JPH03187933A - シリカガラスの製造方法 - Google Patents

シリカガラスの製造方法

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JPH03187933A
JPH03187933A JP32390689A JP32390689A JPH03187933A JP H03187933 A JPH03187933 A JP H03187933A JP 32390689 A JP32390689 A JP 32390689A JP 32390689 A JP32390689 A JP 32390689A JP H03187933 A JPH03187933 A JP H03187933A
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JP
Japan
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slurry
silica
heating
reaction solution
concentration
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Pending
Application number
JP32390689A
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English (en)
Inventor
Koichi Shiraishi
耕一 白石
Kuniko Andou
安藤 久爾子
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Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/12Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、板状、棒状あるいは管状のシリカガラスの製
造方法に関する。
[従来の技術] 従来、シリカガラスの製造方法として、次の方法が知ら
れている。
インゴット切断法;この方法は、酸水素溶融法や気相法
などで製造されたインゴットを切断して得る方法である
ゾル・ゲル法;この方法は、シリコンアルコキシドを加
水分解するかシリカ微粉末を液体中に懸濁させてゾルを
得、これをゲル化させる工程と、乾燥」−程と、不純物
を除去する固定と、加熱してガラスにする無孔化工程と
からなる。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来技術によれば、次の問題点を有する
インゴット法では、極薄板を製造することが難しいと共
に、切りしろが大きいため歩留りが悪かった。
ゾル・ゲル法では、乾燥工程でゲルに割れが生じやすく
、大型化が難しい。また、無孔化工程でも割れ1反り、
泡の発生が起こりやすかった。更に、製造に長時間を要
した。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、結合強度及
びn1塑性を増して乾燥時の割れ1反り。
曲がりを回避し得る泡のない平板状、棒状あるいは管状
のシリカガラスの製造方法を提供することを目的とする
[課題を解決するための手段] 本願節1の本発明は、ケイ酸エステルを塩基性水溶液及
び有機溶媒からなる反応溶液中で反応させ球状シリカス
ラリーを生成する工程と、このスラリー中のシリカ濃度
を調整した後有機バインダを添加してスラリーの粘度を
調整する工程と、前記スラリーを成型する工程と、乾燥
、脱脂後加熱する工程とを具備することを特徴とするシ
リカガラスの製造方法である。
本願節2の発明は、ケイ酸エステルを塩基性水溶液及び
有機溶媒からなる反応溶液中で反応させ球状シリカスラ
リーを生成する工程と、このスラリー中のシリカ濃度を
調整する工程と、有機バインダを添加し前記スラリーを
脱気しながら混練りした後成型する工程と、乾燥、脱脂
後加熱する工程とを具備することを特徴とするシリカガ
ラスの製造方法である。
本発明に係るケイ酸エステルは特に限定されないが、例
えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラプロホトキシシラン、テトライソプロポキシシラン
等の炭素数4以下の低級アルコールなどのエステルを用
いることが好ましい。
本発明に係る塩基性水溶液は特に限定されないが、高純
度シリカを得るためにはアンモニア、アンモニウム塩、
アミン類等の有機物を用いることが好ましい。
本発明に係る有機溶媒は、ケイ酸エステルと塩基性水溶
液とを溶解するものであれば特に限定されないが、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール、ブタノールな
どのアルコール類やアセトンなどのケトン類が良い。こ
れらは一種類又は二種類以上用いても良い。前記6機溶
媒は、ケイ酸エステルと塩基性水溶液が直接混合しない
ので、両者を希釈させて混合反応させるために使用する
本発明に係る有機バインダは、特に限定されないが、例
えばポリビニルブチラード(PVB)。
メチルセルロースなどが好適である。また、有機バイン
ダの添加とともに可塑剤例えばジブチルフタレートを添
加しても良い。
[作用] まず、本願節1の発明の作用について説明する。
■まず、ケイ酸エステルを塩基性水溶液及び有機溶媒か
らなる反応溶液中で反応させ球状シリカスラリーを生成
する(粒子生成工程)。これにより、真球状でかつ粒径
の良くそろったシリカ(810□)粒子が得られる。粒
径は、0.03〜5μm、好ましくは0.05〜1.5
μmの球状粒子が良い。粒径が0.03μmよりも小さ
いと得られたシリカガラスに泡が多く含まれ、粒径が5
μmよりも大きいと製造中に割れが生じ易いとともに透
明体を得ることも難しい。粒子は、単独であるいは2種
類以上の異なる粒径の粒子を混合して用いる。
なお、シリカ粒子を含む加水分解液は、必要に応じて濃
縮しても良い。前記反応溶液は塩基、水。
有機溶媒から成るが、これにケイ酸エステルを添加する
ことにより球状シリカスラリーを生成する。
ここで、反応溶液中の塩基、水の濃度は夫々1.0〜7
.5 mol /I 、 1.0〜80mol /Iの
範囲が好適である。また、ケイ酸エステルはそのまま添
加しでもよいが、溶媒でo、oot〜5sol/j!程
度に希釈するのが良い。更に、反応で水が消費されるの
で、ケイ酸エステルの添加と同時に水を添加しても良い
■次に、スラリー中のシリカ濃度を調整した後、スラリ
ーに有機バインダを添加して粘度を調整する(ta度、
粘度調整工程)。なお、上記■で得られた球状シリカス
ラリの濃度は、合成時の組成によっても異なるが、0.
