JPH03175034A - 二軸配向ポリエステルフイルムおよびその加工物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、二軸配向ポリエステルフィルム、およびそれ
を用いた加工物、とくにリーダテープ、熱転写用磁気記
録媒体に関する。

［従来の技術］ 磁気テープの初端、終端部に接続されるリーダテープが
知られている（たとえば特開昭４９−６７６０３号公報
〉。このリーダテープは、磁気テープの初端、終端に接
続され、光の透過率が磁気テープ部分に比べはるかに大
きいことを利用して、光センサーによって磁気テープの
初端、終端を検知し、該テープを停止させ磁気テープに
大きな力がかからないようにするためのものである。

したがって、リーダテープと磁気テープの光の透過率の
差が小さいと、検知感度が低下する。また最近では、磁
性層の磁性粉の充填率を多くして性能向上をはかるため
磁性層中のカーボンブラックを減量しているため、磁気
テープの光の透過率が大きくなる傾向にあり、リーダテ
ープとしてはますます透明にしておく必要がある。

また一方で、リーダテープは繰り返し走行するため耐ス
クラッチ性（耐傷つき性）が要求される。

耐スクラッチ性が不良であるとそこから発生する粉がド
ロップアウト等の１東回になる。

また、磁気テープのダビング（記録の複写）方式として
、熱転写による方式が知られている（たとえばＮａｔｉ
ｏｎａｌ　Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　Ｒｅｐｏｒｔ　Ｖｏｌ
、２０．Ｎｏ、１゜９２−１０８頁、１９７４年２月）
。この磁気テープの熱転写によるダビングは、ダビング
によるＳ　／　Ｎの低下が小さく高画質が維持できるた
め、今後のソフトテープのダビング方式として有望視さ
れている。熱転写の際には、被複写テープの磁性層をキ
ュリー点以上に高くする必要があるが、最近では効率的
なｈ０熱を行なうため磁性層の反対側、すなわちベース
フィルムを通してレーザー光で加熱するようにしている
。

したがって、透明性の不良なベースフィルムは、ＦＪｌ
熱効率が低く、ダビングによるＳ　／’　Ｎ低下が大き
いので、好ましくない。また、高速で上記の複写がなさ
れるため、耐スクラッチ性も不可欠である。

このように、リーダテープヤ熱転写用磁気記録媒体に用
いられるベースフィルムには、透明性とと・しに、耐ス
クラッチ性が求められる。

このうち、耐スクラップ性の向上に関し、フィルム中に
粒子を含有させ、該粒子によってフィルム表面に微小凹
凸（微小突起）を形成し、フィルム表面の摩擦係数低減
を介して削スクラッチ性を高めるようにした技術が知ら
れている。このような表面に微小凹凸（突起）を形成し
たフィルムとして、ポリエステルにコロイド状シリカに
起因づる実質的に球形のシリカ粒子を含有させた二軸配
向ポリエステルフィルムが知られている（たとえば特開
昭５９−１７１６２３号公報〉。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記のような従来の二軸配向ポリエステ
ルフィルムでは、含有されたシリカ粒子が、フィルムの
厚さ方向全域にわたって略ランダムに分布するため、フ
ィルム表面における含有粒子による突起の密度増大には
限界があり、しかもその突起高さもランダムに相当ばら
つくことになる。そのため、このフィルム表面上に形成
された突起の高さの高い部分が削れやすくなり、その分
耐スクラッチ性向上効果も不十分なものとなる。

また、フィルムの厚さ方向全域に不活性粒子が混在する
ことになるので、フィルム自身の透明性が低下し、リー
ダテープヤ熱転写用磁気記録媒体のベースフィルムとし
ては致命的な欠陥になるおそれがある。

本発明は、二軸配向ポリエステルフィルムの表面の突起
の高密度化と高さの均一化を達成することにより耐スク
ラッチ性を向上するとともに、フィルム全体の透明性を
高く確保し、リーダテープや熱転写用磁気記録媒体のベ
ースフィルムとして最適なものを提供することを目的と
する。

［課題を解決するための手段］ この目的に沿う本発明の二軸配向ポリエステルフィルム
は、ポリエステルＡと不活性粒子とを主成分とするフィ
ルムを共押出によりポリエステル８を主成分とするフィ
ルムの少なくとも片面に積層した二軸配向ポリエステル
フィルムであって、前記不活性粒子の平均粒径が該不活
性粒子を含む前記ポリエステルへの積層フィルムの厚さ
の０．３〜１０倍、該ポリエステルＡの積層フィルム層
の表面突起個数が５０００個／′Ｍ２以上、かつ濁度値
が４０％以下であるものから成る。

