JPH0317823B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、新規なポリプレニルアセトオキシム
誘導体の製造法に関するものである。 本発明におけるポリプレニルアセトオキシム誘
導体は、一般式： （式中、Ｒは水素、低級アルキル基を意味し、
ｎは２〜９の整数を意味する。）でで表わされる
化合物（以下化合物と言う）である。 従来知られているこれと類似のオキシム化合物
が酸、酸化剤或いは還元剤の存在下にて加水分解
されてカルボニル化合物に変ることは公知であ
る。 本発明に係る化合物も、公知の化合物と同様に
加水分解されて、次式： （式中、ｎは２〜９の整数を意味する。） で表わされるポリプレニルアセトンに容易に高収
率で導き得るものである。さらに前記化合物ポリ
プレニルアセトンは、アセチレンの付加および半
還元あるいはビニルリチウム、ビニルマグネシウ
ムハライド等との反応により、一般式 （式中、ｎは２〜９の整数を意味する。） で表わされるポリプレニルアルコールに容易に高
収率で導き得ることが知られている。これらのポ
リプレニルアルコールは、リナロール、ネロリド
ール等の天然精油中に存在する香料としてよく知
られており、またビタミンＥ、ビタミンK₂、補
酵素Ｑの側鎖を形成する部分としても重要な化合
物であり、従つてこれらポリプレニルアルコール
の前駆体であるポリプレニルアセトンを収率よく
合成する方法は、工業的に非常に価値がある。 従来、この種のポリプレニルアセトンを製造す
る方法として代表的なものとしては、Metal＆
Thermit社によつて開発されたアルカリ存在下ア
セトンとポリプレニルハライドを縮合させる方法
〔Brit.Pat.851，658〕およびその改良法あるいは
アセト酢酸エステルとポリプレニルハライドを塩
基性条件下縮合させた後に加水分解、脱炭酸を行
いポリプレニルアセトンを得るO.Isler等の方法
〔Helv.Chim.Acta，37，225（1954）〕を上げるこ
とができる。 しかしながら前者の方法は、その収率が高々60
〜70％であり、また副生成物としてジアルキル化
生成物あるいはアセトン自身のアルドール反応等
が含まれ、その応用例も比較的側鎖の短いハロゲ
ン化合物に限られている。一方後者の方法は、
種々のポリプレニルハライドに適用可能であり、
各工程に於ける副生成物も少ないが、工程が長
く、全収率も60〜70％と低いものである。従つ
て、いずれも収率的には満足すべきものではな
く、特に長鎖のポリプレニルハライドを用いる場
合には、これらのハロゲン化合物が高価であるこ
とを考えると、より簡便で収率の良い合成法が要
求される。 本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、ポリプ
レニルアルコールの有用な前駆物質であるポリプ
レニルアセトンを高収率かつ簡便に製造する上で
極めて有用な新規化合物の製造方法を完成するに
至つたのである。 本発明の特定発明に係る化合物の製造方法は、
一般式： （式中、Ｒは水素、アルキル基を意味する。） で表わされるアセトオキシム誘導体と、 一般式： （式中Ｘはハロゲンまたは水酸基の反応性誘導
体を意味し、ｎは２〜９の整数を意味する。） で表わされるポリプレニルアルコール誘導体とを
塩基性物質の存在下に縮合反応させ、 一般式： で表わされる既述の化合物、即ちポリプレニル
アセトオキシム誘導体を得ることを特徴とするも
のである。 前記一般式で表わされる化合物（以下化合物
と言う）は、アセトンと種々の一級ヒドロキシ
ルアミン類の縮合反応により容易に合成できるも
のである。 一方、前記一般式で表わされる化合物（以下
化合物と言う）は、ポリプレニルアルコールに
塩化チオニル、三臭化リン等のハロゲン化剤ある
いは塩基性条件下メタンスルホニルクロリド、パ
ラトルエンスルホニルクロリド等を反応させるこ
とにより容易に高収率で合成できる。 これら化合物ととの縮合反応は、塩基性物
質の存在下で行うのが一つの特徴であり、これら
化合物とを用いることにより、化合物を得
ることができる。 縮合反応に際して使用される塩基性物質として
は、ｎ−ブチルリチウムの如きアルキルリチウ
ム、フエニルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミドの如きリチウムアミド、グリニヤール試薬
等の水素引き抜き剤を用いることができる。更に
アルカリ金属、水素化アルカリ金属等を併用して
も良い。これ等の塩基性物質の使用量は、化合物
のＲが水素の時即ちアセトオキシムの時には、
アセトオキシムの２倍モル以上必要である。化合
物のＲが水素以外の時即ちアセトオキシム誘導
体の時には、塩基性物質は等モル以上必要であ
る。塩基性物質は過剰に用いても良いが、通常は
