JPH03218367A - ナフチルオキサゾリドン誘導体、その製法及びその合成中間体 - Google Patents
ナフチルオキサゾリドン誘導体、その製法及びその合成中間体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、抗うつ剤として有用な新規ナフチルオキザゾ
リドン誘導体、その製法及びその合成中間体に関する。
リドン誘導体、その製法及びその合成中間体に関する。
モノアミンオキシダーゼ（ＭＡＯ）はモノアミンの酸化
的脱アミノ反応を触媒してアルデヒドを生成する酵素で
あり、その基質特異性に基づき、神経伝達物質のノルア
ドレナリンやセロトニン等を基質とするＡ型とフェネチ
ルアミン等を基質とするＢ型とに区別される。しかしな
がら、抗うつ剤として従来から公知のＭＡＯ阻害剤は、
Ａ−Ｂ型の選択性がなくかつ不可逆性の阻害作用を示し
、作用持続時間が長いため、副作用〔肝障害、チラミン
含有食物摂取後の血圧上昇（チーズ効果）、偏頭痛等〕
が発生する等難点があった。
的脱アミノ反応を触媒してアルデヒドを生成する酵素で
あり、その基質特異性に基づき、神経伝達物質のノルア
ドレナリンやセロトニン等を基質とするＡ型とフェネチ
ルアミン等を基質とするＢ型とに区別される。しかしな
がら、抗うつ剤として従来から公知のＭＡＯ阻害剤は、
Ａ−Ｂ型の選択性がなくかつ不可逆性の阻害作用を示し
、作用持続時間が長いため、副作用〔肝障害、チラミン
含有食物摂取後の血圧上昇（チーズ効果）、偏頭痛等〕
が発生する等難点があった。
本発明は、従来の如き副作用を示さない、優れた可逆的
、選択的ＭＡＯ−Ａ阻害作用を示す抗う１６ つ剤を提供しようとするものである。
、選択的ＭＡＯ−Ａ阻害作用を示す抗う１６ つ剤を提供しようとするものである。
本発明は、一般式
（但し、Ｒ＋は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基
、スルポ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオキ
シ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級ア
ルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイル
オキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアルキ
ル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ基
、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボニ
ル基、低級アルコキシ力ルボニル基、低級アルカノイル
オキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィ
ニル基及ヒ低級アルキルスルホニル基カら選ばれる基で
置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ２は水酸基
、低級アルコキシ基、低級アルキルスルボニルオキシ基
、トリアゾ基、アミノ１７ 基、低級アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ
基を表す。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理
的に許容し得る塩、その製法及びその合成中間体に関す
る。
、スルポ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオキ
シ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級ア
ルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイル
オキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアルキ
ル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ基
、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボニ
ル基、低級アルコキシ力ルボニル基、低級アルカノイル
オキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィ
ニル基及ヒ低級アルキルスルホニル基カら選ばれる基で
置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ２は水酸基
、低級アルコキシ基、低級アルキルスルボニルオキシ基
、トリアゾ基、アミノ１７ 基、低級アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ
基を表す。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理
的に許容し得る塩、その製法及びその合成中間体に関す
る。
本発明の目的物（１）の具体例としては、一般式（１）
において、例えば、アリール基がフェニル基、シクロア
ルキル基が炭素数３〜６のシクロアルキル基、含酸素複
素単環式基がテトラヒドロフリル基であるものがあげら
れる。
において、例えば、アリール基がフェニル基、シクロア
ルキル基が炭素数３〜６のシクロアルキル基、含酸素複
素単環式基がテトラヒドロフリル基であるものがあげら
れる。
より好ましい化合物は、一般式（１）においてＲｌが低
級アルケニルオキシ基又は低級アルカノイルオキシ基で
あるか、あるいはシクロプロピル基、水酸基及びシアノ
基から選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキ
シ基、Ｒ２が低級アルコキシ基であるものであり、この
内、Ｒｌがシクロプロビル基及びシアノ基から選ばれる
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基であるもの
が更に好ましい。また、他の好ましい化合物は、Ｒｌが
ナフタレン環の６位に置換し、５一置換−２−オ１８ キサゾリドン−３−イル尽がナフタレン環の２位に置換
した化合物である。
級アルケニルオキシ基又は低級アルカノイルオキシ基で
あるか、あるいはシクロプロピル基、水酸基及びシアノ
基から選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキ
シ基、Ｒ２が低級アルコキシ基であるものであり、この
内、Ｒｌがシクロプロビル基及びシアノ基から選ばれる
基で置換されていてもよい低級アルコキシ基であるもの
が更に好ましい。また、他の好ましい化合物は、Ｒｌが
ナフタレン環の６位に置換し、５一置換−２−オ１８ キサゾリドン−３−イル尽がナフタレン環の２位に置換
した化合物である。
本発明によれば、目的物（Ｉ）は、
（但し、Ｒ３は低級アルキル基を表し、Ｒ１は前記と同
一意味を有する。） で示されるナフチルカルバミン酸低級アルキルエステル
化合物又はその塩と一般式 （但し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される
オキシラン化合物又はその塩とを反応させるか、又は （Ｂ）一般式 １９ 意味を有する。） で示されるナフタレン化合物又はその塩と一般式０ （但し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される
２−オキサゾリドン化合物又はその塩とを反応させて製
造することができる。
一意味を有する。） で示されるナフチルカルバミン酸低級アルキルエステル
化合物又はその塩と一般式 （但し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される
オキシラン化合物又はその塩とを反応させるか、又は （Ｂ）一般式 １９ 意味を有する。） で示されるナフタレン化合物又はその塩と一般式０ （但し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される
２−オキサゾリドン化合物又はその塩とを反応させて製
造することができる。
目的物（．１ ）の内、Ｒ２が水酸基の化合物〔以下、
目的物（１−ａ）と称する。〕は、一般式（但し、Ｒ’
４よ前記と同一意味を有する。）で示されるプロパンジ
オール化合物と一般弐Ｃｏ （Ｘ”） ２
（■）（但し、Ｘ２は反応性残基を表す。） で示されるカルポニル化合物とを縮合反応させて製造す
ることもできる。
目的物（１−ａ）と称する。〕は、一般式（但し、Ｒ’
４よ前記と同一意味を有する。）で示されるプロパンジ
オール化合物と一般弐Ｃｏ （Ｘ”） ２
（■）（但し、Ｘ２は反応性残基を表す。） で示されるカルポニル化合物とを縮合反応させて製造す
ることもできる。
また、目的物（１）の内、Ｒ２が低級アルコキシ基又は
低級アルキルスルホニルオキシ基である化２０ 合物〔以下、目的物（１−ｂ）と称する。〕は、目的物
（Ｉ一ａ）と一般式 Ｒ４−×３ （■） （但し、Ｒ４は低級アルキル基又は低級アルキルスルホ
ニル基、ｘ３は反応性残基を表す。）で示される化合物
とを縮合反応させて製造することもできる。
低級アルキルスルホニルオキシ基である化２０ 合物〔以下、目的物（１−ｂ）と称する。〕は、目的物
（Ｉ一ａ）と一般式 Ｒ４−×３ （■） （但し、Ｒ４は低級アルキル基又は低級アルキルスルホ
ニル基、ｘ３は反応性残基を表す。）で示される化合物
とを縮合反応させて製造することもできる。
更に、目的物（１）の内、Ｒ１が水酸基である化合物〔
以下、目的物（１−ｃ）と称する。〕は、一般式 ｎ （但し、Ｒ５はアリール一低級アルキル基を表し、Ｒ２
は前記と同一意味を有する。） で示される化合物又はその塩を還元して、製造すること
もできる。
以下、目的物（１−ｃ）と称する。〕は、一般式 ｎ （但し、Ｒ５はアリール一低級アルキル基を表し、Ｒ２
は前記と同一意味を有する。） で示される化合物又はその塩を還元して、製造すること
もできる。
更に、一般式
２１
（但し、Ｒ６は低級アルケニル基、低級アルキニル基、
モノもしくはジ低級アルキルアミノカルボニル基又は低
級アルカノイル基であるか、あるいはアリール基、シク
ロアルキル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アル
コキシ基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ
カルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アル
カノイルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキル
スルフィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ば
れる基で置換されていてもよい低級アルキル基を表し、
Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は
、目的物（１−ｃ）又はその塩を、一般式 Ｒ６ Ｘ４ （ＩＸ） （但し、ｘ４は反応性残基を表し、Ｒ６は前記と同一意
味を有する。） で示される化合物又はその塩とを反応させて製造するこ
ともできる。
モノもしくはジ低級アルキルアミノカルボニル基又は低
級アルカノイル基であるか、あるいはアリール基、シク
ロアルキル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アル
コキシ基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノ
カルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アル
カノイルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキル
スルフィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ば
れる基で置換されていてもよい低級アルキル基を表し、
Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される化合物は
、目的物（１−ｃ）又はその塩を、一般式 Ｒ６ Ｘ４ （ＩＸ） （但し、ｘ４は反応性残基を表し、Ｒ６は前記と同一意
味を有する。） で示される化合物又はその塩とを反応させて製造するこ
ともできる。
また、目的物（１−ｅ）の内、一般式
２２
（但し、Ｒ７はシアノ基又は低級アルコキシカルボニル
基を表し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示され
る化合物は、目的物（１−ｃ）と一般式Ｒ’−Ｃｔｌ＝
Ｃｌｈ （ Ｘ ）（但し、Ｒ’Ｔは前記と
同一意味を有する。）で示される化合物とを反応させて
製造することもでき、あるいはＲ６がモノ低級アルキル
アミノカルボニル基である化合物〔以下、目的物（１−
ｅ■）と略称する。〕は、目的物（１−ｃ）と低級アル
キルイソシアネートとを反応させて製造することもでき
る。
基を表し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示され
る化合物は、目的物（１−ｃ）と一般式Ｒ’−Ｃｔｌ＝
Ｃｌｈ （ Ｘ ）（但し、Ｒ’Ｔは前記と
同一意味を有する。）で示される化合物とを反応させて
製造することもでき、あるいはＲ６がモノ低級アルキル
アミノカルボニル基である化合物〔以下、目的物（１−
ｅ■）と略称する。〕は、目的物（１−ｃ）と低級アル
キルイソシアネートとを反応させて製造することもでき
る。
原料化合物（ＩＩ）と（ＩＩＩ）との反応は、塩基の存
在下で実施することができる。塩基としては、慣用のも
のをいずれも用いることができ、とりわけトリ低級アル
キルアミン、４−ジ（低級アルキル）アミノピリジン、
アルカリ金属アルコキシド等有機塩基を用いるのが好適
である。反応は適当な溶媒中又は無溶媒で実施すること
ができ、加熱２３ 下、例えば５０〜１５０゜Ｃ，好ましくは９０〜１１０
゛Ｃで好適に進行する。
在下で実施することができる。塩基としては、慣用のも
のをいずれも用いることができ、とりわけトリ低級アル
キルアミン、４−ジ（低級アルキル）アミノピリジン、
アルカリ金属アルコキシド等有機塩基を用いるのが好適
である。反応は適当な溶媒中又は無溶媒で実施すること
ができ、加熱２３ 下、例えば５０〜１５０゜Ｃ，好ましくは９０〜１１０
゛Ｃで好適に進行する。
原料化合物（ＩＶ）と（Ｖ）との反応は、脱酸剤の存在
下に実施することができる。脱酸剤としては、例えば炭
酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、水素化アルカ
リ金属、トリアルキルアミン等慣用の無機塩基及び有機
塩基をいずれも好適に用いることができる。また化合物
（ＩＶ）としては、反応性残基（×１）が、例えばハロ
ゲン原子であるものを適宜用いることができる。反応は
適当な溶媒中又は無溶媒で実施することができ、加熱下
、例えば１００〜２５０゜Ｃ、好ましくは１５０〜２２
０゜Ｃで好適に進行する。また本反応に際しては、活性
銅粉を用いれば、更に好適に進行させることができる。
下に実施することができる。脱酸剤としては、例えば炭
酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、水素化アルカ
リ金属、トリアルキルアミン等慣用の無機塩基及び有機
塩基をいずれも好適に用いることができる。また化合物
（ＩＶ）としては、反応性残基（×１）が、例えばハロ
ゲン原子であるものを適宜用いることができる。反応は
適当な溶媒中又は無溶媒で実施することができ、加熱下
、例えば１００〜２５０゜Ｃ、好ましくは１５０〜２２
０゜Ｃで好適に進行する。また本反応に際しては、活性
銅粉を用いれば、更に好適に進行させることができる。
原料化合物（Ｖｌ）と（■）との縮合反応は、塩基の存
在下に実施することができる。塩基としては、化合物（
ＩＩ）と（Ｉ）の反応で使用したものをいずれも好適に
使用することができる。化合物（■）の反応性残基（ｘ
２）としては、低級アルコキ２４ シ基、イミダゾリル基、ハロゲン原子等を好適に使用す
ることができる。反応は適当な溶媒（例えハ、トルエン
、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒド
口フラン等）中、室温〜加熱下、例えば１０〜１５０゜
Ｃで好適に進行する。
在下に実施することができる。塩基としては、化合物（
ＩＩ）と（Ｉ）の反応で使用したものをいずれも好適に
使用することができる。化合物（■）の反応性残基（ｘ
２）としては、低級アルコキ２４ シ基、イミダゾリル基、ハロゲン原子等を好適に使用す
ることができる。反応は適当な溶媒（例えハ、トルエン
、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒド
口フラン等）中、室温〜加熱下、例えば１０〜１５０゜
Ｃで好適に進行する。
化合物（１−ａ）と原料化合物（■）との縮合反応は、
脱酸剤の存在又は非存在下で好適に実施することができ
る。脱酸剤としては、化合物（■）と（Ｖ）の反応で用
いた塩基をいずれも好適に用いることができる。化合物
（■）の反応性残基（Ｘ３）としては、ハロゲン原子、
低級アルカノイルオキシ基、低級アルキルスルホニルオ
キシ基、アリールスルホニルオキシ基等をいずれも好適
に使用することができる。反応は適当な溶媒（例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ジエチルエーテル、ジオキサン等）中、
室温〜加熱下、例えば、３０〜１２０゜Ｃで好適に進行
する。
脱酸剤の存在又は非存在下で好適に実施することができ
る。脱酸剤としては、化合物（■）と（Ｖ）の反応で用
いた塩基をいずれも好適に用いることができる。化合物
（■）の反応性残基（Ｘ３）としては、ハロゲン原子、
低級アルカノイルオキシ基、低級アルキルスルホニルオ
キシ基、アリールスルホニルオキシ基等をいずれも好適
に使用することができる。反応は適当な溶媒（例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ジエチルエーテル、ジオキサン等）中、
室温〜加熱下、例えば、３０〜１２０゜Ｃで好適に進行
する。
化合物（１−ｄ）の還元反応は、常法に従い実施するこ
とができる。例えば、当該還元反応は、２５ パラジウム系触媒、ラネーニッケル、白金又はロジウム
の存在下、接触還元によって実施できる。
とができる。例えば、当該還元反応は、２５ パラジウム系触媒、ラネーニッケル、白金又はロジウム
の存在下、接触還元によって実施できる。
溶媒としては、テトラヒド口フラン、ジオキサン、低級
アルカノール等慣用の溶媒を用いることができ、反応は
常圧〜加圧下、室温〜加温下、例えば１０〜５０゜Ｃで
好適に進行する。
アルカノール等慣用の溶媒を用いることができ、反応は
常圧〜加圧下、室温〜加温下、例えば１０〜５０゜Ｃで
好適に進行する。
続く化合物（Ｉ−ｃ）と原料化合物（ＩＸ）との反応は
、脱酸剤の存在下に実施することができる。
、脱酸剤の存在下に実施することができる。
脱酸剤としては、原料化合物（ＩＶ）と（Ｖ）の反応で
例示した有機又は無機塩基をいずれも用いることができ
る。また化合物（ＩＸ）としては、反応性残基（ｘ４）
が×３と同じであるものを適宜用いることができる。反
応はアセトン、酢酸エチル、ジメチルボルムアミド、ジ
メヂルスルホキシド等慣用の溶媒中、冷却〜加熱下、例
えば３０〜１２０゜Ｃで好適に進行する。
例示した有機又は無機塩基をいずれも用いることができ
る。また化合物（ＩＸ）としては、反応性残基（ｘ４）
が×３と同じであるものを適宜用いることができる。反
応はアセトン、酢酸エチル、ジメチルボルムアミド、ジ
メヂルスルホキシド等慣用の溶媒中、冷却〜加熱下、例
えば３０〜１２０゜Ｃで好適に進行する。
目的物（１−ｃ）と原料化合物（Ｘ）又は低級アルキル
イソシアネ−１・との反応は、塩基の存在下に実施する
ことができる。塩基としては、原料化合物（ＩＩ）と（
ｌｉｔ）との反応で例示したものの２６ ほか、例えば水酸化ペンジルトリ（低級アルキル）アン
モニウム、水酸化テトラ（低級アルキル）アンモニウム
等を用いることができる。反応はテトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等慣用の溶媒中、室温〜加熱下、例えば２０〜８
０゜Ｃで好適に進行する。
イソシアネ−１・との反応は、塩基の存在下に実施する
ことができる。塩基としては、原料化合物（ＩＩ）と（
ｌｉｔ）との反応で例示したものの２６ ほか、例えば水酸化ペンジルトリ（低級アルキル）アン
モニウム、水酸化テトラ（低級アルキル）アンモニウム
等を用いることができる。反応はテトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等慣用の溶媒中、室温〜加熱下、例えば２０〜８
０゜Ｃで好適に進行する。
上記各反応において、各原料化合物は、そのまま又はそ
の塩のいずれの形でも使用するこができる。例えば、化
合物（Ｖｌ）、（１−ａ）及び（Ｉ−ｃ）並びに水酸基
を有する化合物（ｎ）〜（■）及び（１−ｄ）は、所望
により、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモ
ニウム塩等として、また、化合物（Ｖ）及び（Ｖｌ）並
びにアミノ基又はモノもしくはジ低級アルキルアミノ基
を有する化合物（ＩＩ）〜（ＩＶ）、（Ｉ−ａ）、（Ｉ
