いることができる。溶媒としては極性溶媒、
例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、アセトニトリル。

アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドなどが使用できる。

工程２）の保護基の脱離は選択さぜるＲ１により適宜種
々の方法を使いわけることができる。例えばＲ１がベン
ジル、アリル基のときはパラジウム触媒を用いて水素化
分解あるいは異性化分解の手法が、メトキシメチルや１
−エトキシエチルの場合は鉱酸や有機酸、ルイス酸を用
いて含水溶媒中で加水分解する手法が使用できる。水酸
基をフェニルチオ基に変換する工程３）はトリフェニル
ホスフィン、トリーローブチルホスフィン、１，２ビス
（ジフェニルホスフォ）エタンなどの三級ホスフィンの
存在下ジフェニルスルフィドと原料のアルコールをピリ
ジン、トリエチルアミンなどを溶媒として反応させるこ
とにより達成できる。

また化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＲ１、Ｙ＝Ｃ０２Ｒ３）
を工程２）→３）→１）の経路で反応させると化合物（
Ａ−５＞（Ｘ＝ＯＨ，Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）、（Ａ−６＞（
Ｘ＝ＳＣｅ　Ｒ５、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）を経て化合物（Ａ
−４＞（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ）に導くこともで
きる。

化合物（Ａ−１）（Ｘ＝ＯＲ’　、Ｙ＝ＣＯ２Ｒ３）か
ら化合物（Ａ−４＞（Ｘ＝ＳＣｅ　ｔ−Ｉｓ　。

Ｙ＝Ｈ）への変換の具体例を以下に示すが、製法はこの
具体例に限られるものではない。

化合物（Ａ−１＞（Ｘ＝ＯＢｎ、Ｂｎはベンジル基を示
す。Ｙ＝ＣＯ２Ｃ２Ｈｓ　）を塩化マグネシウムとジメ
チルアセトアミド中で加熱し、加水分解・脱炭酸し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで分離、精製し、化
合物（Ａ−２＞（Ｘ−ＯＢｎ、Ｙ＝ｌ−（＞のトランス
体、シス体を各々得ることができる。このものをパラジ
ウム触媒を用い、水素化分解し、化合物（Ａ−３＞（Ｘ
＝ＯＨ，’Ｙ＝ト１）とし、トリーローブチルホスフィ
ン、ジフェニルスルフィドとピリジン中で反応させて化
合物（Ａ−４）（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝Ｈ＞を得る
。

ｂ）へミアセタール化合物（７）の合成化合物（Ａ−４
）（Ｘ＝ＳＣｓ　Ｈｓ　、Ｙ＝ト１）をジイソブチルア
ルミニウムハイドライドなどの水素化アルミニウム試剤
で還元するとヘミアセタール（７−１＞が得られる。反
応はテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテル。

ジオキサンなどの不活性溶媒中、Ｏ〜−８０°の低温で
行う。化合物（７−２＞（Ｘ’　＝Ｈ＞は化合物（７−
１＞　　（Ｘ’　＝−３Ｃｓ　Ｈｓ　）をラネーニッケ
ルを用いて還元することにより得られる。

Ｃ）カルボン酸エステル化合物Ｂの合成化合物（７−１
）を−数式Ｒ３０ＣＯＣＨ−ＰＺＲ４（８）で表わされ
るｐ−イリド（式（８）で７は酸素、（ＯＲ３）２また
は（０６Ｈ５）２を、Ｒ４はＯＲ３またはＣｓ　Ｈｓを
、Ｒ３は前記と同一のものを表わす。）と反応させて化
合物（Ｂ−１＞　　　（Ｄ−Ｅ　　：　　ＣＨ＝ＣＨ，
Ｘ’　　＝ＳＣ６Ｈｓ＞を得る。化合物（Ｂ−１＞から
化合物（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）へは工程４）二重結合
の還元。

工程５）フェニルチオ基の還元、工程６）ニトリルの加
水分解、工程７）δラクトン環への閉環の４つの工程を
行うことにより達成できる。尚、化合物（７−２＞（Ｘ
’　＝Ｈ）を原料とした場合は工程５）は必要ない。

この４つの工程は工程７）のまえに工程６）を行う事を
除き、各々独立しており、どの順序で行ってもよい。ま
た４）、５）の工程、６）、７）の工程を同時に行うこ
ともできる。各々の工程はそれ自体公知の方法により行
うことができる。すなわら、工程４）二重結合の還元は
亜鉛−酢酸おるいはパラジウム、白金、ラネーニッケル
等による接触水素化により行うことができ、工程５）の
フェニルチオ基の還元はラネーニッケルによる接触還元
で達成できる。工程６）のニトリルの加水分解は塩酸、
硫酸、臭化水素酸なとの鉱酸を用いるか水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの塩基を用いて含水溶媒中で加
熱すれば達成できる。