この二軸配向ポリエステルフィルムを用いることにより
、耐スクラッチ性と透明性の両方に勝れたリーダテープ
、熱転写用磁気記録媒体が得られる。

本発明におけるポリエステルＡは、特に限定されること
はないが、特に、エチレンテレフタレーｔ〜、エチレン
α、β−ビス（２−クロルフェノキシ〉エタン−４，４
゛−ジカルボキシレート、エチレン２，６−ナフタレー
ト単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構
成成分とする場合に表面突起の形成、基材フィルムとし
ての透明性、耐スクラッチ性がより一層良好となるので
望ましい。また、本発明を構成するポリエステルは結晶
性である場合に透明性、耐スクラッチ性がより一層良好
となるのできわめて望ましい。ここでいう結晶性とはい
わゆる非晶質ではないことを示すものであり、定量的に
は結晶化パラメータにおける冷結晶化温度Ｔｃｃが検出
され、かつ結晶化パラメータ△ＴＣ（Ｊが１５０’Ｃ以
下のものである。ざらに、示差走査熱量計で測定された
融解熱（融解エンタルピー変化）が７．５ＣａＬ’９以
上の結晶性を示す場合に透明性、耐スクラッチ性がより
一層良好となるのできわめて望ましい。また、■ヂレン
テレフタレートを主要構成成分とするポリエステルの場
合にフィルム表面の耐スクラッチ性がより一層良好とな
るので特に望ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内
で、２種以上のポリエステルを混合しても良いし、共重
合ポリマを用いても良い。

本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子の形状は、特に
限定されないが、フィルム中での粒径比（粒子の長径／
短径〉が１．０〜１．３の粒子、特に、球形状の粒子の
場合に、表面に形成される突起の高さを均一化しやすく
、かつ高密度化しやすくなるので、酌スクラッチ性を大
きく高めることができる。

また、本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子はフィル
ム中での単一粒子指数が０．７以上、好ましくは０．９
以上である場合に、均−高さの突起が形成されやすく、
フィルム表面の耐スクラッチ性がより一層良好となるの
で特に望ましい。

本発明のポリエステルＡ中の不活性粒子の種類は特に限
定されないが、上記の好ましい粒子特性を満足させるに
は好ましい粒子として、コロイダルシリカに起因する実
質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（たと
えば架橋ポリスチレン）などがある。特に１０重量％減
量時温度（窒素中で熱重量分析装置島津Ｔ　Ｏ−３０Ｍ
を用いて測定。

胃温速［２０℃／分）が３８０　’Ｃ以上になるまで架
橋度を高くした架橋高分子粒子が特に望ましい。なお、
コロイダルシリカに起因する球形シリカの場合にはアル
コキシド法でＩｎされた、ナトリウム含有量が少ない、
実質的に球形のシリカが特に望ましい。しかしながら、
その他の粒子、例えば炭酸カルシウム、二酸化チタン、
アルミナ等の粒子でもフィルム厚さと平均粒径の適切な
コントロールにより十分使いこなせるものである。

不活性粒子の大きさは、該不活性粒子を含有する積置フ
ィルム中での平均粒径が該積層フィルム厚さの０．３〜
１０倍、好ましくは０．５〜５倍、さらに好ましくは１
．１〜３倍の範囲とされる。平均粒径／積層フィルム層
さ比が上記の範囲より小さいと表面に形成される突起の
高さが不均一になり、透明性、副スクラッチ性が不良と
なり、逆に大きくても粒子により形成される表面突起が
削れやすくなって耐スクラッチ性が不良となるので好ま
しくない。　また、ポリエステルＡ中の不活性粒子のフ
ィルム中での平均粒径（直径〉が０．００７〜３μ机、
好ましくは０．０２〜０．８μ卯の範囲である場合に、
フィルム全体の透明性がより一層良好となるので望まし
い。