Ｃ）及び（１−ｄ）は、所望により、無機酸付加塩、有
機酸付加塩として反応に供することができる。
の塩のいずれの形でも使用するこができる。例えば、化
合物（Ｖｌ）、（１−ａ）及び（Ｉ−ｃ）並びに水酸基
を有する化合物（ｎ）〜（■）及び（１−ｄ）は、所望
により、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモ
ニウム塩等として、また、化合物（Ｖ）及び（Ｖｌ）並
びにアミノ基又はモノもしくはジ低級アルキルアミノ基
を有する化合物（ＩＩ）〜（ＩＶ）、（Ｉ−ａ）、（Ｉ
Ｃ）及び（１−ｄ）は、所望により、無機酸付加塩、有
機酸付加塩として反応に供することができる。
なお、本発明の目的物（１）は、常法により、２７
適宜、相互変換することもできる。例えば、目的物（１
）において、Ｒｌがニトロ基及び／又はＲ２がトリアゾ
基である場合は、接触還元してアミノ基とし、所望によ
り、低級アルカノイルアミノ基とするか、あるいは更に
ジアゾ化後、常法により、水酸基又は低級アルコキシ基
とすることもできる。またＲ′がスルホ基である場合は
、アミノ化して、アミノスルホニル基とすることもでき
る。
）において、Ｒｌがニトロ基及び／又はＲ２がトリアゾ
基である場合は、接触還元してアミノ基とし、所望によ
り、低級アルカノイルアミノ基とするか、あるいは更に
ジアゾ化後、常法により、水酸基又は低級アルコキシ基
とすることもできる。またＲ′がスルホ基である場合は
、アミノ化して、アミノスルホニル基とすることもでき
る。
更にＲｌが低級アルキルチオ置換低級アルコキシ基であ
る場合は、酸化して、対応するスルフィニル体又はスル
ホニル体とすることもできる。一方、Ｒ”が低級アルコ
キシ基である場合は、加水分解して水酸基とし、所望に
より、常法に従って、低級アルキルスルホニルオキシ基
とし、更にアルキルアミノ基あるいはトリアゾ基とする
こともできる。
る場合は、酸化して、対応するスルフィニル体又はスル
ホニル体とすることもできる。一方、Ｒ”が低級アルコ
キシ基である場合は、加水分解して水酸基とし、所望に
より、常法に従って、低級アルキルスルホニルオキシ基
とし、更にアルキルアミノ基あるいはトリアゾ基とする
こともできる。
本発明の目的物（１）には、光学異性体が存在するが、
上記本発明の方法は、いずれもラセミ化を伴わずに進行
するため、原料化合物として光学活性体を用いれば、光
学活性な目的物（１）を得２８ ることができる。
上記本発明の方法は、いずれもラセミ化を伴わずに進行
するため、原料化合物として光学活性体を用いれば、光
学活性な目的物（１）を得２８ ることができる。
さらに、ラセミ型のナフチルオキサゾリドン誘導体（１
）は、常法に従い、光学活性体に分割するこができる。
）は、常法に従い、光学活性体に分割するこができる。
該光学分割は、例えば、ラセミ型の目的物（１）を水酸
化アルカリ金属（例えば、水酸化カリウム）で処理し、
生成物のアミノ基を低級アルコキシカルボニル基で保護
した後、光学活性１−（２−ナフチルスルホニル）ピロ
リジン−２−カルボニルクロリドと反応させ、得られる
２種ジアステレオマー塩を溶解度差を利用するか又はカ
ラムクロマトグラフィーにより分割後、加水分解し、さ
らに生成物を、化合物（Ｖｌ）と同様に、化合物（■）
と縮合反応させることにより、実施できる。
化アルカリ金属（例えば、水酸化カリウム）で処理し、
生成物のアミノ基を低級アルコキシカルボニル基で保護
した後、光学活性１−（２−ナフチルスルホニル）ピロ
リジン−２−カルボニルクロリドと反応させ、得られる
２種ジアステレオマー塩を溶解度差を利用するか又はカ
ラムクロマトグラフィーにより分割後、加水分解し、さ
らに生成物を、化合物（Ｖｌ）と同様に、化合物（■）
と縮合反応させることにより、実施できる。
本発明の目的物は遊離の形でもまたその薬理的に許容し
得る塩の形でも医薬用途に用いることができる。薬理的
に許容し得る塩としては、無機又は有機塩基との塩、例
えばナトリウム塩、カリウム塩の如きアルカリ金属塩、
カルシウム塩、マグネシウム塩の如きアルカリ土頻金属
塩、アンモニ２９ ウム塩等、あるいは無機又は有機酸付加塩、例えば塩酸
塩、硫酸塩、酢酸塩、ベンゼンスルボン酸塩等があげら
れる。
得る塩の形でも医薬用途に用いることができる。薬理的
に許容し得る塩としては、無機又は有機塩基との塩、例
えばナトリウム塩、カリウム塩の如きアルカリ金属塩、
カルシウム塩、マグネシウム塩の如きアルカリ土頻金属
塩、アンモニ２９ ウム塩等、あるいは無機又は有機酸付加塩、例えば塩酸
塩、硫酸塩、酢酸塩、ベンゼンスルボン酸塩等があげら
れる。
本発明の目的物（１）及びその薬理的に許容し得る塩は
、経口的にも非経口的にも投与することができるが、と
りわけ、経口的に投与するのが好ましく、また、常法に
より、例えば錠剤、カプセル剤、散剤、注射剤の如き医
薬製剤として、適宜使用することができる。
、経口的にも非経口的にも投与することができるが、と
りわけ、経口的に投与するのが好ましく、また、常法に
より、例えば錠剤、カプセル剤、散剤、注射剤の如き医
薬製剤として、適宜使用することができる。
本発明の目的物（１）又はその薬理的に許容し得る塩の
投与量は、患者の年令・体重・状態あるいは疾患の程度
などにより異なるが、通常１日当たりの投与量は０．０
１〜２５０■／ｋｇである。
投与量は、患者の年令・体重・状態あるいは疾患の程度
などにより異なるが、通常１日当たりの投与量は０．０
１〜２５０■／ｋｇである。
本発明の原料化合物（ｎ）、（Ｖ）及び（Ｖｌ）は新規
化合物であり、この内、原料化合物（ＩＩ）は、例えば
一般式 （但し、Ｒｌは前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルアミン化合物と、一般式Ｘ’−ＧＯＯＲ３（Ｘ
ｌｌ） ３０ （但し、ｘ５はハロゲン原子を表し、Ｒ３は前記と同一
意味を有する。） で示される化合物とを、溶媒（塩化メチレン）中、脱酸
剤（炭酸水素ナトリウム）の存在下、反応させて製造す
ることができる。
化合物であり、この内、原料化合物（ＩＩ）は、例えば
一般式 （但し、Ｒｌは前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルアミン化合物と、一般式Ｘ’−ＧＯＯＲ３（Ｘ
ｌｌ） ３０ （但し、ｘ５はハロゲン原子を表し、Ｒ３は前記と同一
意味を有する。） で示される化合物とを、溶媒（塩化メチレン）中、脱酸
剤（炭酸水素ナトリウム）の存在下、反応させて製造す
ることができる。
また、原料化合物（Ｖ）は、例えば一般式１、２Ｎ／）
／＼Ｒ２ （Ｘｌｌｌ）ＯＨ （但し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される
アミノブ口パノール化合物と、ペンジルオキシカルボニ
ルハライド又は低級アルコキシ力ルポニルハライドとを
、溶媒（テトラヒド口フラン）中、脱酸剤（トリエチル
アミン）の存在下、反応させた後、生成物を塩基（水素
化ナトリウム）の存在下、閉環反応に付して製造するこ
とができる。
／＼Ｒ２ （Ｘｌｌｌ）ＯＨ （但し、Ｒ２は前記と同一意味を有する。）で示される
アミノブ口パノール化合物と、ペンジルオキシカルボニ
ルハライド又は低級アルコキシ力ルポニルハライドとを
、溶媒（テトラヒド口フラン）中、脱酸剤（トリエチル
アミン）の存在下、反応させた後、生成物を塩基（水素
化ナトリウム）の存在下、閉環反応に付して製造するこ
とができる。
さらに、原料化合物（Ｖｌ）は、ナフチルアミン化合物
（ＸＩ）を２．２−ジメチル−４−トシルオキシ−１．
３ジオキソランと反応させた後、生成物を酸く例えば、
塩酸）の存在下、加水分解して製造することができる。
（ＸＩ）を２．２−ジメチル−４−トシルオキシ−１．
３ジオキソランと反応させた後、生成物を酸く例えば、
塩酸）の存在下、加水分解して製造することができる。
３１
なお、本明細書において、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、低級アルカノイル基、低級アルケニル基及び低
級アルキニル基の具体例としては、それぞれ、炭素数が
１〜６のアルキル基、炭素数が１〜６のアルコキシ基、
炭素数が２〜６のアルカノイル基、炭素数が２〜６のア
ルケニル基及び炭素数が２〜６のアルキニル基があげら
れる。
キシ基、低級アルカノイル基、低級アルケニル基及び低
級アルキニル基の具体例としては、それぞれ、炭素数が
１〜６のアルキル基、炭素数が１〜６のアルコキシ基、
炭素数が２〜６のアルカノイル基、炭素数が２〜６のア
ルケニル基及び炭素数が２〜６のアルキニル基があげら
れる。
実験例 １
（ＭＡＯ−Ａ阻害活性の測定）
ラットの脳組織から常法に従って得られたミトコンドリ
ア分画の懸濁液（タンパク濃度：約７ｍｇノＦｎｌ）を
、酵素材料として使用した。ＭＡＯ−Ａ活性は、基質に
セロトニンを用い、遊離されるアンモニア（ＮＨ３）を
指標に測定した。
ア分画の懸濁液（タンパク濃度：約７ｍｇノＦｎｌ）を
、酵素材料として使用した。ＭＡＯ−Ａ活性は、基質に
セロトニンを用い、遊離されるアンモニア（ＮＨ３）を
指標に測定した。
各検体の添加濃度１０−’ＭにおけるＭＡＯ−Ａ活性阻
害率は、次式に従って算出した。
害率は、次式に従って算出した。
３２
（結果）
結果は、
下記第１表記載の通りである。
第
１
表
実験例
２
マウス
のＭＡＯ
Ａ
びＢ
に
る
３３
詐月二包Ｌ刀ヱ吐
１群３匹のマウスに、０．５χカルポキシメヂルセルロ
ース（ＣＭＣ）水溶液に懸濁させた検体３０ｍｇ／ｋｇ
を経口投与し、４５分後に、脳組織を摘出した。
ース（ＣＭＣ）水溶液に懸濁させた検体３０ｍｇ／ｋｇ
を経口投与し、４５分後に、脳組織を摘出した。
なお、対照群には、０．５χＣＭＧ水溶液を同液量投与
した。
した。
脳組織に９倍量の水冷蒸留水を加えて調製したホモジネ
ートを酵素材料として、ＭＡＣ）−Ａ及びＢ活性を測定
した。ＭＡＯ−Ａ活性は、実験例１の方法に準じて測定
し、Ｂ活性は、基質にペンジルアミンを用い、ベンズア
ルデヒド（ＢＡ）の生成量を指標〔ザ・ジャーナル・オ
ブ・ラボラトリー・アンド・クリニカル・メディシン（
Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ
ａｎｄ Ｃｌｉｎｉｃａｌ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ）、第６
２巻７６６−７７６頁、１９６３年〕に測定した。
ートを酵素材料として、ＭＡＣ）−Ａ及びＢ活性を測定
した。ＭＡＯ−Ａ活性は、実験例１の方法に準じて測定
し、Ｂ活性は、基質にペンジルアミンを用い、ベンズア
ルデヒド（ＢＡ）の生成量を指標〔ザ・ジャーナル・オ
ブ・ラボラトリー・アンド・クリニカル・メディシン（
Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ
ａｎｄ Ｃｌｉｎｉｃａｌ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ）、第６
２巻７６６−７７６頁、１９６３年〕に測定した。
各検体のＭＡＯ−Ａ及びＢ活性阻害率は次式により算出
し、それぞれの平均値士標準誤差で表示した。
し、それぞれの平均値士標準誤差で表示した。
３４
（結果）
結果は、
下記第２表記載の通りである。
第
２
表
３５
〔実施例〕
実施例 １
（１）２−ナフチルアミン２０．０ｇ，炭酸水素ナトリ
ウム１７．６ｇ、水１００ｄ及び塩化メチレン２ ０
０ ｍｌの混合物に、水冷攪拌下、エトキシカルボニル
クロリド１６．７ｇ及び塩化メチレン２０ ｍｌの混合
物を滴下した後、室温にて終夜攪拌する。有機層をクロ
ロホルムにて分取後、乾燥、炭末処理し、残渣を酢酸エ
チルーヘキサンから再結晶して、Ｎ一エトキシカルボニ
ル−２−ナフチルアミン２５．２６ｇを得る。
ウム１７．６ｇ、水１００ｄ及び塩化メチレン２ ０
０ ｍｌの混合物に、水冷攪拌下、エトキシカルボニル
クロリド１６．７ｇ及び塩化メチレン２０ ｍｌの混合
物を滴下した後、室温にて終夜攪拌する。有機層をクロ
ロホルムにて分取後、乾燥、炭末処理し、残渣を酢酸エ
チルーヘキサンから再結晶して、Ｎ一エトキシカルボニ
ル−２−ナフチルアミン２５．２６ｇを得る。
ｍ．ｐ． ６９．０ 〜７０．５゜Ｃ
（２）上記（１）の生成物３．８２ｇ、２−（メトキシ
メチル）オキシラン３．１３ｇ及びトリエチルアミン０
．４ｇの混合物を３．５時間還流する。反応液を酢酸エ
チル抽出し、水洗、乾燥後、ろ過する。ろ液を濃縮し、
残渣をシリカゲル力ラム〔溶媒：酢酸エチルーヘキサン
（２：３））で精製して、粗３−（２−ナフチル）−５
一メトキシメチル−２−オキサゾリドン３．７５ｇを得
る。更に酢３６ 酸エチル ヘキサンから再結晶して、 無色針状晶 ３． １ ７ｇを得る。
メチル）オキシラン３．１３ｇ及びトリエチルアミン０
．４ｇの混合物を３．５時間還流する。反応液を酢酸エ
チル抽出し、水洗、乾燥後、ろ過する。ろ液を濃縮し、
残渣をシリカゲル力ラム〔溶媒：酢酸エチルーヘキサン
（２：３））で精製して、粗３−（２−ナフチル）−５
一メトキシメチル−２−オキサゾリドン３．７５ｇを得
る。更に酢３６ 酸エチル ヘキサンから再結晶して、 無色針状晶 ３． １ ７ｇを得る。
ｍ−ｐ・
７９．５
〜８１ ． ５ ”Ｃ
実施例
２〜５
（１）対応原料化合物を実施例１
（１）と同様に処理
して、
下記第３表記載の化合物を得る。
第
３
表
（■）
ＣＵ−ａ）
＊ ： −ＮＩＩＣＯ．Ｃ２１ｔ５のナフタレン環にお
ける置換位置３７ （２）上記生成物を実施例１ （２）と同様に処理して、 下記第４表記載の目的物を得る。
ける置換位置３７ （２）上記生成物を実施例１ （２）と同様に処理して、 下記第４表記載の目的物を得る。
第
４
表
Ｏ
Ｒ
５−メ
トキシメチル−２
オキサゾリ
ドン
３
イ
ル基のナフタレン環における置換位置
３８
実施例 ６
Ｎ一エトキシカルボニル−２−ナフチルアミン４．６３
ｇ、２−（ブトキシメチル）オキシラン４．２ｇ及びト
リエチルアミン０．２２ｇの混合物を、１００〜１０５
゜Ｃで、１．５時間加熱撹拌する。反応液を放冷した後
、析出晶をろ取する。
ｇ、２−（ブトキシメチル）オキシラン４．２ｇ及びト
リエチルアミン０．２２ｇの混合物を、１００〜１０５
゜Ｃで、１．５時間加熱撹拌する。反応液を放冷した後
、析出晶をろ取する。
結晶を炭未処理した後、酢酸エチルーイソプ口ビルエー
テルーヘキザンから再結晶して、３−（２ナフチル）−
５−ｔ−プトキシメチル−２−オキサゾリドン４．７ｇ
を得る。
テルーヘキザンから再結晶して、３−（２ナフチル）−
５−ｔ−プトキシメチル−２−オキサゾリドン４．７ｇ
を得る。
ｍ．ｐ． １１２．５〜１１３．０″Ｃ実施例 ７
（１）１−アミノー３−メトキシ−２−プロバノーノレ
１０．２３ｇのテトラヒド口フラン１００ｍｌ！：容液
に１・リエチルアミン１９．６９ｇを加え、氷冷する。
１０．２３ｇのテトラヒド口フラン１００ｍｌ！：容液
に１・リエチルアミン１９．６９ｇを加え、氷冷する。
該溶液にペンジルオキシカルボニルクロリド１６．６０
ｇのテトラヒド口フラン５０ｍｌ溶液を３０分かけて滴
下し、室温で１時間撹拌する。
ｇのテトラヒド口フラン５０ｍｌ溶液を３０分かけて滴
下し、室温で１時間撹拌する。
反応液を酢酸エチルで希釈し、水洗後、乾燥する。残渣
をシリカゲルカラム〔溶媒；酢酸エチル３９ ヘキサン（２：１））で精製して、１−ペンジルオキシ
カルポニルアミノ−３−メトキシ−２−プロバノール１
３．２ｇを無色油状物として得る。
をシリカゲルカラム〔溶媒；酢酸エチル３９ ヘキサン（２：１））で精製して、１−ペンジルオキシ
カルポニルアミノ−３−メトキシ−２−プロバノール１
３．２ｇを無色油状物として得る。
Ｉ Ｒ （ｃｍ”’）： ３３４０（ｂｒ）．１
７００（２）上記（１）の生成物１０．２ｇのテトラヒ
ド口フラン２ ０ ０ ｍｌ溶液に、６３％水素化ナト
リウム１．６２４ｇを加え、室温で１時間撹拌する。反
応液に水を加え、クロロホルム抽出し、濃縮する。
７００（２）上記（１）の生成物１０．２ｇのテトラヒ
ド口フラン２ ０ ０ ｍｌ溶液に、６３％水素化ナト
リウム１．６２４ｇを加え、室温で１時間撹拌する。反
応液に水を加え、クロロホルム抽出し、濃縮する。
残渣をシリカゲルカラム〔溶媒；酢酸エチルーヘキサン
（３：１））で精製して、５−メトキシメチル−２−オ
キサゾリドン３．３６ｇを無色油状物として得る。
（３：１））で精製して、５−メトキシメチル−２−オ
キサゾリドン３．３６ｇを無色油状物として得る。
Ｔ Ｒ （ｃｍ−’）： ３３２０， １６５
０（３）■−アミノー３−メトキシー２−プロパノール
３８．４４ｇ及び炭酸ジエチル６４．７８ｇの混合物に
ナトリウムメトキシド１．２ｇを加え、１００゜Ｃで、
２．５日加熱撹拌する。過剰の炭酸ジエステルを除去し
たのち、残渣を無水テトラヒ４０ ドロフラン５０ｍβに溶解し、６３％水素化ナトリウム
１．４ｇを加え、室温で一晩撹拌する。反応液に酢酸４
ｍｌｌを加え、室温で３時間撹拌後、析出不溶物をろ
去ずる。ろ液を濃縮したのち、残渣を減圧蒸留に付して
、５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン４２．３８
ｇを無色油状物として得る。
０（３）■−アミノー３−メトキシー２−プロパノール
３８．４４ｇ及び炭酸ジエチル６４．７８ｇの混合物に
ナトリウムメトキシド１．２ｇを加え、１００゜Ｃで、
２．５日加熱撹拌する。過剰の炭酸ジエステルを除去し
たのち、残渣を無水テトラヒ４０ ドロフラン５０ｍβに溶解し、６３％水素化ナトリウム
１．４ｇを加え、室温で一晩撹拌する。反応液に酢酸４
ｍｌｌを加え、室温で３時間撹拌後、析出不溶物をろ
去ずる。ろ液を濃縮したのち、残渣を減圧蒸留に付して
、５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン４２．３８
ｇを無色油状物として得る。
本品の物理化学的性質は、上記（２）の生成物のものと
一致した。
一致した。
（４）上記（２）又は（３）の生成物５．２４ｇ及び２
−プロモナフタレン４．１４ｇの混合物ニ、１３０゜Ｃ
で撹拌下、活性銅粉６．１０ｇ及び炭酸ナトリウム２．
７６ｇを加えたのち、２００℃で３時間反応させる。冷
却後、酢酸エチルを加え、不溶物をろ去する。ろ液より
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム〔溶媒；酢酸エ
チルーヘキサン（２：３）〕で精製して、３−（２−ナ
フチル）−５メトキシメチル−２−オキサゾリドン２．
３６ｇを無色針状晶として得る。
−プロモナフタレン４．１４ｇの混合物ニ、１３０゜Ｃ
で撹拌下、活性銅粉６．１０ｇ及び炭酸ナトリウム２．
７６ｇを加えたのち、２００℃で３時間反応させる。冷
却後、酢酸エチルを加え、不溶物をろ去する。ろ液より
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム〔溶媒；酢酸エ
チルーヘキサン（２：３）〕で精製して、３−（２−ナ
フチル）−５メトキシメチル−２−オキサゾリドン２．
３６ｇを無色針状晶として得る。
本品の物理化学的性質は実施例１の生成物のも４１
のと一致した。
実施例 ８及び９
対応原料化合物を実施例７−（４）と同様に処理して、
下記第５表記載の目的物を得る。
下記第５表記載の目的物を得る。
第５表
０
実施例 １０
（１）濃アンモニア水５００ｍｌ中に、水冷下、１．２
−エポキシプ口ビルｔ−プチルエーテル１００ｇを滴下
後、室温にて２０時間攪拌する。反応液からアンモニア
水を減圧留去し、残渣にクロロホルムを加え、炭酸カリ
ウムにて乾燥、ろ過した後４２ 、溶媒を留去する。残渣を減圧蒸留に付して、精製して
、１−アミノー３−ｔ−ブトキシ−２−プロバノール４
９．３ｇを得る。
−エポキシプ口ビルｔ−プチルエーテル１００ｇを滴下
後、室温にて２０時間攪拌する。反応液からアンモニア
水を減圧留去し、残渣にクロロホルムを加え、炭酸カリ
ウムにて乾燥、ろ過した後４２ 、溶媒を留去する。残渣を減圧蒸留に付して、精製して
、１−アミノー３−ｔ−ブトキシ−２−プロバノール４
９．３ｇを得る。
ｂ．ｐ． １０９〜１１０゜Ｃ ／３ｎ＋ｎ＋ＩＩｇ珀
．ｐ． ４１〜４３゜Ｃ （２）上記（１）の生成物４９．３ｇ、炭酸ジエチル４
９．１ｇ及びナトリウムメトキシドＯ．１８ｇの混合物
を約１５０゜Ｃにて３時間加熱する（この間、生成する
エタノールを約４０ｍｌ留去する。）。
．ｐ． ４１〜４３゜Ｃ （２）上記（１）の生成物４９．３ｇ、炭酸ジエチル４
９．１ｇ及びナトリウムメトキシドＯ．１８ｇの混合物
を約１５０゜Ｃにて３時間加熱する（この間、生成する
エタノールを約４０ｍｌ留去する。）。
反応後、過剰の炭酸ジエチルを減圧留去する。残渣を放
冷し、析出品をヘキサンにて洗浄して、５ｔ−ブトキシ
メチル−２−オキサゾリドン５５４ｇを無色結晶として
得る。
冷し、析出品をヘキサンにて洗浄して、５ｔ−ブトキシ
メチル−２−オキサゾリドン５５４ｇを無色結晶として
得る。
ｍ．ｐ． ５’ｌ〜６５゜Ｃ
（３）上記（２）の生成物１．１ｇと２−ペンジルオキ
シ−６−ブロモナフタレン１．０ｇとを実施例７（４）
と同様に処理して、３−（６−ペンジルオキシ−２−ナ
フチル）−５−ｔ−ブトキシメチル２−オキサゾリドン
０．７３ｇを無色結晶として得る。
シ−６−ブロモナフタレン１．０ｇとを実施例７（４）
と同様に処理して、３−（６−ペンジルオキシ−２−ナ
フチル）−５−ｔ−ブトキシメチル２−オキサゾリドン
０．７３ｇを無色結晶として得る。
４３
ｍ．ｐ．１５１．５〜 １５２゜Ｃ
（酢Ｍエチル−イソプロビルエーテル）実施例 １１
（１） （Ｒ）一α，β−イブロピリデングリセロール
１４．４ｇ及びビリジン６０ｍｌの混合物に、トシルク
ロリド２１．０ｇを、水冷下、小量ずつ加え、４時間撹
