JPH0314588B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0314588B2 JPH0314588B2 JP2084185A JP2084185A JPH0314588B2 JP H0314588 B2 JPH0314588 B2 JP H0314588B2 JP 2084185 A JP2084185 A JP 2084185A JP 2084185 A JP2084185 A JP 2084185A JP H0314588 B2 JPH0314588 B2 JP H0314588B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polished
- curvature
- center
- contact surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 62
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は研摩皿に関し、特に光学素子を高精度
に研摩するのに好適な研摩皿に関する。
に研摩するのに好適な研摩皿に関する。
従来、光学素子たとえばレンズ、プリズムまた
は反射鏡等の表面精度を極めて高い精度に仕上げ
るために、一旦ある程度の精度に研摩された表面
を小径の研摩皿により部分的に修正研摩すること
が行われる。
は反射鏡等の表面精度を極めて高い精度に仕上げ
るために、一旦ある程度の精度に研摩された表面
を小径の研摩皿により部分的に修正研摩すること
が行われる。
第５図は、この様な修正研摩の具体例を説明す
るための概略斜視図である。図において、１２は
被研摩物である光学ガラス平行平面板であり、該
被研摩物１２は円形である。被研摩物１２はその
下面が支持体１４に接着されて固定支持されてい
る。支持体１４は軸Ｘのまわりに回転可能であ
り、被研摩物１２は該軸Ｘに対し回転対称となる
様に支持体１４に固定されている。被研摩物１２
の上面は前加工により予め鏡面研摩されている。
但し、この前加工によつて、図示される軸体Ｙの
部分が凸になつている。
るための概略斜視図である。図において、１２は
被研摩物である光学ガラス平行平面板であり、該
被研摩物１２は円形である。被研摩物１２はその
下面が支持体１４に接着されて固定支持されてい
る。支持体１４は軸Ｘのまわりに回転可能であ
り、被研摩物１２は該軸Ｘに対し回転対称となる
様に支持体１４に固定されている。被研摩物１２
の上面は前加工により予め鏡面研摩されている。
但し、この前加工によつて、図示される軸体Ｙの
部分が凸になつている。
修正研摩においては被研摩物１２の大きさに比
べて小さい研摩皿１５が用いられる。研摩皿１５
は研摩パツド１６を支持体１８に接着して固定支
持したものからなり、、該支持体１８の上面中央
部に形成された凹部には棒体２０の一端が突当て
られている。該棒体２０は被研摩物１２の径方向
に適宜の幅で揺動可能である。２２は研摩液供給
手段２２である。
べて小さい研摩皿１５が用いられる。研摩皿１５
は研摩パツド１６を支持体１８に接着して固定支
持したものからなり、、該支持体１８の上面中央
部に形成された凹部には棒体２０の一端が突当て
られている。該棒体２０は被研摩物１２の径方向
に適宜の幅で揺動可能である。２２は研摩液供給
手段２２である。
研摩液供給手段２２から被研摩物１２の上面上
へと研摩液を供給しながら支持体１４を矢印Ａ方
向に回転させ、同時に支持体１８を矢印Ｂ方向に
揺動させることによつて修正研摩が行われる。
へと研摩液を供給しながら支持体１４を矢印Ａ方
向に回転させ、同時に支持体１８を矢印Ｂ方向に
揺動させることによつて修正研摩が行われる。
しかしながら、従来の修正研摩においては、研
摩皿１５の研摩パツド１６が全面にわたつて均一
の圧力にて被研摩物１２に接触しながら研摩加工
を行うため、被研摩物１２の上面において修正研
摩を受けた部分と受けない部分とで段差を生じ易
いという問題があつた。
摩皿１５の研摩パツド１６が全面にわたつて均一
の圧力にて被研摩物１２に接触しながら研摩加工
を行うため、被研摩物１２の上面において修正研
摩を受けた部分と受けない部分とで段差を生じ易
いという問題があつた。
第６図ａ，ｂは第５図における−断面に相
当する被研摩物１２の断面図である。
当する被研摩物１２の断面図である。
第６図ａは修正研摩後の状態を示すものであ
り、第６図ｂは修正研摩後の状態を示すものであ
る。これらの図から分かる様に、修正研摩時の研
摩皿１５の揺動幅に応じた位置に光学的に見てか
なり大きな段差２４が形成される。
り、第６図ｂは修正研摩後の状態を示すものであ
る。これらの図から分かる様に、修正研摩時の研
摩皿１５の揺動幅に応じた位置に光学的に見てか
なり大きな段差２４が形成される。
このため、研摩皿１５の揺動幅を固定したもの
とせず、徐々に揺動幅を変えることで段差の発生
を防止することが提案されている。しかしなが
ら、この様な揺動幅の連続的変化のための機構は
