JPH03214080A - Lsiデバイス評価システム - Google Patents
Lsiデバイス評価システムInfo
- Publication number
- JPH03214080A JPH03214080A JP2010177A JP1017790A JPH03214080A JP H03214080 A JPH03214080 A JP H03214080A JP 2010177 A JP2010177 A JP 2010177A JP 1017790 A JP1017790 A JP 1017790A JP H03214080 A JPH03214080 A JP H03214080A
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- Japan
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、LSIデバイスの評価試験に使用されるLS
Iデバイス評価システムに関する。
Iデバイス評価システムに関する。
〈従来の技術〉
LSIデバイスの設計においては、設計された論理回路
の動作を確認するために、コンピュータを使用した回路
シミュレーションが行われている。
の動作を確認するために、コンピュータを使用した回路
シミュレーションが行われている。
回路シミュレーションを経て試作されたLS[デバイス
は、テスターによる試験を受け、回路シミュレーション
による解析結果との調整が図られる。
は、テスターによる試験を受け、回路シミュレーション
による解析結果との調整が図られる。
このようなLSIデバイスの評価作業においては、テス
ターと回路シミュレーターとが使用される。テスターと
しては、最近は、電子ビームを利用して無負荷のブロー
ビングを行うEBテスターが多用されている。そして、
EBテスターと回路シミュレーターとを同時に動作させ
、EBテスターによる一定時間毎の実測結果に、回路シ
ミュレーションによる解析結果を対比させて行く。[1
路シミユレーシヨンデータとしては、回路シミュレーシ
ョンプログラムが内部で解析したデータを基にして出力
される一定時間毎のデータが用いられる。
ターと回路シミュレーターとが使用される。テスターと
しては、最近は、電子ビームを利用して無負荷のブロー
ビングを行うEBテスターが多用されている。そして、
EBテスターと回路シミュレーターとを同時に動作させ
、EBテスターによる一定時間毎の実測結果に、回路シ
ミュレーションによる解析結果を対比させて行く。[1
路シミユレーシヨンデータとしては、回路シミュレーシ
ョンプログラムが内部で解析したデータを基にして出力
される一定時間毎のデータが用いられる。
〈発明が解決しようとする課題〉
回路シミュレーターから一定時間毎に解析データが出力
されることにより、EBテスターによる実測結果と回路
シミュレーションによる解析結果との対比が可能になる
が、回路シミュレーションによる解析時間は一定ではな
い。つまり、LSIデバイス各部の過渡特性によって、
その解析に必要な時間が異なり、一般には、重要度の高
い部分はど解析時間は長くなる。それにもかかわらず、
回路シミュレーターから一定時間毎に解析データが出力
される従来の比較評価法では、重要度の高い部分で充分
な解析が行われないという問題が生じる。
されることにより、EBテスターによる実測結果と回路
シミュレーションによる解析結果との対比が可能になる
が、回路シミュレーションによる解析時間は一定ではな
い。つまり、LSIデバイス各部の過渡特性によって、
その解析に必要な時間が異なり、一般には、重要度の高
い部分はど解析時間は長くなる。それにもかかわらず、
回路シミュレーターから一定時間毎に解析データが出力
される従来の比較評価法では、重要度の高い部分で充分
な解析が行われないという問題が生じる。
すなわち、回路シミュレーターの機能として、高精度の
回路シミュレーションを行うことができるにもかかわら
ず、実際は、不充分な解析結果に基づいてLSIデバイ
スの評価が行われることになり、この問題は、むしろ重
要度の高い部分で生じ、LSIデバイスの評価作業を不
正確なものにしている。
回路シミュレーションを行うことができるにもかかわら
ず、実際は、不充分な解析結果に基づいてLSIデバイ
スの評価が行われることになり、この問題は、むしろ重
要度の高い部分で生じ、LSIデバイスの評価作業を不
正確なものにしている。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、回路シミュ
レーションによる解析時間間隔に影響されることなく、
高精度の解析結果をテスターによる実測結果に精度よく
対比させることができるLSIデバイス評価システムを
提供することを目的とする。
レーションによる解析時間間隔に影響されることなく、
高精度の解析結果をテスターによる実測結果に精度よく