拌する。さらに、水冷下、水５０ｍｌを加え、室温で１
０分間攪拌する。反応液を酢酸エチル抽出する。抽出液
を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去して、（４Ｓ）−２．
２−ジメチル−４−トシルオキシ１．３−ジオキソラン
２９．５ｇを淡褐色油状物として得る。
１４．４ｇ及びビリジン６０ｍｌの混合物に、トシルク
ロリド２１．０ｇを、水冷下、小量ずつ加え、４時間撹
拌する。さらに、水冷下、水５０ｍｌを加え、室温で１
０分間攪拌する。反応液を酢酸エチル抽出する。抽出液
を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去して、（４Ｓ）−２．
２−ジメチル−４−トシルオキシ１．３−ジオキソラン
２９．５ｇを淡褐色油状物として得る。
４３
（２）上記（１）の生成物９．５１ｇ、６−（シクロプ
ロピルメトキシ）ナフチルアミン５．２５ｇ，ヨウ化ナ
トリウム５．５４ｇ，炭酸水素ナトリウム６．２ｇ及び
ヘキサメチルホスホリックトリアミ４４ ド４２ｍｌの混合物を１２０゜Ｃで１１時間攪拌する。
ロピルメトキシ）ナフチルアミン５．２５ｇ，ヨウ化ナ
トリウム５．５４ｇ，炭酸水素ナトリウム６．２ｇ及び
ヘキサメチルホスホリックトリアミ４４ ド４２ｍｌの混合物を１２０゜Ｃで１１時間攪拌する。
反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液を水洗
、乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲル力ラ
ム〔溶媒：酢酸エチルーヘキサン（１：５））で精製し
、さらに酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、（４Ｒ
） −４− ［６− （シクロプロピルメトキシ）−２
−ナフチルアミノメチル］−２．２−ジメチル−１．３
−ジオキソラン５．８８ｇを淡黄色鱗片状晶として得る
。
、乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲル力ラ
ム〔溶媒：酢酸エチルーヘキサン（１：５））で精製し
、さらに酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、（４Ｒ
） −４− ［６− （シクロプロピルメトキシ）−２
−ナフチルアミノメチル］−２．２−ジメチル−１．３
−ジオキソラン５．８８ｇを淡黄色鱗片状晶として得る
。
ｍ．ｐ． １０８．５〜１０９．０゜Ｃｒα］ −
１２．９’ （ｃ＝１．０８９， クロＴｌｌルム
）（３）上記（２）の生成物８．０９ｇ、ＩＮ塩酸３５
ｄ及びテトラヒドロフラン８０＋ｊ！の混合物を６０゜
Ｃで２時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣を炭酸
水素ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去
する。残渣を酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、（
２Ｒ） −３− （６−シクロプロビルメトキシ−２−
ナフチルアミノ）−１．２−プロパンジオ４５ ール６．９３ｇを淡褐色鱗片状晶として得る。
１２．９’ （ｃ＝１．０８９， クロＴｌｌルム
）（３）上記（２）の生成物８．０９ｇ、ＩＮ塩酸３５
ｄ及びテトラヒドロフラン８０＋ｊ！の混合物を６０゜
Ｃで２時間攪拌する。反応液を減圧濃縮し、残渣を炭酸
水素ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去
する。残渣を酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、（
２Ｒ） −３− （６−シクロプロビルメトキシ−２−
ナフチルアミノ）−１．２−プロパンジオ４５ ール６．９３ｇを淡褐色鱗片状晶として得る。
ｍ．ｐ． １３８．０〜１３Ｂ．５゜Ｃ［α］ ＋
８．０ ’ （ｃ＝０．８９８， テトラヒト■
フラン）（４）上記（３）の生成物１．３６ｇ、炭酸ジ
ェチル６７０ｍｇ、トルエン１ｍｌ及びナトリウムメト
キシド５０ｍｇの混合物を１５０゜Ｃで１時間攪拌する
。反応液から溶媒を減圧留去した後、残渣に酢酸１ ｍ
ｌを加え、シリカゲル力ラム〔溶媒：クロロホルム酢酸
エチル（１：１〜１：３）〕で精製して、（５Ｒ） −
３− （６−シクロプロビルメトキシ−２−ナフチル）
−５−ヒドロキシメチル−２−オキサゾリドン１．０６
ｇを無色針状晶として得る。
８．０ ’ （ｃ＝０．８９８， テトラヒト■
フラン）（４）上記（３）の生成物１．３６ｇ、炭酸ジ
ェチル６７０ｍｇ、トルエン１ｍｌ及びナトリウムメト
キシド５０ｍｇの混合物を１５０゜Ｃで１時間攪拌する
。反応液から溶媒を減圧留去した後、残渣に酢酸１ ｍ
ｌを加え、シリカゲル力ラム〔溶媒：クロロホルム酢酸
エチル（１：１〜１：３）〕で精製して、（５Ｒ） −
３− （６−シクロプロビルメトキシ−２−ナフチル）
−５−ヒドロキシメチル−２−オキサゾリドン１．０６
ｇを無色針状晶として得る。
ｎ＋．ｐ． １８１．５〜１８２．５
［α］ −６１．４° （ｃ＝１．０３１， ク
ロロホ｝岬ム）実施例 ｌ２ （５Ｒ） −３− （６−シクロブ口ピルメトキシ−２
−ナフチル）−５−ヒドロキシメチル−２−オキサゾリ
ドン６２６■、水素化ナトリウム１１４ｍｇ、ジメチル
ルム４６ アミド５ ｍｌの混合物を室温で１０分攪拌する。反応
液にヨウ化メチル３５０ｍｇを加えた後、室温で２時間
攪拌する。酢酸０．１ｍＮを加えた後、反応液を水に注
ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒
を減圧留去する。残渣をシリカゲルカラム〔溶媒：クロ
ロホルムー酢酸エチル（２１））で精製して、（５Ｒ）
−３−（６−シクロプロビルメトキシ−２−ナフチル）
−５一メ１〜キシメチル−２オキサゾリドン５０１■を
無色鱗片状品として得る。
ロロホ｝岬ム）実施例 ｌ２ （５Ｒ） −３− （６−シクロブ口ピルメトキシ−２
−ナフチル）−５−ヒドロキシメチル−２−オキサゾリ
ドン６２６■、水素化ナトリウム１１４ｍｇ、ジメチル
ルム４６ アミド５ ｍｌの混合物を室温で１０分攪拌する。反応
液にヨウ化メチル３５０ｍｇを加えた後、室温で２時間
攪拌する。酢酸０．１ｍＮを加えた後、反応液を水に注
ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒
を減圧留去する。残渣をシリカゲルカラム〔溶媒：クロ
ロホルムー酢酸エチル（２１））で精製して、（５Ｒ）
−３−（６−シクロプロビルメトキシ−２−ナフチル）
−５一メ１〜キシメチル−２オキサゾリドン５０１■を
無色鱗片状品として得る。
ｍ．ｐ． １１９．０〜１１９．５ ゜Ｃ［α］
−５４．２’ （ｃ＝１．１３６， クＤＯ＊
１レム）実施例 １３ ３−（７−ニトロ−２−ナフチル）−５一メトキシメチ
ル−２−オキサゾリドン６．９９ｇを酢酸１４０ｍｌｌ
に懸濁し、１０％バラジウムー炭素２．１ｇを加え、常
温、常圧にて接触還元に付す。
−５４．２’ （ｃ＝１．１３６， クＤＯ＊
１レム）実施例 １３ ３−（７−ニトロ−２−ナフチル）−５一メトキシメチ
ル−２−オキサゾリドン６．９９ｇを酢酸１４０ｍｌｌ
に懸濁し、１０％バラジウムー炭素２．１ｇを加え、常
温、常圧にて接触還元に付す。
反応液をセライトろ過し、ろ液を減圧留去する。
残渣に酢酸エチルを加え、該酢酸エチル層を洗浄４７
、乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラム〔溶媒；酢酸エチ
ル−ヘキサン（２：１〜３：１））で精製ずる。残渣を
酢酸エチルーイソプロビルエーテルから再結晶して、３
−（７−アミノー２−ナフチル）−５−メトキシメチル
−２−オキザゾリドン４．９６ｇを得る。
ル−ヘキサン（２：１〜３：１））で精製ずる。残渣を
酢酸エチルーイソプロビルエーテルから再結晶して、３
−（７−アミノー２−ナフチル）−５−メトキシメチル
−２−オキザゾリドン４．９６ｇを得る。
ｍ．ｐ． ９８〜９９゜Ｃ
実施例 ｌ４及び１５
３−（７−アミノー２−ナフチル）−５一メトキシメチ
ル−２−オキサゾリドン３．４７ｇ，水６ ｍａｌ及び
濃塩酸３．３ｒｄの混合物に、亜硝酸ナトリウム０．９
７ｇの水６ ｒｒｄｌ溶液を、０〜５゜Ｃにて滴下し、
しばらく攪拌した後、メタノール１００戚を一気に加え
、室温で７時間攪拌後、冷蔵庫で一晩放置する。反応液
を酢酸エチル抽出し、洗浄、乾燥後、更に水層をクロロ
ホルム抽出し、乾燥する。得られる残渣（１．８８ｇ）
をシリカゲル力ラム〔溶媒；酢酸エチルーヘキサン（１
： １）〕で精製して、３−（７−メトキシ−２−ナ
フチル）−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン４
８ 〔実施例１４、ｍ．ｐ．９５．５〜９６．５゜Ｃ（酢酸
エチルヘキサン）〕及び３−（７−ヒドロキシ−２−ナ
フチル）−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン〔
実施例１５、ｍ．ｐ． １５５〜１５７゜Ｃ（酢酸エチ
ルーヘキサン）〕を得る。
ル−２−オキサゾリドン３．４７ｇ，水６ ｍａｌ及び
濃塩酸３．３ｒｄの混合物に、亜硝酸ナトリウム０．９
７ｇの水６ ｒｒｄｌ溶液を、０〜５゜Ｃにて滴下し、
しばらく攪拌した後、メタノール１００戚を一気に加え
、室温で７時間攪拌後、冷蔵庫で一晩放置する。反応液
を酢酸エチル抽出し、洗浄、乾燥後、更に水層をクロロ
ホルム抽出し、乾燥する。得られる残渣（１．８８ｇ）
をシリカゲル力ラム〔溶媒；酢酸エチルーヘキサン（１
： １）〕で精製して、３−（７−メトキシ−２−ナ
フチル）−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン４
８ 〔実施例１４、ｍ．ｐ．９５．５〜９６．５゜Ｃ（酢酸
エチルヘキサン）〕及び３−（７−ヒドロキシ−２−ナ
フチル）−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン〔
実施例１５、ｍ．ｐ． １５５〜１５７゜Ｃ（酢酸エチ
ルーヘキサン）〕を得る。
実施例 １６
６−（５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン−３−
イル）−２−ナフチルスルホン酸ナトリウム３，Ｏｇの
ジメ千ルホルムアミド２４ｍ２懸濁液に、水冷下、チオ
ニルクロリド１．０一を加え、室温で１時間攪拌する。
イル）−２−ナフチルスルホン酸ナトリウム３，Ｏｇの
ジメ千ルホルムアミド２４ｍ２懸濁液に、水冷下、チオ
ニルクロリド１．０一を加え、室温で１時間攪拌する。
氷冷した後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチル抽出した