かなり複雑であり、研摩装置が価なものになると
いう欠点がある。
とせず、徐々に揺動幅を変えることで段差の発生
を防止することが提案されている。しかしなが
ら、この様な揺動幅の連続的変化のための機構は
かなり複雑であり、研摩装置が価なものになると
いう欠点がある。
本発明によれば、以上の如き従来技術の問題点
を解決するものとして、 被研摩物との接触面の中心部の曲率が被研摩物
表面の研摩領域の目的最終形状の曲率に近似する
様に設定されており、且つ、被研摩物との接触面
の中心部が凸面または平面の場合には該接触面は
中心部から外周部へと次第に曲率半径が大きくな
つており、被研摩物との接触面の中心部が凹面の
場合には該接触面は中心部から外周部へと次第に
曲率半径が大きくなつていることを特徴とする研
摩皿、 が提供される。
を解決するものとして、 被研摩物との接触面の中心部の曲率が被研摩物
表面の研摩領域の目的最終形状の曲率に近似する
様に設定されており、且つ、被研摩物との接触面
の中心部が凸面または平面の場合には該接触面は
中心部から外周部へと次第に曲率半径が大きくな
つており、被研摩物との接触面の中心部が凹面の
場合には該接触面は中心部から外周部へと次第に
曲率半径が大きくなつていることを特徴とする研
摩皿、 が提供される。
以下、図面を参照しながら、本発明の研摩皿の
具体的実施例を説明する。
具体的実施例を説明する。
第１図は本発明研摩皿の第１の実施例を示す概
略断面図である。
略断面図である。
本実施例の研摩皿は一様な厚さを有する研摩パ
ツド１とその支持体２とからなる。これらは円形
状の形状を有し、Ｚはその対称軸である。本実施
例研摩皿の被研摩物との接触面（即ち図における
研摩パツド１の下面）３は全体として凸面であ
り、且つ該接触面３の曲率は径方向に関し次第に
変化している。即ち、接触面３の中心部（即ち対
称軸Ｚ上の点）においては曲率半径がR1であり、
その曲率中心はO1であり、他方、接触面３の外
周部においては曲率半径がR2であり、その曲率
中心はO2である（但し、R1＞R2）。更に、図示は
しないが接触面３の中心部から外周部にかけて
は、曲率半径がR1からR2へと次第に変化し、且
つこれにともなつて曲率中心もO1からO2へと次
第に移動している。
ツド１とその支持体２とからなる。これらは円形
状の形状を有し、Ｚはその対称軸である。本実施
例研摩皿の被研摩物との接触面（即ち図における
研摩パツド１の下面）３は全体として凸面であ
り、且つ該接触面３の曲率は径方向に関し次第に
変化している。即ち、接触面３の中心部（即ち対
称軸Ｚ上の点）においては曲率半径がR1であり、
その曲率中心はO1であり、他方、接触面３の外
周部においては曲率半径がR2であり、その曲率
中心はO2である（但し、R1＞R2）。更に、図示は
しないが接触面３の中心部から外周部にかけて
は、曲率半径がR1からR2へと次第に変化し、且
つこれにともなつて曲率中心もO1からO2へと次
第に移動している。
本実施例の研摩皿を用いて曲率半径R1の凹面
を研摩する際の研摩パツド１にかかる圧力の分布
状態を第２図に示す。図示される通り、研摩皿の
中心部においては圧力が大きく外周部においては
圧力が小さい。
を研摩する際の研摩パツド１にかかる圧力の分布
状態を第２図に示す。図示される通り、研摩皿の
中心部においては圧力が大きく外周部においては
圧力が小さい。
以上の実施例においては被研摩物との接触面が
凸面であり、凹面研摩を行うとしたが、ここで
R1を無限大とすれば平面研摩を行う場合がその
まま当てはまる。第３図ａ，ｂはこの様な場合の
研摩皿を用いて平面の修正研摩を行つた場合の被
研摩物１２の変化を示す断面図である。第３図ａ
は修正研摩前の状態を示すものであり、第３図ｂ
は修正研摩後の状態を示すものである。本実施例
研摩皿によれば、第２図の様な圧力分布を示すた
め、段差を生ずることなく輪帯状凸部を平坦化す
る修正研摩を良好に行うことができる。
凸面であり、凹面研摩を行うとしたが、ここで
R1を無限大とすれば平面研摩を行う場合がその
まま当てはまる。第３図ａ，ｂはこの様な場合の
研摩皿を用いて平面の修正研摩を行つた場合の被
研摩物１２の変化を示す断面図である。第３図ａ
は修正研摩前の状態を示すものであり、第３図ｂ
は修正研摩後の状態を示すものである。本実施例
研摩皿によれば、第２図の様な圧力分布を示すた
め、段差を生ずることなく輪帯状凸部を平坦化す
る修正研摩を良好に行うことができる。
第４図は本発明研摩皿の第２の実施例を示す概
略断面図である。
略断面図である。
本実施例の研摩皿の被研摩物との接触面３は全
体として凹面である。更に、接触面３の中心部の
曲率半径はR3であり、その曲率半径はO3であり、
他方、接触面３の外周部の曲率半径はR4であり、
その曲率中心はO4である（但し、R3＜R4）。更
に、図示はしないが接触面３の中心部から外周部
にかけては、曲率半径R3からR4へと次第に変化
し、且つこれにともなつて曲率中心もO3からO4
へと次第に移動している。
