JPH03189912A - 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH03189912A JPH03189912A JP1327423A JP32742389A JPH03189912A JP H03189912 A JPH03189912 A JP H03189912A JP 1327423 A JP1327423 A JP 1327423A JP 32742389 A JP32742389 A JP 32742389A JP H03189912 A JPH03189912 A JP H03189912A
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- magnetic head
- sintering
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、金属性磁性膜を蒸着するための非磁性の磁気
ヘッド用基板（Ｃｏｏ−ＮｉＯ系）の製造方法に関する
もので、特に常圧焼結あるいはホットプレスにおける昇
温速度に関するものである。
ヘッド用基板（Ｃｏｏ−ＮｉＯ系）の製造方法に関する
もので、特に常圧焼結あるいはホットプレスにおける昇
温速度に関するものである。
従来技術
従来、Ｃｏｏ−Ｎｉ０系の磁気ヘッド用非磁性基板の製
造方法として、本発明者等は、以下の工程からなる製造
方法が有効であるとして既に開示した。（出願昭６３−
２４３９９５ ）すなわち、■原料粉を混合し、ふるい
分けを行なう混合工程、■ＣＩＰ成形した混合粉を仮焼
し、粉砕した後ふるい分けを行なう仮焼工程、■仮焼粉
を１μｍ以下に微粉砕する工程、■微粉砕粉を２０μｍ
以」二の球形に造粒する工程、■造粒粉をＣＩＰ成形す
る工程、■成形体を焼結する工程、■焼結体をＨＩ Ｐ
処理する工程である。さらに、成形体の焼結については
、常圧焼結あるいはホットプレスを用い、１０００℃以
」二で酸素雰囲気下で処理することとした。
造方法として、本発明者等は、以下の工程からなる製造
方法が有効であるとして既に開示した。（出願昭６３−
２４３９９５ ）すなわち、■原料粉を混合し、ふるい
分けを行なう混合工程、■ＣＩＰ成形した混合粉を仮焼
し、粉砕した後ふるい分けを行なう仮焼工程、■仮焼粉
を１μｍ以下に微粉砕する工程、■微粉砕粉を２０μｍ
以」二の球形に造粒する工程、■造粒粉をＣＩＰ成形す
る工程、■成形体を焼結する工程、■焼結体をＨＩ Ｐ
処理する工程である。さらに、成形体の焼結については
、常圧焼結あるいはホットプレスを用い、１０００℃以
」二で酸素雰囲気下で処理することとした。
さらに、結晶粒径が５μｍ以下の焼結体を製造するため
には、ホットプレスが有効であり、処理温度を１１５０
〜１３００℃とすることを発見し、これも開示した。（
出願率ｏ１２１４２０７） これらの製造方法では、焼結における昇温速度に関する
厳密な規定はなく、昇温速度は極力遅い方がよいが、１
℃／分程度が望ましいとした。（出願昭６３−２４３９
９５ ）しかし、その製造条件によっては焼結が不十分
な部分が存在し、均一な焼結体が得られないという欠点
があった。
には、ホットプレスが有効であり、処理温度を１１５０
〜１３００℃とすることを発見し、これも開示した。（
出願率ｏ１２１４２０７） これらの製造方法では、焼結における昇温速度に関する
厳密な規定はなく、昇温速度は極力遅い方がよいが、１
℃／分程度が望ましいとした。（出願昭６３−２４３９
９５ ）しかし、その製造条件によっては焼結が不十分
な部分が存在し、均一な焼結体が得られないという欠点
があった。
通常、昇温速度が速い場合、加熱中に焼結体内部に温度
勾配が生じ、焼結の不均一性の原因となる。すなわち、
表面付近では、気孔が急激に除去され、気孔濃度に差が
生じるためである。
勾配が生じ、焼結の不均一性の原因となる。すなわち、
表面付近では、気孔が急激に除去され、気孔濃度に差が
生じるためである。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、」二足の欠点を解決したもので、具体的には
Ｃｏｏ−Ｎｉ０系の磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法
における成形体の焼結方法について、その昇温速度を規
定し、均な焼結体を得る方法を提供することが目的であ
る。
Ｃｏｏ−Ｎｉ０系の磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法