対比させることができるLSIデバイス評価システムを
提供することを目的とする。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明にかかる評価システムは、LSIデバイスの内部
電圧変化を所定の時間間隔で測定するテスターと、回路
シミュレーションの過渡解析により得られたLSIデバ
イスの内部電圧変化についての解析結果を蓄積して、こ
れを任意の時間間隔で出力する蓄積手段と、前記テスタ
ーにより測定される実測結果と蓄積手段より出力される
解析結果を比較する比較手段とを具備したことを特徴と
している。
電圧変化を所定の時間間隔で測定するテスターと、回路
シミュレーションの過渡解析により得られたLSIデバ
イスの内部電圧変化についての解析結果を蓄積して、こ
れを任意の時間間隔で出力する蓄積手段と、前記テスタ
ーにより測定される実測結果と蓄積手段より出力される
解析結果を比較する比較手段とを具備したことを特徴と
している。
〈作用〉
回路シミュレーションによる解析結果を蓄積する蓄積手
段を具備し、回路シミュレーション機能を有するので、
テスターによる電圧変化測定の際に、回路シミュレータ
ーを使用する必要性がない。
段を具備し、回路シミュレーション機能を有するので、
テスターによる電圧変化測定の際に、回路シミュレータ
ーを使用する必要性がない。
テスターによる電圧変化測定の際には、その測定間隔に
合わせて、蓄積手段に蓄積された解析結果を出力させる
ことができる。従って、比較開始時刻および比較終了時
刻が一定でありさえすれば、テスターの測定間隔や回路
シミュレーションにおける解析時間間隔に影響されるこ
となく、回路シミュレーションによる解析結果とテスタ
ーによる実測結果とが正確に比較される。しかも、蓄積
手段には、予め充分な時間をかけて解析した高精度な解
析結果を蓄積させることができる。
合わせて、蓄積手段に蓄積された解析結果を出力させる
ことができる。従って、比較開始時刻および比較終了時
刻が一定でありさえすれば、テスターの測定間隔や回路
シミュレーションにおける解析時間間隔に影響されるこ
となく、回路シミュレーションによる解析結果とテスタ
ーによる実測結果とが正確に比較される。しかも、蓄積
手段には、予め充分な時間をかけて解析した高精度な解
析結果を蓄積させることができる。
〈実施例〉
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。第1図
は本発明にかかるLSIデバイス評価システムの一例を
示すブロック図である。
は本発明にかかるLSIデバイス評価システムの一例を
示すブロック図である。
LSIデバイス評価システムは、EBテスター10を使
用している。EBテスターIOは、LSIデバイスの内
部配線を電子ビームにて無負荷プローブすることにより
、配線各所の電圧特性を所定の時間間隔で順に測定して
行く。
用している。EBテスターIOは、LSIデバイスの内
部配線を電子ビームにて無負荷プローブすることにより
、配線各所の電圧特性を所定の時間間隔で順に測定して
行く。
EBテスターlOにより測定された電圧データは、アナ
ログ/デジタル変換された後、実測結果蓄積部20に数
値データとして蓄積される。実測結果蓄積部20に蓄積
された数値データは、グラフデータ変換部30において
、グラフ表示のためのデータ変換が行われ、グラフファ
イル40として出力される。
ログ/デジタル変換された後、実測結果蓄積部20に数
値データとして蓄積される。実測結果蓄積部20に蓄積
された数値データは、グラフデータ変換部30において
、グラフ表示のためのデータ変換が行われ、グラフファ
イル40として出力される。
一方、上記LSIデバイスの設計回路に関しては、その
配線各所の電圧特性が過渡解析されており、EBテスタ
ー10による電圧測定より前に、その全ての解析データ
が数値データとして解析結果蓄積部50(蓄積手段)に
蓄積される。
配線各所の電圧特性が過渡解析されており、EBテスタ
ー10による電圧測定より前に、その全ての解析データ
が数値データとして解析結果蓄積部50(蓄積手段)に
蓄積される。
そして、EBテスターIOによる電圧測定の際には、測
定箇所に対応する解析データがEBテスター10による
測定間隔と同じ時間間隔で解析結果蓄積部50より出力
される。解析結果蓄積部50より出力された解析データ
は、グラフデータ変換部60において、グラフ表示のた
めのデータ変換が行われ、グラフファイル70として出
力される。
定箇所に対応する解析データがEBテスター10による
測定間隔と同じ時間間隔で解析結果蓄積部50より出力
される。解析結果蓄積部50より出力された解析データ
は、グラフデータ変換部60において、グラフ表示のた
めのデータ変換が行われ、グラフファイル70として出
力される。
かくして、相対応する電圧データと解析データとが、グ
ラフデータ変換部30.60よりグラフファイル40.