また工程７）のδラクトン環への閉環はニトリルの加水
分解で生じたカルボン酸を酸処理すれば達成できる。こ
れらの各工程を適宜選択すれば望ましい生成物を選択的
に得ることができる。

例えば化合物（Ｂ−１）（Ｄ−Ｅ：ＣＨ＝ＣＨ。

Ｘ’　−３Ｃｓ　Ｈｓ　）を亜鉛−酢酸で還元すると化
合物（Ｂ　　２）（Ｄ−Ｅ：ＣＨ２ＣＨ２，Ｘ’　−３
Ｃｓ　Ｈｓ　）が得られ、化合物（Ｂ−１＞（ＤＥ　：
ＣＨ＝ＣＨ，Ｘ’　＝ＳＣｓ　Ｈｓ　）をラネーニッケ
ルで還元するとフェニルチオ基の還元と二重結合の還元
が同時におこり、化合物（Ｂ−３＞（Ｄ−Ｅ　：　ＣＨ
２Ｃ１−１２、Ｘ’　＝Ｈ）が得られる。

ｄ）δラクトン化合物Ｃの合成 上記化合物（Ｂ−３）のニトリル基を水酸化ナトリウム
存在下、エタノール中加熱還流して加水分解し、生じた
カルボン酸を塩酸で処理してδラクトン化合物（Ｃ−２
＞（Ｘ’　＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ）とし、低級アルコールと酸
触媒存在下で反応させるか、ジアゾメタンと反応ざせエ
ステル化して化合物（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）とする。

工程５）のフェニルチオ基の還元は化合物（Ｂ）から（
Ｃ）への変換の際行う代りに化合物（Ｃ）から（９）へ
の変換の際に行っても良い。この場合は化合物（Ｂ）か
ら（Ｃ）への工程４）を亜鉛−酢酸もしくはパラジウム
や白金による水素化で行い、工程６）、７）を前述の方
法で行って化合物（Ｃ−１＞（Ｘ’　−３Ｃｅ　Ｈ５）
を得、これをラネーニッケルで水素化し、化合物（Ｃ−
２）（Ｘ’　＝ト１）としたのち最後の分子内縮環反応
を行う。

ここで得られたδラクトン化合物（Ａ）、ヘミアセター
ル化合物（７）、カルボン酸ニスデル化合物（Ｂ）及び
δラクトン化合物（Ｃ）はいずれも文献未記載の新規化
合物であり、次に）ホベる光学純度の高いδラクトン化
合物（９）を製造する上で重要な中間体でおる。

本発明の化合物Ｃは前記反応経路（Ｉ［＞に従って、光
学活性δラクトン化合物（９）とすることができる。以
下類に説明する。

ｅ〉δラクトン化合物（９）の合成 化合物（Ｃ−２＞（Ｘ’　＝Ｈ）の分子内縮環反応は不
活性溶媒、例えばテトラヒドロフランやエチレングリコ
ールジメヂルエーテル、ｔ−ブタノール、ジメチルホル
ムアミドなどを用い、カリウム−ｔ−ブトキシド、水素
化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の塩基と反応させて公知の目的物質、光学活性δラクト
ン化合物（９）を光学純度よく高収率で得る事ができる
。

（発明の効果） 本発明の光学活性化合物はδラクトン系抗生物質の母核
をなす化合物を製造する際の中間体として重要な化合物
であって、この化合物を用いることにより光学純度の高
いδラクトン化合物（９）を効率よく製造することがで
きる。

（実施例） 以下具体例を実施例にもとづき、述べる。

実施例１ １）化合物（Ａ−１）の合成 （６）　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−１）
（Ｂｎはベンジル基、２ｔはエチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、シアン酢酸エチルエステル１．２４（
Ｊ　（ｌｉｍｂ）を鉱油でけんだくした６０Ｗ／Ｗ％の
水素化ナトリウム４４０ｍｑ　（１１ｍＭ＞のテトラヒ
ドロフラン１５ｍ１けんだく液中に水冷下で加え１０分
間室温で撹拌した。次に８体のα、β不飽和δラクトン
（６）　２．０ｇ（９，１７ｎ＋Ｈ）のテトラヒドロフ
ラン溶液５ｍｌを水冷下ゆっくり加え、同温で１時間撹
拌した。反応液をジエチルエーテル５０ｍｌ１で希釈し
、１０％塩酸を加え中和し、分液し、有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶
媒を留去すると１．４−付加体（Ａ−１＞が黄色油状物
質として３．５ｇ得られた。