つまり、本発明における二軸配向ポリエステルフィルム
の積層フィルム層には、該フィルム層厚さ近傍あるいは
それよりも大きな平均粒径の不活性粒子が含有される。

換言すれば、極薄積層フィルムに、そのフィルム厚さ近
傍あるいはそれよりち大きな平均粒径の微小不活性粒子
が含有される。

したがって、二軸配向ポリエステルフィルム全体に対し
、その厚さ方向に、実質的に積層フィルム層のみに集中
して不活性粒子を分イＩさせることができる。その結果
、積層フィルム中における粒子密度を容易に高くするこ
とができ、該粒子により形成されるフィルム表面の突起
の密度も容易に高めることができる。また、不活性粒子
は、上記積層フィルム中に含有されることで、二軸配向
ポリエステルフィルム全体に対し、その厚さ方向に位置
規制されることになり、しかも積層フィルムの厚さと平
均粒径とは前述の如き関係にあるから、該粒子により形
成される表面突起の高さは、極めて均一になる。したが
って、この積層フィルム表面の耐スクラッチ性が高く保
たれる。そして、不活性粒子が実質的に表層のみに存在
することになるので、フィルム全体としての透明性は極
めて高く保たれる。

上記の如く、フィルム表面の耐スクラッチ性を高めるた
めに、とくにリーダテープや熱転写用磁気記録媒体とし
ての苛酷なくり返し条件や高速走行条件に耐えるために
は、ポリエステルＡ層の表面突起個数として５０００個
／＃２以上が必要である、これよりも少ないと、望まし
い耐スクラッチ性が得にくくなる。

一方透明性の面からは、フィルム金体としての粒子含有
量は抑えられる。リーダテープや熱転写用磁気記録媒体
用のベースフィルムとして、本発明の二軸配向ポリエス
テルフィルムは、その濁度値（ヘイズ）として４０％以
下を満足させることができる。これよりも濁度値が高い
と、リーダテープや熱転写用磁気記録媒体として望まし
い透明性が得られず、リーダテープにあっては、磁気テ
ープ初終端の検知能力が低下することとなり、熱転写用
磁気記録媒体にあっては、ダビング性不良を来たすおそ
れがある。

上記耐スクラッチ性と透明性を両立させるために、本発
明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいては、不活性
粒子のポリエステルＡの積層フィルム中の含有量は、０
．１〜２０重量％の範囲とされる。この範囲よりも少な
いと、形成される突起の密険が低いため、目標とする耐
スクラッチ性向上効果が得られない。逆に上記範囲より
も多いと、不活性粒子が凝集しやすくなって、凝集粒子
が不均一な高さの突起を形成する機会が多くなるので望
ましくないとともに、含有粒子量が多くなりづぎ、フィ
ルム全体としての透明性が低下するので好ましくない。

このようなポリエステルＡと不活性粒子とを主成分とす
るフィルムがポリエステルＢを主成分とづるフィルムに
積層される。

ポリエステルＢは、前）ホのポリエステルＡと同様のも
のからなり、ポリエステルＢとポリエステルへとは同じ
種類のものでも異なるものでもよい。

ポリエステルＡのフィルム層は、ポリエステルＢからな
るフィルム層の両面、又は片面に積層される。つまり、
積層構成がＡ／Ｂ／Ａ１Ａ／Ｂの場合であるが、もちろ
ん、Ａと異なる表面状態を有する０層をＡと反対面に設
けたＡ／Ｂ／Ｃでも、あるいはそれ以上の多層構造でも
よい。（ここで、Ａ、Ｂ、Ｃそれぞれの樹脂の種類は同
種でも、異種でもよい。また、少なくとも片方の表面は
Ａ層であることが必要である。磁性層を設ける場合は、
Ａ／Ｂ構成の場合はＢ層、Ａ／’Ｂ／Ｃ構成の場合は平
滑な方の面に設（プるのが好適である。）ポリエステル
Ｂとしても、結晶性ポリマが望ましく、特に、結晶性パ
ラメータΔＴＣｇが２０〜１００℃の範囲の場合に、該
ポリエステルＢのフィルム表面の耐スクラッチ性等がよ
り一層良好となるので望ましい。具体例として、エチレ
ンテレフタレート、エチレンα、β−ビス（２−クロル
フェノキシ〉エタン−４，４°−ジカルボキシレート、
エチレン２．６−ナフタレート単位から選ばれた少なく
とも一種の構造単位を主要構成成分とする場合に耐スク
ラッチ性が特に良好となるので望ましい。ただし、本発
明を阻害しない範囲内、望ましい結晶性を損なわない範
囲内で、好ましくは５モル％以内であれば他成分が共重
合されていてもよい。

本発明のポリエステルＢにも、本発明の目的を明害しな
い範囲内で、他種ポリマをブレンドしてもよいし、また
酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機
添加剤が通常添加される程度添加されていてもよい。

