JPH03207693A - 情報記録媒体および光情報記録方法 - Google Patents

情報記録媒体および光情報記録方法

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JPH03207693A
JPH03207693A JP2003169A JP316990A JPH03207693A JP H03207693 A JPH03207693 A JP H03207693A JP 2003169 A JP2003169 A JP 2003169A JP 316990 A JP316990 A JP 316990A JP H03207693 A JPH03207693 A JP H03207693A
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Application number
JP2003169A
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English (en)
Inventor
Yoshihisa Usami
由久 宇佐美
Takashi Kobayashi
孝史 小林
Yoshio Inagaki
由夫 稲垣
Toshiaki Kubo
利昭 久保
Masao Yabe
矢部 雅夫
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームを用いて
情報の書き込みおよび読み取りが可能な情報記録媒体お
よびその製造方法に関するものである。
[発明の技術的背景] D HAV (Direct Read After 
Wrjte )型情報記録媒体は基本的に、プラスチッ
ク、ガラス等からなる透明基板と、この上に設けられた
記録層とから構成される。記録層の材料としては、Bi
、Sn、In、Te等の金属または半金属;およびシア
ニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られている
情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。記録媒
体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを記録
媒体に照射することにより行なわれ、記録層の光学的特
性の変化に応じた反射光または透過光を検出することに
より情報が再生される。
記録層を形成する材料として色素を用いた情報記録媒体
は、金属材料に比べて記録層を塗布法により基板上に簡
単に形成することができるという製造上の大きな利点を
有している。しかしながら、得られた記録層は、反射率
が低い、記録した信号のC/Nが低い等の特性上の問題
、および色素記録層が温度や湿度の環境変化により経時
的に劣化し易い、いわゆる耐久性が不充分であるとの欠
点を有している。
これらの問題を解消するため、シアニン色素やメロシア
ニン色素などの色素を用いてブロンズ光沢を有する、あ
るいは反射率15%以上有する色素記録層を形成し、こ
れにより再生C/Nの優れた情報記録媒体を得ることが
できるとした技術が、例えば、特開昭58−36490
号、特開昭58−105442号および特開昭58−1
12790号の各公報に記載されている。あるいは特定
のシアニン系色素を用いて上記C/N特性を改良した技
術も開示されている。すなわち特開昭58−11498
9号公報には主にチアゾール系シアニン色素、特開昭5
9−24692号公報にはインドール環骨格を有するシ
アニン色素および特開閉59−150795号公報には
特定の構造を有するシアニン色素について記載されてい
る。
しかしながら、このような色素記録層を有する情報記録
媒体はC/Nについては比較的良好なものもあるが充分
ではなく、耐水性、耐熱性、耐光性などの耐久性あるい
は反射率については満足できるものではない。
一方、反射率を高くするため、色素記録層の上にさらに
反射層を設けることが一般的に行なわれている。このよ
うな例が、日経エレクトロニクス(107頁、1989
年1月23日発行)に記載されている。反射層の付設に
より、反射率は向上するものの、耐久性、C/N等につ
いては充分に改良されるとは言えない。すなわち、C/
Nは反射率だけでなく信号の記録状態が大きく関与して
おり、また色素記録層の耐久性については、基本的には
色素が耐水性、耐熱性、耐光性等の特性に充分な性能を
有していないことに起因するため、金属層による反射率
を高める効果だけではこのような特性を改善することは
難しい。
従って、色素記録層単独の場合は勿論、その上に反射層
を設けた情報記録媒体であっても、上記反射率やC/N
を高水準で維持しながら耐久性においても充分に優れた
ものは得られていない。
[発明の目的] 本発明は、温度や湿度の環境変化に対する耐久性が顕著
に向上した色素からなる記録層を有する情報記録媒体を
提供することを目的とする。
また本発明は、耐久性に優れ且つC/Nおよび反射率が
顕著に高い、色素からなる記録層およびその上に設けら
れた反射層からなる情報記録媒体を提供することを目的
とする。
さらに本発明は、上記情報記録媒体にレーザーを照射す
ることにより情報を記録することからなる光情報記録方
法を提供することもその目的とする。
[発明の要旨] 本発明は、基板上に、下記の一般式(1):%式% [ただし、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ水
素原子、ハロゲン、置換基を有していても良い炭素原子
数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を有してい
