JPH03210328A - ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマー - Google Patents
ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマーInfo
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- JPH03210328A JPH03210328A JP2006917A JP691790A JPH03210328A JP H03210328 A JPH03210328 A JP H03210328A JP 2006917 A JP2006917 A JP 2006917A JP 691790 A JP691790 A JP 691790A JP H03210328 A JPH03210328 A JP H03210328A
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶性ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマ
ーであり、分解温度が300℃以上まで安定な液晶性ポ
リマーである。
ーであり、分解温度が300℃以上まで安定な液晶性ポ
リマーである。
[従来の技術]
シクロヘキシレンを含むポリエステルは近年文献に記載
されてきている。ここでシクロヘキシレン単位は、!、
4−シクロヘキサンジカルボン酸もしくは、1.4−シ
クロヘキサンジオールであり、これと他のジオール類又
はジカルボン酸との組合せによるポリエステルである。
されてきている。ここでシクロヘキシレン単位は、!、
4−シクロヘキサンジカルボン酸もしくは、1.4−シ
クロヘキサンジオールであり、これと他のジオール類又
はジカルボン酸との組合せによるポリエステルである。
たとえば、米国特許第4,342.862号には、ポリ
エステルがトランス−1,4−シクロヘキサンジカルボ
ン酸およびその他の芳香族ジカルボン酸の酸性混合物と
、メチル、フェニルまたはクロロ−ヒドロキノンのよう
な置換ヒドロキノンとの重縮合により得られることが記
載されている。
エステルがトランス−1,4−シクロヘキサンジカルボ
ン酸およびその他の芳香族ジカルボン酸の酸性混合物と
、メチル、フェニルまたはクロロ−ヒドロキノンのよう
な置換ヒドロキノンとの重縮合により得られることが記
載されている。
トランス−シクロヘキサンジカルボン酸のみと上記置換
ヒドロキノンのあるものとの重縮合によるサーそトロピ
ック液晶ポリエステル類の製造が07クロモレキユール
ズ(Macromoleculas) ”19tI、
1824頁 (1986年)に記載されている。
ヒドロキノンのあるものとの重縮合によるサーそトロピ
ック液晶ポリエステル類の製造が07クロモレキユール
ズ(Macromoleculas) ”19tI、
1824頁 (1986年)に記載されている。
トランス−1,4−シクロヘキサンジオールと置換芳香
族ジカルボン酸のポリエステル類または1.4−シクロ
ヘキサンジオールのシスおよびトランス体混合物と、芳
香族または脂環族ジカルボン酸のポリエステル類も上記
文献に記載されている。
族ジカルボン酸のポリエステル類または1.4−シクロ
ヘキサンジオールのシスおよびトランス体混合物と、芳
香族または脂環族ジカルボン酸のポリエステル類も上記
文献に記載されている。
シクロヘキサン単位を含有する他のサーモトロピック液
晶ポリマー類としては0マクロモレキユ一ルズ′2目巻
、1626頁(1981年)に記載のブロックコポリエ
ステル類があり、例えばポリオキシ−トランス−1,4
−シクロヘキシレンオキシカルボニル−トランス−1,
4−シクロヘキシレンカルボニル−オキシ−1,4−フ
ェニレンオキシフタロイルであり、または1マクロそレ
クラーレ へミイー(Macrosoleculare
Chests)″ 1874. 1145頁、(19
H年)に記載のコポリマー類があり、これは剛直性構造
のトランス−!、4−シクロヘキサンジベンゾアートに
α、ω−アルカンジカルボン酸を重合させて得たもので
ある。
晶ポリマー類としては0マクロモレキユ一ルズ′2目巻
、1626頁(1981年)に記載のブロックコポリエ
ステル類があり、例えばポリオキシ−トランス−1,4