ポリエステルＢを主成分とするフィルム中には不活性粒
子を含有している必要は特にないが、このフィルム層が
基材フィルムの一面を形成する場合、平均粒径が０．０
０７〜２μ汎、特に０．０２〜０．４５μ７ｎの不活性
粒子がごく少量、たとえばｏ、　ｏｏｉ〜０．２重堵％
、特に０．００５〜０．１５重量％、さらには０．００
５〜０．１２重量％含有されていると、加エエ稈上、使
用上において、摩１察係数や、耐スクラッチ性がより一
層良好となるのみならず、フィルムの巻姿が良好となる
のできわめて望ましい。含有する不活性粒子の種類はポ
リエステルＡに望ましく用いられるものを使用すること
が望ましい。ポリエステルＡとＢに含有される粒子の種
類、大きさは同じでも異なっていても良い。

上述の如き不活性粒子を含有するポリエステルＡと、ポ
リエステルＢとが共押出により積層され、シート状に成
形された後二輪に延伸され、二軸配向ポリエステルフィ
ルムとされる。本発明における共押出による積層とは、
不活性粒子を含有するポリエステルＡと、ポリエステル
Ｂとをそれぞれ異なる押出装置で押出し、口金から積層
シートを吐出１−る前にこれらを積層することをいう。

この積層は、シート状に成形、吐出するための口金内（
たとえばマニホルド〉で行ってもよいが、前述の如く積
層フィルム層が極薄であることから、口金に導入する前
のポリマ管内で行うことが好ましい。とくに、ポリマ管
内の積層部を、矩形に形成しておくと、幅方向に均一に
積層できるので特に好ましい。ポリマ管内矩形積層部で
積層された溶融ポリマは、口金内マニホルドでシート幅
方向に所定幅まで拡幅され、口金からシート状に吐出さ
れた後、二軸に延伸される。したがって、たとえ二軸配
向後の積層フィルム層が極薄であっても、ポリマ管内矩
形積層部では、不活性粒子含有ポリエステルポリマを、
かなりの厚さで積層することになるので、容易にかつ精
度よく積層できる。

また、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムにおいて
は、不活性粒子を含む積層フィルム側の表層の不活性粒
子による粒子′ａ度比が０．１以下であることが好まし
い。この表層粒子ａ、１比は、後述の測定法に示す如く
、フィルム表面突起を形成する不活性粒子がフィルム表
面において如何にポリエステルＡの薄膜で覆われている
かを示すものであり、粒子がフィルム表面に実質的に直
接露出している度合が高い程表層粒子５ｊＡＷ比が高く
、表面突起は形成するがポリエステルＡの薄膜に覆われ
ている度合が高い程表層粒子濃度比は低い。突起を形成
する不活性粒子がポリエステルＡの薄膜で覆われている
ことにより、不活性粒子が高密度に極薄積層フィルム層
に分布している状態にあっても、該粒子が該積層フィル
ム層、ひいてはポリエステルＢのベースフィルム層にし
っかりと保持されることになる。したがって、表層粒子
濃度比を上記値以下とすることにより、粒子の脱落等が
防止されて、フィルム表面の耐スクラッチ性が高く維持
される。このような表層粒子′ａ度比は、共押出による
積層を行うことによって達成可能となる。ちなみに、コ
ーティング方法によっても、本発明と同様の密度の表面
突起を有するフィルム、すなわち、ポリエステルＢのフ
ィルム層に対し極薄厚さで樹脂層をコーティングし、該
樹脂層内に不活性粒子を含有させることは可能であるが
、表層粒子濃度比が著しく高くなりくつまり粒子が実質
的に表面に直接露出する度合が著しく高くなり〉、本発
明フィルムに比べ表面の極めて脆いものしか得られない
。

なお、本発明の二軸配向ポリスチルフィルムにおいては
、濁度の増加と、ポリエステルＡ層の表面突起の高さの
均一性低下との間には、ある程度相関が認められる。つ
まり、粒子の平均粒径と積層ポリエステルＡ層との厚さ
比、突起個数等が前述の条件を満たしている場合にあっ
ても、粒径分布におけるばらつきが大きかったり、積層
フィルム層の厚さ斑が大きいと、突起高さの均一度が低
下し濁度が増ＩＪ口する。この面から、粒径分イｂにお
ける相対標準偏差が０．６以下であることが好ましく、
０．５以下であることがさらに好ましい。また、積層ポ
リエステルＡ層の厚さ斑は、５０％以下であることが好
ましく、２５％以下がさらに好ましく、２０％以下が特
に好ましい。