ても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルコキシ基
または置換基を有していても良い炭素原子数が1〜8の
範囲にあるアルケニル基を表わし、 R5は、炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルキレン基
を表わし、 R6は、水素原子、置換基を有していても良い炭素原子
数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を有してい
ても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルケニル基
または置換基を有していても良い炭素原子数が1〜8の
範囲にあるアラルキル基を表わし、そして 1177およびR8は、それぞれ炭素原子数が1〜8の
範囲にあるアルキル基を表わす1 で表わされるスルホナト基を有するチアゾール系シアニ
ン色素からなるレーザーによる書込みが可能な記録層が
設けられたことを特徴とする情報記録媒体にある。
さらに、本発明は、上記情報記録媒体を回転させながら
、基板側からレーザーを照射して情報を記録することか
らなる光情報記録方法。
上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は下記のとお
りである。
1)上記記録層の上に、金属からなる反射層が設けられ
ていることを特徴とする上記情報記録媒体。
2)上記記録層が、さらに−重積クエンチャーを含んで
いることを特徴とする上記情報記録媒体。
3)上記基板の材料がプラスチックであることを特徴と
する上記情報記録媒体。
4)上記金属がAu、Go、Ni、Rh、Pt、  C
u、  Cr、  An  、 Te、Mo、W、Ag
、Ge、SnおよびBiからなる群より選ばれる少なく
とも一種であることを特徴とする上記1)の情報記録媒
体。
上記本発明の光情報記録方法の好ましい態様は下記のと
おりである。
1)上記記録層の上に、金属からなる反射層が設けられ
ていることを特徴とする上記光情報記録方法。
2)上記記録層が、さらに−重積クエンチャーを含んで
いることを特徴とする上記光情報記録方法。
[発明の効果] 本発明の情報記録媒体は、上記のように基板上に、上記
一般式で表わされるスルホナト基を有する特定のチアゾ
ール系シアニン色素からなる記録層が設けられたもので
ある。
これにより、温度や湿度の環境変化に対する耐久性が顕
著に向上し、且つ反射率およびC/Nも高い水準で維持
された情報記録媒体を得ることができる。すなわち、上
記一般式で表わされるスルホナト基を有するチアゾール
系シアニン色素ハ、他のチアゾール系色素に比べて耐水
性および耐熱性が優れているため耐久性が顕著に向上し
ている。従って、このような色素を記録層に用いた本発
明の情報記録媒体は、耐久性に優れ、かつ反射率および
C/Nにおいても優れたものとなっている。そして、特
に該記録層上に金属の反射層を設けることにより、反射
率が大幅に向上するのみならずC/N、耐光性および耐
久性においても顕著に改善される。また、このように反
射率が向上した光ディスクは、CDフォーマット信号を
記録して市販のCI)プレーヤーにて再生が可能である
ため、CD−DRAWとしても有用である。
[発明の詳細な記述] 本発明の情報記録媒体は、基板上に、チアゾール系シア
ニン色素からなる記録層が設けられた基本構成を有する
。所望により、記録層上に反射層、あるいは反射層と保
護層が設けられる。
1 2 上記情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような本発
明の方法により製造することができる。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。本発明の基板材料として1例えばガラ
ス:ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂
;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィンおよびポ
リエステルを挙げることができる。好ましくはプラスチ
ック材料である。これらは所望により併用してもよい。
なお、上記プラスチック材料の場合は、フィルム状とし
てまたは剛性のある基板として使うことができる。上記
材料の中で、耐湿性、寸法安定性および価格などの点か
らポリカーボネートが特に好ましい。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられてもよい。下塗層の材料としてはたとえば
、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル
酸共重合体、スチレン・無水マレイナト共重合体、ポリ
ビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、ス
チレン会スルホナト共重合体、スチレン−ビニルトルエ
ン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセ
ルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポ
リエステル、ポリイミド、酢酸ビニル―塩化ビニル共重
合体、エチレン管酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質:お
よびシランカップリング剤などの有機物質を挙げること
ができる。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
JLmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10pmの
範囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸が形成されて
いることが好ましい。上記ポリカーボネートなどの樹脂
材料を、射出成形あるいは押出成形などにより直接基板
にグループが設けられることが好ましい。
またグループ形成の目的で、プレグルーブ層が設けられ
てもよい。プレグルーブ層の材料としては、アクリル酸
のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテト
ラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー(または
オリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いることが
できる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。
プレグルーブ層の層厚は一般に0.05〜1100pL
の範囲にあり、好ましくは0.1〜50JLmの範囲で
ある。
基板上には本発明の記録層が設けられる。
記録層は、実質的にチアゾール系シアニン色素からなる
層であるか、あるいは色素とこれを分散含有する結合剤
からなる層である。
本発明に使用される色素は、下記の一般式(I)で表わ
されるスルホナト基を有するチアゾール系シアニン色素
であることが必要である。
一般式(1): %式% [ただし、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ水
素原子、ハロゲン、置換基を有していても良い炭素原子
数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換 5 6 基を有していても良い炭素原子数が1〜8の範囲にある
アルコキシ基または置換基を有していても良い炭素原子
数が1〜8の範囲にあるアルケニル基を表わし、 R5は、炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルキレン基
を表わし、 R6は、水素原子、置換基を有していても良い炭素原子
数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を有してい
ても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルケニル基
または置換基を有していても良い炭素原子数が1〜8の
範囲にあるアラルキル基を表わし、そして R7およびR8は、それぞれ炭素原子数が1〜8の範囲
にあるアルキル基を表わす1 R1、R2、R3およびR4は、それぞれ水素原子、ハ
ロゲン、置換基を有しない炭素原子数が1〜8の範囲に
あるアルキル基(例、メチル、エチル、イソプロピル)
、アルコキシ基(例、メトキシ、ニドキシ)またはアル
ケニル基が好ましく、特に水素原子、ハロゲン、メチル
基、メトキシ基であることが好ましい。
R5は、炭素原子数が1〜6の範囲にあるアルキレン基
が好ましく、アルキレン基は直鎖状、環状、分岐状の何
れであってもよい。特に好ましくは、エチン基およびブ
チン基である。
R6は、置換基を有していても良い炭素原子数が1〜8
の範囲にあるアルキル基が好ましく、アルキル基は直鎖
状、環状、分岐状の何れであってもよい。上記置換基と
しては、ビニル基、エチニル基、フェニル基、アルコキ
シ基、フェノキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、
シアノ基、ニトロ基、F、C1、Br、Iを挙げること
ができる。置換基として好ましくは、フェニル基、フェ
ノキシ基、または炭素原子数1〜6の範囲にあるアルキ
ル基である。
R7およびR8は、それぞれ炭素原子数が1〜6の範囲
にあるアルキル基が好ましく、特に好ましくはメチル基
である。
上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下の1〜17等を挙げることができる。
ニー1 ニー2 ニー3 ニー4 ニー9 ニー10 ニー11 ニー12 1 ニー5 ■−6 ニー7 ニー13 ニー14 ニー15 0 2 ■−16 ■−17 上記一般式(I)は、本出願人がすでに出願法の特願平
1−144970号の一般式(I)に含まれるものであ
る。上記一般式(I)で表わされる色素は、写真材料と
して、例えば米国特許2゜756.227号に記載され
ている。
上記一般式(I)で表わされるチアゾール系色素は、公
知の方法を利用して合成することができる0例えば、r
ヘテロサイクル化合物の化学」(The  Chemi
stry  of  Heterocyclic  C
ompound+)  のシリーズの1シアニン色素と
その関連化合物1((yanine  Dyes  A
nd  Re1ated  Compounds、Jo
hnWiley & Song、 New York、
 London、1964年発行)、またはそこに引用
されている文献を参考にすることができる。
以下に本発明の上記一般式(I)で表わされるチアゾー
ル系シアニン色素の合成例を挙げる。
合成例1(化合物I−7の合成) 3−(2−フェニルエチル)−2−[(2゜4.4−)
リフチルシクロヘキセン−6−イリデン)メチル]ベン
ゾチアゾリウムアイオダイド 3 4 5.9g、1−(4−ブタンスルホナト)−2−(4−
スルホブチルチオ)−ベンゾチアゾリウム5.3g、ア
セトニトリル90 m l、及びトリエチルアミン6.
