JPH0313227B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は新規な化合物その製造方法及びその使
用に関し、詳しくは一般式 ｛式中、R₁は水素原子、低級アルキル基又は低
級アルキルカルバモイル基を、R₂は低級アルキ
ル基を、R₃は低級アルキル基又は低級アルケニ
ル基を、Ｘは酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）ｎ（但し、ｎ
は０、１、又は２を示す。）を示す。｝で表わされ
る化合物及びその金属塩、その製造法及び該化合
物類を有効成分として含有する選択的除草剤であ
る。 本発明化合物に類似の５−フエニルシクロヘキ
セノン系化合物がイネ科雑草に対し殺草効力を有
することは既に特公昭55−2001号及び特開昭51−
13756号に記載されている。しかしながらフエニ
ル基がR₁XCH₂−基（Ｒ及びＸは前記と同一の意
味を示す。）で置換された本発明化合物類は、無
置換又はメトキシ基等で置換された公知化合物に
比し、イネ科雑草に対する除草効力は同程度であ
るにもかゝわらず、小麦等のイネ科作物に対し、
優れた選択性を有するものである。 即ち、上記公知化合物は全てアズキ、大豆、キ
ウリ、大根等の広葉の作物中のメヒシバ、エンバ
ク、スズメノテツポウ等のイネ科雑草を防除する
には適するが、同じイネ科に属するトウモロコ
シ、小麦、稲等の作物に対してもイネ科雑草同様
に極めて強い作用を示すので、その適用は全く困
難であつた。しかしながら本発明の化合物はイネ
科雑草（特にエンバク等）に対しては公知化合物
と同様に高い雑草活性を示しながら、小麦、大麦
等の作物に対しては特異的にその作用が小さく、
小麦、大麦等の作物とイネ科雑草間に高い選択性
を示すものであり、既に知られているイネ科雑草
専用剤とは異なつた特性を有している。 本化合物は雑草の発生前に処理する方法と発生
後にそれらの茎葉部に散布する方法等が考えられ
るが、殺草活性の面で後者の処理方法がより望ま
しいといえる。 本発明化合物は、一般式 （式中、R₁R₂及びＸは前記と同一の意味を示
す。）で表わされる化合物と一般式 R₃ONH₂ （） （式中、R₃は前記と同一の意味を示す。）で表わ
されるオキシアミン類とを不活性溶媒中で反応さ
せる。 反応温度は、室温から使用する溶媒の沸点まで
の温度、好ましくは室温もしくは穏やかな加熱条
件下で行われる。反応溶媒としてはアルコール、
エーテル、ベンゼン、トルエン、クロロホルム等
一般の不活性溶媒が用いられる。30分〜数時間の
反応後、必要ならば溶媒を置き換えて、アルカリ
抽出し、アルカリ層を塩酸酸性にして、析出した
結晶を分離して本発明化合物を得る。 本発明化合物の金属塩の製造にあたつては、水
又は、アセトン、メタノール、エタノール、ジメ
チルホルムアミド等の有機溶媒中で、前記一般式
（）で表わされる化合物と、カセイソーダ又は
カセイカリなどのカセイアルカリとを混和、必要
ならば加熱して反応させることによりナトリウム
塩又はカリウム塩を得る。次いで、該ナトリウム
塩又はカリウム塩と、目的とする金属の塩類とを
同様にして反応させることにより目的の金属塩を
得ることができる。金属塩は多くの場合、上述の
溶媒中で沈澱又は結晶として析出する。 前記一般式（）で表わされる化合物と金属塩
を形成する金属の塩類としては、Ca、Mg、Ba、
Ni、Mn、Co、Zn、Fe、Ag、Na、Ｋ等の１価、
２価又は３価の金属の塩類、たとえば塩化物、水
酸化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩等の水又は前記
有機溶媒に可溶な金属塩類が使用される。 なお、Ca²⁺塩は前記一般式（）で表わされ
る化合物と水酸化カルシウムを反応させることに
よつても得ることができる。 このようにして製造された本発明金属塩のある
ものは高温時に一部化学変化または分解を起こし
て明確な融点を示さないものであるが、原料およ
び生成物の赤外線スペクトルにおいて吸収帯の移
