JPH0368625A - フッ素置換シクロヘキシレンポリエステル - Google Patents

フッ素置換シクロヘキシレンポリエステル

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Publication number
JPH0368625A
JPH0368625A JP20628489A JP20628489A JPH0368625A JP H0368625 A JPH0368625 A JP H0368625A JP 20628489 A JP20628489 A JP 20628489A JP 20628489 A JP20628489 A JP 20628489A JP H0368625 A JPH0368625 A JP H0368625A
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JP
Japan
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polyester
trans
cyclohexylene
fluorinated
bis
Prior art date
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Pending
Application number
JP20628489A
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English (en)
Inventor
Shigeru Sugimori
滋 杉森
Tomoyuki Kondo
智之 近藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシクロヘキサンジカルボン酸と2.2−ビス 
(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3
−へキサフルオロプロパンを含むフッ素置換シクロヘキ
シレンポリエステルで、多くのものは300℃以下で溶
融成形可能で、優れた機械的性質、耐熱性、耐薬品性を
示す液晶性ポリエステル重合体に関する。
CF。
CF。
(トランス体、シス体)・・・(IV)(従来の技術と
その問題点) 近年、繊維、フィルムもしくは成型品等の汎用の熱可塑
性樹脂成形品用として、耐熱性、剛性もしくは耐薬品性
等の優れた素材すrzわち熱可塑性樹脂が要求されてい
る。
芳香族ジカルボン酸と芳香族ジオールから縮合重合によ
って製造された芳香族ポリエステル(以下、全芳香族ポ
リエステルという)は、上述の物性的要求をある程度満
足している。
特開昭63−63,710号公報には少なくとも1種の
芳香族ヒドロキシカルボン酸またはそのエステル形成可
能な反応性構造体とスピロ型二価フェノール、芳香族二
価フェノールまたはそれらのエステル形成可能な反応性
誘導体と、少なくとも1種の芳香族二価カルボン酸また
はそのエステル形成可能な反応性誘導体から誘導される
全芳香族ポリエステルが記載されている。
そしてこれは 400℃以下で溶融成形可能であり、優
れた機械的性質と光学異方性を示す成型品や1aiaを
与える新規ポリエステルが開示されている。
また特開昭61−28.059号公報にも、異方性溶融
相を形成し得る溶融加工性全芳香族ポリエステルからな
る不織製品が開示されている。
−4、ポリエチレンテレフタレートとアセトキシ安息香
酸から製造される共重合体は液晶性ポリマーとして公知
である。
(発明が解決しようとする課題) 前記全芳香族ポリエステルは、前記の物性的要求をある
程度満足しているが、反面、素材としては不溶不融であ
り、その成型性にも多くの問題点を有する。またポリエ
チレンテレフタレートとアセトキシ安息香酸から9J造
される共重合体は、耐熱性という点からは、熱変形温度
が70〜80℃で不十分であり好ましくない。
本発明の目的は、優れたIa械的性質、耐薬品性かつ耐
熱性を有すると共に、多くのものは300℃以下で溶融
成形可能なフッ素W換シクロヘキシレンポリエステルを
提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のフッ素置換シクロヘキシレンポリエステルは多
くのものは300℃以下の融点を有する下記構造単位(
1)、(I! )を含み、構造単位(II+ )、(I
V)から選んだI flまたは2種とを含んでなるポリ
エステルである。
的のフッ素置換ポリエステルを製造した。
このようにして製造したフッ素置換シクロヘキシレンポ
リエステル融点は300℃以下で一般の押出成形、圧縮
成形に供することができる。
CF。
本発明のフッ素置換シクロヘキシレンポリエステルは従
来のm縮合法に準じて製造できる0代表的な製造法とし
ては次の如くである。
すなわち、1.4−シクロヘキサンジカルボニルクロリ
ドと1.1,1,3,3.3−ヘキサフルオロ−2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンと1.4−
シクロヘキサンジオール、4,4°−ビシクロヘキサン
