JPH03169874A - ３―ベンゾイルベンゾフラン誘導体の製造方法 - Google Patents
３―ベンゾイルベンゾフラン誘導体の製造方法Info
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- JPH03169874A JPH03169874A JP2285702A JP28570290A JPH03169874A JP H03169874 A JPH03169874 A JP H03169874A JP 2285702 A JP2285702 A JP 2285702A JP 28570290 A JP28570290 A JP 28570290A JP H03169874 A JPH03169874 A JP H03169874A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
- C07D307/79—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
- C07D307/80—Radicals substituted by oxygen atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、概観的には、ペンゾイルベンゾフラン誘導体
の新規製造方法に関する。
の新規製造方法に関する。
［発明の記載］
さらに詳しくは、本発明の目的は、一般式０
［式中、Ｒは直鎖または分岐Ｃ，−Ｃ８アルキル基、Ｃ
３ ＣＩ１シクロアルキル基および非置換または例え
ばふっ素、塩素または臭素のようなハロゲン原子、ＣＩ
０４アルキル、Ｃ Ｉ− ０ ４アルコキシおよび
ニトロ基から選ばれた同一もしくは異なる１個または数
個の置換基で置換されたフエニル基から選ばれ、 Ｚは、水素およびメチル基から選ばれるコで示される３
−ベンゾイルベンゾフラン誘導体の新規製造方法である
。
３ ＣＩ１シクロアルキル基および非置換または例え
ばふっ素、塩素または臭素のようなハロゲン原子、ＣＩ
０４アルキル、Ｃ Ｉ− ０ ４アルコキシおよび
ニトロ基から選ばれた同一もしくは異なる１個または数
個の置換基で置換されたフエニル基から選ばれ、 Ｚは、水素およびメチル基から選ばれるコで示される３
−ベンゾイルベンゾフラン誘導体の新規製造方法である
。
「直鎖または分岐Ｃ＋Ｃｓアルキル基」は特にメチル、
エチル、ｎ−プロビル、イソプロビル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、第３級ブチル、ｎ−ベンチル、ネオペンチル
、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチルまたはｎ−オクチル基を
意味する。
エチル、ｎ−プロビル、イソプロビル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、第３級ブチル、ｎ−ベンチル、ネオペンチル
、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチルまたはｎ−オクチル基を
意味する。
同様に、ｒｃｓｃｓシクロアルキル基」は特にシクロプ
ロビルまたはシクロヘキシル基を意味する。
ロビルまたはシクロヘキシル基を意味する。
すなわち、上記で与えられた定義から考慮すると、Ｒは
特にメチル、エチル、ｎ−プロビル、イソプロビル、ｎ
−プチル、イソブチル、第３級ブチル、１〜メチルプロ
ピル、ｎ−ペンチル、ネオベンチル、フェニル、モノフ
ルオロ、モノクロロ、またはモノブロモフェニル、ジフ
ルオロ、ジクロロまたはジブロモフェニル、モノメチル
またはジメチルフェニル、モノメトキシまたはジメトキ
シフェニル基またはハロゲンで置換されたメチルフエニ
ル基を示すことができる。
特にメチル、エチル、ｎ−プロビル、イソプロビル、ｎ
−プチル、イソブチル、第３級ブチル、１〜メチルプロ
ピル、ｎ−ペンチル、ネオベンチル、フェニル、モノフ
ルオロ、モノクロロ、またはモノブロモフェニル、ジフ
ルオロ、ジクロロまたはジブロモフェニル、モノメチル
またはジメチルフェニル、モノメトキシまたはジメトキ
シフェニル基またはハロゲンで置換されたメチルフエニ
ル基を示すことができる。
ｒｃ．−ｃ４アルキル基」は、さらに具体的にはメチル
、エヂル、ｎ−プロビル、イソプロビル、ｎブチル、イ
ソブチルまたは第３級ブチル基を意味する。
、エヂル、ｎ−プロビル、イソプロビル、ｎブチル、イ
ソブチルまたは第３級ブチル基を意味する。
ｒｃ．−ｃ．アルコキシ基」は、前記に示したようなＣ
．− Ｃ．アルキル基で置換されたヒドロキシル基を
示す。
．− Ｃ．アルキル基で置換されたヒドロキシル基を
示す。
式（１）の化合物のＲはエチルまたはｎ−プチル基で構
成されるのが好ましい。
成されるのが好ましい。
式（Ｉ）の３−ベンゾイルベンゾフラン誘導体は特にフ
ランス特許番号第１２６０５７８号および第１３３９３
８９号に記載されたベンゾフラン誘導体の最終合成の中
間体として広く使用することができる。
ランス特許番号第１２６０５７８号および第１３３９３
８９号に記載されたベンゾフラン誘導体の最終合成の中
間体として広く使用することができる。
上記誘導体は特にペンズヨーダロンすなわち２−エチル
−３−（３．５−ジョード−４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフラン、ベンズブロマロンすなわち２−エチル
−３−（３．５−ジブロモ−４＝ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフランおよびアムイ才ダロンすなわち２−ｎ−
ブチルー３−（３．５−ジョード−４，β−ジエチルア
ミノエトキシベンゾイル）ベンゾフランである。
−３−（３．５−ジョード−４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフラン、ベンズブロマロンすなわち２−エチル
−３−（３．５−ジブロモ−４＝ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフランおよびアムイ才ダロンすなわち２−ｎ−
ブチルー３−（３．５−ジョード−４，β−ジエチルア
ミノエトキシベンゾイル）ベンゾフランである。
これらの化合物は治療適用途に特に有用であることが知
られていた。
られていた。
すなわち、ペンズヨーダロンは冠状動脈拡張および尿酸
排泄作用、ベンズブロマロンは尿酸排泄作用およびアム
イオダロンは抗狭心症および心臓性抗不整脈特性をもつ
ため有益である。