次に本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの製造方法
について説明する。

まず、ポリエステルＡに不活性粒子を含有せしめる方法
としては、重合後、重合中、重合前のいずれでも良いが
、ポリマにベント方式の２軸押出機を用いて練り込む方
法が本発明範囲の表面形態のフィルムを得るのに有効で
ある。また、粒子の含有量を調節する方法としては、上
記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に
不活性粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈し
て粒子の含有量を調節する方法が本発明範囲の表面形態
のフィルムを得るのに有効である。さらにこの粒子高濃
度マスターポリマの溶融粘度、共重合成分などを調節し
て、その結晶化パラメータΔＴｃ　ｇを３０〜８０℃の
範囲にしておく方法は延伸破れなく、本発明範囲の表面
形態のフィルムを得るのに有効である。

かくして、不活性粒子を含有するペレット八を十分乾燥
したのち、公知の溶融押出機に供給し、ポリエステルの
融点以上分解点以下の温度で溶融し、もう一方の実質的
に不活性粒子を含有しないポリエステルＢ（種類は不活
性粒子を含有するポリエステルと同一であっても異なっ
ていてもよい〉を前述の如き積層用装置に供給し、スリ
ット状のダイからシート状に押出し、キャスティングロ
ール上で冷却固化せしめて未延伸フィルムを作る。

すなわち、２または３台の押出機、２または３層用の合
流ブロックあるいは口金を用いて、これらのポリエステ
ルポリマを積層する。合流ブロック方式を用いる場合は
積層部分を前述の如く矩形のものとし、両ポリエステル
の溶融粘度の差（絶対１直〉をＯ〜２０００ポイズ、好
ましくはＯ〜ｉ　ｏｏｏボイズの範囲にしておくことが
本発明範囲の表面形態のフィルムを安定して、幅方向の
斑なく、工業的に製造するのに有効である。

次にこの複層の未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向
せしめる。二軸延伸の方法は同時二軸延伸、逐次二軸延
伸法のいずれでもよいが、長手方向、幅方向の順に延伸
する逐次二軸延伸法の場合に本発明範囲の表面形態のフ
ィルムを安定して、幅方向の斑なく、工業的に製造する
のに有効である。逐次二軸延伸の場合、長子方向の延伸
を、３段階、特に４段階以上に分けて、４０〜１５０℃
の範囲で、かつ、１０００〜５００００％７′分の延伸
速度で、３〜６倍行なう方法は本発明範囲の表面形態を
有するフィルムを１コＩるのに有効である。幅方向の延
伸温度、速度は、８０〜１７０　°Ｃ，１ｏｏｏ〜２０
０００％／′分の範囲が好適である。延伸倍率は３〜１
０倍が好適である。また必要に応じてさらに長手方向、
幅方向の少なくとも一方向に延伸することもできる。

いずれにしても不活性粒子を含有するきわめて薄い層を
設けてから、面積延伸倍率（長手方向倍率Ｘ幅方向倍率
）として９倍以上の延伸を行なうことが本発明のポイン
トである。次にこの延伸フィルムを熱処理する。この場
合の熱処理条件としては、幅方向に弛緩、微延伸、定長
下のいずれかの状態で１４０〜２８０℃、好ましへは１
６０〜２２０℃の範囲で０．５〜６０秒間が好適である
が、熱処理にマイクロ波加熱を併用することによって本
発明範囲の表面形態を有するフィルムが得られやずくな
るので望ましい。

本発明フィルムの製法の特徴は、特殊な方法で調製した
特定範囲の熱特性を有する高濃度粒子ポリマを用いて、
不活性粒子を含有するきわめて薄い層を設けた後にフィ
ルムを二軸延伸することであり、製膜工程内で、フィル
ムを一軸延伸した後、コーティングなどを施しざらに延
伸する方法、あるいは二輪延伸フィルムにコーティング
して作られる積層フィルムでは本発明フィルムの性能に
は遠く及ばず、また、コスト面でも本発明フィルムが浸
れている。

上記の如り１１１られた二軸配向ポリエステルフィルム
が、磁気テープの始端、終端に接続され、リーダテープ
として使用される。リーダテープとしては、上記透明性
、耐スクラッチ性に浸れた二軸配向ポリエステルフィル
ムをそのまま用いてもよく、通常行われているように、
所定の顔料等を反磁性面側に塗イ１ｊＬ／た状態で用い
ることもできる。