体として凹面である。更に、接触面３の中心部の
曲率半径はR3であり、その曲率半径はO3であり、
他方、接触面３の外周部の曲率半径はR4であり、
その曲率中心はO4である（但し、R3＜R4）。更
に、図示はしないが接触面３の中心部から外周部
にかけては、曲率半径R3からR4へと次第に変化
し、且つこれにともなつて曲率中心もO3からO4
へと次第に移動している。
この第２の実施例においても、第２図と類似の
圧力分布状態を示す。
圧力分布状態を示す。
以上の実施例においては修正研摩を例にとり説
明したが、本発明研摩皿はその他の通常の研摩に
も利用できることはもちろんである。
明したが、本発明研摩皿はその他の通常の研摩に
も利用できることはもちろんである。
以上説明したように、本発明の研摩皿は、被研
摩物との接触面の中心部の曲率を被研摩物表面の
研摩領域の目的最終形状の曲率に近似する様に設
定し、且つ、被研摩物との接触面の曲率半径を所
定の様式にて径方向に変化させてなるものである
ので、中心部から外周部にかけて研摩圧力を変化
させ外周部による研摩量を小さくすることがで
き、かくして被研摩物に段差を発生させることな
く高精度研摩を行うことができる。
摩物との接触面の中心部の曲率を被研摩物表面の
研摩領域の目的最終形状の曲率に近似する様に設
定し、且つ、被研摩物との接触面の曲率半径を所
定の様式にて径方向に変化させてなるものである
ので、中心部から外周部にかけて研摩圧力を変化
させ外周部による研摩量を小さくすることがで
き、かくして被研摩物に段差を発生させることな
く高精度研摩を行うことができる。
第１図及び第４図はいずれも本発明研摩皿の断
面図である。第２図は研摩パツドの圧力分布を示
すグラフである。第３図ａ，ｂ及び第６図ａ，ｂ
はいずれも被研摩物の断面図である。第５図は研
摩方法を示す斜視図である。 １：研摩パツド、２：支持体、３：接触面、１
２：被研摩物、１４，１８：支持体、１５：研摩
皿、１６：研摩パツド、２０：棒体、２２：研摩
液供給手段。
面図である。第２図は研摩パツドの圧力分布を示
すグラフである。第３図ａ，ｂ及び第６図ａ，ｂ
はいずれも被研摩物の断面図である。第５図は研
摩方法を示す斜視図である。 １：研摩パツド、２：支持体、３：接触面、１
２：被研摩物、１４，１８：支持体、１５：研摩
皿、１６：研摩パツド、２０：棒体、２２：研摩
液供給手段。
Claims (1)
- １ 被研摩物との接触面の中心部の曲率が被研摩
物表面の研摩領域の目的最終形状の曲率に近似す
る様に設定されており、且つ、被研摩物との接触
面の中心部が凸面または平面の場合には該接触面
は中心部から外周部へと次第に曲率半径が小さく
なつており、被研摩物との接触面の中心部が凹面
の場合には該接触面は中心部から外周部へと次第
に曲率半径が大きくなつていることを特徴とす
る、研摩皿。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2084185A JPS61182752A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 研摩皿 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2084185A JPS61182752A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 研摩皿 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2275442A Division JPH0637027B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | 研摩方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61182752A JPS61182752A (ja) | 1986-08-15 |
| JPH0314588B2 true JPH0314588B2 (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=12038295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2084185A Granted JPS61182752A (ja) | 1985-02-07 | 1985-02-07 | 研摩皿 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61182752A (ja) |
-
1985
- 1985-02-07 JP JP2084185A patent/JPS61182752A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61182752A (ja) | 1986-08-15 |
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