JPH03197837A - X線顕微鏡用の試料ホルダ - Google Patents
X線顕微鏡用の試料ホルダInfo
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- JPH03197837A JPH03197837A JP1336471A JP33647189A JPH03197837A JP H03197837 A JPH03197837 A JP H03197837A JP 1336471 A JP1336471 A JP 1336471A JP 33647189 A JP33647189 A JP 33647189A JP H03197837 A JPH03197837 A JP H03197837A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、生体の高倍率観察に威力を発揮する軟X線の
透過観察に用いられて好適な液封型の試料カプセル、特
にその破裂防止技術に関する。
透過観察に用いられて好適な液封型の試料カプセル、特
にその破裂防止技術に関する。
[従来の技術]
医学や生物工学等における、生体の高倍率観察に対する
要求の高まりに対応して、波長2〜5nm程度の軟X線
を用いるX線顕微鏡力匂主目されており、このX線顕微
鏡を用いて生体観察を行うため7つ試料カプセルとして
は、特開昭63−263500号や同63−29820
0号に示されるものが知られている。
要求の高まりに対応して、波長2〜5nm程度の軟X線
を用いるX線顕微鏡力匂主目されており、このX線顕微
鏡を用いて生体観察を行うため7つ試料カプセルとして
は、特開昭63−263500号や同63−29820
0号に示されるものが知られている。
第4図は、軟X線を用いるX線顕微鏡の一例の構造を簡
単に示し、また、第5図 (a)、(b)は、種々の材
料における軟X線の波長と線吸収係数の関係を示す。
単に示し、また、第5図 (a)、(b)は、種々の材
料における軟X線の波長と線吸収係数の関係を示す。
軟X線は、X線と呼ばれる波長1pm〜10nmの領域
の電磁波のうち、通常は、200pm以上の波長を有す
るものとされ、波長400〜800r+mの可視光線よ
りも2桁以上も短い波長の電磁波である。また、この軟
X線は、透過する物質に良く吸収され、種々の物質内に
おける光路単位長さ当りの吸収率、すなわち線吸収係数
は、物質の密度に比例し、一般的には波長が長くなるほ
ど高くなるが、第5図 (a)、(b)にも示されるよ
うに、各物質の分子構造に応じた波長の、低い線吸収係
数の領域をいくつか有する。
の電磁波のうち、通常は、200pm以上の波長を有す
るものとされ、波長400〜800r+mの可視光線よ
りも2桁以上も短い波長の電磁波である。また、この軟
X線は、透過する物質に良く吸収され、種々の物質内に
おける光路単位長さ当りの吸収率、すなわち線吸収係数
は、物質の密度に比例し、一般的には波長が長くなるほ
ど高くなるが、第5図 (a)、(b)にも示されるよ
うに、各物質の分子構造に応じた波長の、低い線吸収係
数の領域をいくつか有する。
第4図において、コンデンサー光学系Cと試料ホルダH
と結像光学系■と撮像装置には、X線発生器Gの出力光
軸上に直列に配置され、X線発生器Gから撮像装置Kま
でのX線光学系の光路長は約2mである。また、この光
学系全体は、排気系Vを有する真空槽R内に納められて
いる。
と結像光学系■と撮像装置には、X線発生器Gの出力光
軸上に直列に配置され、X線発生器Gから撮像装置Kま
でのX線光学系の光路長は約2mである。また、この光
学系全体は、排気系Vを有する真空槽R内に納められて
いる。
さて、観察試料を装填した試料カプセルBを試料ホルダ
Hにセットした後、排気系Vを作動して真空槽R内を真
空排気し、真空度を4.8x 10−”Pa以下に維持
した状態で観察を行う。X線発生器Gから射出された軟
X線ビームは、コンデンサー光学系Cにより収束され、
試料ホルダHにセットされた試料カプセルBを透過する
。透過した軟X線は、結像光学系■により撮像装置に上
に結像して真空、lR外のモニタ装置Mに観察像を与え