1〜5wt%程度であるので、濃度の調整を行う。ここ
に、濃度は、目標とする薄板の厚さによっても異なるが
、自立薄板とする場合は1〜95v【%、好ましくは3
0〜g5vL%に調整する。濃度調整の方法は、特に限
定されないが、遠心濃縮法、減圧分離法、限外濾過法等
が好適である。また、有機バインダの添加により粘度は
15〜500 pols、好ましくは30〜150 p
oisに調整する。
■次に、シリカ濃度と粘度を調整したスラリを例えば薄
板状に成型する(成型工程)。
■次いで、成型体を乾燥、脱脂後、加熱する(乾燥、脱
脂、加熱工程)。ここで、乾燥は成型体から溶媒、水な
どを除去するために行うものである。乾燥温度は、溶媒
によっても異なるが、大体50〜200℃程度である。
脱脂は、有機バインダーを除去するために行うもので、
その温度範囲は大体400〜800℃である。上記■の
工程で乾燥。
脱脂後加熱することにより、透明シリカガラスが得られ
る。ここに、透明化温度はシリカの粒径によって若干光
なるが、1150〜1600℃程度である。
また、雰囲気は特に制御しなくても透明体は得られる。
しかし、(イ)減圧下、あるいは(ロ)He、あるいは
(ハ)H2,あるいは(ニ)600〜1000℃でCN
2含有雰囲気中で前処理を行なった後減圧もしくはHe
−0□、He雰囲気とする((12処理後に02処理を
行うと、Cj!2濃度を低減できる)。こうした雰囲気
を用いると、アルカリ金属、OHなどの不純物の少ない
シリカガラスが得られる。
次に、本願第2の発明の作用について説明する。
■粒子生成工程;この工程は本願第1の発明のそれと同
様である。
■スラリー調整工程;この]二程では、上記■で得られ
た球状シリカスラリーの濃度は、合成時の組成によって
も異なるが、0.1〜5vt%程度であるので、濃度の
調整を行う。ここに、濃度は、目標とする薄板の厚さに
よっても異なるが、自立薄板や管の場合、1〜90vt
%、好ましくは70〜9ovt%に調整するのが好まし
い。濃度調整の方法は、本願第1の発明で記述した通り
である。
■成型工程;この工程では、有機バインダを添加したス
ラリーを減圧によって脱気しながら混練した後、板状、
もしくは棒状、もしくは管状に成型を行う ■乾燥、脱脂、加熱工程;ここで、乾燥は成型体から溶
媒、水などを除去するために行う。乾燥温度は、大体室
温〜50℃程度である。脱脂の温度範囲及び雰囲気は、
記述した本願第1の発明と同様である。
以下、本発明の実施例について説明する。
[実施例1] まず、撹拌機付きのガラス製反応容器にエタノール15
00mj! 、 29%アンモニア水200mjJを加
えて混合し、反応溶液とした。また、エタノールl00
0m 41とテトラエトキシシラン(Sl(OC2H5
) a 、東芝シリコーン社(製))250m、Qを混
合し、原料溶液を調整した。次に、20℃に調整した前
記反応溶液に前記原料溶液を添加し、8時間撹拌すると
、粒径0.4μmの単分散シリカ粒子を含む球状シリカ
スラリーが得られた。
つづいて、このスラリーを真空エバポレーターを用いて
5倍に濃縮した。次いで、この濃縮スラリーにPVB 
(有機バインダー)4重量部及びジブチルフタレート(
可塑剤)2重量部添加し、スラリーの粘度をI X 1
02potsに調整した。ひきつづき、このスラリーを
第1図に示す如く成型体1を支持する支持体2及びドク
ター3からなる装置4を用いて、フィルム状に引き伸ば
し、厚さ0.31の薄板に成型した(なお、図中の5は
スラリーである)。更に、この薄板を50℃で乾燥し、
600℃で脱脂し、1000℃で5%C11295%H
e雰囲気中で処理した後、o、t torrの減圧雰囲
気として1250℃に加熱すると、厚さ0.2msの泡
のない板状のシリカガラスが得られた。
上記実施例1によれば、エタノール(有機溶媒)及びア
ンモニア水(塩基性水溶液)からなる反応溶液にエタノ
ール及びテトラエトキシシラン(ケイ酸エステル)から