前記二軸配向ポリエステルフィルムを、熱転写用磁気記
録媒体のベースフィルムとして使用する場合には、通常
の磁気テープ製造と同様の方法により製作すればよい。

ただし、磁性体は酸化クロムを用いるのが望ましい。ベ
ースフィルムの透明性が優れているから、磁性層面の反
則側からのレーザー光が効率にり透過し、加熱効率か高
められ、鍛れたＳ　、’　Ｎが得られる。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法コ本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。

（１）粒子の個数、平均粒径１粒径分布の相対標準偏差
　フィルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法
（たとえばヤマト利学製Ｐ　Ｒ−５０３型〉で除去し粒
子を露出させる。処理条件はポリエステルは灰化される
が粒子はダメージを受けない条件を選択する。これをＳ
ＥＭ　（走査型電子顕微鏡）で観察し、粒子の画像（粒
子によってできる光の濃）炎）をイメージアナライザー
（たとえばケンブリッジインストルメント製ＱＴＭ９０
０　）に結び付け、粒子の個数を測定するとともに、観
察箇所を変えて粒子数５０００個以上で次の数値処理を
行ない、それによって求めた平均径りを平均粒径とする
。

Ｄ＝ΣＤｒ／’Ｎ ここで、Ｄｉは粒子の円相５径、Ｎは個数である。

また、上記観察から粒径力イ５を求め、その相対標準偏
差をとった。

（２〉粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し
、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。場
合によっては赤外分光法のイＪｆ用も有効である。

（３）ガラス転移点Ｔ９、冷結晶化温度ＴＣＣ１結晶化
パラメータ△−「Ｃｇ、融点 パーキシエルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱最計〉■型
を用いて測定した。ＤＳＣの測定条件は次の通りである
。すなわち、試料１０ｍｇをＤＳＣ装置にセットし、３
００℃の温度で５分間溶融した後、液体窒素中に急冷す
る。この急冷試料を１０°Ｃ／′分で昇温し、ガラス転
移点Ｔ　ｇを検知する。ざらに昇温を続け、ガラス状態
からの結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔ−
ＣＣとした。ざらに昇温を続け、融解ピーク温度を融点
とした。また、１“ｃｃと７９の差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）を
結晶化パラメータ△Ｔｃ　ｇと定義する。

（４〉表面突起の平均高さ ２検出置方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス■製コと断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリ
オニクス■製］においてフィルム表面の平坦面の高さを
Ｏとして走査したときの突起の高さ測定値を画像処理装
置［Ｔ　ＢＡＳ２０００、力−ルツフイスｖｉＪ製］に
送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築
する。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して
得られた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の
高さとし、これを個々の突起について求める。この測定
を場所をかえて５００回繰返し、突起個数を求め、測定
された全突起についてその高さの平均値を平均高さとし
た。また走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００〜８００
０倍の間の値を選択する。なお、場合によっては、高精
度光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ
−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００倍、高解像度カメラ
使用が有効）を用いて得られる高さ情報を上記ＳＥＭの
値に読み替えて用いてもよい。

（５）表層粒子′ａ度比 ２次イオンマススペクトル（ＳＩＭＳ）を用いて、フィ
ルム中の粒子に起因する元素の内のもつとも高濃度の元
素とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子′ａ度とし
、厚さ方向の分析を行なう。

ＳＩＭＳによって測定される最表層粒子濃度（深さＯの
点）における粒子１度Ａとざらに深さ方向の分析を続け
て得られる最高濃度Ｂの比、Ａ／Ｂを表層粒子ｓ度比と
定義した。測定装置、条件は下記のとおりである。

■　測定装置 ２次イオン質釡分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ＡＴＯＨＩＫＡ社製　Ａ−ＤＩＤＡ３０００■　
測定条件 １次イオン種　：０２＋ １次イオン加速電圧：　１２ＫＶ １次イオン電流：　２００ｎへ ラスター領域　：　４００ｎ汎口 分析領域二ゲート３０％・ 測定真空度：　６．ＯｘｌＯ’　ＴｏｒｒＥ−ＧｔＪ　
Ｎ　：　０．５ＫＶ−３，ＯＡ（６）単一粒子指数 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（Ｔ　Ｅ’Ｍ　’）
で写真観察し、粒子を検知する。観察倍率をｉ　ｏｏ。