−シクロヘキシレンオキシカルボニル−トランス−1,
4−シクロヘキシレンカルボニル−オキシ−1,4−フ
ェニレンオキシフタロイルであり、または1マクロそレ
クラーレ へミイー(Macrosoleculare
Chests)″ 1874. 1145頁、(19
H年)に記載のコポリマー類があり、これは剛直性構造
のトランス−!、4−シクロヘキサンジベンゾアートに
α、ω−アルカンジカルボン酸を重合させて得たもので
ある。
特開昭64−40,519号には4.4°−ビシクロヘ
キサンジオールとアルカンジカルボン酸を重合してポリ
エステルを得ている。
キサンジオールとアルカンジカルボン酸を重合してポリ
エステルを得ている。
又、特開平1−221,425 、1−221,427
、 1−225.831号によると、ポリアリールエ
ーテルであるが芳香環にシアノ基を導入して、耐熱性に
優れ、機械的強度にも優れたエンジニアリング樹脂が開
示されている。
、 1−225.831号によると、ポリアリールエ
ーテルであるが芳香環にシアノ基を導入して、耐熱性に
優れ、機械的強度にも優れたエンジニアリング樹脂が開
示されている。
[発明が解決しようとする課II]
一般に液晶ポリマーは芳香族化合物のものが多く知られ
ている。最近シクロヘキサン環又はビシクロヘキサン環
を含むポリマーが見出されてきているがまだ物性的要求
にたえられるものが少ない。
ている。最近シクロヘキサン環又はビシクロヘキサン環
を含むポリマーが見出されてきているがまだ物性的要求
にたえられるものが少ない。
全シクロヘキサンポリエステル化合物は融点がなく、分
解してしまうため、熱可塑性成形することは困難である
。これを改良するためにアルキレン基を導入している1
本発明者は、この問題を解決するためにニトロ基を有す
る芳香環を導入し、300℃以上まで安定で、融点が1
75℃〜300℃で液晶相を示し、熱成形可能なポリエ
ステル化合物ないしは不融な液晶性ポリエステル化合物
を得た。
解してしまうため、熱可塑性成形することは困難である
。これを改良するためにアルキレン基を導入している1
本発明者は、この問題を解決するためにニトロ基を有す
る芳香環を導入し、300℃以上まで安定で、融点が1
75℃〜300℃で液晶相を示し、熱成形可能なポリエ
ステル化合物ないしは不融な液晶性ポリエステル化合物
を得た。
本発明のポリマーは公知のポリマーとを混合して、溶融
温度を調節したり、又、液晶ポリマーでであるから機械
的強度も増すことができる。
温度を調節したり、又、液晶ポリマーでであるから機械
的強度も増すことができる。
該公知ポリマーとは例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルクロリド、ポリスチレン類、ポリメチル
メタクリレート、ABS、ポリアミド類、ポリカーボネ
ート類、ポリアクリレート類、ポリエチレンテレフタレ
ートもしくはポリブチレンテレフタレートのようなポリ
エステル類、またはポリフェニレンオキシド類などであ
る。
ン、ポリビニルクロリド、ポリスチレン類、ポリメチル
メタクリレート、ABS、ポリアミド類、ポリカーボネ
ート類、ポリアクリレート類、ポリエチレンテレフタレ
ートもしくはポリブチレンテレフタレートのようなポリ
エステル類、またはポリフェニレンオキシド類などであ
る。
このように本発明の化合物は公知のポリマーの耐熱性、
耐薬品性、機械的強度の改善に有用なものである。又、
電子材料として使用できる可能性ある。
耐薬品性、機械的強度の改善に有用なものである。又、
電子材料として使用できる可能性ある。
[問題を解決するための手段]
本発明は
(1)−数式
%式%(
で1十−・x+yiでlは0.1以上である液晶性ニト
ロ基を有するシクロヘキサンポリマーである。
ロ基を有するシクロヘキサンポリマーである。
本発明のニトロ基を有するシクロヘキサンポリマーは、
従来の重縮合法に準じて製造できる0代表的な製造法と
しては次の如くである。
従来の重縮合法に準じて製造できる0代表的な製造法と
しては次の如くである。
すなわち、5−ニトロイソフタル酸から製造した5−ニ
トロイソフタロイルジクロリドとトランス−1,4−シ
クロヘキサンジカルボン酸から製造したトランス−徽、
4−シクロヘキサンジカルボニルクロリドとトランス、
トランス−4,4°−ビシクロヘキサンジオールと置換