排泄作用、ベンズブロマロンは尿酸排泄作用およびアム
イオダロンは抗狭心症および心臓性抗不整脈特性をもつ
ため有益である。
式（Ｉ）の幾つかの誘導体は治療薬として有用であるこ
とが知られている。例えば、２−エチル３−（４−ヒド
ロキシベンゾイル）ベンゾフランすなわちベンゾロンは
静脈切開作用および炎症反応阻害のために有効であるこ
とが知られている。
とが知られている。例えば、２−エチル３−（４−ヒド
ロキシベンゾイル）ベンゾフランすなわちベンゾロンは
静脈切開作用および炎症反応阻害のために有効であるこ
とが知られている。
フリーデルークラフツ反応による３−アニソールまたは
３−ベンゾイルベンゾフラン誘導体の製法は化学分野で
は広く知られている。
３−ベンゾイルベンゾフラン誘導体の製法は化学分野で
は広く知られている。
例えば、
フランス特許第１２６０５７８号では溶媒として二硫化
炭素、触媒として塩化第２すすの存在下２−アルキルベ
ンゾフランと塩化アニソイルの反応が報告されている。
炭素、触媒として塩化第２すすの存在下２−アルキルベ
ンゾフランと塩化アニソイルの反応が報告されている。
塩化アニソイルは例えばアニス酸および塩化ヂオニルか
ら得ることができる。
ら得ることができる。
ヨーロビアン・ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミ
ストリー、シミカ・テラビューティカ（Ｅｕｒ． Ｍｅ
ｄ． Ｃｈｅｍ． −Ｃｈｉｍｉｃａ Ｔｈｅｒａｐ
ｅｕｔｉｃａ）、第９巻、第１号、第１９−２５頁（１
９７４年）では溶媒としてジクロ口エタン、触媒として
塩化アルミニウムの存在下３．５−ジアルキルアニソー
ルと２−アルキルー３−クロロカルボニルベンゾフラン
の凝縮が記載されおり、３−クロロカルボニル誘導体は
次の連続工程により得られる：ａ）塩化第２すずの存在
下塩化アセチルと２−アルキルベンゾフランとの反応 ｂ）得られた２−アルキルー３−アセヂルベンゾフラン
と臭化または塩化スルフリルの反応Ｃ）得られた２−ア
ルキルー３−ハロアセチルベンゾフランのピリジン中で
の加熱 ｄ）得られた２−アルキルーω−ハロビリジニウムアセ
チルベンゾフランの水酸化ナトリウムの存在下加水分解 ｅ）上記で得られたナトリウム塩からの２−アルキルベ
ンゾフラン−２−カルボン酸の再生ｆ）塩化チオニルと
２−アルキルベンゾフラン−３−カルボン酸とによる２
−アルキルー３−クロロ力ルポニルベンゾフランを生成
する反応。
ストリー、シミカ・テラビューティカ（Ｅｕｒ． Ｍｅ
ｄ． Ｃｈｅｍ． −Ｃｈｉｍｉｃａ Ｔｈｅｒａｐ
ｅｕｔｉｃａ）、第９巻、第１号、第１９−２５頁（１
９７４年）では溶媒としてジクロ口エタン、触媒として
塩化アルミニウムの存在下３．５−ジアルキルアニソー
ルと２−アルキルー３−クロロカルボニルベンゾフラン
の凝縮が記載されおり、３−クロロカルボニル誘導体は
次の連続工程により得られる：ａ）塩化第２すずの存在
下塩化アセチルと２−アルキルベンゾフランとの反応 ｂ）得られた２−アルキルー３−アセヂルベンゾフラン
と臭化または塩化スルフリルの反応Ｃ）得られた２−ア
ルキルー３−ハロアセチルベンゾフランのピリジン中で
の加熱 ｄ）得られた２−アルキルーω−ハロビリジニウムアセ
チルベンゾフランの水酸化ナトリウムの存在下加水分解 ｅ）上記で得られたナトリウム塩からの２−アルキルベ
ンゾフラン−２−カルボン酸の再生ｆ）塩化チオニルと
２−アルキルベンゾフラン−３−カルボン酸とによる２
−アルキルー３−クロロ力ルポニルベンゾフランを生成
する反応。
他のルイス触媒は例えば塩化第２鉄（ヨーロッパ特許出
願第ＥＰ−Ａ−０２１０１５６号）または塩化アルミニ
ウムを含めてフリーデルークラフツ反応に記載されてい
る。
願第ＥＰ−Ａ−０２１０１５６号）または塩化アルミニ
ウムを含めてフリーデルークラフツ反応に記載されてい
る。
後者はハンガリー特許出願番号第１７５９０６号（ケミ
カル・アブストラクッ（Ｃｈｅｗ． Ａｂｓｔｒ． ）
、第９４巻、１９２１２２ｂ）に報告されている製法で
使用されているが、それによると、２−エチル３−（４
−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランが次の方法で製
造されている。
カル・アブストラクッ（Ｃｈｅｗ． Ａｂｓｔｒ． ）
、第９４巻、１９２１２２ｂ）に報告されている製法で
使用されているが、それによると、２−エチル３−（４
−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランが次の方法で製
造されている。
ａ）塩化アニフィルＩ当量（アニス酸および塩化チオニ
ルから使用する直前に製造）と２−エチルベンゾフラン
Ｉ当量との反応をＯ℃クロロベンゼン中塩化アルミニウ
ムｌ、０２当量の存在下実施した。
ルから使用する直前に製造）と２−エチルベンゾフラン
Ｉ当量との反応をＯ℃クロロベンゼン中塩化アルミニウ
ムｌ、０２当量の存在下実施した。
ｂ）得られた複合体を塩化アルミニウム３．０８当量を
添加して脱メチル化し７０℃に加熱した。
添加して脱メチル化し７０℃に加熱した。
Ｃ）室温下加水分解により精製および分離後、所望の化
合物を収率５０．５％で製造した。
合物を収率５０．５％で製造した。
要するに、引用した方法はすべて最終ケトンを形成する
ために１回のフリーデルークラフッ反応を利用する方法
を必要とし、縮合に必要なクロロカルボニル置換基は出
発物のベンゾフラン誘導体またはメトキシベンゼン誘導
体のいずれかに結合している。
ために１回のフリーデルークラフッ反応を利用する方法
を必要とし、縮合に必要なクロロカルボニル置換基は出
発物のベンゾフラン誘導体またはメトキシベンゼン誘導
体のいずれかに結合している。
したがって、先行技術であるこれらの方法は、場合によ
って製造段階の総数がかなり増加し、従って最終産生物
の値段が上がる中間体として、適当なクロ口カルボニル
誘導体の製造を必要とする。
って製造段階の総数がかなり増加し、従って最終産生物
の値段が上がる中間体として、適当なクロ口カルボニル
誘導体の製造を必要とする。
従って、容易に入手できる合成中間体の利用および限定
した段階数および最終産生物の充分な収率を得る相対的
に安価な産業方法の研究が明白な重要性を持続する。
した段階数および最終産生物の充分な収率を得る相対的
に安価な産業方法の研究が明白な重要性を持続する。
さらに、フリーデルークラフツ反応は芳香族基質Ａｒ上
でホスゲンまたは塩化オキザリルの反応により達成され
ることが知られている。
でホスゲンまたは塩化オキザリルの反応により達成され
ることが知られている。