’ＨＮ−ＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：　１．３２　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ　＞２
．０　　　（２Ｈ，ｍ） ２．６０　　（２ｆ−１，ｍ＞ ２．９０（ＩＨ，ｍ） ３．６０　（３Ｈ，ｍ＞ ４．３０　　（２Ｈ，ｑ、　　Ｊ＝７．１Ｈ２）４．５
６　　（２Ｈ，Ｓ　＞ ４．６０　　（ＩＨ，ｍ） ７．３３（５Ｈ，５） ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４０．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ３３２　（Ｍ＋１　）　、　９１　（１００％）２）化
合物（Ａ−２）の合成 ｍ−１ （Ａ−１）　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−２＞ア
ルゴン気流下、上記１，４−付加体（Ａ−１＞３．５０
を水１０滴、塩化マグネシウム６水塩１．８６（］（９
９，１７ｍｆ）とジメチルアセトアミド３０ｍ１中で１
７０℃、１２時間加熱還流し、空温にもどしたのち、水
とジエチルエーテルを加え、抽出分離し、水層は塩酸で
酸性にしたのち酢酸エチルで抽出した。有機層をあわせ
て無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去し
、残渣をベンゼン５（７にとかし、１２時間加熱還流し
た。次に反応液を減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン（ｉｏｏ：ｉｖ／ｖ　）流出し、３Ｒ，５Ｓのδラク
トン化合物（八−２）を無色油状物質として１．４ｙｇ
（（６）より６２％）得た。更にエーテルで溶出して３
Ｓ、　５Ｓのδラクトン化合物（Ａ−２＞　　１８５ｍ
ｃ＋（（６）より７．８％）を得た。３Ｒ，５８のδラ
クトン化合物（Ａ−２）のデータは次の通りでおる。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：　１．７〜２．９　　（７Ｈ，ｍ）３．６５　　　
　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝４．４Ｈｚ　）４．５８　　　　
（２Ｈ，Ｓ） ４．６　　　　（、ＩＨ，ｍ＞ ７．３３　　　　（５Ｈ，５） ｌＲ（ｎｅａｔ） ２９４０、２２５０．１７４０．　７４２．　７００Ｍ
５　　ｍ／ｅ ２５９　（Ｍ＋　）　、　９１　（１００％）３）化合
物（Ａ−３＞の合成 ｍ−１ （Ａ−２）　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−３
）上記３Ｒ，５３体のδラクトン化合物（Ａ−２＞１．
３８ｇ　（５，３３ｍＭ）を酢酸エチル４０ｍ１にとか
し、水酸化パラジウム１８０ｍｇ、濃塩酸１滴を加え水
素ガス雰囲気下空温で３時間撹拌した。反応液をセライ
トろ過し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル留分より化合
物（Ａ−３＞を無色油状物質として８６６、７ｍｇ得た
。収率９６％ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＵ：＋　） δ：１．６５〜３．１　（８ｔｌ、　ｍ）３．７８　　
　　（２１−（、ｍ） ４．５７　　　　　（ ＪＲ（ｎｅａｔ） ３３３０、２２５０．１７３５ Ｍ５　　ｍ／ｅ １７０　（Ｍ＋　１　）　、　　１３８　（１００％）
４）化合物（Ａ−４＞の合成 Ｊ＝４．４ｌ−１２ ｓｅｘｔｅｔ。