後、洗浄、乾燥して、淡褐色泡状物２．９１ｇを得る。
後、洗浄、乾燥して、淡褐色泡状物２．９１ｇを得る。
該生成物のテトラヒド口フラン５０ｒｔｄｌ溶液に、水
冷下、濃水酸化アンモニウム水溶液１０ｍｌを加え、室
温で２時間攪拌したのち、水２ ０ ０ ａｌｌを加え
、しばらく攪拌後、室温で一晩放置する。析出晶をろ取
後、エタノールから再結晶して、３−（６−アミノスル
ホニルー２−ナフチル）−５一メトキシメチル−２−オ
キサゾリドン１．９７ｇを４９ 無色粉末として得る。
冷下、濃水酸化アンモニウム水溶液１０ｍｌを加え、室
温で２時間攪拌したのち、水２ ０ ０ ａｌｌを加え
、しばらく攪拌後、室温で一晩放置する。析出晶をろ取
後、エタノールから再結晶して、３−（６−アミノスル
ホニルー２−ナフチル）−５一メトキシメチル−２−オ
キサゾリドン１．９７ｇを４９ 無色粉末として得る。
ｍ．ｐ． １６６ 〜１６８゜Ｃ
実施例 １７
３−（６−ペンジルオキシ−２−ナフヂル）５−メトキ
シメチル−２−オキサゾリドン１８．９ｇをテトラヒド
ロフラン７００成に溶解し１０％パラジウムー炭素１０
．０ｇを加える。混合物を常温、常圧で１０時間、接触
還元に付す。反応液から触媒をろ去した後、溶媒を留去
し、残渣をエタノールーテトラヒドロフランーイソプ口
ビルエーテルから再結晶して、３−（６−ヒドロキシ２
−ナフチル）−５−メトキシメチル−２−オキサゾリド
ン１１．２ｇを無色針状晶として得るｍ．ｐ．１９２〜
１９３゜Ｃ 実施例 １日 ３−（６−ペンジルオキシ−２−ナフチル）ｔ−ブトキ
シメチル−２−オキサゾリドン３０．６ｇを実施例１７
と同様に処理して、３−（ヒドロキシ−２−ナフチル）
−５−ｔ−ブト５ ６ ５０ キシメチル−２−オキサゾリドン２２．７ｇを無色結晶
として得る。
シメチル−２−オキサゾリドン１８．９ｇをテトラヒド
ロフラン７００成に溶解し１０％パラジウムー炭素１０
．０ｇを加える。混合物を常温、常圧で１０時間、接触
還元に付す。反応液から触媒をろ去した後、溶媒を留去
し、残渣をエタノールーテトラヒドロフランーイソプ口
ビルエーテルから再結晶して、３−（６−ヒドロキシ２
−ナフチル）−５−メトキシメチル−２−オキサゾリド
ン１１．２ｇを無色針状晶として得るｍ．ｐ．１９２〜
１９３゜Ｃ 実施例 １日 ３−（６−ペンジルオキシ−２−ナフチル）ｔ−ブトキ
シメチル−２−オキサゾリドン３０．６ｇを実施例１７
と同様に処理して、３−（ヒドロキシ−２−ナフチル）
−５−ｔ−ブト５ ６ ５０ キシメチル−２−オキサゾリドン２２．７ｇを無色結晶
として得る。
ｍ．ｐ． １７７〜１７８゜Ｃ（テトラヒドロフランー
イソブ口ビルエーテルーヘキサン） 実施例 １９ ３−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン２．０ｇのジメチルホルムア
ミド２５ｍ２溶液に炭酸カリウム５．０６ｇ及びヨウ化
エチル２ ｍｌを加え、室温で４時間攪拌する。反応液
を酢酸エチルで希釈し、水洗、乾燥後、得られる残渣を
酢酸エチルーイソプ口ピルエーテルから再結晶して、３
−（６−エトキシー２−ナフチル）−５−メトキシメチ
ル２−オキザゾリドン１．８９ｇを無色雲母状物として
得る。
イソブ口ビルエーテルーヘキサン） 実施例 １９ ３−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン２．０ｇのジメチルホルムア
ミド２５ｍ２溶液に炭酸カリウム５．０６ｇ及びヨウ化
エチル２ ｍｌを加え、室温で４時間攪拌する。反応液
を酢酸エチルで希釈し、水洗、乾燥後、得られる残渣を
酢酸エチルーイソプ口ピルエーテルから再結晶して、３
−（６−エトキシー２−ナフチル）−５−メトキシメチ
ル２−オキザゾリドン１．８９ｇを無色雲母状物として
得る。
ｍ．ｐ． １２９．５〜１３０．５゜Ｃ実施例 ２０〜
４６ 対応原料化合物を実施例１９と同様に処理して、下記第
６表記載の目的物を得る。
４６ 対応原料化合物を実施例１９と同様に処理して、下記第
６表記載の目的物を得る。
５１
第
６
表
５２
５３
＊：塩酸塩として測定。
なお、表中、Ｍｅ及びｔＢｕは、それぞれメチル基及び
第三級ブチル基を表す（以下同様）。
第三級ブチル基を表す（以下同様）。
実施例 ４７
３−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン７２０ｍｇ，アクリロニトリ
ル５戚、テトラヒド口フラン５ ｍｌｌ及ヒ４０χ水酸
化ペンジルトリメチルアンモニウムのメタノール溶液０
．１ｍｌを加え２日間還流する。反応液を減圧乾固した
後、酢酸エチル抽出し、水洗、乾燥後、更に減圧乾固す
る。残渣をシリカ５４ ゲル力ラム〔溶媒；クロロホルムーメタノール（２０１
））で精製した後、酢酸エチルーヘキサンから再結晶し
て、３−（６−シアノエトキシ２−ナフチル）−５−メ
トキシメチル−２−オキサゾリドン４１０ｍｇを無色鱗
片状結晶として得る。
チル−２−オキサゾリドン７２０ｍｇ，アクリロニトリ
ル５戚、テトラヒド口フラン５ ｍｌｌ及ヒ４０χ水酸
化ペンジルトリメチルアンモニウムのメタノール溶液０
．１ｍｌを加え２日間還流する。反応液を減圧乾固した
後、酢酸エチル抽出し、水洗、乾燥後、更に減圧乾固す
る。残渣をシリカ５４ ゲル力ラム〔溶媒；クロロホルムーメタノール（２０１
））で精製した後、酢酸エチルーヘキサンから再結晶し
て、３−（６−シアノエトキシ２−ナフチル）−５−メ
トキシメチル−２−オキサゾリドン４１０ｍｇを無色鱗
片状結晶として得る。
ｍ．ｐ．１１０〜１１２ ゜Ｃ
実施例 ４８〜５０
対応原料化合物を実施例４７と同様に処理して、下記第
７表記載の化合物を得る。
７表記載の化合物を得る。
第７表
５５
実施例 ５１
３−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン９５０ｍｇ，エチルイソシア
ネート３ １ ０ ｍｇ， 塩化メチレン１５ｄ、テト
ラヒド口フラン１ｏＩｄ及びトリエチルアミン１滴の混
合物を室温で４時間攪拌した後、エチルイソシアネー｝
１．５ｇを追加し、３時間還流する。反応液を減圧乾固
する。残渣に酢酸エチルを加え、水洗、炭未処理後、乾
燥する。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルーイソブ
ロビルエーテルから再結晶して、３−（６−エチルアミ
ノ力ルポニルオキシ−２−ナフチル）−５−メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン８００ｍｇを無色プリズム品
として得る。
チル−２−オキサゾリドン９５０ｍｇ，エチルイソシア
ネート３ １ ０ ｍｇ， 塩化メチレン１５ｄ、テト
ラヒド口フラン１ｏＩｄ及びトリエチルアミン１滴の混
合物を室温で４時間攪拌した後、エチルイソシアネー｝
１．５ｇを追加し、３時間還流する。反応液を減圧乾固
する。残渣に酢酸エチルを加え、水洗、炭未処理後、乾
燥する。溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチルーイソブ
ロビルエーテルから再結晶して、３−（６−エチルアミ
ノ力ルポニルオキシ−２−ナフチル）−５−メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン８００ｍｇを無色プリズム品
として得る。
ｍ．ｐ． １２６．５〜１２７．５゜Ｃ実施例 ５２
３−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン２．０ｇ及び無水酢酸１（ｌ
を１時間加熱還流する。反応液から過剰の無水酢酸を留
去し、残渣を酢酸エチル５６ イソブロビルエーテルから再結晶して、３−（６−アセ
チルオキシ−２−り〜フチル）−５一メトキシメチル−
２−オキサゾリドン２．２５ｇを無色結晶として得る。
チル−２−オキサゾリドン２．０ｇ及び無水酢酸１（ｌ
を１時間加熱還流する。反応液から過剰の無水酢酸を留
去し、残渣を酢酸エチル５６ イソブロビルエーテルから再結晶して、３−（６−アセ
チルオキシ−２−り〜フチル）−５一メトキシメチル−
２−オキサゾリドン２．２５ｇを無色結晶として得る。
ｍ．ｐ． １１０〜１１２．５゜Ｃ
実施例 ５３
３−（６−（メチルチオエチルオキシ）−２ナフヂル〕
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン１．８８ｇ
の塩化メチレン１ ０ ０ ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過
安息香酸１．０７ｇを室温にて少量づつ加える。室温に
て１時間撹拌後、１０％水酸化ナトリウム水溶液及び水
で洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラム〔溶媒：クロロホルムーメタノール（３０：１））
で精製した後、酢酸エチルーテトラヒドロフランーイソ
プロビルエーテルから再結晶して、３− （６− （メ
チルスルフィニルエチルオキシ）−２−ナフチル〕−５
−メトキシメチル−２−オキサゾリドン１．２１ｇを無
色プリズム晶として得る。
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン１．８８ｇ
の塩化メチレン１ ０ ０ ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過
安息香酸１．０７ｇを室温にて少量づつ加える。室温に
て１時間撹拌後、１０％水酸化ナトリウム水溶液及び水
で洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラム〔溶媒：クロロホルムーメタノール（３０：１））
で精製した後、酢酸エチルーテトラヒドロフランーイソ
プロビルエーテルから再結晶して、３− （６− （メ
チルスルフィニルエチルオキシ）−２−ナフチル〕−５
−メトキシメチル−２−オキサゾリドン１．２１ｇを無
色プリズム晶として得る。
ｍ．ｐ． １３３ 〜１４１゜Ｃ
５７
実施例 ５４
３− （６−（メチルチオエチルオキシ）−２ナフチル
〕−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドンＩ．２０
ｇの塩化メチレン４０１ｒｄｌ溶液に、ｍ−クロロ過安
息香酸１．６５ｇを加え室温で３時間撹拌する。反応液
を、１０％水酸化ナトリウム水溶液と水で洗浄、乾燥後
、溶媒を留去する。
〕−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドンＩ．２０
ｇの塩化メチレン４０１ｒｄｌ溶液に、ｍ−クロロ過安
息香酸１．６５ｇを加え室温で３時間撹拌する。反応液
を、１０％水酸化ナトリウム水溶液と水で洗浄、乾燥後
、溶媒を留去する。
残渣をシリカゲル力ラム〔溶媒：クロロホルム酢酸エチ
