JPH03175702A - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
- Publication number
- JPH03175702A JPH03175702A JP31582289A JP31582289A JPH03175702A JP H03175702 A JPH03175702 A JP H03175702A JP 31582289 A JP31582289 A JP 31582289A JP 31582289 A JP31582289 A JP 31582289A JP H03175702 A JPH03175702 A JP H03175702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oscillation circuit
- bonding
- bonding pad
- lead frame
- ceramic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 7
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 69
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 38
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路に関する。
第3図及び第4図を用いて従来のセラミック発振回路と
、CR発振回路の選択方法について説明する。第3図は
セラミック発振回路を選択した時の回路図である。第4
図は第3図を実施するため簡単なレイアウト図である。
、CR発振回路の選択方法について説明する。第3図は
セラミック発振回路を選択した時の回路図である。第4
図は第3図を実施するため簡単なレイアウト図である。
第4図においてボンディングパッド4−1は第3図の端
子3−1に対応しており、ボンディングパッド4−1か
らのびているアルミニウム配線4−2は第3図の配線3
−2に対応しており、ボンディングパッド4−3は端子
3−3に対応しておリボンディングパット4−3からの
びているアルミニウム配線4−4は配線3−4に対応し
ている。アルミニウム配a4−5はセラミック発振回路
外部人力3−5に対応しておりセラミック発振回路3−
6につながっている。アルミニウム配線4−6はCR発
振回路人力3−7に対応しておりCR発振回1i’83
−8につながっている。アルミニウム配線4−7はGN
D3−9につながっている。アルミニウム配線4−8は
セラミック発振回路3−6の外部出力3−10に対応し
ている。アルミニウム配線4−9はCR発振回Fl@
3−8の外部出力3−11に対応している。
子3−1に対応しており、ボンディングパッド4−1か
らのびているアルミニウム配線4−2は第3図の配線3
−2に対応しており、ボンディングパッド4−3は端子
3−3に対応しておリボンディングパット4−3からの
びているアルミニウム配線4−4は配線3−4に対応し
ている。アルミニウム配a4−5はセラミック発振回路
外部人力3−5に対応しておりセラミック発振回路3−
6につながっている。アルミニウム配線4−6はCR発
振回路人力3−7に対応しておりCR発振回1i’83
−8につながっている。アルミニウム配線4−7はGN
D3−9につながっている。アルミニウム配線4−8は
セラミック発振回路3−6の外部出力3−10に対応し
ている。アルミニウム配線4−9はCR発振回Fl@
3−8の外部出力3−11に対応している。
第3図において、3ケ所の点線をつなぐことによってセ
ラミック発振回路を選択したことになり、これはデバイ
ス的には第4図に示す斜線部のアルミニウム配線t−1
0,4−11,4−12をつなぐことによりセラミック
発振回路を選択したことになる。第3図においてセラミ
ック発振回路を選択したことにより、CR発振回路の入
力はGNDに固定され内部出力3−12はGNDレベル
になる。セラミック発振回路の内部出力313とOR素
子3−14によりセラミック発振回路の信号が内部に供
給される。
ラミック発振回路を選択したことになり、これはデバイ
ス的には第4図に示す斜線部のアルミニウム配線t−1
0,4−11,4−12をつなぐことによりセラミック
発振回路を選択したことになる。第3図においてセラミ
ック発振回路を選択したことにより、CR発振回路の入
力はGNDに固定され内部出力3−12はGNDレベル
になる。セラミック発振回路の内部出力313とOR素
子3−14によりセラミック発振回路の信号が内部に供
給される。
上述した従来の半導体集積回路は、拡散工程のアルミニ
ウム配線にてセラミック発振回路又はCR発振回路のい
ずれか一方の選択をすることになっているので、これら
の選択を変更するたびに、複数のアルミマスクを作成し
なければならないという欠点がある。
ウム配線にてセラミック発振回路又はCR発振回路のい
ずれか一方の選択をすることになっているので、これら
の選択を変更するたびに、複数のアルミマスクを作成し
なければならないという欠点がある。
