JPH03169368A - 施釉機 - Google Patents

施釉機

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JPH03169368A
JPH03169368A JP31207389A JP31207389A JPH03169368A JP H03169368 A JPH03169368 A JP H03169368A JP 31207389 A JP31207389 A JP 31207389A JP 31207389 A JP31207389 A JP 31207389A JP H03169368 A JPH03169368 A JP H03169368A
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Yasutaka Tsuruga
敦賀 康隆
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野: 本発明は琺瑯製品を得ようとする基材に対して、釉薬を
付着させた後に、回転力を複合的に与えて、被処理物の
表面に均等な膜厚の施釉ができるようにした施釉機に関
する. 発明の背景と問題点: 従来、琺瑯製品を製作する工程で、被処理物(基材)に
対する施釉手段としては、大別して吹付法(ハンドスプ
レー、静電スプレー、粉体スプレー等の塗着法〉と、浸
し掛け(浸漬法)とがある。
そして比較的多品種のものが取り扱われている小型の物
品の施釉手段は、主に浸し掛けが多く採用されている。
その浸し掛けには、電着法等もあるが、垂らし掛けと振
り切り法とによるのが一般的である。浸し掛けによれば
、両面同時に施釉できるので、下釉を掛ける場合特によ
く用いられる。いずれの場合でも施釉に際して、膜厚を
必要量に均一施釉することが大切である。一般的な釉で
は焼或後の膜厚が、1回当り70〜150μのものが多
い。
この浸し掛けによる施釉操作で、垂らし掛けは主に重力
により余分な釉を滴下させるようにし、膜厚については
釉の濃さ、粘性などによって制御している.また、基材
の形状により適度な回転等の姿勢制御をすることにより
、膜厚もかなり均一にすることができる,しかしながら
、釉の自然滴下を待つため、1個の品物を処理するのに
時間がかかり(1〜3分)、能率を上げようとすると装
置が大きくなり、設備費や運転費が上昇する欠点がある
. 振り切り法によれば、主に人力により釉液に浸した品物
(被処理物〉をヤットコ等で挟んで、これを左右に反復
回転させて余分な釉を遠心力により振り切るようにして
いる.しかし、遠心力は回転中心には働かないので、施
釉者が品物を釉液に浸した後、垂直方向に振動させ、回
転中心になるところの釉を予め振り切っておくようにし
ている.余分な釉の振り切り操作は熟練者の経験によっ
て、物品における中心部の膜厚と周辺部の膜厚とが2:
1以下に納まるように施釉される.しかしながら、この
振り切り操作については、人手によるためどうしても品
質にバラツキが生じやすい.さらに、作業に熟練度が要
求されるので、最近の作業者の高齢化、後継技術者の不
足等で不都合な状況にある. このようなことから、振り切り式の施釉装置が考案され
ているが、被処理物に単一方向の回転力を与えるだけに
なっているため、半径方向のスジ斑が生じ易く、しかも
回転中心の釉の膜厚が他の部分よりも厚くなって、その
補正を別個に加える必要が生じるなど、未だ機械化操作
が満足できない状況にある. 課題を解決するための手段: 本発明は、上記のような状況に鑑みて、多品種のものを
取り扱えて、しかも従来の人手による施釉操作以上の機
能が発揮できる振り切り方式による回転型の施釉機を提
供することを目的としている。
すなわち、本発明は、機体上の取付台に直立固定された
主軸受に、低速で回転駆動される主軸が支持され、該主
軸の上端には先端部にスピンドル支持軸受を取り付けた
旋回アーム基端部が固着され、前記スピンドル支持軸受
にて上部に支持座を備えたスピンドルが支持されており
、このスピンドルの支持座上に被処理物支持枠を取り替
え可能に搭載し、該スピンドルの下端部には、前記主軸
受に定着の固定歯車と直接もしくは間接で噛合して旋回
アームの回転により被処理物を自転しながら公転させる
従動歯車が取り付けられている横或の施釉機である。
