JPH03140481A - 銅張り板の表面処理法 - Google Patents
銅張り板の表面処理法Info
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- JPH03140481A JPH03140481A JP27899589A JP27899589A JPH03140481A JP H03140481 A JPH03140481 A JP H03140481A JP 27899589 A JP27899589 A JP 27899589A JP 27899589 A JP27899589 A JP 27899589A JP H03140481 A JPH03140481 A JP H03140481A
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 62
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 24
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims abstract description 38
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 241000209219 Hordeum Species 0.000 description 3
- 235000007340 Hordeum vulgare Nutrition 0.000 description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 241001233037 catfish Species 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
- C23G1/10—Other heavy metals
- C23G1/103—Other heavy metals copper or alloys of copper
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、銅張り板の表面の銅箔を整面するためにおこ
なう処理法に関するものである。
なう処理法に関するものである。
プリント配線板を製造するにあたっては、銅張り積層板
など銅張り板を用い、表面の銅箔に回路形成をおこなう
必要がある。この回路形成は、銅の層の表面にドライフ
ィルムレジストなどのエツチングレジストを被着し、露
光及び現像をおこなった後に、エツチング液に浸漬する
ことによっておこなわれる。そしてこのように銅箔の表
面にエツチングレノストを被着する工程の前に、銅箔の
表面を整面処理することがおこなわれている。整面処理
は、銅箔の表面の酸化物などの不純化合物や汚れなどを
除去すると共に銅箔の表面に微細な粗面を形成させるた
めにおこなわれるものであり、銅箔の表面へのエツチン
グレノストの密着性を高めるための処理である。 そしてこの銅箔の整面処理は、#300〜#100程度
のバフ0−ルやブラシロールを上下2紬や4紬に使用し
た整面研摩機を用い、銅張り板の表面をこのバフ0−ル
やブラシロールで機械的に研摩することによっておこな
われるのが一般的である。
など銅張り板を用い、表面の銅箔に回路形成をおこなう
必要がある。この回路形成は、銅の層の表面にドライフ
ィルムレジストなどのエツチングレジストを被着し、露
光及び現像をおこなった後に、エツチング液に浸漬する
ことによっておこなわれる。そしてこのように銅箔の表
面にエツチングレノストを被着する工程の前に、銅箔の
表面を整面処理することがおこなわれている。整面処理
は、銅箔の表面の酸化物などの不純化合物や汚れなどを
除去すると共に銅箔の表面に微細な粗面を形成させるた
めにおこなわれるものであり、銅箔の表面へのエツチン
グレノストの密着性を高めるための処理である。 そしてこの銅箔の整面処理は、#300〜#100程度
のバフ0−ルやブラシロールを上下2紬や4紬に使用し
た整面研摩機を用い、銅張り板の表面をこのバフ0−ル
やブラシロールで機械的に研摩することによっておこな
われるのが一般的である。
しかしこのようにバフ0−ルやブラシロールなどを用い
て機械的研摩で整面処理するにあたって、銅張り板とし
て厚みが0.2111111以下程度の薄い板を用いる
場合、薄い銅張り板は腰が弱く強度が低いために研摩時
に銅張り板が曲がってバフ0−ルやブランロールに引っ
掛がったりして、工程の途中でのトラブルが多発すると
いう問題があった。 またこのように銅張り板が薄いと、バフ0−ルやブラシ
ロールによって銅張り板に付加される研摩圧で銅箔が引
き延ばされる際に銅箔に引っ張られて銅張り板の全体も
引き延ばされ易くなり、寸法安定性に問題が生じるもの
である。すなわち、このように銅箔が引!1延ばされる
際に銅張り板の全体ら引き延ばされると、回路形成時の
エツチングによって銅箔の面積が小さくなる際に銅張り
板の全体は元の寸法に収縮し、回路のパターンもこれに
伴って収縮することになり、従ってプリント配線板を製
造するにあたって露光時の回路パターンの大きさよりも
エツチングによって作成される実際の回路パターンの大
きさの方が小さ(なってしまい、このプリント配線板を
多層配線板に用いる場合には回路の位置ずれなどが問題
