JPH0467328A

JPH0467328A - 光デイスク

Info

Publication number: JPH0467328A
Application number: JP2172655A
Authority: JP
Inventors: Tsuneo Hagiwara; 恒夫萩原; Aritami Yonemura; 米村　有民; Eiichi Hashimoto; 橋本　ひで一
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1990-07-02
Filing date: 1990-07-02
Publication date: 1992-03-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、レーザーなどの光により、情報の記録、再生
を行う光ディスクに関する。

〔従来の技術〕

光ディスクは、高密度・大容量の情報記録媒体として種
々の研究開発が行われている。

特に、情報消去の可能な光磁気ディスクは応用分野が広
く種々の材料・システムが発表されており、その実用化
が期待されている。

これらの光ディスクには、はこりなどの付着を防ぐため
帯電防止処理を行う必要があり、通常は基板の表面に帯
電防止剤を塗工したり、帯電防止剤の基板への練り込み
による方法などが採られている。しかし、前者の処理で
は耐久性に問題があり、後者では成形性、光透過性の点
で問題があった。

一方、光ディスクの基板は一般的にはポリカーボネート
樹脂などが用いられるために、基板の表面硬度が小さい
、そこで、表面の損傷を避けるためにＵＶ硬化樹脂など
により表面硬化処理を施すことが提案されている。

しかし、これらのＵＶ硬化樹脂の塗工による被覆では、
ディスクの回転中の空気との摩擦による樹脂の帯電があ
り、ゴミ、ホコリの付着による読み出し面の汚れなどが
多く、記録、読み出し信号の信顧性を低下させている。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、耐久性に優れた帯電防止性を有し、しかも、
充分な表面硬度を有する光ディスクの提供を目的とする
。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、光ディスクの少なくとも光照射面（読み取り
面）を一般式（１）（式中、ＲＩ、Ｒｔは水素原子またはメチル基を、ｎは
１〜２３の整数を示す）で表されるポリエチレンオキシドまたはポリプロピレン
オキシドのモノ（メタ）アクリル酸エステルを５〜７０
重量％含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜で
被覆したことを特徴とする光ディスクである。

本発明の光ディスクとしては、樹脂などからなる基板上
にビットが形成された記録媒体からなるビットタイプの
光ディスク、基板上に熱的記録層が形成された記録媒体
からなり、レーザー光などの照射によりバブルを形成し
、反射光の変化でレベル変動を検知するバブルタイプの
光ディスクあるいは基板上に光磁気記録層が形成された
記録媒体からなる光磁気ディスクなどが含まれる。

光ディスクの光照射面とは、読み取りまたは／および書
き込みの光ビームが入射される面で、通常樹脂などの基
板上に記録層が形成されている面の反対側の面である。

光照射面（読み取り面）は、例えば光磁気ディスクにお
いてはグループが形成されておらずフラットな面である
。

本発明は、前記光ディスクの少なくとも光照射面（読み
取り面）を一般式（１）で表されるポリエチレンオキシ
ドまたはポリプロピレンオキシドのモノ（メタ）アクリ
ル酸エステルを５〜７０重量％含有する硬化性樹脂組成
物を硬化してなる塗膜で被覆したことを特徴とする。

一般式（１）中、Ｒ’　、Ｒ，は水素原子またはメチル
基を、ｎは１〜２３の整数を示す、ｎは２〜２０が好ま
しく、３〜１５が特に好ましい。ｎが２３を超えると溶
解性が低下するので好ましくない。

一般式（，１’）で示されるポリエチレンオキシドまた
はポリプロピレンオキシドのモノ（メタ）アクリル酸エ
ステルとしては、例えばルモノメタクリレート）、一ルモノメタクリレート）、Ｃｌ１ｚ＝Ｃｔｌ−Ｃｏ（ＯＣＨ＊ＣＨｚ）　　−Ｏ１
ｌコールモノメタクリレート：プレンマーＰＥ２００、
日本油脂■製）、（式中、ｎは１〜２３の整数を表す）が挙げられ、さらに具体的には、３５０、日本油脂■製）、タフリレート）、乳化剤■製）、ＣＨｔ＝Ｃ［−ＣＯＯＣＢｚＣＨｔＯ［Ｉ　（２−ヒド
ロキシエチルアクリレート）、メタクリレート）、アクリレート）、リコールモノメタクリレート：ブレンマーＰＰ３３０、
日本油脂■製）などが挙げられるがこれらに限定されない。

本発明の一般式（１）で示されるポリエチレンオキシド
またはポリプロピレンオキシドの（メタ）アクリル酸エ
ステルは、硬化性樹脂組成物中５〜７０重量％、好まし
くは１０〜６０重量％、特に好ましくは１５〜５０重量
％含有される。