この場合、対称ケトンＡｒ−Ｃｏ−Ａｒは式ＡＩＣＩ３
Ａｒｔｌ＋ＣＯＣＩ ．−一）／ＡｒＣＯＣｌ ：ＡＩ
Ｃｌ，＋＾ｒｃＯＡｒ＋ＡｌｃｌｓＨ，０ 一う＞ Ａｒ−Ｃｏ−Ａｒ＋＾ｒ−ＣＯＪにより主生成
物として得られ、酸Ａ ｒ Ｃ Ｏ ｙ Ｈを随伴する
が極めて微量である。
Ｃｌ，＋＾ｒｃＯＡｒ＋ＡｌｃｌｓＨ，０ 一う＞ Ａｒ−Ｃｏ−Ａｒ＋＾ｒ−ＣＯＪにより主生成
物として得られ、酸Ａ ｒ Ｃ Ｏ ｙ Ｈを随伴する
が極めて微量である。
好収率で酸を得る唯一の方法は［ＡｒＣＯＣｌ：Ａ１０
１３］複合体が不溶性で、沈澱し、ＡｒＩＩの第２分子
と反応して対称ケトンを生ずることができなくなるため
、溶媒として二硫化炭素を使用することからなる。
１３］複合体が不溶性で、沈澱し、ＡｒＩＩの第２分子
と反応して対称ケトンを生ずることができなくなるため
、溶媒として二硫化炭素を使用することからなる。
この反応型の対称ケトンの形成は２種の異なる芳香族化
合物およびホスゲンの間の二重フリーデルークラフツ反
応によるケトンの製造方法の範囲を限定する。
合物およびホスゲンの間の二重フリーデルークラフツ反
応によるケトンの製造方法の範囲を限定する。
現在の知識では、この型の方法に基づく非対称芳香族ケ
トンの製造の実例は存在しない。
トンの製造の実例は存在しない。
本発明により、この式（１）の３−ベンゾイルベンゾフ
ラン誘導体の場合、ホスゲンおよび２種の異なった芳香
族化合物を使用する２重フリーデルークラフツ反応によ
り非対称芳香族ケトンを得ることが可能であることが見
出された。
ラン誘導体の場合、ホスゲンおよび２種の異なった芳香
族化合物を使用する２重フリーデルークラフツ反応によ
り非対称芳香族ケトンを得ることが可能であることが見
出された。
本発明によると、式（１）の化合物は、反応液中触媒と
して塩化アルミニウムの存在下、好ましくは−２５℃〜
室愚の温度において、無極性非プロトン溶媒中で、 一般式 ［式中、Ｒは前記の意味コ で示されるベンゾフラン誘導体をまずホスゲンまたは塩
化オキザリル、ついで 一般式 〈；＼ＯＺＩｌ’１ ［式中、Ｚは前記の意味］ で示されるフェノール性誘導体と反応させて複合体を生
成させ、これを加水分解し、式（１）の化合物を生成さ
せる方法により製造される。
して塩化アルミニウムの存在下、好ましくは−２５℃〜
室愚の温度において、無極性非プロトン溶媒中で、 一般式 ［式中、Ｒは前記の意味コ で示されるベンゾフラン誘導体をまずホスゲンまたは塩
化オキザリル、ついで 一般式 〈；＼ＯＺＩｌ’１ ［式中、Ｚは前記の意味］ で示されるフェノール性誘導体と反応させて複合体を生
成させ、これを加水分解し、式（１）の化合物を生成さ
せる方法により製造される。
様々な関与する試薬の相対的比率は対称ケトンで代表さ
れる副産物の形成中にたいした役割をなさない。
れる副産物の形成中にたいした役割をなさない。
非対称ケトンの製造を開始する目的で本発明の方法で使
用する最も適当なモル比割合は次の通りである。
用する最も適当なモル比割合は次の通りである。
式（ＩＩ）または（Ｉｌｌ）の化合物：ホスゲンまたは
塩化才キザリル：塩化アルミニウム＝１＝２〜４：ｌ〜
１．５、好ましくはＩ：３：Ｉ．５であり、式（Ｕ）お
よび（ＩＩＩ）の化合物は化学量論的な量である。
塩化才キザリル：塩化アルミニウム＝１＝２〜４：ｌ〜
１．５、好ましくはＩ：３：Ｉ．５であり、式（Ｕ）お
よび（ＩＩＩ）の化合物は化学量論的な量である。
本発明で使用する無極性非プロトン性溶媒は四゛塩化炭
素またはジクロロメタンまたはジクロロエタンのような
ＣＩ ０４アルキルハライドが好ましい。
素またはジクロロメタンまたはジクロロエタンのような
ＣＩ ０４アルキルハライドが好ましい。
加水分解に関しては、温度は室温〜５０℃で好ましくは
室温で行なう。
室温で行なう。
本発明の製法は約−２０℃の温度の反応器中に選ばれた
式（ＩＩ）のベンゾフラン誘導体、ホスゲン、触媒およ
び溶媒を仕込み、例えば２０−２４時間のような数時間
室温で反応を実施することにより行なうことができる。
式（ＩＩ）のベンゾフラン誘導体、ホスゲン、触媒およ
び溶媒を仕込み、例えば２０−２４時間のような数時間
室温で反応を実施することにより行なうことができる。
ついで式（Ｉ）の誘導体が約−２０℃で反応混合物に導
入され、混合物を室温で反応を実施するため２〜３時間
再加熱し、反応媒質を複合体の加水分解を実施するため
水に注ぐ。
入され、混合物を室温で反応を実施するため２〜３時間
再加熱し、反応媒質を複合体の加水分解を実施するため
水に注ぐ。
こうして得た式（１）の３−ベンゾイルベンゾフラン誘
導体は常法で分離することができる。
導体は常法で分離することができる。
上記記載した本発明の方法は式（１）の３−ベンゾイル
ベンゾフラン誘導体を容易にかつ高収率で生成すること
を可能にする。例えば２−ｎ−ブチルー３−（４−メト
キシベンゾイル）ベンゾフランは本発明により７５％以
上の収率で製造することができる。
ベンゾフラン誘導体を容易にかつ高収率で生成すること
を可能にする。例えば２−ｎ−ブチルー３−（４−メト
キシベンゾイル）ベンゾフランは本発明により７５％以
上の収率で製造することができる。
さらに、先行技術の製造法と比較すると、本発明の方法
は使用直前のクロロカルボニル誘導体の製造回避および
かなりの段階数の減少という明白な利点を提供する。
は使用直前のクロロカルボニル誘導体の製造回避および
かなりの段階数の減少という明白な利点を提供する。
例えばヨーロッパ特許第ＥＰ−Ａ−０２１０１５６号に
記載された方法、すなわち反応混合物の還流屋度で脱メ
チル化試薬としての塩化アルミニウムの反応を使用して
、式（Ｉ）の３−（４−メトキンベンゾイル）ベンゾフ
ラン誘導体から出発しこれを脱メチル化して３−（４−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフラン誘導体にすること
により式（Ｉ）の化合物（Ｚは水素を表す）の誘導体を
製造することが可能である。
記載された方法、すなわち反応混合物の還流屋度で脱メ
チル化試薬としての塩化アルミニウムの反応を使用して
、式（Ｉ）の３−（４−メトキンベンゾイル）ベンゾフ
ラン誘導体から出発しこれを脱メチル化して３−（４−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフラン誘導体にすること
により式（Ｉ）の化合物（Ｚは水素を表す）の誘導体を
製造することが可能である。
式（１）の３−ベンゾイルベンゾフラン誘導体（Ｚは水
素を表す）は、式（ＩＩ）の化合物（Ｚはメチル基を表
す）から、続いて反応液中で塩化アルミニウムを用い反