7mJLを混合し、30分間加熱還流した。溶媒を留去
した後、シリカゲル(807g)カラムクロマトグラフ
ィー(溶離液、メタノール−クロロホルム(1:3、重
量比))で処理して青色固体を得、これをエタノールか
ら再結晶した。
収量2.2g、融点195−197℃ 合成例2(化合物lOの合成) 3−(2−フェニルエチル)−5,6−シメチルー2−
 [(2,4,4−)ジメチルシクロヘキセン−6−イ
リデンメチル]ベンゾチアゾリウムアイオダイド9.3
g、5−メチル1−(4−ブタンスルホナ))−2−(
4−スルホグチルチオ)ベンゾチアゾリウム55g、ア
セトニトリル40 m l、及びトリエチルアミン5 
m lを混合し35分間加熱還流した。溶媒を留去した
後、残液をシリカゲルクロマトグラフィー(シリカゲル
800g、溶離クロロホルム−メタノール(10:1、
重量比))で処理して青色の固体を得た。
これをクロロホルム−メタノールの混合物より再結晶し
て2.6gの化合物10を得た。
合成例3(化合物11の合成) 3−(2−フェニルエチル)−5−メチル−2−[(2
,4,4−)ジメチルシクロヘキセン−6−イリデンメ
チル]ベンゾチアゾリウムアイオダイド4g、5,6−
シメチルー1−(4−ブタンスルホナ)) −2−(4
−スルホブチルチオ)ベンゾチアゾリウム2g、アセト
ニトリル55m1、及びトリエチルアミン2mJlを混
合し35分間加熱還流した。溶媒を留去した後、残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(シリカゲル800g、
溶離液クロロホルム−メタノール(lO:l、重量比)
)で処理して青色の固体位を得た。
これをクロロホルとメタノールの混合物より再結晶して
、0.4gの化合物11を得た。
合成例4(化合物12の合成) 3−(2−フェニルエチル)−5−メチル−2−[(2
,4,4−)リメチルシクロヘキセン〜6−インデンメ
チル]ベンゾチアゾリウムアイオダイド5.2g、5−
メチル−1−(4−ブタンスルホナ))−2−(4−ス
ルホブチルチオ)ベンゾチアゾリウム3g、アセトニト
リル70m1、及びトリエチルアミン2.5m、lを混
合し、35分間加熱還流した。反応液を濃縮しシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(シリカゲル800g、溶
離液クロロホルム−メタノール(10:l、重量比))
で処理して青色の固体を得た。
これをクロロホルムとメタノールの混合物から再結晶し
て0.7gの化合物12を得た。
上記一般式(I)で表わされる本発明のスルホナト基を
有するチアゾール系シアニン色素は、他のチアゾール系
色素に比べて耐水性および耐熱性(比較的高い温度の環
境下での)が優れているため耐久性が顕著に向上したも
のである。これは、上記チアゾール系色素はバルキーな
構造を有し且つ分子内塩を形成している為、温度や湿度
の変化に対して安定であることから、色素記録層とじた
場合も非常に安定したものとなると推測される。
本発明において上記本発明の特定のチアゾール系シアニ
ン色素と併用して、従来より情報記録媒体の記録材料と
して知られている任意の色素を用いてもよい。たとえば
、本発明以外のシアニン系色素、フタロシアニン系色素
、ピリリウム県会チオピリリウム系色素、アズレニウム
系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Orなどの金属
錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、
インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素および
ニトロソ化合物を挙げることができる。
また、耐光性を向上させるためにいわゆる一重積酸素ク
エンチャーとして知られている種々の色素、例えば下記
の一般式(II)もしくは(m)で表わされる化合物を
併用してもよい。
 7 8 (ただし、[Catl◆はテトラアルキルアンモニウム
などの非金属陽イオンを表わし、MはNiなどの遷移金
属原子を表わし、AおよびA′は置換されていても良い
ベンゼン環、2−チオクツ−1゜3−ジチオール環など
の5ないし6員の芳香環もしくはヘテロ環を完成するた
めの原子団を表わす) 2Y−−−−−−(m) [式中Rは、置換基を有していてもよいアルキル基を表
わし、Yはトリフルオロメタンスルホン酸イオン、PF
b−1CI Oa−などの陰イオンを表わす] 上記一般式(II)もしくは(m)で表わされるクエン
チャ−の具体例としては、FA−1006(三井東圧フ
ァイン■)、IRQ−023(日本化薬■)などを挙げ
ることができる。
また−前項酸素クエンチャーとして、アミニウム系色素
を用いてもよい。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し1次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
本発明の色素塗布用組成物の溶剤の例としては、トルエ
ン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブア
セテート、メチルエチルケトン、ジクロルメタン、1.
2−ジクロルエタン、クロロホルム、ジメチルホルムア
ミド、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シ
クロヘキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、