該化合物が５重量％未満では帯電防止効果が不足し、一
方７０重量％を超えると該組成物で被覆し硬化させた光
ディスクの表面被膜硬度が不充分で好ましくない。

本発明において、前記（１）式の化合物以外の硬化性樹
脂組成物には、一般に知られた重合性単量体や重合性オ
リゴマー、重合性プレポリマーが用いられる。例えば、
ビスフェノールＡエポキシアクリレート、脂肪酸変性エ
ポキシアクリレート、ノボランクエポキシアクリレート
、フェノールノボラックエポキシアクリレート、ポリエ
ステルオリゴウレタンアクリレート、多官能ヒドロキシ
化合物のウレタンアクリレート、ポリブタジェンアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレ
ート、（ポリ）アルキレングリコールのジ（メタ）アク
リレートなどの脂肪族多官能アクリレート、多官能オリ
ゴエステルアクリレート、多官能ポリエステルアクリレ
ート、ホスファゼン化合物のアクリレート変性物、イソ
シアヌル酸の多官能アクリレート、その他ビニル重合性
化合物、アクリル系重合性化合物などが使用できる。こ
れらの重合性化合物は単独あるいは混合して使用される
０本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、光重合
開始剤、熱重合開始剤などのラジカル重合開始剤などを
添加して用いる。

重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケト
ンなどのベンゾフェノン系開始剤、ベンジル、フェニル
メトキシジケトンなどのジケトン系開始剤、アセトフェ
ノンなどのアセトフェノンＭ　開始剤、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイ
ン系開始側、２゜４−ジエチルチオキサントンなどのチ
オキサントン系開始剤、２−メチルアントラキノン、カ
ンファーキノンなどのキノン系開始剤などが好適に用い
られる。必要に応じてアミン系促進剤などの促進剤の併
用も可能である。

開始剤量としては、該組成物に対して０．１〜１０ｐｈ
ｒ、好ましくは０．５〜７ｐｈｒが用いられる。また、
熱硬化の場合にはアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢ
Ｎ）、ベンゾイルペルオキシド（ＢＰＯ）、クメンヒド
ロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジターシャリ
−ブチルペルオキシド、ラウロイルペルオキシドなどが
挙げられる。

本発明の硬化性樹脂は塗布性の改善、作業性の向上など
のために、必要に応じて溶媒で希釈される。なお、ポリ
カーボネート樹脂を基板として用いる場合はメタノール
、エタノール、イソプロパツールなどのアルコール性溶
媒が好適に用いられる。

本発明の硬化性樹脂組成物の塗布は、記録層の形成前で
あっても形成後であってもよい。

本発明の硬化性樹脂組成物は、公知のスピンコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ドクターナイフによるコー
ティング法、バーコーターによる方法で、光ディスクの
表面を被覆することができる。光ディスクの被覆にあた
っては、光ディスクの側面をも被覆すると帯電防止効果
を向上させることができる。

本発明の硬化後の塗膜の厚さは、２〜３０μｍであり、
好ましくは５〜２５μｍである。

重合性単量体組成物を塗布した光ディスクは、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯などの紫外ランプ、ハロゲ
ンランプ、電子線などの活性光線、あるいは熱処理など
を用いて公知の方法、条件により硬化される。この中で
、紫外ランプ、ハロゲンランプ、電子線などの活性光線
を用いるのが操作性、生産性の観点から好ましい。

本発明で得られる光ディスクの表面抵抗は、１０１５Ω
／口未満が好ましい。これ以上の抵抗を有するものは帯
電防止性の観点から効果がない。

また、表面硬度は、取扱いの観点から鉛筆硬度がＨ８以
上のものが好ましい。

〔実施例〕

以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する０本発
明はかかる実施例に限定されない。

実施例において、表面抵抗（Ω／口）はＪＩＳＫ−６９
１１によった。また鉛筆硬度は、ＪＩＳ　　Ｋ−５４０
０に準拠し、三菱鉛筆製ユニを用いて測定した。

実施例１〜４、比較例１〜２１３０ｍ直径、ＩＳＯ規格準拠のフォーマット、ＣＣＳ
サーボ方式のポリカーボネート基板に５ｉＮ（１３００
人）／ＴｂＦｅＣｏ　（２００人）／５ｉＮ（３５０人
）／／１合金（４００人）の積層構成〔（）内は各層膜
厚を示す〕の記録層をスパッタ法で形成し、Ａｆｆｉ合
金反射層上にフェノール・ノボラック・アクリレートを
主成分とする紫外線硬化樹脂を約１０μｍの厚さに形成
した。