における成形体の焼結方法について、その昇温速度を規
定し、均な焼結体を得る方法を提供することが目的であ
る。
発明の構成
即ち、本発明は、Ｃｏｏ−ＮｉＯ系の磁気ヘッド用非磁
性基板の常圧焼結あるいはホットプレスにおいて、９０
０℃から９５０℃までを０．５℃／分以下の速度で昇温
することを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造方
法に関する。
性基板の常圧焼結あるいはホットプレスにおいて、９０
０℃から９５０℃までを０．５℃／分以下の速度で昇温
することを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造方
法に関する。
問題点を解決するための手段及び作用
本発明者等は、Ｃｏｏ−Ｎｉ０系セラミツクスについて
従来より研究を進めてきたが、その製造方法における成
形体の焼結方法について詳細に検討した結果、９００℃
から９５０℃までを０．５℃／分以下の速度で昇温した
場合、焼結が不七分である部分がなく、均一な焼結体が
得られることを見い出した。
従来より研究を進めてきたが、その製造方法における成
形体の焼結方法について詳細に検討した結果、９００℃
から９５０℃までを０．５℃／分以下の速度で昇温した
場合、焼結が不七分である部分がなく、均一な焼結体が
得られることを見い出した。
本発明者等は、Ｃ０Ｏ−ＮｉＯ系セラミックスの焼結特
性を調査し、９００〜９５０℃の範囲で収縮が始まり焼
結が開始されることを把握した。このことから、この温
度範囲では極力昇温速度を遅くした方が有効である。
性を調査し、９００〜９５０℃の範囲で収縮が始まり焼
結が開始されることを把握した。このことから、この温
度範囲では極力昇温速度を遅くした方が有効である。
また、この温度範囲での昇温速度が０．５℃／分を超え
る場合、焼結体内で気孔濃度に差が生じ、中心部はど気
孔濃度が高く、均一な焼結体が得られないことがわかっ
た。
る場合、焼結体内で気孔濃度に差が生じ、中心部はど気
孔濃度が高く、均一な焼結体が得られないことがわかっ
た。
さらに、大気中でのＣｏｏとＧｏ、Ｏ，との平衡温度（
７００〜８００℃）以下では昇温速度は焼結に無関係で
あるため、使用する炉の仕様に合わせて速くすることが
可能であることも把握した。
７００〜８００℃）以下では昇温速度は焼結に無関係で
あるため、使用する炉の仕様に合わせて速くすることが
可能であることも把握した。
これらのことがら昇温速度は次のように分けるのが望ま
しい。
しい。
０７００℃までは使用する炉の仕様に合わせて速くする
０７００℃以」−９００℃までは０．５〜ｂ■９００℃
から９５０℃までは０．５℃／分以下 ■９５０℃以上処理温度までは０．５〜ｂ以下、全体の
製造方法を具体的に述べる。
から９５０℃までは０．５℃／分以下 ■９５０℃以上処理温度までは０．５〜ｂ以下、全体の
製造方法を具体的に述べる。
市販の各酸化物を原料として、所望組成になるよう秤量
し、ボールミルにより混合する。
し、ボールミルにより混合する。
混合は例えばエタノール中湿式ボールミルで１０〜３０
時間行なう。
時間行なう。
乾燥後、ＣＩＰ成形し、例えばＡｒ中８５０′−！−１
１００℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１０
０〜２００μｍの篩で篩分けを行なう。
１００℃で仮焼し、次いで粗砕機を用いて粉砕し、１０
０〜２００μｍの篩で篩分けを行なう。
仮焼粉はさらに例えばエタノール中温式ポルミルで２０
〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。
〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。
これを造粒後、ＣＩＰ成形し、０ア中、常圧焼結あるい
はホットプレス処理を行なう。
はホットプレス処理を行なう。
常圧焼結の条件は、＋２３０−１４００℃、１〜１２時
間が望ましく、ホットプレスでは、Ｃｏ○／ Ｎ ｉ
０モル比に対応させて１１００〜１３００℃で、１００
〜５００ ｋｇ ／ ｃｒｄ、１〜８時間が望ましい。
間が望ましく、ホットプレスでは、Ｃｏ○／ Ｎ ｉ
０モル比に対応させて１１００〜１３００℃で、１００
〜５００ ｋｇ ／ ｃｒｄ、１〜８時間が望ましい。
昇温速度は、以下のように４範囲に分けるのが望ましい
。０７００℃までは使用する炉の仕様に合わせて速くす
るのが好ましい。０９００℃までは０．５〜３°Ｃ／分