ｍ−１ １１−１゜ ） （Ａ−３）　　　　　　　　　　　　　　　　（Ａ−４
）（ｐｈはフェニル基を、［３ｕはブチル基を表わす。

以下同じ。） アルゴン気流下、上記化合物（Ａ−３＞５０ｍｇ（０，
２９６ｍＭ）　、ジフェニルジスルフィド１９３ｍｇ（
０，８８８ｍ）ｌ）　、　　トリーハーブチルフォスフ
イン０．２２ｒｎｌｌ　（０，８８８ｍ）ｆ）をピリジ
ン２ｄに加え、空温で１２時間撹拌する。反応液を酢酸
エチル３０ｄで希釈し、１０％塩酸で洗浄し、次いで飽
和６Ａ酸銅水溶液、飽和重曽水、飽和食塩水の順に洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒留去し
、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し
、エーテル留分より、フェニルスルフィド（Ａ−４’）
　７１ｍｇ（９２％）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＪ２：＋　） δ：　１．８５〜２．７５　（７Ｈ，ｍ＞２．９４　　
　　　　　　（１Ｈ，ｄｄ、　　Ｊ＝１４．５．　９．
０１１ｚ　　）３．３０　　　　　　　　（ＩＨ，ｄｄ
、　　Ｊ＝１４．５．　５．８Ｈ２）４．４５　　　　
（ＩＨ，ｕ、　Ｊ＝　９．０．５．８１１７　）７．３
０　　　　　　　　（５Ｈ，ｍ）ＩＲ（ｎｅａｔ） ２９３０、２２５０．１７４０．　７４０．　６９５　
　ｃｎｒＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２６１　（Ｍ＋　”）　、　　１２３　（１００％）５
）化合物（７−１）の合成 （Ａ−４＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　（７
−１）アルゴン気流下、上記フェニルスルフィド（Ａ４
）　　９８４ｍＣ１（３，７７ｍ）ｌ）のテトラヒドロ
フラン溶液２５ｄに一３０６Ｃ撹拌下ジインブチルアル
ミニウムハイドライドの２Ｍトルエン溶液２威（４ｍＭ
）をゆっくり加え、−３０℃で１０分間撹拌した。反応
液に１０％ＮａＯＨ水溶液を少但加え、空温で２時間撹
拌し、セライトろ過した後、減圧上溶媒を留去し、ヘミ
アセタール（７−１＞　　９８６ｍ（Ｉを得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ　：１．５　〜１．９　　　（４Ｈ，ｍ）２．２〜２
．５　　２Ｈ，ｍ） ２．７　　　　　１Ｈ，ｍ＞ ２．９　〜３．６　　　　２Ｈ，ｍ＞ ３．７〜４．４　　１Ｈ，ｍ＞ ５゜０　〜５．４　　　　１ト１．　ｍ）７．２〜７．
４５　５Ｈ，ｍ＞ ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２９１０．２２５０．　７４５．　６９５　
　ｃｍ−ＩＭＳ　　ｍ／ｅ ２６３　（Ｍ”　）　、　　１２４　（１００％）６）
化合物（Ｂ−１＞の合成 （７−１） （Ｂ−１） アルゴン気流下、上記へミアセタール（７−１＞９８６
ｍｃ＋　（３，７５＋＋＋Ｈ）の塩化メチレン溶液２０
ｍ１にトリフェニルフォスフインのエトキシ力ルポニル
メヂルイリド３．９ｇ　（１１，２５ｎ＋Ｈ）を加え、
空温で１５時間撹拌する。反応液を減圧不溶Ｉｓ留人し
、残漬をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
エーテル：ヘキサン（３：Ｉ　Ｖ／Ｖ）留分より５−シ
アンメチル−７−ヒドロキシ−８−フェニルチオオクタ
−２−エノイツクアシツドエヂルエステル（Ｂ−１＞を
１．０３ｇ（８２％）無色油状物質として得た。