ヒドロキノンをピリジン存在下、1,2.4−トリクロ
ロベンゼン中で反応を行ない、目的の液晶性ニトロ基を
有するシクロヘキサンポリマーを製造した。
トロイソフタロイルジクロリドとトランス−1,4−シ
クロヘキサンジカルボン酸から製造したトランス−徽、
4−シクロヘキサンジカルボニルクロリドとトランス、
トランス−4,4°−ビシクロヘキサンジオールと置換
ヒドロキノンをピリジン存在下、1,2.4−トリクロ
ロベンゼン中で反応を行ない、目的の液晶性ニトロ基を
有するシクロヘキサンポリマーを製造した。
〔発明の効果]
本発明によれば、 300℃以上まで安定で、融点17
5℃〜300℃で液晶相を示し成形可能なポリエステル
化合物、ないしは不融な液晶性ポリエステル化合物で、
公知の熱可塑性ポリマーと任意の割合で混合可能な含芳
香環シクロヘキサンポリエステルが得られる。
5℃〜300℃で液晶相を示し成形可能なポリエステル
化合物、ないしは不融な液晶性ポリエステル化合物で、
公知の熱可塑性ポリマーと任意の割合で混合可能な含芳
香環シクロヘキサンポリエステルが得られる。
従って、公知のポリマー(注、融点が250℃以下のも
のが多い)と任意の割合で混合することにより、混合物
の溶融温度を上昇(従って、成形品の耐熱性を向上)さ
せることができ、また、該混合物からの成形品の機械的
強度を向上させることができる。又、電子材料として使
用できる可能性がある。
のが多い)と任意の割合で混合することにより、混合物
の溶融温度を上昇(従って、成形品の耐熱性を向上)さ
せることができ、また、該混合物からの成形品の機械的
強度を向上させることができる。又、電子材料として使
用できる可能性がある。
以下実施例にてさらに詳しく記載する。
[実施例]
以下に実施例によって本発明をさらに具体的に説明する
が、この実施例によって何等限定されるものではない。
が、この実施例によって何等限定されるものではない。
実施例で使用した原料は次のようにして製造した。
(I)トランス、トランス−4,4゛−ビシクロヘキサ
ンジオールの製造: ワイルズ他、ジャーナル オブ ジ アメリカン ケミ
カル ソサイエティ、78壱、 1735ページ(19
54)に記載の方法で、トランス、シス混合4.4°−
ビシクロヘキサンジオールをジオキサン中ピリジン存在
下、塩化ベンゾイルと反応を行い、ジベンゾアートとし
た。再結晶により、トランス、トランス−4,4°−ビ
シクロヘキサンジベンゾアートを製造した。水酸化カリ
ウム水溶液で加水分解した後再結晶を行い、目的のトラ
ンス、トランス−4,4゛−ビシクロヘキサンジオール
(融点215.5〜216.3℃)を製造した。
ンジオールの製造: ワイルズ他、ジャーナル オブ ジ アメリカン ケミ
カル ソサイエティ、78壱、 1735ページ(19
54)に記載の方法で、トランス、シス混合4.4°−
ビシクロヘキサンジオールをジオキサン中ピリジン存在
下、塩化ベンゾイルと反応を行い、ジベンゾアートとし
た。再結晶により、トランス、トランス−4,4°−ビ
シクロヘキサンジベンゾアートを製造した。水酸化カリ
ウム水溶液で加水分解した後再結晶を行い、目的のトラ
ンス、トランス−4,4゛−ビシクロヘキサンジオール
(融点215.5〜216.3℃)を製造した。
(Ii)トランス−1,4−シクロヘキサンジカルボニ
ルクロリドの製造: マラコウスキー他、ベリヒテ、 71−%、 7B1
ベージ(1938)記載の方法で、トランス−!、4−
シクロヘキサンジカルボン酸を塩化チオニルと、ピリジ
ン触媒を用いて反応を行った。塩化チオニルを留去し、
乾燥n−ヘキサンで再結晶後真空蒸留(沸点120〜1
30℃77.5s■H8)シたものを反応に使用した。
ルクロリドの製造: マラコウスキー他、ベリヒテ、 71−%、 7B1
ベージ(1938)記載の方法で、トランス−!、4−
シクロヘキサンジカルボン酸を塩化チオニルと、ピリジ
ン触媒を用いて反応を行った。塩化チオニルを留去し、
乾燥n−ヘキサンで再結晶後真空蒸留(沸点120〜1
30℃77.5s■H8)シたものを反応に使用した。
+1!1) S−二トロイソフタロイルクロリドの製造
ジェニングス他、ジャーナル オブ ザ ケミカルソサ
イエティー、1173ベージ(1957)に記載の方法
で5−二トロイソフタル酸を塩化チオニルとピリジン触
媒を用いて反応を行った、塩化チオニルを留去し、脱水