70として同期的に出力される。グラフデータ変換部3
0.60より出力されたグラフファイル40、70は、
グラフデータ結合部80(比較手段)において結合され
た後、グラフデータ表示部9oでグラフ表示される。
ラフデータ変換部30.60よりグラフファイル40.
70として同期的に出力される。グラフデータ変換部3
0.60より出力されたグラフファイル40、70は、
グラフデータ結合部80(比較手段)において結合され
た後、グラフデータ表示部9oでグラフ表示される。
第2図(a)はEBテスター1oによる実測結果をグラ
フ表示したもの、第2図(b)は回路シミュレーション
による解析結果をグラフ表示したもの、第2図(C)は
EBテスター10による実測結果と回路シミュレーショ
ンによる解析結果とを結合してグラフ表示したものであ
る。
フ表示したもの、第2図(b)は回路シミュレーション
による解析結果をグラフ表示したもの、第2図(C)は
EBテスター10による実測結果と回路シミュレーショ
ンによる解析結果とを結合してグラフ表示したものであ
る。
回路シミュレーションによる全ての解析データが予め解
析結果蓄積部50(蓄積手段)に蓄積され、EBテスタ
ー10による測定段階では、相対応する電圧データと解
析データとがグラフデータ変換部30、60より同期的
に出力されるので、充分な時間をかけて解析した解析結
果を用いるにもがかわらす、EBテスター10による実
測結果と回路シミーニレ−ジョンによる解析結果とが同
一グラフ上で正確に比較される。
析結果蓄積部50(蓄積手段)に蓄積され、EBテスタ
ー10による測定段階では、相対応する電圧データと解
析データとがグラフデータ変換部30、60より同期的
に出力されるので、充分な時間をかけて解析した解析結
果を用いるにもがかわらす、EBテスター10による実
測結果と回路シミーニレ−ジョンによる解析結果とが同
一グラフ上で正確に比較される。
〈発明の効果〉
以上の説明から明らかなように、本発明のLSIデバイ
ス評価システムによれば、LSIデバイスの内部配線電
圧が、回路シミュレーションによる解析とは異なる時間
間隔で測定される場合にも、その実測結果と回路シミュ
レーションによる解析結果とが時間ずれなく正確に比較
できる。
ス評価システムによれば、LSIデバイスの内部配線電
圧が、回路シミュレーションによる解析とは異なる時間
間隔で測定される場合にも、その実測結果と回路シミュ
レーションによる解析結果とが時間ずれなく正確に比較
できる。
また、解析データの算出間隔をテスターの測定間隔に一
致させる必要がなく、充分な時間をかけて過渡解析を行
うことができるので、高精度の解析結果を実測結果に対
比させることができ、LSIデバイスの評価精度が向上
する。
致させる必要がなく、充分な時間をかけて過渡解析を行
うことができるので、高精度の解析結果を実測結果に対
比させることができ、LSIデバイスの評価精度が向上
する。
第1図は本発明にかかる評価システムの一例を示すブロ
ック図、第2図(a)はEBテスターによる実測結果、
第2図伽)は回路シミニレ−ジョンによる解析結果、第
2図(C)はEBテスターによる実測結果と回路シミュ
レーションによる解析結果との結合データをそれぞれ表
示したグラフである。 10・・・EBテスター 50・・・蓄積手段 80・・・比較手段
ック図、第2図(a)はEBテスターによる実測結果、
第2図伽)は回路シミニレ−ジョンによる解析結果、第
2図(C)はEBテスターによる実測結果と回路シミュ
レーションによる解析結果との結合データをそれぞれ表
示したグラフである。 10・・・EBテスター 50・・・蓄積手段 80・・・比較手段
Claims (1)
- (1)LSIデバイスの内部電圧変化を所定の時間間隔
で測定するテスターと、回路シミュレーションの過渡解
析により得られたLSIデバイスの内部電圧変化につい
ての解析結果を蓄積して、これを任意の時間間隔で出力
する蓄積手段と、前記テスターにより測定される実測結
果と蓄積手段より出力される解析結果を比較する比較手
段とを具備したことを特徴とするLSIデバイス評価シ
ステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010177A JPH03214080A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | Lsiデバイス評価システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010177A JPH03214080A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | Lsiデバイス評価システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03214080A true JPH03214080A (ja) | 1991-09-19 |
Family
ID=11743006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010177A Pending JPH03214080A (ja) | 1990-01-18 | 1990-01-18 | Lsiデバイス評価システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03214080A (ja) |
-
1990
- 1990-01-18 JP JP2010177A patent/JPH03214080A/ja active Pending
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