ＯＯ倍程度にすれば、それ以上分けることができない１
個の粒子が観察できる。粒子の占める全面積をＡ、その
内２個以上の粒子が凝集している凝集体の占める面積を
８とした時、（Ａ−８）／Ａをもって、単一粒子指数と
する。ＴＥＭ条件は下記のとおりであり１視野面積：２
μＴｒＬ２の測定を場所を変えて、５００視野測定する
。

・装置：日本電子製ＪＥＭ−１２００ＥＸ・観察倍率：
　１０００００倍 ・切片厚ざ：約１０００オングストローム（７）粒径比 上記（１）の測定において個々の粒子の長径の平均値／
短径の平均値の比である。

すなわち、下式で求められる。

長径−ΣＤ１ｉ／Ｎ 短径−ΣＤ２ｉ／Ｎ Ｄｌ、ｉ、Ｄ２ｉはそれぞれ個々の粒子の長径（最大径
）、短径（Ｒ短径〉、Ｎは総個数である。

（８〉積層されたフィルム中の熱可塑性樹脂Ａ層の厚さ ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、フィル
ム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素とポリ
エステルの炭素元素の′ａ度比（Ｍ”／′Ｃ４）を粒子
濃度とし、ポリエステルＡｌｌの表面から深さ（厚さ〉
方向の分析を行なう。表層では表面という界面のために
粒子′ａ度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子′ａ度
は高くなる。本発明フィルムの場合は深さＮ］でいった
ん極大値となった粒子′ａ度がまた減少し始める。この
濃度分布曲線をもとに極大値の粒子）製度の１／２にな
る深さ［■］　（ここでＩＩ＞Ｉ＞を積層厚さとした。

条件は測定法（５）と同様である。

なお、フィルム中にもっとも多く含有する粒子が右（幾
高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表
面からエツチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法〉
、ＩＲ（赤外分光法〉あるいはコンフォーカル顕微鏡な
どで、その粒子濃度のＹプスプロファイルを測定し、上
記同様の手法から積層厚さを求めても良い。

（９〉積層ポリエステルフィルムＡ層の厚さ斑ポリエス
テルＡ層の積層厚さを１ｍにわたって測定し、その最大
値と最小値との差をａ、積層厚さの平均値をｂとしたと
き、 積層厚さ斑＝　（ａ／ｂ）　ｘｌｏｏ　　（％〉で定義
する。

（１０＞基材フィルムの透明性 ＡＳＴＭ−Ｄ−１００３−５２にしたがってフィルムへ
イズを測定した。ヘイズ１０％未満を層、１０％〜２０
％を良、２０％を越えると不良と判定した。

（１１）耐スクラッチ性 フィルムを幅１／２インチのテープ状にスリツ１〜した
ものをテープ走行試験機を使用して、ガイドピン（表面
粗［：Ｒａで１０Ｑｎｍ）上を走行させる（走行速度１
０００ＴｒＬ／分、走行回数１０パス、巻き付は角＝６
０°、走行張カニ２０ｙ）。この時、フィルムに入った
傷を顕微鏡で観察し、幅２．５μ卯以上の傷がテープ幅
あたり２本未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本
以上は不良と判定した。浸が望ましいが、良でも実用的
には使用可能である。

（１２）リーダテープによる磁気テープ初、終端の検知
感度 ビデオテープをＶＴＲ中で５００バスさせた後、早送り
時の終端、巻き戻し時の初端の検知感度を各５０回テス
１〜し、１００回とも確実に停止した場合は良好、１回
でも停止しなかった場合は不良とし１こ。

（１３）熱転写用磁気記録媒体の耐ダビング性熱転写用
ビデオテープを作成し、ベースフィルム側からのレーザ
ー光加熱により熱転写した時のクロマＳ／Ｎの低下が２
ｄＢ未満である場合を良好、２ｄＢ以上の場合を不良と
した。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１〜７、比較例１〜６ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因するシリカ粒子を含有するエチレングリコー
ルスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリー
を１９０°Ｃで１．５時間熱処理した後、テレフタル酸
ジメチルとエステル交換反応後、重縮合し、該粒子を０
．３〜５５＠量％含有するポリエチレンテレフタレート
（以下ＰＥＴと略記する〉のペレットを作った。このペ
レットを用いてポリエステルＡを調製し、また、常法に
よって、実質的に不活性粒子を含有しないＰＥＴを製造
し、ポリエステルＢとした。これらのポリマをそれぞれ
１８０℃で３時間減圧乾燥（３丁ｏｒｒ）　Ｌ／た。