る。
Hにセットした後、排気系Vを作動して真空槽R内を真
空排気し、真空度を4.8x 10−”Pa以下に維持
した状態で観察を行う。X線発生器Gから射出された軟
X線ビームは、コンデンサー光学系Cにより収束され、
試料ホルダHにセットされた試料カプセルBを透過する
。透過した軟X線は、結像光学系■により撮像装置に上
に結像して真空、lR外のモニタ装置Mに観察像を与え
る。
軟X線を用いたX線顕微鏡は、軟X線に対し1気圧下で
2 X to−3μm−1程度の吸収率を有する大気に
よる吸収を避けるために、光学系全体をその光路長に応
じた高い真空度に保つ必要があり、軟X線の収束に係る
レンズ素子に性能の良いものが得にくい等の欠点を有す
るが、可視光線より格段に短い波長のX線を用いるため
、従来の光学顕微鏡よりも高い解像度を期待できる。ま
た、生体の直接観察を透過材料越しに行うことが可能で
、組織培養液とともに生体を液封した試料カプセルを用
いれば、生体試料を損傷することなく長時間にわたるそ
の生理観察を実行できる。従って、電子ビームを試料表
面に対して直接照射する電子顕微鏡の場合のような、試
料の乾燥や金属蒸着等、観察物にダメージを与える前処
理を不要とすることができる。
2 X to−3μm−1程度の吸収率を有する大気に
よる吸収を避けるために、光学系全体をその光路長に応
じた高い真空度に保つ必要があり、軟X線の収束に係る
レンズ素子に性能の良いものが得にくい等の欠点を有す
るが、可視光線より格段に短い波長のX線を用いるため
、従来の光学顕微鏡よりも高い解像度を期待できる。ま
た、生体の直接観察を透過材料越しに行うことが可能で
、組織培養液とともに生体を液封した試料カプセルを用
いれば、生体試料を損傷することなく長時間にわたるそ
の生理観察を実行できる。従って、電子ビームを試料表
面に対して直接照射する電子顕微鏡の場合のような、試
料の乾燥や金属蒸着等、観察物にダメージを与える前処
理を不要とすることができる。
また、第5図(a)の水に対する線吸収係数においてv
字状に示されている、水の窓と呼はれる水に対し同係数
が低い波長領域(2,3nm〜4.4nm)においては
、第5図(a)に示されるように、軟X線の水に対する
吸収率と、生体を構成する蛋白質等に対する吸収率との
差が大きい。従って、この波長領域の軟X線を使用すれ
は、例えば細胞内に浮遊する小器官等を観察する場合に
、その観察画像のコントラストが良いという利点もある
。
字状に示されている、水の窓と呼はれる水に対し同係数
が低い波長領域(2,3nm〜4.4nm)においては
、第5図(a)に示されるように、軟X線の水に対する
吸収率と、生体を構成する蛋白質等に対する吸収率との
差が大きい。従って、この波長領域の軟X線を使用すれ
は、例えば細胞内に浮遊する小器官等を観察する場合に
、その観察画像のコントラストが良いという利点もある
。
ところで、上述したように軟X線は、種々の物質により
簡単に吸収されてしまうから、軟X線光路中に挿入され
る、観察試料を気密封入した試料カプセルにおいては、
その試料層の厚さを薄く採るとともに、密閉を兼ねた観
察窓材の軟X線の吸収量を極力小さくする必要がある。
簡単に吸収されてしまうから、軟X線光路中に挿入され
る、観察試料を気密封入した試料カプセルにおいては、
その試料層の厚さを薄く採るとともに、密閉を兼ねた観
察窓材の軟X線の吸収量を極力小さくする必要がある。
従って、この窓材には、軟X線に対する線吸収係数が低
くて膜強度も高い材料、例えば第5図 (b)の窒化シ
リコン313N 4等を薄膜形成したものが一般的に採
用されている。
くて膜強度も高い材料、例えば第5図 (b)の窒化シ
リコン313N 4等を薄膜形成したものが一般的に採
用されている。
第3図は、従来の試料カプセルの構造を説明するための
もので、 (a)は、試料カプセルに用いられるスペー
サの構造を、また (b)は、試料カプセルの断面構造
をその試料容器とともに示す。本従来例は、X線透過窓
IC12Cを形成した2枚のチップ1.2の間にリング
状のスペーサ3Rを挿入し、スペーサ3Rの内側の密閉
空間に試料液を保持するものである。