１８ＮＭＲ（ＣＤα３） δ：１．２９　　　　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈ２）
１．６０　　　　（２Ｈ，ｍ＞ ２．０〜２．７　　（５Ｈ，ｍ＞ ２．６８　　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１３．９．８
．８Ｈｚ　＞３．１５　　　　　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝
１３．９．３．７Ｈｚ　）３．７０　　　　　（１）−
１，ｍ＞ ４．９０　　　　　　　　（２Ｈ，ｑ、　　Ｊ＝　　７
．１１１２＞５．９０　　　　　（１ｔ−１，（１，Ｊ
＝１５．６１１７）６．８０　　　　（ＩＨ，ｄｔ、　
Ｊ＝１５．６．７．１１１２　）ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４５０、２９１０．２２５０．１９１０．１６５０゜
７４０、　６９０　　ｃｍ−１ ＭＳ　　ｍ／ｅ ３３３　（Ｍ”　）　、　　１２４　（１００％）７）
化合物（Ｂ−３＞の合成 ＜８−１＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　　＜
８−３＞（Ｍｅはメチル基を表わす。以下同じ。）上記
化合物（Ｂ−１）　８７ｍｇ（０，２６＋ｎＨ）のエタ
ノール１ｍｆ！溶液にラネーニッケル０．６ｍＭのエタ
ンール溶液０．６威を加え、９０’Ｃで２０分加熱還流
した後、反応液をセライトろ過し、減圧上溶媒を留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにイ寸し
、ニーデル：ヘキサン（７：１　ｖ／ｖ）留分より化合
物（Ｂ−３＞　３７．２ｍｃ＋　（６３％）を無色油状
物質として得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δ：１．２３　　　　３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ　＞
１．２６　　　　３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．ＩＨ７）１．４
〜１．８　　７Ｈ，ｍ＞ １．９５　　　　　　　　　１Ｈ，ｍ）２．３３　　　
　　　　　　２！−１，ｔ、　　Ｊ＝６．６Ｈｚ　　＞
２．４８　　　　２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．４Ｈ２）３．９
０　　　　１Ｈ，ｍ） ４．１４　　　　２１−１．　ｑ、　Ｊ＝７．１ｔｌＺ
　）ＩＲ（ｎｅａｔ） ３４００、２２５０．１７２５　　ｃｍ−１ＭＳ　　ｍ
／ｅ ２２８　（Ｍ＋１　＞　、　　１６４　（１ｏｏ％）８
）化合物（Ｃ−２＞の合成 （Ｂ−３＞　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｃ
−２＞アルゴン気流下、上記化合物（Ｂ−３＞　　２５
０ｍｃ＋（１，１ｍＮ）を３０％水酸化カリウム水溶液
１ｍｌ、エタノール８７にとかし、１２時間加熱還流し
た。反応液にエーテル３０ｍ、水２０ｄを加え、抽出分
離し、水底に濃塩酸を加え酸性とし、塩化メチレンで抽
出した。有機層をあわせて無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧上溶媒を留去した。残渣を塩化メチレンでとか
し、ジアゾメタンのエーテル溶液を加えてメチルエステ
ルとした。これを減圧上溶媒留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン
（ｉ：ｉ　ｖ／ｖ）留分より（Ｃ−２）　　１９２．１
ｍｑ（８２％）を無色結晶として１ｑだ。

ｍｐ７２．５〜７３°Ｃ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ２３＞ δ：１．３８　　　　　（３Ｈ，ｄ。

１．１〜２．９　　（１１Ｈ，ｍ＞ ３．６８　　　　（３Ｈ，ｓ＞ ４．４　　　　　（ＩＨ，ｍ＞ ＩＲ（ＣＨＣｂ　）　　　２９００．１７２０Ｍ５　　
ｍ／ｅ ２１５　（Ｍ＋１　＞　、　７４　（１００％）Ｊ＝６
．３Ｈ７ ｍ−１ ） 合成例 化合物（９）の合成 （Ｃ−２＞（９） アルゴン気流下、化合物（Ｃ−２＞　　１７８ｍ（］（
０，８３ｍＭ　）のテトラヒドロフラン溶液２ｄをカリ
ウム−ｔ−ブトキシド２８９．５ｍｇ（２，６８ｍＭ）
のテトラヒドロフランけんだく液８ｄに室温で加え、更
に同温度で１０分間撹拌した。反応液に水２０ｍ１．エ
ーテル３０ｍ１を加え、抽出分離した。水層を濃塩酸で
酸性とし、塩化メチレンで抽出し、有機層を必わせで無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
、エーテル：ヘキサン（１：５　ｖ／ｖ）留分より化合
物（９）　　１０６１１０６ｌ１１％）を無色針状晶と
して得た。

ｍ０１２１〜１２２°Ｃ （ｍ、　ｍｐ　１２０〜１２１°Ｃ，Ｆ、ｔｌ、５ｔｏ
ｄｏｌａ、ｅｔ　ａｌ。

Ｂｉｏｃｈｅｍ、Ｊ、、９３．９２（１９６４））［α
］’［＋１８．１°　（Ｃ＝１．０３．　エタ／　−／
Ｌ、）（ｌｉｔ、　［α］　、　＋１８．２°　（ｃｍ
１．１５．エタノール。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（Ｃ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｃ） （Ｒ＾３は低級アルキル基、アルケニル基又はベンジル
   基を、Ｘ′は水素原子又はフェニルチオ基を、＊は不斉
   炭素を表わす。） で表わされる光学活性δラクトン化合物。
2. （２）一般式（Ｃ）において、Ｒ＾３がメチル、エチル
   、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペン
   チル基からなる低級アルキル基、アリル、２−メチルア
   リル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−ペンテニル基
   からなるアルケニル基及びベンジル基の中から選ばれる
   ことを特徴とする請求項１記載の光学活性δラクトン化
   合物。