本発明の施釉機では、被処理物支持枠は、下面中心部に
スピンドルの支持座に対して共通の接手を取り付け、該
接手に設けた係止片をスピンドルの支持座に設けられた
複数個の位置決め凹所に対して、前記接手側に突設の係
止片を係合させて被処理物支持枠の水平面での向きを任
意に選択支持できるようにし、回転力が与えられるよう
に構成されている.前記係止片としては、突起・係止ピ
ンなどがある.該係止片が係合する位置決め凹所として
は、切込み部・ピン穴などが形戒される.また、被処理
物支持枠を支持するスピンドルの旋回位置で、機体上に
は少なくとも1個所に上下移動調節可能な振動付与ロー
ラを配設し、前記スピンドルの下端が該ローラと接触す
ることにより、上下方向の振動がスピンドルを介して被
処理物に付与されるようにしてある. さらにまた、本発明にては、被処理物支持枠上に設けら
れた被処理物の支持片について、釉の付着状態が必然的
に多くなる部分で点接支持するようにされている。
前記被処理物支持枠を支持するスピンドルの下端に取り
付いた従動歯車は、直接噛合するようにするか、あるい
は軸間距離を大きくした場合該スピンドルの下端には従
動鎖歯車を、また主軸受には固定鎖歯車を、それぞれ取
り付けて、この両鎖歯車間に無端チェーンを巻掛けて伝
動するように構戒し得る。
本発明の施釉機にては、被処理物支持枠下面の接手取付
部周囲に、スピンドルのカバー板を取り付け、主軸を中
心として前記支持枠の旋回範囲を覆う主軸カバー板は、
旋回アームに付属した支持アームに着脱可能に支持され
るよう配設し、該主軸カバー板の周縁下方位置に環状の
釉回収ドラムを配設して、釉回収タンクに繋がるように
して、回転部分に釉が付着するのを防止できるようにさ
れている。
作  用 : このような構成の本発明施釉機によれば、釉液槽に浸漬
して釉を付着させた被処理物を、予め該被処理物の形状
寸法に応じて最適条件で受支できる被処理物支持枠上に
載置して、安定状態に支持された後、原動機を駆動して
主軸を回転させると、該主軸に取り付いた旋回アームの
回転により、主軸受に取り付く固定歯車と直接もしくは
間接に噛合している従動歯車が、該固定歯車に沿って転
動し、スピンドルを回転させながら旋回する.したがっ
て、スピンドル上部の支持座に接手を介して連結され、
被処理物を搭載した被処理物支持枠は、固定歯車と従動
歯車との歯数比に応じて主軸を基準にして、その周囲を
1旋回する間に、前記歯数比に応じた回転速度で低速回
転させられる.その結果、釉が付着されている被処理物
には、主軸の回転による遠心力とスピンドルの自転によ
る遠心力との合或された外力が付加され、釉は振り切ら
れてほぼ均等な膜厚で付着した状態になり、斑の発生が
ない。
被処理物に付着されている釉が、立ち上がり面での振り
切りを充分にできないような状態のものであれば、自転
しながら旋回するスピンドルの下端を機体側に配設した
振動付与ローラと接触させるようにすることで、スピン
ドルが瞬間的に突き上げられ、ローラを離れると降下し
て被処理物に上昇方向の振動を与えることになる。この
操作を主軸の1回転につき1〜3回行うことで、上下方
向の振り切り効果も併せ得られる. また、被処理物は被処理物支持枠上に突設された支持片
と点接触状態で支持され、かつ釉が最も集まって膜厚の
厚くなる部分で支持片によって受支されるようにしたこ
とで、施釉後その施釉した物品を取り外しても、当該部
分の釉は基材と支持片との両者に付着分割されたように
なり、取り外し後は薄くなった部分の周囲から釉が移動
して補正され、実質的に傷がつかずに焼成工程に移すこ
とができる。
さらに、被処理物支持枠にはスピンドル力バー板が、ま
た主軸には主軸カバー板が、それぞれ付されているので
、作業時振り切られた釉液は、回転駆動部に侵入するこ
となく各カバー板を介して周囲の回収ドラムに集められ
、回収タンクに戻されて、再利用される. なお、これらカバー板は設置場所から簡単に取り外すこ
とができるので、作業終了後は清掃等が容易にでき、回
転駆動部を釉の侵入から防御できて正常な運転ができる
ようになっている.本発明では、被処理物支持枠の支持
スピンドルに取り付けた従動歯車と主軸受側に取り付け
た固定歯車とは、直接噛合させることなく両歯車を鎖歯
車にして、チェーンを巻掛けて駆動するようにできる.