となるのである。しかもバフ0−ルによる研摩の場合に
は、バフ0−ルを構成する不織布とAl2O,やSiO
など研摩材の大きさのバラツキなどによって銅箔の表面
に深い研摩傷が発生する等、不均一な凹凸の整面となっ
て高7フインパターンで回路を形成することができなく
なるという問題もあった。 本発明は上記の点に鑑みて
為されたものであり、バフ0−ルやブラシロールを用い
る機械的研摩の場合のような上記の問題なく、銅張り板
の表面の整面処理をおこなえるようにすることを目的と
するものである。
て機械的研摩で整面処理するにあたって、銅張り板とし
て厚みが0.2111111以下程度の薄い板を用いる
場合、薄い銅張り板は腰が弱く強度が低いために研摩時
に銅張り板が曲がってバフ0−ルやブランロールに引っ
掛がったりして、工程の途中でのトラブルが多発すると
いう問題があった。 またこのように銅張り板が薄いと、バフ0−ルやブラシ
ロールによって銅張り板に付加される研摩圧で銅箔が引
き延ばされる際に銅箔に引っ張られて銅張り板の全体も
引き延ばされ易くなり、寸法安定性に問題が生じるもの
である。すなわち、このように銅箔が引!1延ばされる
際に銅張り板の全体ら引き延ばされると、回路形成時の
エツチングによって銅箔の面積が小さくなる際に銅張り
板の全体は元の寸法に収縮し、回路のパターンもこれに
伴って収縮することになり、従ってプリント配線板を製
造するにあたって露光時の回路パターンの大きさよりも
エツチングによって作成される実際の回路パターンの大
きさの方が小さ(なってしまい、このプリント配線板を
多層配線板に用いる場合には回路の位置ずれなどが問題
となるのである。しかもバフ0−ルによる研摩の場合に
は、バフ0−ルを構成する不織布とAl2O,やSiO
など研摩材の大きさのバラツキなどによって銅箔の表面
に深い研摩傷が発生する等、不均一な凹凸の整面となっ
て高7フインパターンで回路を形成することができなく
なるという問題もあった。 本発明は上記の点に鑑みて
為されたものであり、バフ0−ルやブラシロールを用い
る機械的研摩の場合のような上記の問題なく、銅張り板
の表面の整面処理をおこなえるようにすることを目的と
するものである。
【課題を解決するための手Fi]
本発明に係る銅張り板の表面処理法は、銅箔を積層した
銅張り板の表面に、硫酸と過酸化水素とを主成分とする
処理液を作用させることを特徴とするものである。 以下本発明の詳細な説明する。 本発明において銅張り板とは、銅張りエポキシ樹脂積層
板など絶縁基板の片面乃至は両面に銅箔を積層した板や
、外層に銅箔を積層した多層積層板等をいうものである
。また本発明は厚みが0゜2mm以下程度に薄く形成さ
れている銅張り板に適用して特に効果的である(勿論こ
れに限定されるものではない)。そしてこの銅張り板の
銅箔の表面を整面処理するにあたって、本発明において
は硫酸と過酸化水素とを主成分とする処理液を用い、化
・学的処理(すなわちケミカルクリーニング)によって
おこなうものである。 この硫酸と過酸化水素とを主成分とする処理液は、硫酸
と過酸化水素及び添加剤の水溶液として調製されるもの
であり、その組成は ・硫酸 ・・・120〜170g/l・過酸
化水素 ・・・30〜80g/l・添加剤
・・・20〜50cc/1の範囲が好ましい。ここで
添加剤としては処理液の反応を促進すると共に過酸化水
素の分解を抑制するものが使用されるものであり、例え
ばメック株式会社から「CB−896」として提供され
ているものを使用することができる。 銅張り板の銅箔の表面を整面処理するにあたっては、上
記処理液を銅箔の表面にスプレーしたり、銅張り板を処
理液に浸漬したりして、銅箔の表面に処理液を作用させ
ることによっておこなうことができ、処理液中の硫酸と
過酸化水素によるソフトエツチング作用によって、#I
箔の表面の酸化物などの不純化合物や汚れなどを除去す
ると共に銅箔の表面に微細な粗面な形成させることがで
きるものである。処理条件は特に限定されるものではな
いが、処理液の液温は25〜30℃に調整し、また処理
時間は、浸漬する場合には浸漬時間を120±10秒に
、スプレーする場合にはスプレー時間を7〜15秒にそ
れぞれ調整しておこなうのが好ましい。 上記のようにして、硫酸と過酸化水素とを主成分とする
処理液で化学的に銅箔の表面を整面処理するために、バ
フ0−ルやブラシロールを使用して機械的研摩をおこな
う場合のような、銅張り板の板厚が薄くても引っ掛かり
などの問題なく処理をおこなうことができるものであり
、また研摩圧で銅張り積層板を引き延ばすような寸法安
定性の問題もなくなり、多層配線板として積層する場合
の回路の位置合わせを高精度におこなうことが2きるも
のである。さらに、研摩傷の発生で銅箔の表面の凹凸が
不均一になることなく、均一な凹凸による粗面化をおこ
なうことができ、高7フインパターンで回路を作成する
ことが可能になるものである。 【実施例】 以下本発明を実施例によって詳述する。 K(乱 銅張り板として厚み0.lawのエポキシ樹脂積層板の
両面に厚み70μmの銅箔を積層した銅張りエポキシ積
層板を用いた。一方、 ・硫酸 ・・・160g/l
・過酸化水素 ・・・50g/l・
メ7り株式会社製[cB−896J・・・20./1の
配合の水溶液として整面用処理液を調製した。 そしてこの処理液を27℃に調整し、銅張り板の表面の
銅箔にスプレー吐出量180//分、スプレー圧0.5