本発明の目的はセラミック発振回路とCR発振回路の選
択を複数のアルミマスクを作成することなく容易に行な
えることが可能な半導体集積回路を提供することにある
。
択を複数のアルミマスクを作成することなく容易に行な
えることが可能な半導体集積回路を提供することにある
。
本発明の半導体集積回路は、セラミック発振回路の入力
端に接続された第1のボンディングパッドと、前記セラ
ミック発振回路の出力端に接続された第2のボンディン
グパッドと、CR発振回路の入力端に接続された第3の
ボンディングパッドと、前記CR発振回路の出力端に接
続された第4のボンディングパッドと、外部入力端と接
続された第1のリードフレームと、外部出力端と接続さ
れた第2のリードフレームと、外部GND端と接続され
た第3のリードフレームとを備え、前記第1乃至第3の
リードフレームと前記第1乃至第4のボンティングパッ
ドとをボンディングワイヤーにより選択的に接続するこ
とにより前記セラミック発振回路と前記CR発振回路の
選択をすることを特徴とする。
端に接続された第1のボンディングパッドと、前記セラ
ミック発振回路の出力端に接続された第2のボンディン
グパッドと、CR発振回路の入力端に接続された第3の
ボンディングパッドと、前記CR発振回路の出力端に接
続された第4のボンディングパッドと、外部入力端と接
続された第1のリードフレームと、外部出力端と接続さ
れた第2のリードフレームと、外部GND端と接続され
た第3のリードフレームとを備え、前記第1乃至第3の
リードフレームと前記第1乃至第4のボンティングパッ
ドとをボンディングワイヤーにより選択的に接続するこ
とにより前記セラミック発振回路と前記CR発振回路の
選択をすることを特徴とする。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を説明するための構成図であ
る。ボンディングパッド1−1はセラミック発振回路1
−2の入力端に接続されている。ボンディングパッドl
−3,1−4はCR発振回F11r1−5の入力端に接
続されている。ボンディングパッド1−6はセラミック
発振口1iI81−2の外部出力につながっている。ボ
ンディングパッド1−7はCR発振回路1−5の外部出
力につながっている。ボンディングパッド1−8はGN
Dとして内部につながっている。
る。ボンディングパッド1−1はセラミック発振回路1
−2の入力端に接続されている。ボンディングパッドl
−3,1−4はCR発振回F11r1−5の入力端に接
続されている。ボンディングパッド1−6はセラミック
発振口1iI81−2の外部出力につながっている。ボ
ンディングパッド1−7はCR発振回路1−5の外部出
力につながっている。ボンディングパッド1−8はGN
Dとして内部につながっている。
このようにセラミック発振回路1−2と、CR発振回路
1−5にボンディングパッドが接続された構成において
、まずセラミック発振回路を内蔵したい場合はボンディ
ングパッド1−3.1−8はGNDビンとして外部にで
ているリードフレーム1−9とボンディングワイヤil
o、111で接続し、ボンディングパッド1−1は外部
− から入力電圧が印加されるリードフレーム112とボン
ディングワイヤ1−13で接続し、ボンディングパッド
1−6は外部に出力信号を出力するためのリードフレー
ム1−14とホンディングワイヤ1−15と接続する。
1−5にボンディングパッドが接続された構成において
、まずセラミック発振回路を内蔵したい場合はボンディ
ングパッド1−3.1−8はGNDビンとして外部にで
ているリードフレーム1−9とボンディングワイヤil
o、111で接続し、ボンディングパッド1−1は外部
− から入力電圧が印加されるリードフレーム112とボン
ディングワイヤ1−13で接続し、ボンディングパッド
1−6は外部に出力信号を出力するためのリードフレー
ム1−14とホンディングワイヤ1−15と接続する。
このような接続関係にすることによってCR発振回路1
−5の出力はGNDレベルに固定され、OR素子1−1
6でセラミック発振回路の出力とORを取り、セラミッ
ク発振回路の出力が内部に供給される。
−5の出力はGNDレベルに固定され、OR素子1−1
6でセラミック発振回路の出力とORを取り、セラミッ
ク発振回路の出力が内部に供給される。
一方、CPL発振回路をil択したい場合は、ボンディ
ングパッド11.1−8をリードフレーム1−9にボン
ディングパラ1〜1−4をリードフレーム]−12に、
ボンディングパット1−7をリードフレーム1−14に
ホンディングワイヤでつなげばよい。
ングパッド11.1−8をリードフレーム1−9にボン
ディングパラ1〜1−4をリードフレーム]−12に、
ボンディングパット1−7をリードフレーム1−14に
ホンディングワイヤでつなげばよい。
本実施例により、ボンディングワイヤの接続を変換する
だけで容易にセラミック発振器とCR発振器の選択が可
能となる。
だけで容易にセラミック発振器とCR発振器の選択が可
能となる。
第2図は本発明の第2の実施例を説明するための構成図
である。ボンディングパッド2−1゜2−3.2−4.