ル（１：１））で精製した後、エタノールーテトラヒド
口フランーイソプロビルエーテルから再結晶して、３−
（６− （メチルスルホニルエチルオキシ）−２〜ナ
フチル〕−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン０
．７３ｇを無色針状晶として得る。
ル（１：１））で精製した後、エタノールーテトラヒド
口フランーイソプロビルエーテルから再結晶して、３−
（６− （メチルスルホニルエチルオキシ）−２〜ナ
フチル〕−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン０
．７３ｇを無色針状晶として得る。
ｍ．ｐ． １２８ 〜１２９゜Ｃ
実施例 ５５
３−（２−ナフチル）−５−ｔ−プトキシメチル−２−
オキサゾリドン３．３６ｇに、冷却下、トリフルオロ酢
酸１０ｍｌを加え、室温で１時間攪拌する。反応液から
トリフルオロ酢酸を留去し、５８ 残渣をエタノールージメチルホルムアミドーイソブロビ
ルエーテルから再結晶して、３−（２−ナフチル）−５
−ヒドロキシメチル−２−オキサゾリドン２．１６ｇを
無色結晶として得る。
オキサゾリドン３．３６ｇに、冷却下、トリフルオロ酢
酸１０ｍｌを加え、室温で１時間攪拌する。反応液から
トリフルオロ酢酸を留去し、５８ 残渣をエタノールージメチルホルムアミドーイソブロビ
ルエーテルから再結晶して、３−（２−ナフチル）−５
−ヒドロキシメチル−２−オキサゾリドン２．１６ｇを
無色結晶として得る。
ｍ．ｐ． １１４〜１１４．５゜Ｃ
実施例 ５６〜５８
対応原料化合物を実施例５５と同様に処理して、下記第
８表記載の化合物を得る。
８表記載の化合物を得る。
第８表
５９
実施例 ５９
３−（２−ナフチル）−５−ヒドロキシメチル＝２−オ
キサゾリドン１２．０ｇ，塩化メチレン２４０ｄ及びト
リエチルアミン１０．０ｇの懸濁状混合物に、水冷下、
メチルスルホニルクロリド８．５ｇの塩化メチレン１
２ ０ ｍｌ溶液を滴下し、室温で３時間撹拌する。反
応液に、更にメチルスルホニルクロリド１。Ｏｇのテト
ラヒド口フラン５０ｍＲ溶液を滴下し、室温で２時間攪
拌する。反応液を水洗後、乾燥し、残渣をイソプロビル
エーテルから再結晶して、３−（２−ナフチル）−５メ
チルスルホニルオキシメチル−２−オキサゾリドン１４
．７ｇを無色結晶として得る。
キサゾリドン１２．０ｇ，塩化メチレン２４０ｄ及びト
リエチルアミン１０．０ｇの懸濁状混合物に、水冷下、
メチルスルホニルクロリド８．５ｇの塩化メチレン１
２ ０ ｍｌ溶液を滴下し、室温で３時間撹拌する。反
応液に、更にメチルスルホニルクロリド１。Ｏｇのテト
ラヒド口フラン５０ｍＲ溶液を滴下し、室温で２時間攪
拌する。反応液を水洗後、乾燥し、残渣をイソプロビル
エーテルから再結晶して、３−（２−ナフチル）−５メ
チルスルホニルオキシメチル−２−オキサゾリドン１４
．７ｇを無色結晶として得る。
竹．ｐ． １６９〜１７２゜Ｃ
実施例 ６０
１（２−ナフチル）−５−メチルスルホニルオキシメチ
ル−２−オキサゾリドン３．０ｇ，４０％のモノメチル
アミン水溶液１ ２ ０ ｍｌ、テトラヒド口フラン１
００ｍｆｆｉ及びジメチルホルムアミド５０ｍｌの混合
物を封管し、室温で２日間攪拌する６０ 。反応液から過剰のモノメチルアミン及びテトラヒドロ
フランを留去した後、酢酸エチル抽出し、水洗、乾燥す
る。残渣をシリカゲル力ラム〔溶媒；クロロホルムーメ
タノール（２０：１））で精製し、酢酸エチルーヘキサ
ンから再結晶し、３（２−ナフチル）−５−メチルアミ
ノメチル−２一オキサゾリドン１．１２ｇを無色結晶と
して得る。
ル−２−オキサゾリドン３．０ｇ，４０％のモノメチル
アミン水溶液１ ２ ０ ｍｌ、テトラヒド口フラン１
００ｍｆｆｉ及びジメチルホルムアミド５０ｍｌの混合
物を封管し、室温で２日間攪拌する６０ 。反応液から過剰のモノメチルアミン及びテトラヒドロ
フランを留去した後、酢酸エチル抽出し、水洗、乾燥す
る。残渣をシリカゲル力ラム〔溶媒；クロロホルムーメ
タノール（２０：１））で精製し、酢酸エチルーヘキサ
ンから再結晶し、３（２−ナフチル）−５−メチルアミ
ノメチル−２一オキサゾリドン１．１２ｇを無色結晶と
して得る。
ｍ．ｐ． ７６．５ 〜７ｇ．０゜Ｃ
実施例 ６１
３−（２−ナフチル）−５−メチルスルホニルオキシメ
チル−２−オキサゾリドン１１．６ｇ，ジメチルホルム
アミド２ ３ ０ ｍｆｌ及びアジ化ナトリウム４．８
４ｇの水２３ｍ！溶液の混合物を８０゜Ｃで９時間攪拌
する。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液
を水洗、乾燥後、酢酸エチルーヘキサンから再結晶して
、３−（２−ナフチル）−５−｝リアゾメチル−２−オ
キサゾリドン８６２ｇを無色結晶として得る。
チル−２−オキサゾリドン１１．６ｇ，ジメチルホルム
アミド２ ３ ０ ｍｆｌ及びアジ化ナトリウム４．８
４ｇの水２３ｍ！溶液の混合物を８０゜Ｃで９時間攪拌
する。反応液を水に注ぎ、酢酸エチル抽出する。抽出液
を水洗、乾燥後、酢酸エチルーヘキサンから再結晶して
、３−（２−ナフチル）−５−｝リアゾメチル−２−オ
キサゾリドン８６２ｇを無色結晶として得る。
ｍ．ｐ． １１５．０〜１１６．５”Ｃ６１
実施例 ６２
３−（２−ナフチル）−５−１−リアゾメチル２−オキ
サゾリドン８．５３ｇをテトラヒドロフラン１００ｄ一
酢酸１ ０ ０ ｍｌの混液に溶解し、１０％パラジウ
ムー炭素２．０ｇを加え、常温常圧で接触還元する。パ
ラジウムー炭素を除去後、溶媒を減圧留去する。残渣を
炭酸水素ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、析出
晶をろ取、水洗後、シリカゲル力ラム〔溶媒；クロロホ
ルムーメタノール（４０：１〜８：１）：ｌで精製する
。残渣ヲエタノールーイソプロビルエーテルーヘキサン
から再結晶して、３−（２−ナフチル）−５アミノメチ
ル−２−オキサゾリドン４．９０ｇを無色結晶として得
る。
サゾリドン８．５３ｇをテトラヒドロフラン１００ｄ一
酢酸１ ０ ０ ｍｌの混液に溶解し、１０％パラジウ
ムー炭素２．０ｇを加え、常温常圧で接触還元する。パ
ラジウムー炭素を除去後、溶媒を減圧留去する。残渣を
炭酸水素ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、析出
晶をろ取、水洗後、シリカゲル力ラム〔溶媒；クロロホ
ルムーメタノール（４０：１〜８：１）：ｌで精製する
。残渣ヲエタノールーイソプロビルエーテルーヘキサン
から再結晶して、３−（２−ナフチル）−５アミノメチ
ル−２−オキサゾリドン４．９０ｇを無色結晶として得
る。
ｍ．ｐ． １１２ 〜１１４゜Ｃ
実施例 ６３
３−（２−ナフチル）−５−アミノメチル−２−オキサ
ゾリドン１．８ｇ，クロロホルム３６ｍ２、無水酢酸１
．５ｍｌ及びピリジン１．５ｍｌの混合物を、室温で１
時間攪拌する。反応液を水洗、乾６２ 燥後、酢酸エチルーイソブロビルエーテルから再結晶し
て、３−（２−ナフチル）−５−アセチルアミノメチル
−２−オキサゾリドン１．５６ｇを無色結晶として得る
。
ゾリドン１．８ｇ，クロロホルム３６ｍ２、無水酢酸１
．５ｍｌ及びピリジン１．５ｍｌの混合物を、室温で１
時間攪拌する。反応液を水洗、乾６２ 燥後、酢酸エチルーイソブロビルエーテルから再結晶し
て、３−（２−ナフチル）−５−アセチルアミノメチル
−２−オキサゾリドン１．５６ｇを無色結晶として得る
。
ｍ．ｐ． １５２〜１５４・℃
実施例 ６４
（］）３−（６−ペンジルオキシ−２−ナフチル）−５
一メトキシメチル−２−オキサゾリドン２．Ｏｇ，エタ
ノール２０ｍｌ，水４ ｍｆｌ及び水酸化カリウム１．
０８ｇの混合物を１００゜Ｃで１時間攪拌する。反応液
からエタノールを減圧留去し、残渣を酢酸エチル抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を減圧下で留去する。
一メトキシメチル−２−オキサゾリドン２．Ｏｇ，エタ
ノール２０ｍｌ，水４ ｍｆｌ及び水酸化カリウム１．
０８ｇの混合物を１００゜Ｃで１時間攪拌する。反応液
からエタノールを減圧留去し、残渣を酢酸エチル抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を減圧下で留去する。
残渣を酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、Ｎ−（３
−メトキシ−２−ヒドロキシプロビル）−６−ペンジル
オキシ−２−ナフチルアミン１．６４ｇを無色針状晶と
して得る。
−メトキシ−２−ヒドロキシプロビル）−６−ペンジル
オキシ−２−ナフチルアミン１．６４ｇを無色針状晶と
して得る。
ｍ．ｐ． １０３〜１０４゜Ｃ
（２）上記（１）の生成物１０．０ｇ、塩化メチレン７
０ｍｌ！，水７０ｍ！及び炭酸水素ナトリウム４．９８
ｇの混合物に、クロロギ酸エチル３．５３ｇ及び６３ 塩化メチレン５ ｍａｌの混合物を、水冷下滴下したの
ち、室温で１． ５時間攪拌する。反応液に、クロロ
ギ酸エチル０．３５ｇ及び塩化メチレン２ ｍａｌの混
合物を加え、室温で４時間攪拌する。有機層を分離し、
水層は塩化メチレン抽出する。これら有機層と抽出液を
合わせ、乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲ
ル力ラム〔溶媒：酢酸エチルーヘキサン（１：１））で
精製して、Ｎ一エトキシカルボニルーＮ−（３−メトキ
シ−２−ヒドロキシプ口ビル）−６−ペンジルオキシ−
２−ナフチルアミン１２６６ｇを、無色油状物として得
る。
０ｍｌ！，水７０ｍ！及び炭酸水素ナトリウム４．９８
ｇの混合物に、クロロギ酸エチル３．５３ｇ及び６３ 塩化メチレン５ ｍａｌの混合物を、水冷下滴下したの
ち、室温で１． ５時間攪拌する。反応液に、クロロ
ギ酸エチル０．３５ｇ及び塩化メチレン２ ｍａｌの混
合物を加え、室温で４時間攪拌する。有機層を分離し、
水層は塩化メチレン抽出する。これら有機層と抽出液を
合わせ、乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシリカゲ
ル力ラム〔溶媒：酢酸エチルーヘキサン（１：１））で
精製して、Ｎ一エトキシカルボニルーＮ−（３−メトキ
シ−２−ヒドロキシプ口ビル）−６−ペンジルオキシ−
２−ナフチルアミン１２６６ｇを、無色油状物として得
る。
Ｍａｓｓ（ｍ／ｚ）： ４０９（Ｍ” Ｌ ３１８＋
９Ｈｂａｓｅ），（３）上記（２）の生成物１２．１
２ｇ、テトラヒド口フラン１２０ｉ１及び（２Ｓ）−１
−（２−ナフチルスルホニル）ピロリジン−２−カルボ
ニルクロリド１１．５ｇに、ビリジン４．６８ｇ及びテ
トラヒド口フラン１０ｍｌｌの混合液を滴下し、室温で
３．５時間攪拌する。反応液を酢酸エチル５００＋４！
で希釈し、６４ ５％塩酸及び水で洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去する。
