JPH03180468A - スパッタ用ターゲットの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、薄膜形成するためのスパッタ用ターゲットの
製造方法に関するものである。

従来の技術 薄膜形成するために用いられるスパッタ用ターゲットは
広く一般に利用されているが、通常減圧雰囲気中または
不活性ガス雰囲気中で材料を加熱溶解させ合金状態にし
て冷却する。ここで生成された焼成物を椙かい機などで
粉砕し、金型に入れ不活性ガス中で加圧を行ないホット
プレスなどで製造されていた。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、スパッタ用ターゲットを製造する場合、
混合された金属を溶融させる工程を設けており、生産性
の低下や設備が大掛かりになるという問題がある。また
、溶融させ冷却するということでターゲット中に不純物
が入りやすいという問題があった。また、蒸気圧の高い
成分が蒸発し易いため、目標組成を得ることが困難であ
るという問題があった。

本発明はこのような課題を解決するもので、不純物の少
ない目標組成を持つスパッタ用ターゲットを容易に得る
ことができるスパッタ用ター−ゲットの製造方法を提供
することを目的とするものである。

課題を解決するための手段 この課題を解決するために本発明は、２種類以上の金属
または半金属よりなる材料を粉砕混合して均一な混合物
とした後、この混合物をホットプレスにより非合金状態
の成形体とするものである。

作用 この構成により、非合金状態の成形体とすることで、融
点以上に上げないために不純物の混入を防ぎ、混合物を
安定な状態で製造することができる０以上のことから不
純物の少ない、目標組成を持つターゲットを容易に得る
ことが可能となる。

実施例 以下、本発明の一実施例について詳細に説明する。

なお、下記の説明では金属または半金属材料としてＴｅ
、Ｇｅ、Ｓｂを使用した。

まず、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｂの金属粉末を目標組成になるよ
うに秤量し、撞かい機あるいはボールミルなどで混傘し
、均一な混合物を作成する。この混合物をたとえばΦ１
５０Ｉｆｌ＋、厚さ６ｍの成形体になるような金型に入
れＮ２のような不活性ガス雰囲気中で５０ｋＩｒ／ｄか
ら３００ｈｇ／−の範囲で加圧を行なうとともに、３つ
の元素のうち最も融点の低いＴｅの融点４４９℃より低
い温度、たとえば３５０℃に加熱して非合金状態でホッ
トプレスを行ない、Ｔ　ｅ　−Ｇ　ｅ　−Ｓ　ｂのター
ゲットを完成させる。

以上の実施例で説明したターゲットを用いてＡｒ雰囲気
中、３閤■０「「のスパッタ圧力でＲＦスパッタを実施
した。このようにして薄膜にした組成は１時間のスパッ
タを行なった後において、■ＣＰによる分析で目標組成
にほとんど同一であることが判明した。また、不純物と
して含有する酸素濃度を分析した結果、非合金状態で成
形するため、はとんど検出されなかった。

ところで本実施例においてはＴｅ、Ｇｅ、Ｓｂの金属を
用いて説明したが、他の金属または半金属についても同
様である。また、その種類は２種類以上で、金属または
半金属の融点が３００℃以上のものであれば良く、要は
混合物の中で最も融点の低い金属または半金属が活性状
態になる温度を選択すれば良い。

発明の効果 以上のように本発明によれば、簡易な方法で不純物の少
ない目標組成を持つスパッタ用ターゲットを容易に得る
ことができるスパッタ用ターゲットの製造方法を提供す
ることができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １．２種類以上の金属または半金属よりなる材料を粉砕
   混合して均一な混合物とした後、この混合物をホットプ
   レスにより非合金状態の成形体とすることを特徴とする
   スパッタ用ターゲットの製造方法。