応混合物を還流温度にして、形成された複合体の脱メチ
ル化をすることによっても製造できる。
素を表す）は、式（ＩＩ）の化合物（Ｚはメチル基を表
す）から、続いて反応液中で塩化アルミニウムを用い反
応混合物を還流温度にして、形成された複合体の脱メチ
ル化をすることによっても製造できる。
こうして、この発明方法の変法により、式（ＩＩ）のベ
ンゾフラン誘導体を、反応夜中触媒として塩化アルミニ
ウムの存在下、−２５８Ｃ〜室温の温度において、無極
性非プロトン溶媒中で、まずホスゲンまたは塩化オキザ
リル、ついでアニソールと、反応液中で連続的に反応さ
せて、複合体を生或させ、これを媒質の還流温度におい
て塩化アルミニウムの存在下に反応液中で脱メチル化し
、ついで加水分解して、Ｚが水素である式（１）の３−
ベンゾイルベンゾフラン誘導体を生戊させる。
ンゾフラン誘導体を、反応夜中触媒として塩化アルミニ
ウムの存在下、−２５８Ｃ〜室温の温度において、無極
性非プロトン溶媒中で、まずホスゲンまたは塩化オキザ
リル、ついでアニソールと、反応液中で連続的に反応さ
せて、複合体を生或させ、これを媒質の還流温度におい
て塩化アルミニウムの存在下に反応液中で脱メチル化し
、ついで加水分解して、Ｚが水素である式（１）の３−
ベンゾイルベンゾフラン誘導体を生戊させる。
フリーデルークラフツ反応に必要な塩化アルミニウムの
量は前記のように式（ＩＩ）の化合物の当量当り１〜１
．５当量であり、脱メチル化に必要な塩化アルミニウム
の量は式（ＩＩ）の化合物の当量当り１当量である。
量は前記のように式（ＩＩ）の化合物の当量当り１〜１
．５当量であり、脱メチル化に必要な塩化アルミニウム
の量は式（ＩＩ）の化合物の当量当り１当量である。
特に、この変法は、中間体を分離することなしに、■反
応混合物中で式（Ｉ）の３−（４−ヒドロキシベンゾイ
ル）ベンゾフラン誘導体の製造に必要な全反応を実施す
ることができる利点を提供する。
応混合物中で式（Ｉ）の３−（４−ヒドロキシベンゾイ
ル）ベンゾフラン誘導体の製造に必要な全反応を実施す
ることができる利点を提供する。
さらに、塩化アルミニウムはフリーデルークラフツ反応
および脱メチル化の両方に使用できるので、塩化アルミ
ニウムを全部で４当量使用することを規定するハンガリ
ー特許第１７５．９０６号中が推奨する量と比較してこ
の試薬の量を容易に減少することが可能である。
および脱メチル化の両方に使用できるので、塩化アルミ
ニウムを全部で４当量使用することを規定するハンガリ
ー特許第１７５．９０６号中が推奨する量と比較してこ
の試薬の量を容易に減少することが可能である。
上記記載の変法は式（１）の３−（４−ヒドロキシベン
ゾイル）ベンゾフラン誘導体を高収率で製造することが
可能である。この場合、特に２ −ｎ−ブチルー３−（
４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランの製法におい
て、製法のこの変法の適用により少なくとも７０％収率
を得ることが可能である。
ゾイル）ベンゾフラン誘導体を高収率で製造することが
可能である。この場合、特に２ −ｎ−ブチルー３−（
４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランの製法におい
て、製法のこの変法の適用により少なくとも７０％収率
を得ることが可能である。
前記したように、式（１）の３−ベンゾイルベンゾフラ
ン誘導体はペンズヨーダロン、ベンズブロマロンまたは
アモーダロンの製造に使用することができる。
ン誘導体はペンズヨーダロン、ベンズブロマロンまたは
アモーダロンの製造に使用することができる。
例えば、ペンズヨーダロンおよびベンズブロマロンは特
にアルカリ金属酢酸塩緩衝液／酢酸溶液の存在下均質な
溶演中２−エチル−３−（４−ヒドロキシベンゾイル）
ベンゾフランのそれぞれよう素化または臭素化により製
造することができ、アムイオダロンは前記と類似した方
法で２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフランをよう素化して２−ｎ−ブチルー３−（
３．５−ジョード−４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾ
フランを生成し、続いてアルカリ金属炭酸塩／アルカリ
金属炭酸水素塩緩衝液溶液の存在下ｌジエヂルアミノー
２−クロロエタン塩酸塩によりエーテル化することによ
り得ることができる。
にアルカリ金属酢酸塩緩衝液／酢酸溶液の存在下均質な
溶演中２−エチル−３−（４−ヒドロキシベンゾイル）
ベンゾフランのそれぞれよう素化または臭素化により製
造することができ、アムイオダロンは前記と類似した方
法で２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフランをよう素化して２−ｎ−ブチルー３−（
３．５−ジョード−４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾ
フランを生成し、続いてアルカリ金属炭酸塩／アルカリ
金属炭酸水素塩緩衝液溶液の存在下ｌジエヂルアミノー
２−クロロエタン塩酸塩によりエーテル化することによ
り得ることができる。
次の実施例は本発明およびアムイオダロンの製造を示す
。
。
実施例ｌ
２−ｎ−ブチルー３−（４−メ
ベンゾフランの製造
無水ジクロロエタン４０ｘＱをアルゴン下反応器に入れ
、−２０℃に冷却した。その後ホスゲン３トキシベンゾ
イル） 村（４１．８７ミリモル）、２−ｎ−ブヂルベンゾフラ
ン２．５ｘｌ２（１４．２ミリモル）および塩化アルミ
ニウム２．１ ３Ｓ＋（１ ５．９６ミリモル）を続い
て反応器へ導入した。溶液を徐々に室温まで加熱し、２
４時間撹拌し、−２０℃に冷却した。
、−２０℃に冷却した。その後ホスゲン３トキシベンゾ
イル） 村（４１．８７ミリモル）、２−ｎ−ブヂルベンゾフラ
ン２．５ｘｌ２（１４．２ミリモル）および塩化アルミ
ニウム２．１ ３Ｓ＋（１ ５．９６ミリモル）を続い
て反応器へ導入した。溶液を徐々に室温まで加熱し、２
４時間撹拌し、−２０℃に冷却した。
アニソールＩ，５５村（１４．２５ミリモル）を加え、
溶液を室温まで加熱し、２時間撹拌し、水１００村を注
いだ。３０分間激しく撹拌し、有機相を分離し、炭酸水
素ナトリウム飽和溶液３（ＪｔＱおよび水４０村で洗浄
し、その後硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶液を室温まで加熱し、２時間撹拌し、水１００村を注
いだ。３０分間激しく撹拌し、有機相を分離し、炭酸水
