JPH0317775B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0317775B2
JPH0317775B2 JP60298136A JP29813685A JPH0317775B2 JP H0317775 B2 JPH0317775 B2 JP H0317775B2 JP 60298136 A JP60298136 A JP 60298136A JP 29813685 A JP29813685 A JP 29813685A JP H0317775 B2 JPH0317775 B2 JP H0317775B2
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JP
Japan
Prior art keywords
temperature
sublimation
pressure
quartz glass
striae
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP60298136A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62158121A (ja
Inventor
Katsuhiko Kenmochi
Shigeru Yamagata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Quartz Products Co Ltd filed Critical Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Priority to JP29813685A priority Critical patent/JPS62158121A/ja
Publication of JPS62158121A publication Critical patent/JPS62158121A/ja
Publication of JPH0317775B2 publication Critical patent/JPH0317775B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B32/00Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明は、光学的に不均一な石英ガラスを光学
的に均質化する方法に関し、いずれの方法にも均
一な光学的性質を有する光学用石英ガラスの製造
方法を提供するものである。 (従来の技術とその問題点) 光学用ガラスは、均一な屈折率をもつことが不
可欠である。石英ガラスにおける屈折率の不均一
分布の代表的なものは、原料(水晶等)粒子の不
完全溶融によつて生ずる粒状構造やガラスの成長
温度のゆらぎによつて導入される脈理と呼ばれる
成長縞である。 軟化点が比較的低い一般の光学用ガラスは、高
温に加熱して105ポイズ以下まで粘度を下げ、こ
れを機械的に撹拌して均質化されている。しかし
ながら、珪酸含有量が99.5重量%以上の石英ガラ
スを常圧下に高温に加熱すると、粘度の低下が機
械的撹拌を行なうに充分な程度になるより前に昇
華が著しくなるので、石英ガラスを撹拌によつて
均質化することは大変困難であつた。 (問題点を解決するための手段) 本発明者らは、石英ガラスの光学的均質性を高
める方法を種々研究検討した結果、従来は著しい
昇華現象のために全く検討されていなかつた高温
領域、例えば、その酸化珪素の沸点以上のような
高温領域に加熱した場合でも、アルゴンガス雰囲
気中で昇華や蒸発を抑制しながら行うと、機械的
撹拌なしに光学的均質化が行なわれることを知見
し、本発明を完成させた。 本発明の方法では、高温とアルゴンガス高圧を
同時に加えることが必要である。大気圧の下で石
英ガラスの昇華が問題にならない温度は1700℃以
下である。しかしこの温度では、1ケ月間静止状
態で加熱しても脈理や粒状構造はほとんど消失せ
ず、また粘度は108ポイズ以上であるために機械
的撹拌を行うことが非常に困難である。2300℃く
らいになつてはじめて105ポイズ程度の粘度とな
り、機械的撹拌が可能となるが、このような高温
での撹拌を可能にする耐火物容器が工業的に入手
できない。更に、もしも常圧でこのような高温に
加熱すれば、激しく昇華・蒸発が起こり、ガラス
は数分のうちになくなつてしまう。平衡論的に
は、昇華・蒸発成分である酸化珪素(SiO)ガス
が高圧で存在すれば、好ましくは平衡分圧で存在
すれば、昇華・蒸発は質量作用の法則に従つて防
止出来るはずであるが、SiOは炉内の低温部分に
沈着析出して害となるし、これを補充するために
更に昇華・蒸発が起こつて結局昇華・蒸発を抑止
することはできない。 我々はこれを抑止する方法を種々研究した結
果、二酸化珪素の昇華・蒸発速度が高圧アルゴン
ガス雰囲気の圧力に著しく依存することがわかつ
た。実験によれば、加熱温度における二酸化珪素
の飽和蒸気圧の5倍以上のアルゴン高圧ガス雰囲
気中では、30分間加熱した場合でもその昇華減量
は20%以下である。従つて、所要の温度、圧力お
よび加熱時間がそれぞれの関連の下で最適化され
ることが重要である。本発明の方法においては、
アルゴンガスが雰囲気ガスとして用いられる。他
の不活性ガスでは、酸化珪素の昇華・蒸発を抑制
する効果が充分でないので使用できない。本発明
方法に用いられる雰囲気ガスとしてのアルゴンガ
スは、可及的純粋なものが好ましいが、工業用ア
ルゴンガスが実用的に有利に用いられる。 不均一な石英ガラスの光学的均質化が達成され
る加熱時間は、その加熱温度条件によつて相異
し、例えば、1900℃で1ケ月、2400℃では5分以
下といつたように著しく温度に依存する。このよ
うな加熱温度と時間の関係について種々検討した
結果、工業的に実施可能で生産効率の高い均質化
条件を最適化した結果は、例えば、2200℃、5気
圧のアルゴンガス中で2時間加熱すると、すべて
の粒状構造や脈理は消滅し、また2200〜2400℃の
間の温度では、5〜25気圧2時間〜5分の間の範
囲での選択された組み合わせによつて同様の結果
が得られることが判つた。 本発明における加熱処理温度が、1800℃未満で
は脈理は消失し難く、また2400℃を超える温度
は、それ以上の高温をグラフアイトヒーターで得
ることが困難なため実用的でなく、更に25気圧以
上の圧力容器のコストが大きいこと及び加熱時間
が5分以下に短縮されても生産効率への寄与がわ
ずかであるため採用し難い。 (発明の効果) 以上述べたように、本発明の方法によれば、従
来、光学的均質化が困難であつた石英ガラスに対
し脈理等の不均一性を容易になくすことができ、
結果としてすぐれた光学用ガラスを提供すること
ができる。 (実施例) 実施例1〜6及び比較例1〜2 常圧及び5〜30気圧まで加圧可能なグラフアイ
トヒーターを設けた雰囲気加熱炉を用い、その中
に、直径98mm、高さ70mmの強い脈理と粒状構造を
有する天然石英ガラス柱(ヘラウス社、Herasil
)を入れた、内径100mm、高さ100mmのルツボを
セツトし、第1表に示した圧力、温度、時間条件
で加熱した。 雰囲気ガスには、工業用の純アルゴンガスを用
いた。30分間の加熱前後の重量を測定し、昇華減
量(%)を求めた。それら各例の測定結果を第1
図に示した。 30分間の加熱処理後の石英ガラス柱の上下2面
を平行に光学研摩し、各例の点光源投影法による
目視脈理観察結果と、レーザー干渉計を用いた精
密脈理検査結果を定性的に第1表にまとめて示し
た。
【表】
【表】 【図面の簡単な説明】
第1図は、石英ガラス柱の各実施例及び比較例
における処理温度と、30分後の昇華減量の関係を
示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 光学的性質が不均一な二酸化珪素99.5重量%
    以上を含有する高純度石英ガラスを、2気圧以
    上、好ましくは5〜25気圧の圧力のアルゴンガス
    雰囲気中で、1800℃以上、好ましくは2200〜2400
    ℃の温度に加熱することを特徴とする石英ガラス
    の均質化方法。
JP29813685A 1985-12-27 1985-12-27 石英ガラスの均質化方法 Granted JPS62158121A (ja)

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JP29813685A JPS62158121A (ja) 1985-12-27 1985-12-27 石英ガラスの均質化方法

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JPS62158121A JPS62158121A (ja) 1987-07-14
JPH0317775B2 true JPH0317775B2 (ja) 1991-03-08

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01160834A (ja) * 1987-12-16 1989-06-23 Seiko Epson Corp 石英ガラス及びその製造方法
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