反応に要するモル比の1.0〜1.3当量用いれば十分
である。 反応は溶媒中で行うが、溶媒としては原料化合
物、塩基性物質および生成物のいずれとも反応し
ない物質であれば使用できるが、一般的にはテト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル
系溶媒、更にはヘキサン、ベンゼン等の炭化水素
系溶媒も使用可能である更に反応は低温（−80
℃）から高温（＋80℃）までいずれの温度でも進
行するが、用いる原料あるいは水素引き抜き剤の
種類によつて異なるため好ましくは−50℃付近か
ら10℃付近の間で行うことが望まれる。前記条件
下によつて目的化合物を収率よく得ることが可
能であるが、得られた化合物は、先に述べた如
く、酸、酸化剤または還元剤の存在下で加水分解
することにより、ポリプレニルアセトンへ容易に
高収率にて導くことができる。加水分解反応に用
いる酸としては、通常塩酸、修酸等の鉱酸または
酢酸、修酸等の有機酸をあげることができる。酸
化剤としては、硝酸セリウムアンモニウム、無水
ベンゼンセレン酸、塩化クロム酸ピリジン塩一過
酸化水素等をあげることができる。また、還元剤
としては、亜ジチオン酸二ナトリウム、二塩化バ
ナジウム、三塩化チタン、二塩化クロム、三塩化
モリブデン等をあげることができる。但し、化合
物のＲがＨの場合は、酸による加水分解反応は
進行しない。 反応は、水と有機溶媒の混合溶媒中で行うがこ
の場合用いる有機溶媒としては化合物あるいは
酸、酸化剤、還元剤と反応しない物質であれば使
用できるが、好ましくは水に溶解性の高いテトラ
ヒドロフラン、アセトンあるいは低級アルコール
類が望ましく、これらの溶媒の使用により反応時
間を短縮することができる。また、反応は、一般
的に比較的低温で進行するが、用いる酸化剤また
は還元剤あるいは溶媒の種類によつて加熱または
冷却するのが好ましい場合もある。 前記条件下によりポリプレニルアセトンを高収
率で得ることができ、これは先に述べた如く、
種々の天然物の有用な中間体であるポリプレニル
アルコールの重要な前駆体であり、これら前記の
反応を用いることによりポリプレニルアセトオキ
シム誘導体およびポリプレニルアセトンを簡便か
つ高収率で得ることができる。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する
が本発明は、これらの実施例に限定されるもので
はない。 実施例 １ ６，10−ジメチル−５，９−ウンデカジエン−
２−オン−２−オキシム （化合物：ｎ＝
２，Ｒ＝Ｈ）の合成 窒素気流下化合物としてアセトオキシム3.82
ｇ（52mmol）を乾燥テトラヒドロフラン40mlに
加え溶解後−32゜〜−28℃に冷却し、ｎ−ブチル
リチウム62ml（ｎ−ヘキサン溶液、濃度
1.50mmol／ml、93mmol）を加える。この時ｎ
−ブチルリチウム31ml加えた時点では、反応液は
乳白濁状を呈するが、残り31ml滴下終了時には淡
黄色透明溶液となる。30分撹拌後化合物として
ゲラニルブロミド8.1ｇ（37.3mmol）を加えて、
更に120分撹拌する。60分を要して徐々に昇温し
てゆき５℃に達したところで水及びジエチルエー
テルを加え洗滌抽出分液する。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。有機層を過し減圧濃
縮して油状残渣7.7ｇを得た。この残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーにより精製して、
無色透明油状物6.8ｇ（収率87.1％）得た。この
ものの同定データは別表の通り（以下の実施例に
おいても同様）。 実施例 ２ ６，10，14−トリメチル−５，９，13−ペンタ
デカトリエン−２−オン−２−オキシム （化
合物；ｎ＝３，Ｒ＝Ｈ）の合成 窒素気流下化合物としてアセトオキシム2.19
ｇ（30mmol）を乾燥テトラヒドロフラン20mlに
加え溶解後−27゜〜−22℃に冷却し、金属ナトリ
ウム0.70ｇ（30.4mmol）を加えて金属ナトリウ
ムが消失する迄撹拌する。更にｎ−ブチルリチウ
ム20ml（ｎ−ヘキサン溶液、濃度1.50mmol／ml、
30mmol）を加える。 60分撹拌後化合物としてフアネルシルブロミ
ド7.4ｇ（26（mmol）を加えて更に120分撹拌す
る。60分を要して徐々に昇温してゆき５℃に達し
たところで水及びジエチルエーテルを加え洗滌抽
出分液する。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。有機
層を過し減圧濃縮して油状残渣6.9ｇを得た。
この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