素ナトリウム飽和溶液３（ＪｔＱおよび水４０村で洗浄
し、その後硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒蒸留およびシリカカラム（溶Ｍ液：塩化メチレン：
ヘキサン＝１：Ｉ）で得られた粗生成物の精製後、２−
ｎ−ブヂルー３−（４−メトキンベンゾイル）ベンゾフ
ラン３．４４９＜１ １．１７ミリモル）を得た。
ヘキサン＝１：Ｉ）で得られた粗生成物の精製後、２−
ｎ−ブヂルー３−（４−メトキンベンゾイル）ベンゾフ
ラン３．４４９＜１ １．１７ミリモル）を得た。
収率二７８．７％
実施例２
２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル）ベ
ンゾフランの製造 無水ジクロ口エタン４０ｘ（ｌをアルゴン下乾燥丸底フ
ラスコに置き、−２０℃に冷却した。ホスゲン３ｘＱＣ
４ １ ． ８ ７ミリモル）、２−ｎ−プチルベン
ゾフラン２．５ｄ（１ ４．２ミリモル）および塩化ア
ルミニウム２．１３ｇ（１５．９６ミリモル）を続いて
フラスコ中に導入した。
ンゾフランの製造 無水ジクロ口エタン４０ｘ（ｌをアルゴン下乾燥丸底フ
ラスコに置き、−２０℃に冷却した。ホスゲン３ｘＱＣ
４ １ ． ８ ７ミリモル）、２−ｎ−プチルベン
ゾフラン２．５ｄ（１ ４．２ミリモル）および塩化ア
ルミニウム２．１３ｇ（１５．９６ミリモル）を続いて
フラスコ中に導入した。
溶液を室温まで加熱し、２４時間撹拌し、−２０℃に冷
却した。アニソールＩ． ． ５ ５ｘ＆（１ ４２
５ミリモル）をその後加え、溶液を２５°Ｃまで再加熱
した。
却した。アニソールＩ． ． ５ ５ｘ＆（１ ４２
５ミリモル）をその後加え、溶液を２５°Ｃまで再加熱
した。
２時間撹拌を続け、塩化アルミニウム１．９９（１４．
２３ミリモル）を加えた。混合物を８時間還流加熱した
。約４０℃に冷却後、反応混合物を水１００ｍｌ７に注
ぎ３０分撹拌した。有機相を分離し、炭酸水素ナトリウ
ム飽和溶液３０ｘ（ｌで、その後水４０ｘＱで洗浄した
。硫酸ナトリウムで乾燥し、脱色した。溶媒の蒸留およ
びシリカカラム（溶離液：塩化メチレン）で得られた粗
生成物を精製後、２−ｎ−ブチルー３−４−（ヒドロキ
シベンゾイル）ベンゾフラン２．９９（９．８７ミリモ
ル）を得た。
２３ミリモル）を加えた。混合物を８時間還流加熱した
。約４０℃に冷却後、反応混合物を水１００ｍｌ７に注
ぎ３０分撹拌した。有機相を分離し、炭酸水素ナトリウ
ム飽和溶液３０ｘ（ｌで、その後水４０ｘＱで洗浄した
。硫酸ナトリウムで乾燥し、脱色した。溶媒の蒸留およ
びシリカカラム（溶離液：塩化メチレン）で得られた粗
生成物を精製後、２−ｎ−ブチルー３−４−（ヒドロキ
シベンゾイル）ベンゾフラン２．９９（９．８７ミリモ
ル）を得た。
収率：７０％、融点：１２０℃
実施例３
２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジョード−４一β−ジ
エチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン塩酸塩
の製造 ａ）２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフラン ２−ｎ−ブチルー３−（４−メトキシベンゾイル）ベン
ゾフラン２９（６．５ミリモル）、ジクロロエタン３０
ｘＱおよび塩化アルミニウムｔ．ｓ２ｇ（ｔ３．６ミリ
モル）からなる溶液をアルゴン下に加えた。混合物を９
時間還流加熱し、その後室温まで冷却した。反応混合物
をその後水５０＋ｗ（に注ぎ、３０分間激しく撹拌し、
有機相を分離した。水３０村で３回洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、珪藻上により脱色した。溶媒の蒸留後、
２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル）ベ
ンゾフラン１．９９（６．５ミリモル）を得た。
エチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン塩酸塩
の製造 ａ）２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフラン ２−ｎ−ブチルー３−（４−メトキシベンゾイル）ベン
ゾフラン２９（６．５ミリモル）、ジクロロエタン３０
ｘＱおよび塩化アルミニウムｔ．ｓ２ｇ（ｔ３．６ミリ
モル）からなる溶液をアルゴン下に加えた。混合物を９
時間還流加熱し、その後室温まで冷却した。反応混合物
をその後水５０＋ｗ（に注ぎ、３０分間激しく撹拌し、
有機相を分離した。水３０村で３回洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、珪藻上により脱色した。溶媒の蒸留後、
２−ｎ−ブチルー３−（４−ヒドロキシベンゾイル）ベ
ンゾフラン１．９９（６．５ミリモル）を得た。
収率：ｌ００％、融点：１１９−１２０℃ｂ）２−ｎ−
ブチルー３−（３．５−ジョード−４−ヒドロキシベン
ゾイル）ベンゾフランメタノール５４０ｇを４ｉ２反応
器に導入した。酢酸ナトリウム三水和物３００ｙ（２．
４モル）、よう素２８６９および湿った回収よう素４２
４９（総モル２．３モル）を撹拌しながら続けて加えた
。
ブチルー３−（３．５−ジョード−４−ヒドロキシベン
ゾイル）ベンゾフランメタノール５４０ｇを４ｉ２反応
器に導入した。酢酸ナトリウム三水和物３００ｙ（２．
４モル）、よう素２８６９および湿った回収よう素４２
４９（総モル２．３モル）を撹拌しながら続けて加えた
。
反応混合物を３ ０−３ ５℃にし、２−ｎ−ブチルー
３−（４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフラン２９４
９（１モル）を１回で導入した。
３−（４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフラン２９４
９（１モル）を１回で導入した。
メタノール６０ｇですすぎ、混合物を３０−４５分間還
流加熱した（最大温度：７０−７４℃）。
流加熱した（最大温度：７０−７４℃）。
加熱を止め、精製水４００９中の水酸化ナトリウムペレ
ット９０ｙ（２．２モル）から予め製造した溶液を約１
０分間中に導入した。反応の発熱性により添加する期間
中還流した（最大７６−７７℃）。
ット９０ｙ（２．２モル）から予め製造した溶液を約１
０分間中に導入した。反応の発熱性により添加する期間
中還流した（最大７６−７７℃）。
混合物を２時間還流し、その後装置を常温蒸留装置に変