もので、 (a)は、試料カプセルに用いられるスペー
サの構造を、また (b)は、試料カプセルの断面構造
をその試料容器とともに示す。本従来例は、X線透過窓
IC12Cを形成した2枚のチップ1.2の間にリング
状のスペーサ3Rを挿入し、スペーサ3Rの内側の密閉
空間に試料液を保持するものである。
第3図 (a)、(b)において、チップ1.2は、シ
リコン板1a、2a上に窒化シリコン薄膜1b、2bを
形成した後に、X線透過窓IC12Cに相当する部分の
シリコン層をエツチングにより除去したものである。こ
こで、中央の矢印のようにX線を透過させるための、薄
膜1b、2bの張られたX線透過窓1c、2cは200
μm角の正方形であり、その膜厚は、0.05〜0.1
μmである。
リコン板1a、2a上に窒化シリコン薄膜1b、2bを
形成した後に、X線透過窓IC12Cに相当する部分の
シリコン層をエツチングにより除去したものである。こ
こで、中央の矢印のようにX線を透過させるための、薄
膜1b、2bの張られたX線透過窓1c、2cは200
μm角の正方形であり、その膜厚は、0.05〜0.1
μmである。
また、チップ1.2の対向する薄膜面の間に挿入される
円環状のスペーサ3Rは、試料層の厚さを保持するもの
で、用途に応じて1〜15μmの範囲で適切な厚さのも
のが選択される。例えば、軟X線の波長を2.3nmに
選択して、窒化シリコン薄膜1b、2b@厚をそれぞれ
O,ltlm、また試料層(水)の厚さを10μmとす
れば、それぞれの軟X線透過率は39%、27,3%と
なり、全体では約11%の透過率が確保される。
円環状のスペーサ3Rは、試料層の厚さを保持するもの
で、用途に応じて1〜15μmの範囲で適切な厚さのも
のが選択される。例えば、軟X線の波長を2.3nmに
選択して、窒化シリコン薄膜1b、2b@厚をそれぞれ
O,ltlm、また試料層(水)の厚さを10μmとす
れば、それぞれの軟X線透過率は39%、27,3%と
なり、全体では約11%の透過率が確保される。
一方、スペーサ3Rは、表裏両面にシール面を有し、2
枚のチップ1.2と密着して円環の内側の試料空間をの
密封を行う機能を兼ね備える。また、試料容器4R,5
Rは、ねじ6により相互に固定されるとともに、0リン
グ8を介してその内部に納めたチップ1.2を対向方向
に押圧するためのもので、この押圧力によりスペーサ3
Rとチップ1.2の接触面に、試料カプセルを真空中で
保持するために必要な密着性が付与される。
枚のチップ1.2と密着して円環の内側の試料空間をの
密封を行う機能を兼ね備える。また、試料容器4R,5
Rは、ねじ6により相互に固定されるとともに、0リン
グ8を介してその内部に納めたチップ1.2を対向方向
に押圧するためのもので、この押圧力によりスペーサ3
Rとチップ1.2の接触面に、試料カプセルを真空中で
保持するために必要な密着性が付与される。
[発明が解決しようとする課題]
従来例の試料カプセルにおいては、チップ1上にスペー
サ3Rを載置して、その内側に液状の観察試料、例えば
培養液中に浮遊させた細胞を滴定した後、チップ2をか
ぶせ、試料容器4R15Rに納めねじ6で固定して試料
準備を完了する。ところが、このときチップ1.2とス
ペーサ3Rとで密閉された試料空間中の培養液も圧縮状
態となり、内圧を高めてX線透過窓1c、2cの窒化シ
リコン薄膜1b、2bを破裂させる事故が発生した。ま
た、試料装填時に破裂しなくても、後に第4図のX線顕
微鏡にセットして真空排気を行った際に破裂する可能性
があるため、窒化シリコン薄膜ib、2b強度の安全率
を高く採り、その厚さを必要以上に厚く形成しておく必
要があった。
サ3Rを載置して、その内側に液状の観察試料、例えば
培養液中に浮遊させた細胞を滴定した後、チップ2をか
ぶせ、試料容器4R15Rに納めねじ6で固定して試料
準備を完了する。ところが、このときチップ1.2とス
ペーサ3Rとで密閉された試料空間中の培養液も圧縮状
態となり、内圧を高めてX線透過窓1c、2cの窒化シ
リコン薄膜1b、2bを破裂させる事故が発生した。ま
た、試料装填時に破裂しなくても、後に第4図のX線顕
微鏡にセットして真空排気を行った際に破裂する可能性