2−6とセラミック発振回路2−2、CR発振回路2−
4とは第1の実施例と同じ構成となっている。さらに本
実施例ではボンディングパッド2−7をGNDと等電位
の電位点と接続しである。セラミック発振回路を選択し
たい場合は、ボンディングパッド2−1とリードフレー
ム2−8をボンディングワイヤ2−10でボンディング
パッド2−5とリードフレーム2−9をボンディングワ
イヤ2−11でつなぎ、ボンディングパッド2−3とボ
ンディングパッド2−7をボンディングワイヤ2−12
でつなぐことによって第1の実施例のようにOR素子2
−13からセラミック発振回路の出力が内部に供給され
る。
である。ボンディングパッド2−1゜2−3.2−4.
2−6とセラミック発振回路2−2、CR発振回路2−
4とは第1の実施例と同じ構成となっている。さらに本
実施例ではボンディングパッド2−7をGNDと等電位
の電位点と接続しである。セラミック発振回路を選択し
たい場合は、ボンディングパッド2−1とリードフレー
ム2−8をボンディングワイヤ2−10でボンディング
パッド2−5とリードフレーム2−9をボンディングワ
イヤ2−11でつなぎ、ボンディングパッド2−3とボ
ンディングパッド2−7をボンディングワイヤ2−12
でつなぐことによって第1の実施例のようにOR素子2
−13からセラミック発振回路の出力が内部に供給され
る。
本実施例によれば、GNDを内部から取っているため、
リードフレームが2本でよくなり、リードフレームの数
を減少させることができる。
リードフレームが2本でよくなり、リードフレームの数
を減少させることができる。
以上説明したように本発明は、セラミック発振回路の入
力用ボンディングパッドと出力用ボンディングパッドと
CR発振回路の入力用ホンディングパッドと出力用ボン
ディングパッドとGND用又はGNDと等電位のパッド
を近接して設けることにより、ボンディング工程にてい
ずれか一方は発振回路の内蔵を選択することができ、ア
ルミマスクを1枚作成するたけでよいという効果がある
。
力用ボンディングパッドと出力用ボンディングパッドと
CR発振回路の入力用ホンディングパッドと出力用ボン
ディングパッドとGND用又はGNDと等電位のパッド
を近接して設けることにより、ボンディング工程にてい
ずれか一方は発振回路の内蔵を選択することができ、ア
ルミマスクを1枚作成するたけでよいという効果がある
。
第1図は本発明の第1の実施例を説明するための構成図
、第2図は本発明の第2の実施例を説明するための構成
図、第3図は従来例を説明するための回路図、第4図は
第3図のレイアウト図である。 1−1.1−3.1−4.1−6.1−71−8.2−
1.2−3.1−5.1−6.27.4−1.4−3・
・・ボンディングパッド、12.2−2.3−6・・・
セラミック発振回路、15.2−4.3−8・・・CR
発振回路、1−9゜1−12.1−14.2−8.2−
9・・・リードフ− レーム、1−10.1−11.1−13,115.2−
10.2−11.2−12・・・ボンディングワイヤ、
1−16.2−13.3−14OR素子、:3−1.3
−3・・・端子、3−2.34・・・配線、3−5・・
・セラミック発振回路入力、3−7・・・CR発振回路
入力、3−9・・・GND、3−10・・・セラミック
発振回路外部出力、311・・・CR発振回路外部出力
、3−12・・・CR発振回路内部出力、3−13・・
・セラミック発振回路内部出力、4−2.4−4.1−
5.4−6゜4−7.4−8.4−9・・・アルミニウ
ム配線、4−10.4−11.−112・・・選択切り
換えアルミニウム配線。
、第2図は本発明の第2の実施例を説明するための構成
図、第3図は従来例を説明するための回路図、第4図は
第3図のレイアウト図である。 1−1.1−3.1−4.1−6.1−71−8.2−
1.2−3.1−5.1−6.27.4−1.4−3・
・・ボンディングパッド、12.2−2.3−6・・・
セラミック発振回路、15.2−4.3−8・・・CR
発振回路、1−9゜1−12.1−14.2−8.2−
9・・・リードフ− レーム、1−10.1−11.1−13,115.2−
10.2−11.2−12・・・ボンディングワイヤ、
1−16.2−13.3−14OR素子、:3−1.3
−3・・・端子、3−2.34・・・配線、3−5・・
・セラミック発振回路入力、3−7・・・CR発振回路
入力、3−9・・・GND、3−10・・・セラミック
発振回路外部出力、311・・・CR発振回路外部出力
、3−12・・・CR発振回路内部出力、3−13・・
・セラミック発振回路内部出力、4−2.4−4.1−
5.4−6゜4−7.4−8.4−9・・・アルミニウ
ム配線、4−10.4−11.−112・・・選択切り
換えアルミニウム配線。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、セラミック発振回路の入力端に接続された第1のボ
ンディングパッドと、前記セラミック発振回路の出力端
に接続された第2のボンディングパッドと、CR発振回
路の入力端に接続された第3のボンディングパッドと、
前記CR発振回路の出力端に接続された第4のボンディ
ングパッドと、外部入力端と接続された第1のリードフ
レームと、外部出力端と接続された第2のリードフレー