えた。二硫化ナトリウム３２０９（３５度ポウメ）溶液
を約２０分以内に加え、蒸留を最大温度が９７−１００
℃に達するまで続けた（蒸留最大温度二８７℃）。こう
して、溶媒約８００１１２（約６８０ｇ）を蒸留した。
えた。二硫化ナトリウム３２０９（３５度ポウメ）溶液
を約２０分以内に加え、蒸留を最大温度が９７−１００
℃に達するまで続けた（蒸留最大温度二８７℃）。こう
して、溶媒約８００１１２（約６８０ｇ）を蒸留した。
水浴で７５−８０℃に冷却し、精製水２００ｇ、３６％
塩酸２１５ｇおよびトルエン１６００ｇを続けて順番に
加えた。混合物をｌＯ分間還流加熱し（最大温度：８４
℃、二酸化硫黄の発生）、下側の水相をデカントした。
塩酸２１５ｇおよびトルエン１６００ｇを続けて順番に
加えた。混合物をｌＯ分間還流加熱し（最大温度：８４
℃、二酸化硫黄の発生）、下側の水相をデカントした。
トルエン相を精製水４００ｇ、二硫化ナトリウム水溶液
１００ｇおよび精製水４００９を２回にわけて連続して
７ ５−８ ０℃洗浄した。水相の最大量を最終洗浄後
デカントし、残留物を活性炭２２９で３０分間還流処理
した。混合物を熱濾過し、熱トルエン３８０９ですすぎ
、濾液を集めた。
１００ｇおよび精製水４００９を２回にわけて連続して
７ ５−８ ０℃洗浄した。水相の最大量を最終洗浄後
デカントし、残留物を活性炭２２９で３０分間還流処理
した。混合物を熱濾過し、熱トルエン３８０９ですすぎ
、濾液を集めた。
２−ｎ−ブチルー（３．５−ジョード−４−ヒドロキシ
ベンゾイル）ベンゾフランのトルエン溶液を上記のよう
に得、そのまま使用した。
ベンゾイル）ベンゾフランのトルエン溶液を上記のよう
に得、そのまま使用した。
上記記載した類似した方法で、２−エチル−３一（４−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフラン２６６．３９（１
モル）から出発して、２−エチル−３−（３．５−ジョ
ード−４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランまたは
ペンズヨーダロンを蒸留によるトルエン除去後得た。
ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフラン２６６．３９（１
モル）から出発して、２−エチル−３−（３．５−ジョ
ード−４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランまたは
ペンズヨーダロンを蒸留によるトルエン除去後得た。
同様に、２−エチル−３−（４−ヒドロキシベンゾイル
）ベンゾフラン２６６．３ｇ（１モル）および臭素から
出発して、２−エチル−３−（３．５−ジブロモ−４−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランまたはベンズブロ
マロンを蒸留によるトルエン除去後得た。
）ベンゾフラン２６６．３ｇ（１モル）および臭素から
出発して、２−エチル−３−（３．５−ジブロモ−４−
ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランまたはベンズブロ
マロンを蒸留によるトルエン除去後得た。
ｃ）２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジョード−４一β
−ジエチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン 段階ｂ）で得られた２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジ
ョード−４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランを精
製水８００ｇおよび１〜ジエヂルアミノ−２−クロロエ
タン塩酸塩１７７．３ｇ（１０３モル）とともに反応器
へ導入した。反応混合物を撹拌しながら４０±２℃にし
、１５分間保った。二酸化炭素の発生を制御しながら、
無水炭酸カリウムをゆっくり加えた。温度を１時間以内
に徐々に還流まで上げた。混合物を３時間この温度で保
ち、水性塩水相を７５±５℃でデカントし、トルエン相
を精製水８００９を４回に分けて洗浄した。トルエン溶
液を６０℃で活性炭２０．５９で処理し、濾過し、トル
エン２２０９ですすぎ、濾液を集めた。
−ジエチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン 段階ｂ）で得られた２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジ
ョード−４−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾフランを精
製水８００ｇおよび１〜ジエヂルアミノ−２−クロロエ
タン塩酸塩１７７．３ｇ（１０３モル）とともに反応器
へ導入した。反応混合物を撹拌しながら４０±２℃にし
、１５分間保った。二酸化炭素の発生を制御しながら、
無水炭酸カリウムをゆっくり加えた。温度を１時間以内
に徐々に還流まで上げた。混合物を３時間この温度で保
ち、水性塩水相を７５±５℃でデカントし、トルエン相
を精製水８００９を４回に分けて洗浄した。トルエン溶
液を６０℃で活性炭２０．５９で処理し、濾過し、トル
エン２２０９ですすぎ、濾液を集めた。
２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジョード−４一β−ジ
エチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフランのトル
エン溶液が遊離塩基またはアムイオダロンの形で得られ
た。
エチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフランのトル
エン溶液が遊離塩基またはアムイオダロンの形で得られ
た。
ｄ）２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジョード−４一β
−ジエチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン塩
酸塩 段階Ｃ）で得られた２−ｎ−ブチルー３−（３．５＝ジ
ョード−４−β−ジエチルアミノエトキシベンゾイル）
ベンゾフランを６０℃にし、塩化水素３８．５９を降下
導入管により導入した。反応物の温度を発熱性により上
昇するに任せたが７５℃を超えないようにした。
−ジエチルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン塩