があるため、窒化シリコン薄膜ib、2b強度の安全率
を高く採り、その厚さを必要以上に厚く形成しておく必
要があった。
本発明は、観察試料を装填する際にその内圧が高まらな
い、安全確実な試料カプセルを提供することを目的とす
る。
い、安全確実な試料カプセルを提供することを目的とす
る。
[課題を解決するための手段]
本発明に係る試料カプセルは、対向させた2枚のX線透
過窓付平板と、両平板間の距離を保持するスペーサとか
らなるX線顕微鏡用試料カプセルにおいて、 従来は試料の密閉を兼ねて、試料を完全包囲していたス
ペーサの一部に試料の逃げ口を開けたことを特徴とする
ものである。
過窓付平板と、両平板間の距離を保持するスペーサとか
らなるX線顕微鏡用試料カプセルにおいて、 従来は試料の密閉を兼ねて、試料を完全包囲していたス
ペーサの一部に試料の逃げ口を開けたことを特徴とする
ものである。
[作用]
本発明に係る試料カプセルにおいては、スペーサを挟ん
で対向した平板間の、スペーサの内側の空間に液状の試
料を保持した状態で、一方のX線透過窓から他方の窓へ
軟X線を透過させて観察を行う。
で対向した平板間の、スペーサの内側の空間に液状の試
料を保持した状態で、一方のX線透過窓から他方の窓へ
軟X線を透過させて観察を行う。
一方、スペーサには、その一部に試料の逃げ口が開いて
いるから、試料の内圧が高まるとここから試料があふれ
出して内圧の上昇を緩和する。従って10例えば試料装
填時に、両平板を対向方向に押圧してスペーサが変形す
るような場合においても試料内圧の上昇量は小さく、観
察窓に対する負荷もあまり大きくならない。ここで、ス
ペーサ自体は試料の密閉機能を持たないから、試料カプ
セルを真空中に保持するためには、スペーサの外部に密
閉手段を設ける必要があるが、これは、スペーサの外側
の基板間に設けた環状のシール部材としても良いが、両
平板の対向しない面をシール面とする密閉容器等として
も良い。この密閉手段とスペーサの間に形成された空間
が、あふれ出た観察試料を受は止めるとともに、スペー
サ内の試料空間における圧力上昇を緩和する。
いるから、試料の内圧が高まるとここから試料があふれ
出して内圧の上昇を緩和する。従って10例えば試料装
填時に、両平板を対向方向に押圧してスペーサが変形す
るような場合においても試料内圧の上昇量は小さく、観
察窓に対する負荷もあまり大きくならない。ここで、ス
ペーサ自体は試料の密閉機能を持たないから、試料カプ
セルを真空中に保持するためには、スペーサの外部に密
閉手段を設ける必要があるが、これは、スペーサの外側
の基板間に設けた環状のシール部材としても良いが、両
平板の対向しない面をシール面とする密閉容器等として
も良い。この密閉手段とスペーサの間に形成された空間
が、あふれ出た観察試料を受は止めるとともに、スペー
サ内の試料空間における圧力上昇を緩和する。
[本発明の実施例]
本発明の実施例を図面を参照して説明する。ここで、第
3図 (a)、(b)の従来例の場合と同様な構造と機
能を有する部材には同一の符号を付してその説明を省略
する。
3図 (a)、(b)の従来例の場合と同様な構造と機
能を有する部材には同一の符号を付してその説明を省略
する。
第1図は、本発明の第1実施例に係る試料カプセルの構
造を説明するためのもので、 (a)は、試料カプセル
に用いられるスペーサの構造を、また(b)は、試料カ
プセルの断面構造をその試料容器とともに示す。本実施
例は、試料の逃げ道3aを形成したスペーサ3およびチ
ップ1.2(平板)で構成される試料空間の密閉を、試
料容器4.5に備えた3つのOリングシール8で行うも
のである。
造を説明するためのもので、 (a)は、試料カプセル
に用いられるスペーサの構造を、また(b)は、試料カ
プセルの断面構造をその試料容器とともに示す。本実施
例は、試料の逃げ道3aを形成したスペーサ3およびチ
ップ1.2(平板)で構成される試料空間の密閉を、試
料容器4.5に備えた3つのOリングシール8で行うも
のである。
第1図(a) において、チップ1上に載置されたスペ
ーサ3は、X線透過窓1c、2cに相当する部分を含む
面積の長方形の試料空間と、試料の逃げ道である溝部3