ポリエステルＡを押出機１に供給し３１０°Ｃで溶融し
、ざらに、ポリエステルＢを押出機２に供給、２８０℃
で溶融し、これらのポリマを矩形積層部を侑えた合流ブ
ロックで合流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面
温［３ｏ’ｃのキレスティング・ドラムに巻きつ【プて
冷却固化し、片面にポリエステルＡ層を有する２Ｒ構造
の未延伸フィルムを作った。この時、それぞれの押出機
の吐出量を調節し総厚さ、ポリニスデルＡ層の厚さを調
節した。

（ただし比較例５はＢ居中層）。この未延伸フィルムを
温度８０’Ｃにて長手方向に４．５倍延伸した。

この延伸は２組ずつのロールの周速差で、４段階で行な
った。この−軸延伸フィルムをステンタを用いて延伸速
度２０００％／′分で１００’Ｃで幅方向に４゜０倍延
伸し、定長下で、２００℃にて５秒間熱処理し、総厚さ
１５μ机、ポリエステルＡ層厚さ０．１〜４μｍの二軸
配向積層フィルムを得た。このフィルムの透明性をヘイ
ズにて測定するとともに、ポリエステルＡ層側の耐スク
ラッチ性を評価した。

次にこれらフィルムをリーダテープとして用いた場合の
磁気テープ初、終端検知感度を評価した。

ベースフィルムとしての各パラメータは第１表に示した
とおりであり、これらが本発明の範囲内の場合には、透
明性、耐スクラッチ性、初、終端検ｚ１１感度は第１表
に示したとおり良好な値を示したが、そうでない場合は
これら特性を兼備することはできなかった。

また、上記ベースフィルムを用いてＢＩ？ｎ表面に酸化
クロムからなる磁性層を設けて熱転写用ビデオテープを
作成し、レーザー光による熱転写を行って、その耐ダビ
ング性を評価した。結果を同様に第１表に示すが、本発
明範囲のフィルムにより良好な耐ダビング特性が得られ
た。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明の二軸配向ポリエステルフ
ィルムによるときは、基材フィルムを共押出による積層
二軸配向ポリエステルフィルムとし、特定サイズの不活
性粒子を含有するポリエステルＡ層の表面に、高さの均
一な突起を高密度で所定個数以上形成し、かつフィルム
全体の濁度も所定値以下に抑えるようにしたので、均一
な突起形成により浸れた耐スクラッチ性を得ることがで
きるとともに、突起形成のための不活性粒子を実質的に
極薄のポリエステルＡ＠のみに存在させることにより、
フィルム全体の透明性を極めて高く維持することができ
、リーダテープや熱転写用磁気記録媒体に用いて最適な
、耐スクラッチ性、透明性両特性を兼備した浸れたフィ
ルムを１ｑることができる。

また、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、製膜
工程内で、コーティングなどの操作なしで共押出により
直接複合積層することによって作ったフィルムであり、
製膜工程中あるいはその後のコーティングによって作ら
れる積層フィルムに比べて、最表層の分子も二軸配向で
あるため、上述した特性以外、例えば、表面の耐削れ性
もはるかに母れ、 しかもコスト面、 品質の安定性などに おいて有利である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ポリエステルＡと不活性粒子とを主成分とするフィ
   ルムを共押出によりポリエステルＢを主成分とするフィ
   ルムの少なくとも片面に積層した二軸配向ポリエステル
   フィルムであつて、前記不活性粒子の平均粒径が該不活
   性粒子を含む前記ポリエステルＡの積層フィルムの厚さ
   の０．３〜１０倍、該ポリエステルＡの積層フィルム層
   の表面突起個数が５０００個／ｍｍ＾２以上、かつ濁度
   値が４０％以下であることを特徴とする二軸配向ポリエ
   ステルフィルム。 ２、前記不活性粒子を含むポリエステルＡの積層フィル
   ムの表層の不活性粒子の粒子濃度比が０．１以下である
   請求項１記載の二軸配向ポリエステルフィルム。 ３、請求項１又は２記載の二軸配向ポリエステルフィル
   ムを用いたリーダテープ。 ４、請求項１又は２記載の二軸配向ポリエステルフィル
   ムの片面に磁性層を設けた熱転写用磁気記録媒体。