酸塩 段階Ｃ）で得られた２−ｎ−ブチルー３−（３．５＝ジ
ョード−４−β−ジエチルアミノエトキシベンゾイル）
ベンゾフランを６０℃にし、塩化水素３８．５９を降下
導入管により導入した。反応物の温度を発熱性により上
昇するに任せたが７５℃を超えないようにした。
ｐ｝ｌは導入終了時および７０±５℃での接触３０分後
で酸性と確認された。
で酸性と確認された。
混合物を水流ポンプ真空下に徐々に置きトルエン：水：
塩酸４００村を蒸留した（蒸留終了時：残余圧≦１５０
ｍｍ：最終温度く７５℃）。再結晶を水浴で誘発し、約
８時間ゆっくり撹拌し、結晶を１０−１５℃で濾過した
。それらを濾過したトルエン［８０ｘＱ４回に分けてす
すぎ、６０℃換気オーブンで恒量になるまで乾燥した。
塩酸４００村を蒸留した（蒸留終了時：残余圧≦１５０
ｍｍ：最終温度く７５℃）。再結晶を水浴で誘発し、約
８時間ゆっくり撹拌し、結晶を１０−１５℃で濾過した
。それらを濾過したトルエン［８０ｘＱ４回に分けてす
すぎ、６０℃換気オーブンで恒量になるまで乾燥した。
２−ｎ−ブチルー３−（３．５−ジョード−４β−ジエ
チルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン塩酸塩ま
たはアムイオダロン塩酸塩約６４７．５９を得た。
チルアミノエトキシベンゾイル）ベンゾフラン塩酸塩ま
たはアムイオダロン塩酸塩約６４７．５９を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I ［式中、Ｒは直鎖または分岐Ｃ＿１−Ｃ＿８アルキル基
、Ｃ＿３−Ｃ＿６シクロアルキル基および非置換または
ハロゲン原子、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、Ｃ＿１−Ｃ＿
４アルコキシおよびニトロ基から選ばれた同一もしくは
異なる１個または数個の置換基で置換されたフェニル基
から選ばれ、 Ｚは、水素およびメチル基から選ばれる］ で示される３−ベンゾイルベンゾフラン誘導体の製造法
であって、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼II ［式中、Ｒは前記の意味］ で示されるベンゾフラン誘導体を、触媒として塩化アル
ミニウムの存在下、−２５℃〜室温の温度において、無
極性非プロトン溶媒中で、まずホスゲンまたは塩化オキ
ザリル、ついで 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼III ［式中、Ｚは前記の意味］ で示されるフェノール性誘導体と、反応液中で連続的に
反応させて、複合体を生成させ、これを加水分解して目
的とする３−ベンゾイルベンゾフラン誘導体を生成させ
ることからなる方法。 （２）ベンゾフラン誘導体：フェノール性誘導体：ホス
ゲンまたは塩化オキザリル：塩化アルミニウムのモル比
が１：１：２〜４：１〜１．５である、請求項１記載の
方法。 （３）モル比が１：１：３：１．５である、請求項２記
載の方法。 （４）Ｚが水素である式（ I ）の３−ベンゾイルベン
ゾフラン誘導体を製造するための請求項１記載の方法で
あって、式（II）のベンゾフラン誘導体を、触媒として
塩化アルミニウムの存在下、−２５℃〜室温の温度にお
いて、無極性非プロトン溶媒中で、まずホスゲン、つい
でアニソールと、反応液中で連続的に反応させて、複合
体を生成させ、これを媒質の還流温度において塩化アル
ミニウムの存在下に反応液中で脱メチル化し、ついで加
水分解して、Ｚが水素である式（ I ）の３−ベンゾイ
ルベンゾフラン誘導体を生成させることからなる方法。 （５）触媒としての塩化アルミニウムの量が式（II）の
ベンゾフラン誘導体１当量当り１〜１．５当量であり、
脱メチルに必要な塩化アルミニウムの量が式（II）のベ
ンゾフラン誘導体１当量当り１当量である、請求項４記
載の方法。 （６）無極性非プロトン溶媒が４塩化炭素またはＣ＿１
−Ｃ＿４アルキルハライドである、請求項１〜５の何れ
か１項記載の方法。 （７）加水分解を室温〜５０℃の温度で行なう、請求項
１〜６の何れか１項記載の方法。（８）加水分解を室温
で行なう、請求項７記載の方法。 （９）Ｒがエチル基である、請求項１〜８の何れか１項
記載の方法。 （１０）Ｒがｎ−ブチル基である、請求項１〜８の何れ
か１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8913851 | 1989-10-23 | ||
| FR8913851A FR2653431B1 (fr) | 1989-10-23 | 1989-10-23 | Procede de preparation de derives de benzoyl-3 benzofuranne. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03169874A true JPH03169874A (ja) | 1991-07-23 |
Family
ID=9386667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2285702A Pending JPH03169874A (ja) | 1989-10-23 | 1990-10-22 | ３―ベンゾイルベンゾフラン誘導体の製造方法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5266711A (ja) |
| EP (1) | EP0425359B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03169874A (ja) |
| AT (1) | ATE128973T1 (ja) |
| DE (1) | DE69022949T2 (ja) |
| DK (1) | DK0425359T3 (ja) |
| ES (1) | ES2078959T3 (ja) |
| FR (1) | FR2653431B1 (ja) |
| GR (1) | GR3018227T3 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4896735B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2012-03-14 | クラリアント スペシャルティー ファイン ケミカルズ（フランス） | Ｎ−アルキル−２（ヒドロキシ−４ベンゾイル）−３ベンゾフラン及びその中間体の調製方法 |