ジオキサン、エタノール、n−プロパツール、イソプロ
パツール、n−ブタノールおよび弗素含有化合物などの
溶剤を挙げることができる。
上記溶剤の内、色素を容易に溶解し且つプラスチック基
板を侵さないことから、好ましくは弗素含有化合物であ
る。その例としては、弗素化アルコール、弗素置換ケト
ン、弗素置換エステル、弗素化カルボン酸、弗素置換ア
ミド、弗素と換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化
工・−チルを挙げることができる。これらの弗素含有化
合物については、その具体例等が特開昭63−1590
90号公報に開示されている。
上記の弗素含有化合物の中で、本発明の溶剤として特に
好ましくは下記の弗素化アルコールである。
弗素化アルコールとしてはたとえば、 一般式(V)二 A−CH20H(V ) (ただし、AはF(CnF2n) ま た はH(Cn
 F 2n)であり、nは1乃至6の整数である) で表わされる化合物を挙げることができ、Aは直鎖であ
っても分岐していてもどちらでもよい。その具体例とし
ては下記化合物が挙げられる。
H−CF2−CF2−CH20)! 、 H−CF2−
CF2−CF2−CF2−ClhOHlCF:+−CH
20H、F−CF2J:F2−(J20H1F−CF2
−CF2−CF2−CF2−CH20)1、塗布液中に
はさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、滑剤なと各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、たとえばゼラ
チン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム
などの天然有機高分子物質;およびポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチ1/ン等の炭
化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ塩化ビニル−ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系
樹脂、ポリアクリル酸メヂル、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリ
エチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体
、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂
の初期縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることが
できる。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01−99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1゜1 2 0〜95%(重量比)の範囲にある。また、溶剤が弗素
含有溶剤と他の溶剤との混合系である場合には、その組
合せ、色素および基板の種類によっても異なるが、−・
般には弗素含有溶剤は溶剤全体の5〜95%(重量比)
の範囲で使用され、好ましくは30〜90%(重量比)
の範囲にある。このようにして調製される塗布液の濃度
は一般に0 、01−10%(重量比)の範囲にあり、
好ましくは0.1〜5%(重量比)の範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に0
.01〜lOμ、mの範囲にあり、好ましくは0.02
〜IBmの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。
塗布方法としては、スプレー法、スビンコ・−ト法、デ
イツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクタ
ーロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができ
る。
さらに、本発明の情報記録媒体は、J−記記録層の−L
に、情報の再生時におけるC/Nの向−1−および反射
率の向−■−の目的で、反射層を設けることが好ましい
反射層の材料である光反射性物質はし・−イー光に対す
る反射率が高い物質であり、その例としては、Mg、S
e、Y、Ti、Zr、Hf、V、N b、Ta、Cr、
Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh
、Pd、Ir。
Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、An。
Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Pa、Sn、B
iなとの金属および半金属を挙げることができる。これ
らのうちで好ましいものは、Cr、Mo、W、 Co、
 Ni、 Rh、 Pt。
Cu、Ag、Au、AM、Ge、BiおよびSnである
。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種
以上の組合せでまたは合金として用いてもよい。
反射層は、たとえばL記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の−Lに形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000Xの範囲にあ