により精製して、無色透明油状物6.0ｇ（収率
83.5％）得た。 実施例 ３ ６，10，14，18，22，26，30，34，38−ノナメ
チル−５，９，13，17，21，25，29，33，37−
ノナトリアコンタノナエン−２−オン−２−ヒ
ドロオキシム（化合物：ｎ＝９，Ｒ＝Ｈ）の
合成 窒素気流下化合物としてアセトオキシム0.95
ｇ（13mmol）を乾燥テトラヒドロフラン20mlに
加え溶解後−25゜〜−20℃に冷却し水素化ナトリ
ウム0.32ｇ（13.3mmol）加えて水素の発生が認
められなくなる迄撹拌する。更にｎ−ブチルリチ
ウム8.7ml（ｎ−ヘキサン溶液、濃度1.50mmol／
ml、13.1mmol）を加える。60分撹拌後化合物
としてソラネシルブロミド7.4ｇ（純度94.1％、
10mmol）を乾燥テトラヒドロフラン20mlにて溶
解した溶液を加えて更に120分撹拌する。60分を
要して徐々に昇温してゆき５℃に達したところで
水及びｎ−ヘキサンを加えて洗滌抽出分液する。 有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。有機
層を過し減圧濃縮して無定型結晶性残渣7.2ｇ
を得た。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーにより精製して、無定型白色結晶5.9ｇ
（収率86.0％）得た。 実施例 ４ ６，10−ジメチル−5.9−ウンデカジエン−２
−オン−２−０−メチルオキシム （化合物
：ｎ＝２，Ｒ＝CH₃）の合成 窒素気流下化合物としてｏ−メチルアセトオ
キシム1.66ｇ（19.1mmol）を乾燥テトラヒドロ
フラン20mlに加え溶解後−35゜〜−28℃に冷却し、
ｎ−ブチルリチウム12.7ml（ｎ−ヘキサン溶液、
濃度1.50mmol／ml、19.1mmol）を加える。30分
撹拌後化合物としてゲラニルブロミド4.0ｇ
（18.4mmol）を加えて更に120分撹拌する。60分
を要して徐々に昇温してゆき５℃に達したところ
で水及びジエチルエーテルを加え洗滌抽出分液す
る。 有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有
機層を過し溶媒を減圧留去して油状残渣5.1ｇ
を得た。この残渣を減圧蒸留して主留分（沸点
105℃、１mmHg）4.36ｇ（収率82.7％）得た。 実施例 ５ ６，10，14，18，22，30，34，38−ノナメチル
−５，９，13，17，21，25，29，33，37−ノナ
トリアコンタノナエン−２−オン−２−０−メ
チルオキシム（化合物：ｎ＝９，Ｒ＝CH₃）
の合成 窒素気流下化合物として０−メチルアセトオ
キシム0.97ｇ（11.1mmol）を乾燥テトラヒドロ
フラン10mlに加え溶解後−32゜〜−24℃に冷却し、
ｎ−ブチルリチウム7.4ml（ｎ−ヘキサン溶液、
濃度1.50mmol／ml、11.1mmol）を加える。30分
撹拌後化合物としてソラネシルブロミド6.27ｇ
（純度94.1％、8.5mmol）を乾燥テトラヒドロフ
ラン20mlにて溶解した溶液を加えて、更に120分
撹拌する。60分を要して徐々に昇温してゆき５℃
に達したところで水及びｎ−ヘキサンを加えて洗
滌抽出分液する。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後過、減圧濃縮して無定型結晶性残渣
5.98ｇを得た。この残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーにより精製して、無定型白色結晶
5.66ｇ（収率89.5％）得た。 次に本発明方法によつて得られた代表的な化合
物の性状及び物性値等を列挙する。

【表】

【表】

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式： （式中、Ｒは水素、低級アルキル基を意味す
   る。）で表わされるアセトオキシム誘導体と、 一般式： （式中、Ｘはハロゲンまたは水酸基の反応性誘
   導体を意味し、ｎは２〜９の整数を意味する。）
   で表わされるポリプレニルアルコール誘導体とを
   縮合させることからなる、 一般式： （式中、Ｒおよびｎは既述の意味である。）で
   表わされるポリプレニルアセトオキシム誘導体の
   製造法。 ２ 縮合反応を塩基性物質の存在下に行う特許請
   求の範囲第１項に記載の製造法。 ３ 塩基性物質が、アルキルリチウム、フエニル
   リチウム、リチウムアミド、またはグリニヤール
   試薬である特許請求の範囲第２項に記載の製造
   法。 ４ アルカリ金属または水素化アルカリ金属を併
   用する特許請求の範囲第３項記載の製造法。