aとを備える。
ーサ3は、X線透過窓1c、2cに相当する部分を含む
面積の長方形の試料空間と、試料の逃げ道である溝部3
aとを備える。
また、第1図 (b)において、チップ1.2を収納し
た試料容器4.5は、X線透過窓IC12Cを露出させ
る窓と、この窓に沿フた0リング8によるチップ1.2
に対する環状のシール面と、試料容器4.5相互間のO
リング8によるシール面とを有する。この3つのシール
面で閉じられた空間が、スペーサ3内部の試料空間を含
む、外部に対する密閉空間である。
た試料容器4.5は、X線透過窓IC12Cを露出させ
る窓と、この窓に沿フた0リング8によるチップ1.2
に対する環状のシール面と、試料容器4.5相互間のO
リング8によるシール面とを有する。この3つのシール
面で閉じられた空間が、スペーサ3内部の試料空間を含
む、外部に対する密閉空間である。
ところで、本実施例において、チップ1.2の製作は次
の手順で行った。
の手順で行った。
まず、シリコン板1a、2a上にLP−CVD法により
窒化シリコン薄膜を形成した。プロセス条件は、減圧さ
れた雰囲気ガス(NH3ガスおよび5IH2C12ガス
)中で700〜900℃に温度維持したシリコン板1a
、2aの表裏両面に窒化シリコン513N4層を気相成
長させ、内部応力が109〜10 ”dyn/cm2に
制御された薄膜1b、2bを形成した。このLP−CV
D法は、量産性に優れ、膜中の内部欠陥が少なく、膜の
内部応力のコントロールも容易である。
窒化シリコン薄膜を形成した。プロセス条件は、減圧さ
れた雰囲気ガス(NH3ガスおよび5IH2C12ガス
)中で700〜900℃に温度維持したシリコン板1a
、2aの表裏両面に窒化シリコン513N4層を気相成
長させ、内部応力が109〜10 ”dyn/cm2に
制御された薄膜1b、2bを形成した。このLP−CV
D法は、量産性に優れ、膜中の内部欠陥が少なく、膜の
内部応力のコントロールも容易である。
次に、裏面の窒化シリコン薄膜にフォトリソグラフィ法
により、X線透過窓1C12Cに相当する孔を形成し、
この孔から異方性エツチングによりシリコン層を、表面
の窒化シリコン薄膜1b、2bに達するまで除去した。
により、X線透過窓1C12Cに相当する孔を形成し、
この孔から異方性エツチングによりシリコン層を、表面
の窒化シリコン薄膜1b、2bに達するまで除去した。
ここで、エツチング7夜にはエチレンジアミンとビロカ
テユールと水の混合液を用い、第1図(b)のようなテ
ーパ面を形成するために、シリコン板の膜付は面は、そ
のエツチング容易面と45度の角度を成すように選択さ
れている。
テユールと水の混合液を用い、第1図(b)のようなテ
ーパ面を形成するために、シリコン板の膜付は面は、そ
のエツチング容易面と45度の角度を成すように選択さ
れている。
以上により、窒化シリコン薄膜1b、2bの張られたX
線透過窓IC12Cを有するチップ1.2を得た。
線透過窓IC12Cを有するチップ1.2を得た。
さて、チップ1上にスペーサ3を載置してその内側に液
状の観察試料を滴定し、チップ2をかぶせた後に、これ
を試料容器4.5に納めてねじ6で締付けると、Oリン
グ8による各シール面に必要なシール機能が付与される
とともに、圧縮された試料空間からスペーサ3の溝部3
aを通って余分な試料があふれ出して、試料空間の圧力
上昇が緩和される。
状の観察試料を滴定し、チップ2をかぶせた後に、これ
を試料容器4.5に納めてねじ6で締付けると、Oリン
グ8による各シール面に必要なシール機能が付与される
とともに、圧縮された試料空間からスペーサ3の溝部3
aを通って余分な試料があふれ出して、試料空間の圧力
上昇が緩和される。
ところで、スペーサは、この実施例の形状および材料に
限定されないから、スペーサは、金属、プラスチックス
、ガラス等の箔を貼付けても良いし、メツキや蒸着によ
り所定厚さの膜を形成しても良い。また、シリコンをエ
ツチングして所定厚さの段差を形成した後、窒化シリコ
ン膜を付け、スペーサとしても良い。簡単には、感光性
レジストまたは感光性ガラスを用いて、所定厚さに塗布
後、第2図にも示されるような形状に露光、現像して得