| JP2013539757A (ja) * | 2010-10-06 | 2013-10-28 | ジェイファーマ株式会社 | 強力な尿酸トランスポーター阻害剤の開発：それらの尿酸排泄効果のために設計された化合物 |
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| US6166069A (en) * | 1998-05-12 | 2000-12-26 | American Home Products Corporation | Phenyl oxo-acetic acids useful in the treatment of insulin resistance and hyperglycemia |
| US20030113330A1 (en) * | 1999-11-08 | 2003-06-19 | Uhal Bruce D. | Methods for treating pulmonary fibrosis |
| RU2186063C1 (ru) * | 2001-06-18 | 2002-07-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Новокузнецкий научно-исследовательский химико-фармацевтический институт" | Способ получения 2-бутил-3-(3,5-дийод-4-оксибензоил)бензофурана |
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| AU2003210904A1 (en) * | 2002-02-07 | 2003-09-02 | Galileo Lab Inc | Cytoprotective benzofuran derivatives |
| MX2008000497A (es) * | 2005-07-15 | 2008-04-17 | Aryx Therapeutics Inc | Compuestos precursores antiarritmicos, metodos de sintesis y metodos de uso. |
| EP2452938A1 (en) | 2010-11-12 | 2012-05-16 | LEK Pharmaceuticals d.d. | Process for the preparation of 3-aroyl-5-aminobenzofuran derivatives |
| CN104262304A (zh) * | 2014-09-12 | 2015-01-07 | 杨俊� | 一种盐酸胺碘酮的合成方法 |
| CN104311516B (zh) * | 2014-09-16 | 2017-01-11 | 东北制药集团股份有限公司 | 一种苯溴马隆晶型b及其制备方法 |
| CN106065010B (zh) * | 2015-04-23 | 2019-01-01 | 镇江新元素医药科技有限公司 | 用于治疗或预防高尿酸血症或痛风的化合物 |
| CN106946822B (zh) * | 2017-03-21 | 2019-03-05 | 华中科技大学 | 一种2-丁基-3-(4-羟基苯甲酰基)苯并呋喃的制备方法 |
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| US3947470A (en) * | 1974-06-20 | 1976-03-30 | Smithkline Corporation | Substituted benzofurans and benzothiophenes |
| US4780480A (en) * | 1983-07-14 | 1988-10-25 | Syntex (U.S.A.) Inc. | Aroyl benzofuran and benzothiophene acetic and propionic acids |
| FR2583754B1 (fr) * | 1985-06-25 | 1987-10-23 | Sanofi Sa | Complexes moleculaires formes d'un derive de benzofuranne et de chlorure d'aluminium, leur preparation et leur utilisation |
-
1989
- 1989-10-23 FR FR8913851A patent/FR2653431B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-10-16 US US07/597,684 patent/US5266711A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-22 DK DK90402967.5T patent/DK0425359T3/da active
- 1990-10-22 ES ES90402967T patent/ES2078959T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-22 AT AT90402967T patent/ATE128973T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-10-22 EP EP90402967A patent/EP0425359B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-22 JP JP2285702A patent/JPH03169874A/ja active Pending
- 1990-10-22 DE DE69022949T patent/DE69022949T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-11-29 GR GR950403346T patent/GR3018227T3/el unknown
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| JP2013539757A (ja) * | 2010-10-06 | 2013-10-28 | ジェイファーマ株式会社 | 強力な尿酸トランスポーター阻害剤の開発：それらの尿酸排泄効果のために設計された化合物 |
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