トルエンで再結晶したものを反応に使用した。(融点6
5.8〜67.0℃)熱分解はセイコー電子工業社製T
G/DT^−220型で毎分10℃の昇温速度で測定し
た。又対数粘度はp−クロロフェノールを溶媒として5
0℃、0.5g/dj2の濃度で測定した。
ジェニングス他、ジャーナル オブ ザ ケミカルソサ
イエティー、1173ベージ(1957)に記載の方法
で5−二トロイソフタル酸を塩化チオニルとピリジン触
媒を用いて反応を行った、塩化チオニルを留去し、脱水
トルエンで再結晶したものを反応に使用した。(融点6
5.8〜67.0℃)熱分解はセイコー電子工業社製T
G/DT^−220型で毎分10℃の昇温速度で測定し
た。又対数粘度はp−クロロフェノールを溶媒として5
0℃、0.5g/dj2の濃度で測定した。
実施例1
ポリ(トランス、トランス−4,4゛−ビシクロヘキシ
レン−1,4−(3−フェニル)フェニレン−トランス
−1,4−シクロヘキシレンジカルボキシラート−1,
3−(5−ニトロ)フェニレンジカルボキシラード)の
製造: 攪拌機、冷却器、窒素導入管をつけた100mJ!の3
つロフラスコに、トランス、トランス−4,4’−ビシ
クロヘキサンジオール0.19113g(1鴎 mol
)、フェニルヒトロキ/ ン1.6759g(!la
+ 5ol) 、 トランス−1,4−シクロヘキサ
ンジカルボニルクロリド0.1!27g(3m 5ol
)、5−ニトロイソフタロイルジクロリド1.736g
(7s mol)とピリジン21λおよび1.2.4−
トリクロロベンゼン 15sj2の反応混合物を入れて
窒素気流下、室温で20分間反応を行ない、ついでマン
トルヒーターを220℃にして該3つロフラスコ中の反
応混合物につき3時間還流を行なった。
レン−1,4−(3−フェニル)フェニレン−トランス
−1,4−シクロヘキシレンジカルボキシラート−1,
3−(5−ニトロ)フェニレンジカルボキシラード)の
製造: 攪拌機、冷却器、窒素導入管をつけた100mJ!の3
つロフラスコに、トランス、トランス−4,4’−ビシ
クロヘキサンジオール0.19113g(1鴎 mol
)、フェニルヒトロキ/ ン1.6759g(!la
+ 5ol) 、 トランス−1,4−シクロヘキサ
ンジカルボニルクロリド0.1!27g(3m 5ol
)、5−ニトロイソフタロイルジクロリド1.736g
(7s mol)とピリジン21λおよび1.2.4−
トリクロロベンゼン 15sj2の反応混合物を入れて
窒素気流下、室温で20分間反応を行ない、ついでマン
トルヒーターを220℃にして該3つロフラスコ中の反
応混合物につき3時間還流を行なった。
この反応液を放冷して50℃にした後、メタノール25
Osj2に注いで析出した沈殿物を少量のメタノール、
水で洗浄した後、メタノールで煮沸して熟時濾過(3回
)した、収量3.39g (収率96.3%)。
Osj2に注いで析出した沈殿物を少量のメタノール、
水で洗浄した後、メタノールで煮沸して熟時濾過(3回
)した、収量3.39g (収率96.3%)。
このポリマーは対数粘度0.31、融点lδ8〜201
℃、分解温度は328.1i℃であった。
℃、分解温度は328.1i℃であった。
実施例2〜12
ジオール成分としてトランス、トランス−4,4’−ビ
シクロヘキサンジオール、フェニルヒドロキノン、メチ
ルヒドロキノン、クロロヒドロキノン、ヒドロキノン、
酸クロリド成分としてトランス−1,4−シクロヘキサ
ンジカルボニルクロリド、5−ニトロイソフタルイルジ
クロリドを種々の割合で用い実施例暑と同様の方法に従
って種々のポリエステルを製造した。
シクロヘキサンジオール、フェニルヒドロキノン、メチ
ルヒドロキノン、クロロヒドロキノン、ヒドロキノン、
酸クロリド成分としてトランス−1,4−シクロヘキサ
ンジカルボニルクロリド、5−ニトロイソフタルイルジ
クロリドを種々の割合で用い実施例暑と同様の方法に従
って種々のポリエステルを製造した。
これらの結果を実施例1の結果と共に第1表に示した。
手
続
補
正
書(自発)
1、事件の表示
平成 2年特許願第
6.917号
2、発明の名称
ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマー3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区中之島三丁目6番32号(〒530)