ることかできる。なお形状は第2図に示したものは一例
であり、これに限られないが、逃げ口の幅としては、0
.1〜1.5mmが適当である。
限定されないから、スペーサは、金属、プラスチックス
、ガラス等の箔を貼付けても良いし、メツキや蒸着によ
り所定厚さの膜を形成しても良い。また、シリコンをエ
ツチングして所定厚さの段差を形成した後、窒化シリコ
ン膜を付け、スペーサとしても良い。簡単には、感光性
レジストまたは感光性ガラスを用いて、所定厚さに塗布
後、第2図にも示されるような形状に露光、現像して得
ることかできる。なお形状は第2図に示したものは一例
であり、これに限られないが、逃げ口の幅としては、0
.1〜1.5mmが適当である。
第2図 (a)〜 (e)は、本発明の別の実施例に係
る試料カプセルに用いられるそれぞれのスペーサの構造
を示す。
る試料カプセルに用いられるそれぞれのスペーサの構造
を示す。
第2図 (a)のスペーサ3Aは、その内側に、チップ
1.2のX線透過窓IC12Cよりも格段に大きな試料
空間面積を形成するが、X線透過窓IC12Cに相当す
る部分に受は部3bが設けられているから、この試料カ
プセルを縦型に保持した際に、培養液中の細胞等が沈降
してX線透過窓1c、2cから外れることが避けられる
。
1.2のX線透過窓IC12Cよりも格段に大きな試料
空間面積を形成するが、X線透過窓IC12Cに相当す
る部分に受は部3bが設けられているから、この試料カ
プセルを縦型に保持した際に、培養液中の細胞等が沈降
してX線透過窓1c、2cから外れることが避けられる
。
また、第2図 (b)のスペーサ3Bは、X線透過窓1
c、2Cに相当する試料空間から上下左右4方向に溝部
3aが形成されている。これらの溝部3aは細いので、
圧力がかった場合以外には液体の流動が無い。
c、2Cに相当する試料空間から上下左右4方向に溝部
3aが形成されている。これらの溝部3aは細いので、
圧力がかった場合以外には液体の流動が無い。
また、第2図 (C)のスペーサ3Cは、X線透過窓I
C52Cに相当する試料空間の上部に十分な培養液を蓄
えられるように、空間を設けたものである。
C52Cに相当する試料空間の上部に十分な培養液を蓄
えられるように、空間を設けたものである。
また、第2図 (d)のスペーサ3は、試料空間を大き
く取ったものである。
く取ったものである。
また、第2図 (e)のスペーサ3は、細い溝部3aで
試料空間とその上下に設けた空気室を接続したもので、
周囲がシール面を形成しているので従来例のフレーム4
.5を用いることができる。
試料空間とその上下に設けた空気室を接続したもので、
周囲がシール面を形成しているので従来例のフレーム4
.5を用いることができる。
また、この他にも、例えばスペーサ3を多孔性の材料で
形成して圧力上昇分の液体を吸収させたり、スペーサ3
の一部分をダイアフラム状に形成して圧力上昇分を外部
にふくらませる構造としたりする等の変形が可能であり
、スペーサ3はチップ1に固定されたものでも良い。
形成して圧力上昇分の液体を吸収させたり、スペーサ3
の一部分をダイアフラム状に形成して圧力上昇分を外部
にふくらませる構造としたりする等の変形が可能であり
、スペーサ3はチップ1に固定されたものでも良い。
[発明の効果]
本発明に係る試料カプセルでは、内圧が上昇すると、ス
ペーサに形成された試料の逃げ口から余分な液体試料が
あふれ出て、内圧の上A−を緩和するから、観察窓に対
する負荷はあまり大きくならない。従って、観察窓の厚
さは必要最小限とすることが可能で、これを薄くすれば
、軟X線の透過率が増してより鮮明な画像を得ることも
可能である。また、従来のようなスペーサ内に装填する
試料の量の厳密な制御が不要となり、試料装填後の試料
カプセル取扱いも自由となる。さらに、頻繁に試料の詰
替えや再使用を行っても試料カプセルおよび各構成部材
の寿命も伸び、信頼性も向上するから、観察作業全体に
おける能率化、材料費の低減を容易に達成できる。
ペーサに形成された試料の逃げ口から余分な液体試料が
あふれ出て、内圧の上A−を緩和するから、観察窓に対
する負荷はあまり大きくならない。従って、観察窓の厚