このディスクのフラット面に硬化性樹脂組成物（日本積
比■、Ｎ５Ｃ−７１０６）と下記ポリエチレンオキシド
（ｎ＝１５）のモノメタクリル酸エステル（日本乳化剤
■、ＭＡ１５０）との混合物を５〜１０ｔ１ｍの厚さに
なるようにスピンコード法により塗布した。引き続き、
長さ約２７ｃｍ、２Ｋｗの高圧水銀灯を用い、２０Ｃ１
１の高さから紫外線を１分間照射して塗膜を硬化させた
。

比較例１はＭＡ−１５０を添加しない場合であり、比較
例２はポリカーボネート基板上に練り込み型帯電防止剤
ソルビタンラウレート（日本精化■製）をアルコールに
溶かして塗布し、乾燥したものである。

前記効果条件でこれら塗布物を硬化させた場合、外見硬
化は充分で残存モノマーを示すベタツキなどは認められ
なかった。

硬化後のポリカーボネートディスクの硬化面について表
面抵抗および鉛筆硬度を調べた。

結果を第１表に示す。

第１表実施例１〜４および比較例１で得られた光磁気ディスク
を、室温下２４時間純水中に浸漬後表面抵抗を測定した
が変化はなかった。

比較例２の光磁気ディスクの同様処理後の表面抵抗は、
２Ｘ１０ＩＳΩ／口であった。

実施例５６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（Ｕ１２２６Ａ
、新中村化学工業■製）４０重量％、６官能アクリレー
トオリゴマー（ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＣＡ６０、日本化薬
■製）２０重置％、およびテトラエチレングリコールモ
ノメタクリレート（プレンマー　ＰＥ２００、日本油脂
−製）４０重量％、光開始剤ダロキュア１１７３ｐを３
ｐｈｒからなる硬化性樹脂組成物を、ポリカーボネート
基板からなり、実施例１と同じ積層構成の記録層を有す
る光磁気ディスクに塗布し、前記と同様に光硬化させた
。得られたディスクの表面硬度はＨＢであり、表面抵抗
は２．ｌＸｌ０１３Ω／口であった。

実施例６ホスファゼンのへキサアクリレート（Ｕ−１０００、出
光石油化学■製）４０重量％、テトラプロピレングリコ
ールモノメタクリレート（ブレンマー　ＰＰ−３３０、
日本油脂■製）６０重量％、光開始剤イルガキュア９０
７（チバガイギー社製）５ｐｈｒからなる硬化性樹脂組
成物を実施例５と同様にして光硬化させた。硬化塗膜の
表面硬度はＨＢで、表面抵抗は３．６Ｘ１０ＩｔΩ／口
であった。

実施例７ホスファゼンのへキサアクリレート（Ｕ−１０００、出
光石油化学■製）３０重量％、テトラエチレングリコー
ルモノメタクリレート（ブレンマＰＥ−２００、日本油
脂■製）７０重量％、光開始剤イルガキュア９０７（チ
バガイギー社製）５ｐｈｒからなる硬化性樹脂組成物を
実施例５と同様にして光硬化させた。硬化塗膜の表面硬
度はＨＢで、表面抵抗は５．３Ｘ１０′。Ω／口であっ
た。

実施例８ホスファゼンのへキサアクリレート（Ｕ−１０００、出
光石油化学■製）８０重量％、テトラエチレングリコー
ルモノメタクリレート（ブレンマー　　ＰＥ−２００、
日本油脂■製）２０重量％、ＡＩＢＮを５ｐｈｒからな
る硬化性樹脂組成物を実施例１と同じ積層構成の記録層
を有する光磁気ディスクのポリカーボネート基板上にス
ピンコードし、８０℃で熱硬化させた。

硬化塗膜の表面硬度はＦで、表面抵抗は６．３ｘ　ｌ　
Ｑ　１４Ω／口であった。

〔発明の効果］本発明は、高度の耐久性をもつ帯電防止性を有し、しか
も充分な表面硬度を有する光ディスクを提供することが
できる。

特許出願人　　帝　人　株式会社代理人　弁理士　白　井　重　隆

Claims

【特許請求の範囲】

（１）光ディスクの少なくとも光照射面を一般式（ I
）▲数式、化学式、表等があります▼・・・・（ I ）〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は水素原子またはメチル基を、
ｎは１〜２３の整数を示す）で表されるポリエチレンオキシドまたはポリプロピレン
オキシドのモノ（メタ）アクリル酸エステルを５〜７０
重量％含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる塗膜で
被覆したことを特徴とする光ディスク。