なる原料溶液を添加して所定の粒径の単分散シリカ粒子
を含むスラリーを形成し、このスラリー中のシリカの濃
度、粘度調整を行なった後、乾燥、脱脂、及び加熱工程
を行うため、泡がなく、もって結合強度及び可塑性を増
して乾燥時の割れ1反り1曲がりを回避し得る高密0 度のシリカガラスを得ることができる。
[実施例2] まず、実施例1と同様な反応溶液及び原料溶液を調整し
た。次に、20℃に調整した前記反応溶液に前記原料溶
液を添加し、8時間撹拌すると、粒径0.7μmの単分
散シリカ粒子を含む球状シリカスラリーが得られた。つ
づいて、このスラリーを真空エバポレーターを用いて6
倍に濃縮した。次いで、この濃縮スラリーにPVB5i
Jii部及びジブチルフタレート2重量部添加し、スラ
リーの粘度をI X 10’ polsに調整した。ひ
きつづき、このスラリーを第1図に示す装置4を用いて
、フィルム状に引き伸ばし、厚さ0.5−一の薄板に成
型した。
更に、この薄板を50℃で乾燥し、600℃で脱脂し、
1000℃で5%CJ295%He雰囲気中で処理した
後、o、t torrの減圧雰囲気として1250℃に
加熱すると、厚さ0.3mmの泡のない板状のシリカガ
ラスが得られた。
[実施例3] まず、撹拌機付きのガラス反応容器にエタノ−1 ル500mN 、イソプロパツール500 mll 、
 n−ブタノール500m、17及び20%アンモニア
水200m、pを加えて混合し、反応溶液とした。また
、エタノール400 mll 、  イソプロパツール
300 mD 、 n−ブタツル300mN及び前記テ
トラエトキシシラン250mBを混合し、原料溶液を調
整した。次に、20℃に調整した前記反応溶液に前記原
料溶液を添加し、8時間撹拌すると、粒径0.5μmの
+1を分散シリカ粒子を含むスラリーが得られた。つづ
いて、このスラリーを限外濾過によって5倍に濃縮した
。次いで、この濃縮スラリーにPVB(Q機バインダ)
5重量部及びジブチルフタレート(可塑剤)2重量部添
加し、スラリーの粘度をI X In2potsに調整
した。ひきつづき、このスラリーを第1図に示す装置4
を用いて、フィルム状に引き伸ばし、厚さ0.3mmの
薄板に成型した。更に、この薄板を50℃で乾燥し、6
00℃で脱脂し、1000℃で5%C#295%He雰
囲気中で処理した後、0. 1torrの減圧雰囲気と
して1250℃に加熱すると、厚さ0.31−の泡のな
い板状のシリカガラスが得られ1ま た。
[実施例4] まず、実施例1と同様、反応溶液及び原料溶液を調整し
た後、所定の温度1時間で拡散して粒径0.4μmの単
分散シリカ粒子を含む球状シリカスラリーを得た。次に
、このスラリーを真空エバポレーター用いて70倍に濃
縮した。つづいて、このスラリーに水IBgを添加し、
更にメチルセルロース系バインダー(商品名セランダー
、ユケン工業(株)製)8gを添加し、減圧しながら混
練した。
次いで、このスラリーを厚さ0.8gmの薄板に押しだ
して成型した。更に、この薄板を50℃で乾燥し、40
0℃で脱脂し、800℃で5%CNz95%He雰囲気
中で処理した後、0.1 torrの減圧雰囲気として
1250℃に加熱すると、厚さ0.6Iの泡のない板状
のシリカガラスが得られた。
実施例4によれば、所定の反応溶液及び原料溶液を添加
して所定の粒径の単分散シリカ粒子を含むスラリーを形
成し、このスラリー中のシリカの濃度調整を行ない、更
に前記スラリーを成型した3 後、乾燥、脱脂、及び加熱二[程を行うため、泡がなく
、もって結合強度及び可塑性を増して乾燥時の割れ9反
り1曲がりを回避し得る高密度の板状のシリカガラスを
得ることができる。
[実施例5] まず、撹拌機付きのガラス反応容器にエタノール150
0mj! 、 29%アンモニア水300m、9を加え
て混合し、反応溶液とした。以下、実施例4と同様にし
て厚さ0.6園■の泡のない板状のシリカガラスを得た