さは必要最小限とすることが可能で、これを薄くすれば
、軟X線の透過率が増してより鮮明な画像を得ることも
可能である。また、従来のようなスペーサ内に装填する
試料の量の厳密な制御が不要となり、試料装填後の試料
カプセル取扱いも自由となる。さらに、頻繁に試料の詰
替えや再使用を行っても試料カプセルおよび各構成部材
の寿命も伸び、信頼性も向上するから、観察作業全体に
おける能率化、材料費の低減を容易に達成できる。
第1図は、本発明の実施例に係る試料カプセルの構造を
示し、 (a)は、試料カプセルに用いられるスペーサ
の平面図、 (b)は、試料カプセルをその試料容器と
ともに示した断面図である。 第2図 (a)〜 (e)は、本発明の別の実施例に係
る試料カプセルにそれぞれ用いられるスペーサの平面図
である。 第3図は、従来例の試料カプセルの構造を示したもので
、 (a)は、試料カプセルに用いられるスペーサの平
面図、 (b)は、試料カプセルをその試料容器ととも
に示した断面図である。 第4図は、一般的な、軟X線を用いるX線顕微鏡の構成
を示す模式図である。 第5図 (a) (b)は、各種物質の軟X線に対す
る線吸収係数を示す線図である。 [主要部分の符号の説明コ 1.2・・・チップ 3・・・スペーサ4.5・・
・試料容器 3a・・・溝部1c、2 C−X線通A
窓
示し、 (a)は、試料カプセルに用いられるスペーサ
の平面図、 (b)は、試料カプセルをその試料容器と
ともに示した断面図である。 第2図 (a)〜 (e)は、本発明の別の実施例に係
る試料カプセルにそれぞれ用いられるスペーサの平面図
である。 第3図は、従来例の試料カプセルの構造を示したもので
、 (a)は、試料カプセルに用いられるスペーサの平
面図、 (b)は、試料カプセルをその試料容器ととも
に示した断面図である。 第4図は、一般的な、軟X線を用いるX線顕微鏡の構成
を示す模式図である。 第5図 (a) (b)は、各種物質の軟X線に対す
る線吸収係数を示す線図である。 [主要部分の符号の説明コ 1.2・・・チップ 3・・・スペーサ4.5・・
・試料容器 3a・・・溝部1c、2 C−X線通A
窓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 対向させた2枚のX線透過窓付平板と、両平板間の距離
を保持するスペーサとからなるX線顕微鏡用試料カプセ
ルにおいて、 前記スペーサの一部に試料の逃げ口を開けたことを特徴
とする試料カプセル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1336471A JP2890579B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | X線顕微鏡用の試料ホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1336471A JP2890579B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | X線顕微鏡用の試料ホルダ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03197837A true JPH03197837A (ja) | 1991-08-29 |
| JP2890579B2 JP2890579B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=18299482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1336471A Expired - Fee Related JP2890579B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | X線顕微鏡用の試料ホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2890579B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7759656B1 (en) * | 2006-03-01 | 2010-07-20 | South Bay Technology, Inc. | Dual air particle sample cassette and methods for using same |