kg/cm2、スプレー時間15秒間の条件でスプレー
することによって、銅張り板の銅箔の表面を整面処理し
た。 鯰14 #360〜#800のバフ0−ル(住人スリーエム社製
、研摩材へ120.と5in)をセットしたオシェレー
シシンW1構付きの研摩装置を用い、バフ0−ルを20
00〜3000 rp+aで回転させつつ、実施例と同
じ銅張り板の@箔の表面を機械的に研摩することによっ
て、整面処理をおこなった。バフ0−ルによる研摩は、
オシュレーシシン機構でバフ0−ルをその回転方向と垂
直な方向で水平に往復移動させながらくこの方向をオシ
ュレーシ9ン方向とする)、銅張り板をバフ0−ルの回
転方向と平行な方向にコンベアで送ることによって(こ
の方向を研摩方向とする)、おこなった。 上記のように整面処理した銅箔の表面の粗面の状態を凹
凸の深さとして測定し、大麦の「銅箔表面粗さ」の欄に
示した。また銅箔の表面を500倍の電子顕微鏡で観察
し、銅箔の表面の状態を検査した。結果を大麦の「表面
状態」の欄に示す。さらに整面処理をする前と後の銅張
り板の寸法変化率を測定した。結果を大麦の[寸法変化
]の欄に示す。 前表の結果にみられるように、硫酸と過酸化水素とを主
成分とする処理液を用いて化学的に整面処理をおこなう
ようにした実施例のものでは、研摩傷が付くようなおそ
れな(均一な凹凸で粗面を形成することができると共に
寸法変化が生じるようなことがないことが確認される。 【発明の効果] 上述のように本発明にあっては、銅箔を積層した銅張り
板の表面に、硫酸と過酸化水素とを主成分とする処理液
を作用させるようにしたので、化学的に銅箔の表面を整
面処理することができ、バフ0−ルやブラシロールを使
用して機械的研摩をおこなう場合のような、銅張り板の
板厚が薄くても引っ掛かりなどの問題なく整面処理をお
こなうことができ、また研摩圧で銅張り板を引き延ばす
ような寸法安定性の問題もなくなると共に、研摩傷の発
生で銅箔の表面の凹凸が不均一になることもなくなるも
のである。
銅張り板の表面に、硫酸と過酸化水素とを主成分とする
処理液を作用させることを特徴とするものである。 以下本発明の詳細な説明する。 本発明において銅張り板とは、銅張りエポキシ樹脂積層
板など絶縁基板の片面乃至は両面に銅箔を積層した板や
、外層に銅箔を積層した多層積層板等をいうものである
。また本発明は厚みが0゜2mm以下程度に薄く形成さ
れている銅張り板に適用して特に効果的である(勿論こ
れに限定されるものではない)。そしてこの銅張り板の
銅箔の表面を整面処理するにあたって、本発明において
は硫酸と過酸化水素とを主成分とする処理液を用い、化
・学的処理(すなわちケミカルクリーニング)によって
おこなうものである。 この硫酸と過酸化水素とを主成分とする処理液は、硫酸
と過酸化水素及び添加剤の水溶液として調製されるもの
であり、その組成は ・硫酸 ・・・120〜170g/l・過酸
化水素 ・・・30〜80g/l・添加剤
・・・20〜50cc/1の範囲が好ましい。ここで
添加剤としては処理液の反応を促進すると共に過酸化水
素の分解を抑制するものが使用されるものであり、例え
ばメック株式会社から「CB−896」として提供され
ているものを使用することができる。 銅張り板の銅箔の表面を整面処理するにあたっては、上
記処理液を銅箔の表面にスプレーしたり、銅張り板を処
理液に浸漬したりして、銅箔の表面に処理液を作用させ
ることによっておこなうことができ、処理液中の硫酸と
過酸化水素によるソフトエツチング作用によって、#I
箔の表面の酸化物などの不純化合物や汚れなどを除去す
ると共に銅箔の表面に微細な粗面な形成させることがで
きるものである。処理条件は特に限定されるものではな
いが、処理液の液温は25〜30℃に調整し、また処理
時間は、浸漬する場合には浸漬時間を120±10秒に
、スプレーする場合にはスプレー時間を7〜15秒にそ
れぞれ調整しておこなうのが好ましい。 上記のようにして、硫酸と過酸化水素とを主成分とする
処理液で化学的に銅箔の表面を整面処理するために、バ
フ0−ルやブラシロールを使用して機械的研摩をおこな
う場合のような、銅張り板の板厚が薄くても引っ掛かり
などの問題なく処理をおこなうことができるものであり
、また研摩圧で銅張り積層板を引き延ばすような寸法安
定性の問題もなくなり、多層配線板として積層する場合
の回路の位置合わせを高精度におこなうことが2きるも
のである。さらに、研摩傷の発生で銅箔の表面の凹凸が
不均一になることなく、均一な凹凸による粗面化をおこ
なうことができ、高7フインパターンで回路を作成する
ことが可能になるものである。 【実施例】 以下本発明を実施例によって詳述する。 K(乱 銅張り板として厚み0.lawのエポキシ樹脂積層板の
両面に厚み70μmの銅箔を積層した銅張りエポキシ積
層板を用いた。一方、 ・硫酸 ・・・160g/l
・過酸化水素 ・・・50g/l・
メ7り株式会社製[cB−896J・・・20./1の
配合の水溶液として整面用処理液を調製した。 そしてこの処理液を27℃に調整し、銅張り板の表面の
銅箔にスプレー吐出量180//分、スプレー圧0.5
kg/cm2、スプレー時間15秒間の条件でスプレー
することによって、銅張り板の銅箔の表面を整面処理し
た。 鯰14 #360〜#800のバフ0−ル(住人スリーエム社製
、研摩材へ120.と5in)をセットしたオシェレー
シシンW1構付きの研摩装置を用い、バフ0−ルを20