行あるいは吸収強度の変化により金属塩の生成を
知ることができる。すなわち一般式（）で表わ
される原料化合物は波数1655、1605cm^-1にカルボ
ニル基の吸収を示すのに対して金属塩はこれより
長波長側にその吸収を示す。 なお得られた金属塩において結晶水を保持して
いたり、金属原子にOHのようなアニオンが同時
に配位していることもある。 尚本発明化合物は、必要ならば適当な有機溶媒
から再結晶して精製し、IRスペクトル、NMRス
ペクトル、MASSスペクトル等の測定結果から
構造を決定した。 前記一般式（）で表わされる本発明化合物は
下記に示す互変異性構造をとりうるものである。 次に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 １（化合物番号４） ２−〔１−（エトキシイミノ）ブチル〕−３−ヒ
ドロキシ−５−〔４−（メチルチオ−メチル）フ
エニル〕−２−シクロヘキセン−１−オン： ２−ブチリル−３−ヒドロキシ−５−〔４−（メ
チルチオメチル）フエニル〕−２−シクロヘキセ
ン−１−オン（1.2g）をメタノール（10ml）に溶
解し、室温でエトキシアミン（0.5g）を加えた。
一夜放置の後、反応液を氷水に注いで塩酸々性と
し、クロロホルムで抽出した。クロロホルム溶液
を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧で
溜去、残渣をメタノールで再結する事により目的
物の白色結晶が1g得られた。mp 59−60℃ 実施例 ２（化合物番号６） ２−〔１−（エトキシイミノ）ブチル〕−３−ヒ
ドロキシ−５−〔４−（メチルスルホニルメチ
ル）フエニル〕−２−シクロヘキセン−１−オ
ン： ２−ブチリル−３−ヒドロキシ−５−〔４−（メ
チルスルホニルメチル）フエニル〕−２−シクロ
ヘキセン−１−オン（1g）をクロロホルム（10
ml）、メタノール（５ml）の混合液に溶解し、室
温でエトキシアミン（0.5g）を加えた。一夜放置
の後、反応液を氷水に注いで塩酸々性とし、析出
した結晶を別した。粗結晶をメタノールから再
結晶する事により目的物の白色結晶0.9gを得た。
mp 121−123℃ 実施例 ３（化合物番号８） ２−〔１−（エトキシイミノ）プロピル〕−３−
ヒドロキシ−５−〔４−（ヒドロキシメチル）フ
エニル〕−２−シクロヘキセン−１−オン： ３−ヒドロキシ−５−〔４−（ヒドロキシメチ
ル）フエニル〕−２−プロピオニル−２−シクロ
ヘキセン−１−オン（4.4g）をメタノール（10
ml）に溶解して室温でエトキシアミン（1.5g）を
加えた。一夜放置の後、反応液を氷水に注いで塩
酸々性とし、析出した結晶を別した。粗結晶を
メタノールから再結晶する事により目的物の白色
結晶が2.5g得られた。mp 104−105℃ 第１表に本発明化合物の代表例を示す。

【表】 本発明除草剤は、前記一般式（）で示される
化合物の１又は２以上を有効成分として含有し、
通常の農薬と同様の形態を有する。即ち、有効成
分化合物は一般に適当な量を担体と混合して水和
剤、水溶剤、乳剤、フロアブル剤等の形に製剤し
て使用される。固体担体としてはタルク、ホワイ
トカーボン、ベントナイト、クレイ、ケイソウ土
等が挙げられ、液体担体としては、水、アルコー
ル、ベンゼン、キシレン、ケロシン、鉱油、シク
ロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルム
アミド等が用いられる。これらの製剤において、
均一且つ安定な形態をとるために必要ならば界面
活性剤を添加することもできる。 本発明除草剤における有効成分濃度は前述した
製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤においては５〜80％、好まし
くは30〜60％：水溶剤においては70〜95％、好ま
しくは80〜90％：乳剤においては５〜70％、好ま
しくは20〜40％：フロアブルにおいては10〜70
％、好ましくは20〜50％の濃度が用いられる。 この様にして得られた水和剤、水溶剤、乳剤は