、０９００℃から９５０℃までは０．５℃／分以下、■
それ以」二処理温度までは０．５〜ｂ この焼結体を更にＨＴ Ｐ処理する。これは、強度を向
」ユさせるために好ましい。条件としては、８００〜１
２００ｋｇ／ｃボ、１０００〜］２５０℃、１〜２時間
が望ましい。ＨＴ Ｐ処理温度は、焼結温度より低い方
が望ましい。
。０７００℃までは使用する炉の仕様に合わせて速くす
るのが好ましい。０９００℃までは０．５〜３°Ｃ／分
、０９００℃から９５０℃までは０．５℃／分以下、■
それ以」二処理温度までは０．５〜ｂ この焼結体を更にＨＴ Ｐ処理する。これは、強度を向
」ユさせるために好ましい。条件としては、８００〜１
２００ｋｇ／ｃボ、１０００〜］２５０℃、１〜２時間
が望ましい。ＨＴ Ｐ処理温度は、焼結温度より低い方
が望ましい。
乙のようにして得られた焼結体は、緻密で均一性に優れ
ていることが確認できた。
ていることが確認できた。
実施例
組成式ＣｏｘＮｉ、ｘｏ、（ｘ＝０．７）で表わされる
酸化物をＮｉｐ、Ｃｏｏより調整した。これに添加材と
してＡ Ｉ、０．を２． Ｏｗし％加えた。混合は、
エタノール中温式ポルミルで２２時間処理した。
酸化物をＮｉｐ、Ｃｏｏより調整した。これに添加材と
してＡ Ｉ、０．を２． Ｏｗし％加えた。混合は、
エタノール中温式ポルミルで２２時間処理した。
乾燥後、ＣＩＰ成形し、Ａ ｒ ＋４１ ］ ０００℃
で仮焼後、Ｉ ５０４ ｍ以下に粉砕した。
で仮焼後、Ｉ ５０４ ｍ以下に粉砕した。
仮焼粉をさらにエタノール中湿式ボールミルで７０時間
処理し、１ｆｚｍ以下に微粉砕した。これを造粒後、Ｃ
ＩＰ成形し、０．中、ホットプレスにて１２５０℃で５
時間焼結した。
処理し、１ｆｚｍ以下に微粉砕した。これを造粒後、Ｃ
ＩＰ成形し、０．中、ホットプレスにて１２５０℃で５
時間焼結した。
昇温速度は、以下のとおりとした。
０〜７００℃ ５℃／分
０７００〜９００℃ １℃／分
〜８
０９００〜９５０℃ ０．３℃／分
■９５０〜１２５０８Ｃ１℃／分
この焼結体の特性を表１に示す。
比較例として、１２５０℃までをどの温度範囲も等しい
昇温速度３℃／分で昇温した場合、即ち９００℃から９
５０℃までの温度範囲における昇温速度が速い場合の焼
結体の特性を示す。
昇温速度３℃／分で昇温した場合、即ち９００℃から９
５０℃までの温度範囲における昇温速度が速い場合の焼
結体の特性を示す。
（２）これにより、焼結体の特性にむらがなく、基板加
工時の歩留向」二等の経済性に利点がある。
工時の歩留向」二等の経済性に利点がある。
Claims (1)
- （１）ＣｏＯ−ＮｉＯ系の磁気ヘッド用非磁性基板の常
圧焼結あるいはホットプレスにおいて、９００℃から９
５０℃までを０．５℃／分以下の速度で昇温することを
特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1327423A JPH0782618B2 (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1327423A JPH0782618B2 (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03189912A true JPH03189912A (ja) | 1991-08-19 |
| JPH0782618B2 JPH0782618B2 (ja) | 1995-09-06 |
Family
ID=18198998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1327423A Expired - Lifetime JPH0782618B2 (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | 磁気ヘッド用非磁性基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0782618B2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-19 JP JP1327423A patent/JPH0782618B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0782618B2 (ja) | 1995-09-06 |
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