このようにしておけば、軸間距離を大きくとった場合で
も遊動歯車を介在させたりすることなく動力伝達できて
、旋回アームに作用する自重量を低減できる。
また、被処理物支持枠は、被処理物の形状寸法等に応じ
て異なるものを用意しておき、接手部が互換性を有した
ものにしておけば、作業に応じて該被処理物支持枠を取
り替えて使用でき、しかも支持座において設けた分割位
置に位置決めピンを合わせて係止させ、最適の条件で作
業ができる.発明の効果: 本発明の施釉機によれば、被処理物を偏心状態で回転力
を与え、かつ上下動させることにより、従来人手によっ
て行われてきた釉の浸し掛けの操作を、機械的に行わせ
て無理なく熟練者が行う施釉作業と同等もしくはそれ以
上の仕上げができるようになり、熟練度を要求すること
なく、品質にバラツキのない施釉作業ができ、琺瑯製品
の生産性向上に偉功を発揮できるものとなし得たのであ
る. 実施例: 以下本発明を一実施例について図面により説明すれば、
次の通りである. 第1図に示すのは本発明施釉機の縦断面概要図であり、
機体(図示省略)に設けてある取付台1に直立配設され
た主軸受2に、直立状態で主軸10が回転自在に支持さ
れており、この上軸10には下部にて低速で可変速の電
動機(図示省略〉により減速駆動される出力軸3上の歯
車4と噛合する駆動歯車5とブレーキホイル6とが取り
付けられ、低速(60〜1 8 0 r.p.m程度)
で回転するようにされている.この上軸10上端には旋
回アーム11が固着されている。該旋回アーム11は、
所要腕長さを有して先端部にスピンドル軸受12を、そ
の軸心線が主軸10と平行するように付設されており、
該スピンドル軸受12の上面にスラスト軸受片13を介
在させて、スピンドル14の上部で一体に形成されてい
る支持座15を受支している. スピンドル14の下.端には従動歯車17が固着されて
おり、主軸受2の中間部外周に固着された固定歯車19
と、前記従動歯車17とが噛合し、主軸10と共に回転
する旋回アーム11の回動変位につれて従動歯車17が
固定歯車19に沿い転動することにより、スピンドル1
4を回転させるようになされている.スピンドル14の
上端に設けられた支持座15の上側には接手片21を下
面中央に取り付けた被処理物支持枠20が、該接手片1
を介して交換可能に載設されている.この被処理物支持
枠20は施釉する被処理物の寸法形状によって各種のも
のが接手部で互換性を所有させて載設し、連結できるよ
うになされている。
該被処理物支持枠20としては、中心から適宜寸法で放
射状に複数本(4本(被処理物が角形の場合)〜8本(
被処理物が円形の場合)〉のフラットバーが突き出した
形状を標準とし、その上面に被処理物の支持片23が、
全体で少なくとも3個所に取り付けてある.また、被処
理物支持枠20の接手片21には係止ピン22(突起な
どでもよい)が下面から突き出して1個設けてあり、受
支する前記支持座15には所要半径で描く円周上を等分
して、例えば16個所(これに限定されない)に係止穴
16(係止凹所であってもよい〉が設けられ、この係止
穴16のいずれかと前記係止ピン22との係合により、
被処理物支持枠20にスピンドル14の回転力が伝達さ
れるようになっている.なお、この被処理物支持枠20
の接手片21は下面中心に、スピンドル14上部中心に
設けられた穴14′に嵌合する中心軸21゜を有し、こ
の中心軸21゛ を基準にして支持座15に設けられた
複数個の係止穴16のうち、選択された任意の係止穴1
6に係止ピン22を嵌拝することによって、被処理支持
枠20の支持片23配置位置を変更選定できるようにな
っている.さらに、被処理支持枠20の下面には、前記
接手片21取付部の周囲に所要範囲でスピンドルのカバ
ー板24が取り付けられている。
旋回アーム11の上側には、図示したように回転部の上
側を覆う主軸カバー板31が、旋回アーム11の前記ス
ピンドル軸受12を有しない方向に突き出した部分11
′に図上鎖線にて示すように外嵌する支持金具32を介
して着脱可能に支持されている.この主軸カバー板31
の周縁部下側位置には、内側を傾斜面にして環状の釉回