ムと、外部GND端と接続された第3のリードフレーム
とを備え、前記第1乃至第3のリードフレームと前記第
1乃至第4のボンディングパッドとをボンディングワイ
ヤーにより選択的に接続することにより前記セラミック
発振回路と前記CR発振回路の選択をすることを特徴と
する半導体集積回路。 2、セラミック発振回路の入力端に接続された第1のボ
ンディングパッドと、前記セラミック発振回路の出力端
に接続された第2のボンディングパッドと、CR発振回
路の入力端に接続された第3のボンディングパッドと、
前記CR発振回路の出力端に接続された第4のボンディ
ングパッドと、GNDと等電位の内部電位点に接続され
た第5のボンディングパッドと、外部入力端と接続され
た第1のリードフレームと、外部出力端と接続された第
2のリードフレームとを備え、前記第1及び第2のリー
ドフレームと前記第1乃至第5のボンディングパッドと
をボンディングワイヤーにより選択的に接続することに
より前記セラミック発振回路と前記CR発振回路の選択
をすることを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31582289A JPH03175702A (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31582289A JPH03175702A (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 半導体集積回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03175702A true JPH03175702A (ja) | 1991-07-30 |
Family
ID=18069978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31582289A Pending JPH03175702A (ja) | 1989-12-04 | 1989-12-04 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03175702A (ja) |
-
1989
- 1989-12-04 JP JP31582289A patent/JPH03175702A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0650761B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPH03175702A (ja) | 半導体集積回路 | |
| JP2681427B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0274046A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH04266056A (ja) | ダイナミックインピーダンス低減用素子を備えたモールドケース集積回路 | |
| JP2829994B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPH04361538A (ja) | 大規模集積回路 | |
| JPH02306650A (ja) | 半導体装置 | |
| JP2522455B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH0360050A (ja) | 半導体装置 | |
| JP3184384B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP2538698B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH04326575A (ja) | 集積回路装置 | |
| JPH0485942A (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPH11340272A (ja) | 半導体集積回路及び半導体集積回路装置 | |
| JPH03233969A (ja) | マスタ・スライス方式lsi | |
| JPH07240494A (ja) | 半導体パッケージ用リードフレーム | |
| JPH02306651A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH02264461A (ja) | 集積回路 | |
| JPS6037758A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH03106043A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH03228351A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS62279656A (ja) | マスタスライス集積回路装置 | |
| JPS62293748A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPS61187249A (ja) | 半導体集積回路装置 |