ジオールを1.2.4−トリクロロベンゼン中加熱して
目(実施例) 以下に実施例によって本発明をさらに具体的に説明する
が、この実施例によって何等限定されるものではない。
実施例で使用した原料は次のようにして製造した。
(1)トランス−1,4−シクロヘキサンジオールの製
造。
オルバーブ他、ジャーナル オブ ジ アメリカン ケ
ミカル ソサイエティー、66巻、1097ページ(+
944)に記載の方法でトランス、シス混合1.4−シ
クロヘキサンジオールを無水酢酸と反応し、アセタート
とし、再結晶によってトランス−1,4−シクロヘキサ
ンジオールートを製造した。
このトランス体を水酸化バリウム水で加水分解してトラ
ンス−1,4−シクロヘキサンジオールを製造した、融
点 140.7〜141.6℃。
(b)トランス、トランス−4,イ°−ビシクロへキチ
ンジオールの製造: ワイルズ他、ジャーナル オブ ジ アメリカン ケミ
カル ソサイエティー、76巻、 17ff5ベージ、
  (1!154)に記載の方法でトランス、シス混合
4.4°−ビシクロヘキサンジオールをジオキサン中ピ
リジン存在下、塩化ベンゾイルと反応を行い、ジベンゾ
アートとした。再結晶により、トランス、トランス−4
,4°−ビシクロヘキサンジベンゾアートを製造した。
水酸化カリウム水溶液で加水分解しに後再結晶を行い、
目的のトランス、トランス−4,4゛−ビシクロヘキサ
ンジオール融点215.5〜21L3℃を製造した。
G)トランス−1,←シクロヘキサンジカルボニルクロ
リドの製造: マラコクスキー他、ベリヒテ、71巻、761ページ、
(1931))に記載の方法で、トランス−1,4−シ
クロヘキサンジカルボン酸を塩化チオニルとピリジン触
媒を用いて反応を行った。塩化チオニルを留去し、乾燥
n−ヘキサンで再結晶後真空蒸留(沸点120〜130
℃/7.5waHg ) シタモ(f)ヲ反応e使用し
た。
r! 2 、2−ビス (4−ヒドロキシフェニル)−
1,1,1,3,33−へキサフルオロプロパンは、市
販品(セントラル硝子社製、融点159.7〜151.
4℃)をそのまま精製せずに反応に使用した。
熱分析はセイコー電子工業社製TG/DT^−200型
で毎分10℃の昇温速度で測定した。又固有粘度はp−
クロロフェノールを溶媒として50℃、5g7℃の濃度
で測定した。
実施例1 ポリ(トランス、トランス−4,4゛−ビシクロヘキシ
レン−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン−2,2−ビス (4−フェニレン)−トランスシク
ロヘキサンジカルボキシラート)の製造: 攪拌機、冷却器、窒素導入管をつけた200+lIlの
3つロフラスコにトランス−1,4−シクロヘキサンジ
カルボニルクロリド2.0907g (10■■ol)
、トランス、トランス−4,4′−ビシクロヘキサンジ
オールo、t9sxg(1曽■ol) 、 2.2−ビ
ス (4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3
,3−ヘキサフルオロプロパン3.0261g(9m5
ol)および1,2.4−トリクロロベンゼン50v℃
の反応混合物を入れて窒素気流下、室温で15分間反応
を行ない、ついでマントルヒーターを220℃にして該
3つロフラスコ中の反応混合物につき5時間還流を行な
フた。
この反応液を放冷して50℃にした後、アセトン400
■皿に注いで析出した沈殿物を濾過した。この沈殿物を
アセトン(3回)、温水(3回)およびメタノール(3
回)で洗浄した後メタノールで煮沸して熱時濾過(3回
)し乾燥した。収量2.94g(収率64.1%)。
とのポリマーは固有粘度0,15、融点224.3℃で
あり、熱分析測定の結果、分解温度は338.1℃であ
った。
実施例2〜6 ジオール成分としてトランス、トランス−4,4°−ビ
シクロヘキサンジオール、トランス−1,4−シクロヘ
キサンジオール、2.2−ビス (4−ヒドロキシフェ
ニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パンを種々の割合で用い実施例1と同様の方法に従って
種々のポリエステルを製造した。
これらの結果を実施例1の結果と共に第1表に示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記構造単位( I )、(II)を含み、構造単位
    (III)、(IV)から選んだ1種または2種とを含んで
    なるフッ素置換シクロヘキシレンポリエステル。 ▲数式、化学式、表等があります▼(トランス体、シス
    体)・・・( I )▲数式、化学式、表等があります▼
    ・・・(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(トランス体、シス
    体)・・・(III)▲数式、化学式、表等があります▼
    (トランス体、シス体)・・・(IV)
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