る。
また、反射層の上には、記録層などを物理的および化学
的に保護する目的で保護層が設けられてもよい。この保
護層は、基板の記録層が設けられていない側にも耐傷性
、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、5tO1Si0
2.MgF2.5n02.Si3Ng等の無機物質;熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物
質を挙げることができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して記録層(または銀塩層あるい
は反射層)上および/または基板上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい、
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは
適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液
を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても
形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯
電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目
的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.1〜1100JLの範囲に
ある。
本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有する
二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接
着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの記
録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚の
円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する
基板を用いて、リング状内側スペーサとリング状外側ス
ペーサとを介して接合することにより、エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体を製造することもできる。
 5 6 上記情報記録媒体を用いて情報を記録および再生する方
法は1例えば次のように行なわれる。
まず、情報記録媒体を定線速度(CDフォーマットの場
合は1.2〜1.4m/秒)または定角速度にて回転さ
せながら、基板側から半導体レーザー光などの記録用の
光を照射する。この光の照射により、本発明では色素層
の変色、蒸発(ピット形成)、会合状態の変化などを起
こして情報が記録される。また記録層上に反射層が設け
られた場合は、上記の変化以外に、記録層と反射層との
界面に空洞を形成(空洞の形成は、記録層または反射層
の変形、あるいは両層の変形を伴なって)されるか、又
は基板が肉盛り変形することにより情報が記録されると
考えられる。
一般に、記録光としては750nm〜850nmの範囲
の発振波長を有する半導体レーザービームが用いられる
情報の再生は、情報記録媒体を上記と同一の定線速度で
回転させながら半導体レーザー光を基板側から照射して
、その反射光を検出することにより行なうことができる
以下に、本発明の実施例を記載する。ただし。
これらの各側は本発明を制限するものではない。
[実施例1] スルホナト基を有するチアゾール系シアニン色素として
下記の構造式: を有する色素(前記色素Il−7)2を、2゜2.3.
3−テトラフロロプロパツール(構造式: HCF2C
FzCHzOH) 100 c cに溶解して塗布液を
調製した。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板(外径:120mm、内径=15mm、厚さ=
1.2mm、トラックピッチ=1.61Lm、グループ
の深さ=800X)上に、塗布液をスビンコ・−ト法に
より回転数50 Orpmの速度で塗布した後乾燥して
層厚が1300にの記録層を形成1.た。
上記記録層上にさらにAuをスパッタリングして層厚1
300Xの反射層を形成した。
このようにして、基板、記録層および反射層からなる情
報記録媒体を製造した、 [実施例2] 実施例1において、前記色素I−7に代えて下記の構造
式を有する色素(前記色素l−11)を用いて記録層を
形成した以外は実施例1と同様にして、基板、記録層お
よび反射層からなる情報記録媒体を製造した。
[比較例1] 実施例1において、スルホナト基を有するチアゾール系
シアニン色素(前記色素l−7)をスルホナト基をもた
ないF記の構造式を有する色素に変えた以外は実施例1
と同様にして、基板、記録層および反射層からなる情報
記録媒体を製造した。
チアゾール系シアニン色素: [情報記録媒体の評価] 上記で得られた情報記録媒体を、ディスク評価装置(N
A : 0 、5、半導体レーザー二波長780nm)
およびファンクションジェネレーター(FGE 325
0、菊水電子工業■)を用いて変調周波数750kHz
およびデユーティ−33%の信号を線速度1.3m/秒
、記録パワー7.0mWにて記録した。
上記のように記録された情報を、記録直後およ 9 0 び媒体を耐湿テスト(80℃、80%RHにて36時間