(207)チッソ株式会社 代表者野木貞雄 4、代理人 東京都中央区築地4丁目4番15号(〒1005、補正
指令の日付 自発補正 6、補正により増加する請求項の数 な し 7、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
る者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区中之島三丁目6番32号(〒530)
(207)チッソ株式会社 代表者野木貞雄 4、代理人 東京都中央区築地4丁目4番15号(〒1005、補正
指令の日付 自発補正 6、補正により増加する請求項の数 な し 7、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
8、補正の内容
明細書をつぎのように訂正します。
(1)第5頁下から2〜1行目の「可能性ある。」を「
可能性がある。」に訂正する。
可能性がある。」に訂正する。
(2)第1O頁3行目の「(3−フェニル)」を「(フ
ェニル)」に訂正する。
ェニル)」に訂正する。
(3)第12頁表中r酸りロリド成分」の下人側の以
上
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) (上式中xは−H、−Cl、−CH_3、▲数式、化学
式、表等があります▼を示す。)でl+m=x+y=1
でlは0.1以上である液晶性ニトロ基を有するシクロ
ヘキサンポリマー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006917A JP2876233B2 (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006917A JP2876233B2 (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03210328A true JPH03210328A (ja) | 1991-09-13 |
| JP2876233B2 JP2876233B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=11651588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006917A Expired - Lifetime JP2876233B2 (ja) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | ニトロ基を有するシクロヘキサンポリマー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2876233B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11953553B2 (en) | 2019-04-05 | 2024-04-09 | Ls Electric Co., Ltd. | Contact point monitoring device for vacuum circuit breaker, and correction method performed through same |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4342862A (en) | 1981-03-27 | 1982-08-03 | Eastman Kodak Company | Polyesters of trans-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and 2-phenylhydroquinone and modifications thereof |
-
1990
- 1990-01-16 JP JP2006917A patent/JP2876233B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2876233B2 (ja) | 1999-03-31 |
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