収ドラム35が機体から支持されて(図示省略)配設し
てあり、該釉回収ドラム35の内底部適所から回収タン
ク37(第2図参照〉にホース等で繋いで回収された釉
液が流れ出して集収されるようにしてある. 通常上記したような機構は、第2図に示すように、2台
並列して配設し、一方の装置が運転中他方の装置を停止
して、被処理物の被処理物支持枠20に対する搭載、施
釉後の取り外しを行うよう、交互に作動させて合理的に
処理できる構戊となっている。
回転駆動部では、主軸10にブレーキホイル6が固着し
てあり、このブレーキホイル6には、例えば主軸10の
回転をカウントして、所要数回転すると駆動電動機を停
止させた後に、ブレーキシュー6゛を例えば電磁石で操
作してブレーキホイル6に係合させ、主軸10の回転、
すなわち被処理物支持枠20の回転を、停止させるよう
にしてある。
また、第3図に示すように、主軸10を中心にして旋回
運動するスピンドル14の軌道部下側に、機体8にて軸
41支持部が上下調節可能に軸受42,42で支持され
て1又は複数個所に振動付与ローラ40が配設してある
.この振動付与ローラ40はウレタンゴムのような耐摩
耗性を有した弾性材で形或される車輪状のものを用いて
いる.軸受42.42の上下調節量は1〜3IIII1
程度で調節ネジ.のような公知の手段で行う.また前記
ローラ40の直径としては50〜100nua程度のも
のを用いる.もちろんスピンドル14に取り付いた従動
歯車17は固定歯車19に噛合した状態で上下動できる
ようになっている.このように構成された本発明施釉機
は、第2図に示されているように並列して配設された機
体8の隣接箇所に設けられている釉液槽45に、施釉作
業者が浸漬して釉を付着させた被処理物を、停止してい
る被処理物支持枠20上の支持片23に対して、予め設
定されている該支持片23の端面にて点支持されるよう
に搭載し、電動機を起動する.該電動機より駆動される
出力軸3上の歯車4から駆動歯車5に動力が伝達されて
、主軸10が回転される.この際主軸10に伝達される
起動力は、いわゆるソフトスタートになるようしてにお
くことが好ましい。主軸10の回転によって旋回アーム
11が回転し、該旋回アーム11の先端部にスピンドル
軸受12にて支持されたスピンドル14は、その下端に
取り付いた従動歯車17が主軸受2に固着の固定歯車1
9と噛合して転動することにより、両歯車17. 19
の歯数比に対応した速度で回転する. スピンドル14上の支持座15と接手片21とで連結す
る被処理物支持枠20は、該スピンドル14と共に回転
し、搭載された被処理物にはその自転による遠心力と主
軸10を中心とした公転による遠心力との合戒された遠
心力が作用し、付着している余分の軸が振り切られるこ
とになる.ちなみに、主軸10とスピンドルl4との軸
間距離を120mmとして、主軸10が1回転に対しス
ピンドル14が1/2回転で回転するとし、主軸10の
回転を90r.p.mさせた時、被処理物の中心では主
軸と反対の方向に1.1Gの力を受けながら45r.p
.mで自転する。これにより被処理物は垂直方向に振り
切ることなく直ちに施釉機に掛けて振り切り操作できる
。この際、被処理物の中心から50mm離れた位置では
主軸が1回転する間に、外力1. 65G− 1.5G
− 1.2G− 0.8G−0.6Gをベクトルの中心
(被処理物の中心から主軸の中心方向へ96mm!れた
位置)の方向から受けることになる(第6図参照). さらに、主軸lOが1回転する間に、振動付与ローラ4
0とスピンドル14下端との当接による持ち上げにより
、回転時の慣性により該スピンドル14を介して被処理
物支持枠20と搭載被処理物とが瞬間的に跳ね上げられ
て落下する状態を呈し、その結果被処理物の立ち上がり
面に付着している釉は上下方向の振動によって振り切ら
れることになる.そして被処理物にはこれらの作用力が
反復して加えられることになる. このようにして釉掛けされた被処理物は、人手による振
り廻しと同様の操作を受け、釉は均等な被膜に付着され
ることになる.したがって上記要領で施釉された物品の
表面には放射状のスジ斑などが生じることなく、理想的