)後について、再生パワー0.2mWで再生した時の1
反射率(Rf)を測定した。また上記記録直後の情報を
再生した時のC/Nを、スペクトルアナライザー(TR
4135:アドバンテスト社製)を用いて測定した。さ
らに、耐候性を評価するために、ザンシャインウェザー
メーターにて36時間のテストを行なった後の反射率(
Rf)を測定した。
上記測定結果を第1表に示す。
第1表 Rf($)   C/N    耐候性初期 耐湿後 
(dB)   Rf($)実施例1 実施例2 2 6 2 6 9 1 3 7 比較例1 2 8 8 7 第1表より、ポリカーボネート基板上にスルホナト基を
有する特定のチアゾール系シアニン色素の記録層を設け
、さらに記録層上に反射層を形成した本発明の情報記録
媒体は、耐久性に優れ、且つC/Nおよび反射率が高い
ことが分かる。すなわち、耐湿熱、およびサンシャイン
ウェザ−メータを用いて温度、湿度の付与や光照射など
の促進テストを行なっても反射率が殆どL昇せず、記録
層の色素が褪色していないことを示している。
一方、スルホナト基をもたない従来のチアゾール系シア
ニン色素を記録層に用いた比較例1の情報記録媒体では
、実施例1および2に比較して反射率およびC/Nが劣
っており、またザンシャインウェザーメータによる耐候
性テスト後および耐湿テスト後の反射率が増加している
ことから記録層の色素が経時的に褪色していることが分
かる。
従って、本発明の情報記録媒体は極めて優れた耐久性を
有していることが分かる。尚、実施例1および2の反射
率は一般の色素を用いた場合に比べると顯著に高く市販
のほとんどのCDプレーヤーで再生可能な反射率である
と言える。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板上に、下記の一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [ただし、R^1、R^2、R^3およびR^4は、そ
    れぞれ水素原子、ハロゲン、置換基を有していても良い
    炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を
    有していても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアル
    コキシ基または置換基を有していても良い炭素原子数が
    1〜8の範囲にあるアルケニル基を表わし、 R^5は、炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルキレン
    基を表わし、 R^6は、水素原子、置換基を有していても良い炭素原
    子数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を有して
    いても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルケニル
    基または置換基を有していても良い炭素原子数が1〜8
    の範囲にあるアラルキル基を表わし、そしてR^7およ
    びR^8は、それぞれ炭素原子数が1〜8の範囲にある
    アルキル基を表わす]で表わされるスルホナト基を有す
    るチアゾール系シアニン色素からなるレーザーによる書
    込みが可能な記録層が設けられたことを特徴とする情報
    記録媒体。 2、上記記録層の上に、金属からなる反射層が設けられ
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情
    報記録媒体。 3。基板の上に、下記の一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [ただし、R^1、R^2、R^3およびR^4は、そ
    れぞれ水素原子、ハロゲン、置換基を有していても良い
    炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を
    有していても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアル
    コキシ基または置換基を有していても良い炭素原子数が
    1〜8の範囲にあるアルケニル基を表わし、 R^5は、炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルキレン
    基を表わし、 R^6は、水素原子、置換基を有していても良い炭素原
    子数が1〜8の範囲にあるアルキル基、置換基を有して
    いても良い炭素原子数が1〜8の範囲にあるアルケニル
    基または置換基を有していても良い炭素原子数が1〜8
    の範囲にあるアラルキル基を表わし、そしてR^7およ
    びR^8は、それぞれ炭素原子数が1〜8の範囲にある
    アルキル基を表わす]で表わされるスルホナト基を有す
    るチアゾール系シアニン色素からなる記録層が設けられ
    た情報記録媒体を回転させながら、基板側からレーザー
    を照射して情報を記録することからなる光情報記録方法
    。 4、上記記録層の上に、金属からなる反射層が設けられ
    ていることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の光
    情報記録方法。
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