[実施例6] 実施例4において、外径15aug、内径12−一の管
状に押しだしたものについても、外径14−霧、内径1
1−の泡のない板状のシリカガラスが得られた。
[実検例7〕 実施例4において、800℃で5%CfI295%He
雰囲気中で熱処理を行った後、0.3LOrrの減圧雰
囲気としたもにについても、1250℃に加熱すると泡
のないシリカガラスが得られた。
なお、上記実施例では、ケイ酸エステルとして4 テトラエトキシを用いた場合について述べたが、これに
限らず、既述した[手段コの欄で述べたテトラメトキン
などの炭素数4以下の低級アルコルなどのエステルを用
いてもよい。
上記実施例では、塩基性水溶液としてアンモニア水を用
いた場合について述べたが、これに限らず、既述した[
手段]の欄で述べたアンモニウム塩アミン等の有機物を
用いてもよい。
上記実施例では、有機溶媒としてエタノールを用いた場
合について述べたが、これに限らず、既述した[手段]
の欄で述べたメタノール、n−プロパツールなどを用い
てもよい。
[発明の効果コ 以上詳述した如く本発明方法によれば、泡の発生を著し
く低減し、もって結合強度及び可塑性を増して乾燥時の
割れ1反り2曲がりを回避し得る高密度の平板状、棒状
、環状のシリカガラスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るスラリー引き伸ばし装置5 の説明図である。 1・・・成型体、2・・・支持体、3・・・ドクタスラ
リー

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ケイ酸エステルを塩基性水溶液及び有機溶媒から
    なる反応溶液中で反応させ球状シリカスラリーを生成す
    る工程と、このスラリー中のシリカ濃度を調整した後有
    機バインダを添加してスラリーの粘度を調整する工程と
    、前記スラリーを成型する工程と、乾燥、脱脂後加熱す
    る工程とを具備することを特徴とするシリカガラスの製
    造方法。
  2. (2)ケイ酸エステルを塩基性水溶液及び有機溶媒から
    なる反応溶液中で反応させ球状シリカスラリーを生成す
    る工程と、このスラリー中のシリカ濃度を調整する工程
    と、有機バインダを添加し前記スラリーを脱脂しながら
    混練りした後成型する工程と、乾燥、脱脂後加熱する工
    程とを具備することを特徴とするシリカガラスの製造方
    法。
JP32390689A 1989-12-15 1989-12-15 シリカガラスの製造方法 Pending JPH03187933A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006315910A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Shinetsu Quartz Prod Co Ltd シリカガラス物品の製造方法及び該製造方法で得られたシリカガラス物品
JP2009120444A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Kyushu Univ ガラス用グリーンシート及びこのガラス用グリーンシートを焼成してなるガラス
JP2015143646A (ja) * 2014-01-31 2015-08-06 株式会社東芝 スラリー粘着力の測定装置及びその方法
WO2023248932A1 (ja) * 2022-06-24 2023-12-28 Agc株式会社 グリーンシート及び焼結体並びにそれらの製造方法
WO2024252896A1 (ja) * 2023-06-09 2024-12-12 Agc株式会社 焼結体の製造方法、グリーンシート及び焼結体

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