な振り切りが可能となる.そこで施釉が完了したものは
、直接ハンガーで取り外すか、または針付の磁石等で表
面に傷を付けぬように取り出して、焼戒工程に移す.上
記の被処理物支持枠20上に被処理物を支持するに際し
、その被処理物の形状によって、支持片23の形状が最
適なものを用いる.釉掛けされた被処理物品は、その形
状により最も付着している釉液の膜厚が厚くなる部分、
一般に周縁部のような部分で点支持することが好ましい
.この一例を第4図に示す。第4図(a)に示すのは、
フランジ状の鍔a1を有する物品A1の場合の支持片2
3aを表している。第4図(b)に示すのは、鍔a2を
有する口径の大きい物品A2の場合の支持片23bを表
している。第4図(c)に示すのは物品A3が円形等で
縁a3が巻いてある場合の支持態様で、この場合には5
〜10メッシュの金網23c上で縁a3部を受支するよ
うにすればよい。
このようにして支持片23(各種の形状を総称)は、被
処理物品を簡単に置けて、また簡単に取り出せ、しかも
運転時に物品が振り飛ばされないように、そのうえ施釉
面に傷が付かないように被処理物品の形状に応じた支持
手段を用いる。上記の要領で被処理物品を受支するのに
、釉が流れ集まる箇所で支持することにより、釉が支持
片と物品との双方に付着して、取り外した際膜が剥がれ
ず、物品側は周囲の釉が集まって速やがに修復され、傷
にならない。もし被処理物品の重心が高くて、転倒の恐
れある場合には、支持部に磁石を配して吸着するように
し、あるいは芯押し手段を付設して上側から物品を押さ
えるようにすることができる。
次に被処理物品が大きい場合、被処理物支持枠20の中
心、すなわちスピンドル14中心と主軸1o中心との軸
間距離が大きくなると、前記のような歯車の噛合では従
動歯車17が大きくなって、その分旋回アーム11の先
端部に作用する自重量が大になるので、第5図に示すよ
うに鎖歯車51.52でチェーン53の巻掛け駆動にす
ることにより、歯車を大きくすることなく軸間距離を大
きくして駆動操作することができて効果的である. また、この施釉機によって上記の施釉操作を行う際、振
り切られた余分な釉は主軸カバー板31並びにスピンド
ル力バー板24によって回転駆動部に降りかかることな
く、主軸カバー板31上に降下したものは周囲の釉回収
ドラム35に流れ落ちて集収され、回収タンク37に集
められた後ボンブ(図示せず〉によって釉液槽に戻され
、再使用に供される. このようにして、2台の施釉機を交互に運転して停止中
の施釉機における被処理物支持枠20上に被処理物を載
置している間に、先に被処理物支持枠20に搭載されて
いる釉掛けされた被処理物から釉を振り切り、所要時間
経過後運転を停止させて次の被処理物と取り替える間に
、新しく被処理物を搭載した側の施釉機を運転するよう
交互に作動させれば効率よく作業が行えるのである。
第2図は2台の施釉機を並列配設した平面概要図、第3
図はスピンドルに対する上下振動付与手段の一例概要図
、第4図は被処理物支持枠に取り付く支持片の各種態様
を示す図、第5図はスピンドルの駆動手段の別例図、第
6図は被処理物に作用する外力の合成ベクトル図である
. 1・・・取付台     2・・・主軸受3・・・出力
軸     4・・・歯 車5・・・駆動歯車    
6・・・ブレーキホイル6゜・・・ブレーキシュー 8
・・・機 体10・・・主 軸     1l・・・旋
回アーム12・・・スピンドル軸受 14・・・スピン
ドル14′・・・軸 穴    15・・・支持座17
・・・従動歯車    19・・・固定歯車20・・・
被処理物支持枠 2l・・・接手片21′・・・中心軸
    22・・・係止ピン23. 23a, 23b
・・・支持片 23c・・・支持金網24・・・スピン
ドノレカバー板 31・・・主軸カバー板  32・・・支持金具35・
・・釉回収ドラム  37・・・釉回収タンク40・・
・上下振動付与口・−ラ 41・・・ローラの軸   42・・・軸 受45・・
・釉液槽     51・・・固定鎖歯車52・・・従
動鎖歯車   53・・・チェーン第2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 機体上の取付台に直立固定された主軸受に、低速で