00〜3000 rp+aで回転させつつ、実施例と同
じ銅張り板の@箔の表面を機械的に研摩することによっ
て、整面処理をおこなった。バフ0−ルによる研摩は、
オシュレーシシン機構でバフ0−ルをその回転方向と垂
直な方向で水平に往復移動させながらくこの方向をオシ
ュレーシ9ン方向とする)、銅張り板をバフ0−ルの回
転方向と平行な方向にコンベアで送ることによって(こ
の方向を研摩方向とする)、おこなった。 上記のように整面処理した銅箔の表面の粗面の状態を凹
凸の深さとして測定し、大麦の「銅箔表面粗さ」の欄に
示した。また銅箔の表面を500倍の電子顕微鏡で観察
し、銅箔の表面の状態を検査した。結果を大麦の「表面
状態」の欄に示す。さらに整面処理をする前と後の銅張
り板の寸法変化率を測定した。結果を大麦の[寸法変化
]の欄に示す。 前表の結果にみられるように、硫酸と過酸化水素とを主
成分とする処理液を用いて化学的に整面処理をおこなう
ようにした実施例のものでは、研摩傷が付くようなおそ
れな(均一な凹凸で粗面を形成することができると共に
寸法変化が生じるようなことがないことが確認される。 【発明の効果] 上述のように本発明にあっては、銅箔を積層した銅張り
板の表面に、硫酸と過酸化水素とを主成分とする処理液
を作用させるようにしたので、化学的に銅箔の表面を整
面処理することができ、バフ0−ルやブラシロールを使
用して機械的研摩をおこなう場合のような、銅張り板の
板厚が薄くても引っ掛かりなどの問題なく整面処理をお
こなうことができ、また研摩圧で銅張り板を引き延ばす
ような寸法安定性の問題もなくなると共に、研摩傷の発
生で銅箔の表面の凹凸が不均一になることもなくなるも
のである。
Claims (1)
- (1)銅箔を積層した銅張り板の表面に、硫酸と過酸化
水素とを主成分とする処理液を作用させることを特徴と
する銅張り板の表面処理法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27899589A JPH03140481A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 銅張り板の表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27899589A JPH03140481A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 銅張り板の表面処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03140481A true JPH03140481A (ja) | 1991-06-14 |
Family
ID=17604937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27899589A Pending JPH03140481A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 銅張り板の表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03140481A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996019097A1 (en) * | 1994-12-12 | 1996-06-20 | Alpha Fry Ltd. | Copper coating |
| JP2005206859A (ja) * | 2004-01-21 | 2005-08-04 | Ebara Udylite Kk | 電子部品用部材の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02236289A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-09-19 | Toyama Nippon Denki Kk | 銅または銅合金の化学研磨方法 |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP27899589A patent/JPH03140481A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02236289A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-09-19 | Toyama Nippon Denki Kk | 銅または銅合金の化学研磨方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996019097A1 (en) * | 1994-12-12 | 1996-06-20 | Alpha Fry Ltd. | Copper coating |
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| EP0993241A1 (en) * | 1994-12-12 | 2000-04-12 | Alpha Fry Limited | Copper coating |
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