| CN103852480A (zh) * | 2012-12-05 | 2014-06-11 | 江西纳优科技有限公司 | 一种可食性空心胶囊有害成分检测用x荧光光谱仪及其检测方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55113947U (ja) * | 1979-01-24 | 1980-08-11 | ||
| JPS61207954A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-16 | Seiko Instr & Electronics Ltd | メツキ液分析装置用サンプルホルダ− |
| JPS63263500A (ja) * | 1987-04-22 | 1988-10-31 | 株式会社ニコン | 顕微鏡観察用試料容器 |
| JPS63298200A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Nikon Corp | 軟x線顕微鏡観察用試料容器 |
| JPH01126555U (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-29 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP1336471A patent/JP2890579B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55113947U (ja) * | 1979-01-24 | 1980-08-11 | ||
| JPS61207954A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-16 | Seiko Instr & Electronics Ltd | メツキ液分析装置用サンプルホルダ− |
| JPS63263500A (ja) * | 1987-04-22 | 1988-10-31 | 株式会社ニコン | 顕微鏡観察用試料容器 |
| JPS63298200A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Nikon Corp | 軟x線顕微鏡観察用試料容器 |
| JPH01126555U (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-29 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7759656B1 (en) * | 2006-03-01 | 2010-07-20 | South Bay Technology, Inc. | Dual air particle sample cassette and methods for using same |
| CN103852480A (zh) * | 2012-12-05 | 2014-06-11 | 江西纳优科技有限公司 | 一种可食性空心胶囊有害成分检测用x荧光光谱仪及其检测方法 |
| CN103852480B (zh) * | 2012-12-05 | 2016-03-30 | 江西纳优科技有限公司 | 一种可食性空心胶囊有害成分检测用x荧光光谱仪及其检测方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2890579B2 (ja) | 1999-05-17 |
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Legal Events
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