    回転駆動される主軸が支持され、該主軸の上端には先端
    部にスピンドル支持軸受を取り付けた旋回アーム基端部
    が固着され、前記スピンドル支持軸受にて上部に支持座
    を備えたスピンドルが支持されており、このスピンドル
    の支持座上に被処理物支持枠を取り替え可能に搭載し、
    該スピンドルの下端部には、前記主軸受に定着の固定歯
    車と直接もしくは間接で噛合して旋回アームの回転によ
    り被処理物を自転しながら公転させる従動歯車が取り付
    けられている構成としたことを特徴とする施釉機。 2 被処理物支持枠は、下面中心部にスピンドルの支持
    座に対して共通の接手を取り付け、該接手に設けた係止
    片をスピンドルの支持座に設けられた位置決め凹所に係
    合させて回転力が与えられるように構成されている請求
    項1に記載の施釉機。 3 スピンドルの支持座には、複数個の位置決め穴が配
    設され、被処理物支持枠付設の接手には位置決め用の係
    止ピンが設けられている請求項2に記載の施釉機。 4 被処理物支持枠上には、被処理物の端部を点支持す
    るようにした支持片を3個以上配設されている請求項1
    または2に記載の施釉機。 5 機体上で、被処理物支持枠を支持するスピンドルの
    旋回移動位置には、少なくとも1個所に、上下移動調節
    可能な振動付与ローラを配設し、前記スピンドルの下端
    と前記ローラとの接触で被処理物支持枠に上下方向の振
    動が付与されるように構成されている請求項1に記載の
    施釉機。 6 スピンドルの下端部に取り付けた従動歯車は、主軸
    受に定着の固定歯車と直接噛合して転動するようにされ
    ている請求項1、2、4、または5のいずれかに記載の
    施釉機。 7 スピンドルの下端部に取り付けた従動鎖歯車には、
    主軸受に定着の固定鎖歯車との間でチェーンを巻掛けて
    伝動するようにされている請求項1、2、4、または5
    のいずれかに記載の施釉機。 8 被処理物支持枠下面の接手取付部周囲に、スピンド
    ルのカバー板を取り付け、主軸を中心として前記支持枠
    の旋回範囲を覆う主軸カバー板は、旋回アームに付属し
    た支持アームに着脱可能に支持されるよう配設し、該主
    軸カバー板の周縁下方位置に環状の釉回収ドラムを配設
    して、釉回収タンクに繋がるようにしてある請求項1に
    記載の施釉機。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8244098B2 (en) 2001-02-02 2012-08-14 Panasonic Corporation Recording apparatus and method, playback apparatus and method, recording medium, program and computer-readable recording medium
CN105036813A (zh) * 2015-08-11 2015-11-11 广西北流市智诚陶瓷自动化科技有限公司 日用陶瓷自动上釉机

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8244098B2 (en) 2001-02-02 2012-08-14 Panasonic Corporation Recording apparatus and method, playback apparatus and method, recording medium, program and computer-readable recording medium
CN105036813A (zh) * 2015-08-11 2015-11-11 广西北流市智诚陶瓷自动化科技有限公司 日用陶瓷自动上釉机

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