水で所定の濃度に希釈して懸濁液或るいは乳濁液
として、フロアブル剤はそのまま又は水で所定濃
度に希釈して懸濁液として雑草の発芽前又は発芽
後に処理される。実際に本発明除草剤を適用する
にあたつては10アール当り有効成分5g以上の適
当量が施用される。 また本発明除草剤は公知の殺菌剤、殺虫剤、殺
ダニ剤、除草剤、植物生長調整剤等と混合して使
用することもできる。特に除草剤と混合使用する
ことにより、使用薬量を減少させまた省力化をも
たらすのみならず、両薬剤の相乗作用による一層
高い効果も期待できる。本発明除草剤と混合使用
するにふさわしい薬剤としては、アトラジン剤、
ターブトリン剤等のトリアジン系除草剤、イプロ
ン剤、トリブニル剤等の尿素系除草剤、ベンタゾ
ン剤等の複素環系除草剤、２，４−Ｄ，MCPP
等のフエノキシアルカンカルボン酸系除草剤、ア
イオキシニル等のベンゾニトリル系除草剤及びグ
リーン等のスルフオンアミド系除草剤等が挙げら
れる。 次に本発明除草剤に関する製剤例を若干示すが
有効成分化合物、添加物及び添加割合は本実施例
にのみ限定されることなく広い範囲で変更可能で
ある。 製剤例 １ 水和剤 化合物番号３ 50部 ホワイトカーボン 12部 ケイソウ土 30部 アルキル硫酸ソーダ ８部 以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分
50％の水和剤を得た。 製剤例 ３ 乳剤 化合物番号７ 20部 キシレン 40部 ジメチルホルムアミド 30部 ポリオキシエチレンフエニルエーテル 10部 以上を混合、溶解して有効成分20％の乳剤を得
た。 次に本発明除草剤の効果に関する試験例を示
す。 試験例 １ 100cm²ポツトに土壌を充填し、表層にメヒシバ、
野性エンバク、イヌビユ及びアカザを別々に播種
し、温室内で生育させた。雑草が５〜10cmの草丈
になつた時点で各供試化合物の乳剤を水で希釈し
て調整した所定濃度の薬液（この場合400、
200ppm）を100／10aの割合で各雑草の茎葉部
に噴霧処理し、温室内に静置した。 薬剤処理後28日目に各雑草の生育状況を下記の
基準に従つて視察で行ない、第２に示す結果を得
た。 調査基準 損傷率 指 数 0 ： ０％ 2 ： 20〜29％ 4 ： 40〜49〃 6 ： 60〜69〃 8 ： 80〜89〃 10 ： 100〃 また１、３、５、７、９の数値は各々０と２、
２と４、４と６、６と８、８と10の中間の値を示
す。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ｛式中、R₁は水素原子、低級アルキル基又は低
   級アルキルカルバモイル基を、R₂は低級アルキ
   ル基を、R₃は低級アルキル基又は低級アルケニ
   ル基を、Ｘは酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）ｎ（但し、ｎ
   は０、１、又は２を示す。）を示す。｝で表わされ
   る化合物及びその金属塩。 ２ 一般式 ｛式中、R₁は水素原子、低級アルキル基又は低
   級アルキルカルバモイル基を、R₂は低級アルキ
   ル基を、Ｘは酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）ｎ（但し、ｎ
   は０、１又は２を示す。）を示す。｝で表わされる
   化合物と、一般式R₃ONH₂ （式中、R₃は低級アルキル基又は低級アルケニ
   ル基を示す。）で表わされる化合物とを反応させ
   ることを特徴とする一般式 （式中、R₁、R₂、R₃及びＸは前記と同一の意味
   を示す。）で表わされる化合物の製造方法。 ３ 一般式 ｛式中、R₁は水素原子、低級アルキル基又は低
   級アルキルカルバモイル基を、R₂は低級アルキ
   ル基を、R₃は低級アルキル基又は低級アルケニ
   ル基を、Ｘは酸素原子又は式Ｓ（Ｏ）ｎ（但し、ｎ
   は０、１、又は２を示す。）を示す。｝で表わされ
   る化合物及びその金属塩を有効成分として含有す
   ることを特徴とする選択的除草剤。