９Ｈｂａｓｅ），（３）上記（２）の生成物１２．１
２ｇ、テトラヒド口フラン１２０ｉ１及び（２Ｓ）−１
−（２−ナフチルスルホニル）ピロリジン−２−カルボ
ニルクロリド１１．５ｇに、ビリジン４．６８ｇ及びテ
トラヒド口フラン１０ｍｌｌの混合液を滴下し、室温で
３．５時間攪拌する。反応液を酢酸エチル５００＋４！
で希釈し、６４ ５％塩酸及び水で洗浄、乾燥後、溶媒を減圧留去する。
残渣をシリカゲル力ラム［溶媒：酢酸エチルーヘキサン
（２ ： ３） ）で精製して、Ｎ一エトキシカルボニ
ル−Ｎ− （（２Ｒ）−３−メトキシ−２− （（
２Ｓ）１−（２−ナフチルスルホニル）ビロリジン−２
−カルボニルオキシ〕プロビル｝−６−ペンジルオキシ
−２ナフチルアミン（生成物Ａ）９。４８ｇ及びＮエト
キシカルボニルーＮ− ｛ （２Ｓ）−３−メトキシ
−２（（２Ｓ）−１−（２−ナフチルスルホニル）ピロ
リジン−２カルポニルオキシ〕プロビル｝−６−ペンジ
ルオキシ−２−ナフチルアミン（生成物Ｂ）９．２８ｇ
を無色油状物として得る。
（２ ： ３） ）で精製して、Ｎ一エトキシカルボニ
ル−Ｎ− （（２Ｒ）−３−メトキシ−２− （（
２Ｓ）１−（２−ナフチルスルホニル）ビロリジン−２
−カルボニルオキシ〕プロビル｝−６−ペンジルオキシ
−２ナフチルアミン（生成物Ａ）９。４８ｇ及びＮエト
キシカルボニルーＮ− ｛ （２Ｓ）−３−メトキシ
−２（（２Ｓ）−１−（２−ナフチルスルホニル）ピロ
リジン−２カルポニルオキシ〕プロビル｝−６−ペンジ
ルオキシ−２−ナフチルアミン（生成物Ｂ）９．２８ｇ
を無色油状物として得る。
生成物Ａ：
［α］ −３５．５０ ’ （ｃ＝０．５６９
． クロＩＩホ１レム）生成物Ｂ： Ｉ Ｒ （ｃｍ −’）： １７５０（ｂｒ），
１６９５’（ｂｒ）， １６０５６５ ［α］ −５６．４２ ’ （ｃ＝０．６７７
． クｕＯ杉ム）（４）上記（３）で得られた生成物
Ａ８．９５ｇ、水酸化ナトリウム２．５７ｇ、エタノー
ル１００ｄ及び水２０ｍの混合物を１００゜Ｃで１時間
攪拌する。反応液から溶媒を減圧留去し、残渣に水を加
える。混合液を酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥後、濃
縮する。残渣にヘキサンを加え、析出晶をろ取して、Ｎ
− （（２Ｒ）−３−メトキシー２−ヒドロキシブ口ビ
ル〕−６−ペンジルオキシ−２−ナフチルアミン３．７
６ｇを無色結晶として得る。
． クロＩＩホ１レム）生成物Ｂ： Ｉ Ｒ （ｃｍ −’）： １７５０（ｂｒ），
１６９５’（ｂｒ）， １６０５６５ ［α］ −５６．４２ ’ （ｃ＝０．６７７
． クｕＯ杉ム）（４）上記（３）で得られた生成物
Ａ８．９５ｇ、水酸化ナトリウム２．５７ｇ、エタノー
ル１００ｄ及び水２０ｍの混合物を１００゜Ｃで１時間
攪拌する。反応液から溶媒を減圧留去し、残渣に水を加
える。混合液を酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥後、濃
縮する。残渣にヘキサンを加え、析出晶をろ取して、Ｎ
− （（２Ｒ）−３−メトキシー２−ヒドロキシブ口ビ
ル〕−６−ペンジルオキシ−２−ナフチルアミン３．７
６ｇを無色結晶として得る。
ｍ．ｐ． １０５〜１０６゜Ｃ
［α］ −８．２ ’ （ｃ＝０．５３３．
クロロホルム）（５）上記（４）の生成物３．６５ｇ
、塩化メチレン７０ｍｆｌ，カルボニルジイミダゾール
３．５１ｇ及びジイソプ口ピルエチルアミン０．１４ｇ
の混合物を室温で２時間攪拌する。反応液を５％塩酸で
洗浄後、水層を酢酸エチル抽出する。有機層と抽出液を
合わせ、混合液を乾燥後、溶媒を減圧留去す６６ る。残渣を酢酸エチルがら再結晶して、（５Ｒ）〜３−
（６−ペンジルオキシ−２−ナフチル）−５一メトキシ
メチル−２−オキサゾリドン３．６０ｇを無色鱗片状晶
として得る。
クロロホルム）（５）上記（４）の生成物３．６５ｇ
、塩化メチレン７０ｍｆｌ，カルボニルジイミダゾール
３．５１ｇ及びジイソプ口ピルエチルアミン０．１４ｇ
の混合物を室温で２時間攪拌する。反応液を５％塩酸で
洗浄後、水層を酢酸エチル抽出する。有機層と抽出液を
合わせ、混合液を乾燥後、溶媒を減圧留去す６６ る。残渣を酢酸エチルがら再結晶して、（５Ｒ）〜３−
（６−ペンジルオキシ−２−ナフチル）−５一メトキシ
メチル−２−オキサゾリドン３．６０ｇを無色鱗片状晶
として得る。
ｍ．ｐ． １５０〜１５０．５℃
ｒαｌ −５１．１’ （ｃ＝０．３０５，
クａｎＬＢＡ）実施例 ６５ （】）Ｎ一エトキシカルボニルーＮ− （（２ｓ）−
３−メトキシ−２− （ （２Ｓ）−１− （２−ナ
フチルスルホニル）ビロリジン−２−カルポニルオキシ
〕プロビル｝−６−ペンジルオキシ−２−ナフチルアミ
ン９．２ｇを実施例６４−（４）と同様に処理して、Ｎ
− （（２Ｓ）−３− メトキシー２−ヒドロキシプ口
ピル〕−６−ペンジルオキシ−２−ナフチルアミン３．
７６ｇを無色針状晶として得る。
クａｎＬＢＡ）実施例 ６５ （】）Ｎ一エトキシカルボニルーＮ− （（２ｓ）−
３−メトキシ−２− （ （２Ｓ）−１− （２−ナ
フチルスルホニル）ビロリジン−２−カルポニルオキシ
〕プロビル｝−６−ペンジルオキシ−２−ナフチルアミ
ン９．２ｇを実施例６４−（４）と同様に処理して、Ｎ
− （（２Ｓ）−３− メトキシー２−ヒドロキシプ口
ピル〕−６−ペンジルオキシ−２−ナフチルアミン３．
７６ｇを無色針状晶として得る。
川．ｐ． １０５〜１０６“Ｃ
［α］ ＋７．９０’ （ｃ＝０．３４５，
ク１７０ネルム）（２）上記（１）の生成物３．６２ｇ
を実施例６４−（５）６７ と同様に処理して、（５Ｓ）−３−（６−ペンジルオキ
シ−２ナフチル）−５一メトキシメチル−２−オキサゾ
リドン３．５５ｇを無色針状晶として得る。
ク１７０ネルム）（２）上記（１）の生成物３．６２ｇ
を実施例６４−（５）６７ と同様に処理して、（５Ｓ）−３−（６−ペンジルオキ
シ−２ナフチル）−５一メトキシメチル−２−オキサゾ
リドン３．５５ｇを無色針状晶として得る。
ｍ．ｐ． １４９．５〜１５０．５゜Ｃ（α］ ＋
４９．９° （ｃ＝０．３０５， クｔ＋ｕ 参Ｂム
）実施例 ６６ （５１？）−３− （６−ペンジルオキシ−２−ナフチ
ル）−５一メトキシメチル−２−オキサゾリドン１６．
９ｇ，１０％パラジウムー炭素８．５０ｇ及びテトラヒ
ド口フラン４ ０ ０ ｍｌを４５〜５０℃で、常圧下
、２時間攪拌する。不溶物をろ去後、溶媒を減圧留去す
る。残渣をテトラヒドロフランーイソプロビルエーテル
から再結晶して、（５１？） −３− （６−ヒドロキ
シ−２−ナフチル）−５−メトキシメチル−２−オキサ
ゾリドン１１．５ｇを無色プリズム晶として得る。
４９．９° （ｃ＝０．３０５， クｔ＋ｕ 参Ｂム
）実施例 ６６ （５１？）−３− （６−ペンジルオキシ−２−ナフチ
ル）−５一メトキシメチル−２−オキサゾリドン１６．
９ｇ，１０％パラジウムー炭素８．５０ｇ及びテトラヒ
ド口フラン４ ０ ０ ｍｌを４５〜５０℃で、常圧下
、２時間攪拌する。不溶物をろ去後、溶媒を減圧留去す
る。残渣をテトラヒドロフランーイソプロビルエーテル
から再結晶して、（５１？） −３− （６−ヒドロキ
シ−２−ナフチル）−５−メトキシメチル−２−オキサ
ゾリドン１１．５ｇを無色プリズム晶として得る。
ｍ．ｐ．１９０〜１９１ ゜Ｃ
［α］ −７４．０’ （ｃ＝０．３９６，
ットラヒトｌフラン）６８ 実施例 ６７ （５Ｓ）−３−（６−ペンジルオキシ〜２−ナフチル）
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン１５．Ｏｇ
を実施例６６と同様に処理して、（５Ｓ） −３− （
６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５−メトキシメチル
−２−オキサゾリドン１０．３ｇを無色プリズム晶とし
て得る。
ットラヒトｌフラン）６８ 実施例 ６７ （５Ｓ）−３−（６−ペンジルオキシ〜２−ナフチル）
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン１５．Ｏｇ
を実施例６６と同様に処理して、（５Ｓ） −３− （
６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−５−メトキシメチル
−２−オキサゾリドン１０．３ｇを無色プリズム晶とし
て得る。
ｍ．ｐ． １９０〜１９１ ’Ｃ
実施例 ６８
（５Ｒ） −３− （６〜ヒドロキシ−２−ナフチル）
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン２．３８ｇ
，シクロブ口ビルメチルブロミド１．８３ｇ、炭酸カリ
ウム３．５５ｇ及びジメチルホルムアミド３０ａｌｌの
混合物を５０゜Ｃで７時間攪拌する。反応液を水に注ぎ
、酢酸エチル抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を
減圧留去する。残渣をシリカゲルカラム（ｉ９媒： 酢
Ｍエチルークロロホルム（１：１０）〕で精製して、さ
らに酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、＜５Ｒ）−
３−（６−シクロプロピルメトキ６９ シー２−ナフチル）−５−メトキシメチル−２−オキサ
ゾリドン２．５１ｇを無色鱗片状品として得る。
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン２．３８ｇ
，シクロブ口ビルメチルブロミド１．８３ｇ、炭酸カリ
ウム３．５５ｇ及びジメチルホルムアミド３０ａｌｌの
混合物を５０゜Ｃで７時間攪拌する。反応液を水に注ぎ
、酢酸エチル抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を
減圧留去する。残渣をシリカゲルカラム（ｉ９媒： 酢
Ｍエチルークロロホルム（１：１０）〕で精製して、さ
らに酢酸エチルーヘキサンから再結晶して、＜５Ｒ）−
３−（６−シクロプロピルメトキ６９ シー２−ナフチル）−５−メトキシメチル−２−オキサ
ゾリドン２．５１ｇを無色鱗片状品として得る。
ｍ．ｐ． １２０．５〜１２１℃
ｂｒ） −５４．４° （ｃ＝１．０８． クＩ
＋Ｉ＋１μ）実施例 ６９ （５Ｓ） −３− （６−ヒドロキシ−２−ナフチル）
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン３．６９ｇ
とシクロブロビルメチルブロミド２．８４ｇを、実施例
６８と同様に処理して、（５Ｓ） −３− （６−シク
ロプロビルメトキシ−２−ナフチル）−５−メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン４．０７ｇを無色鱗片状晶と
して得るｍ．ｐ． １１９〜１１９．５ ’Ｃ［α
ｌ ＋５４．４’ （ｃ＝１．０８． クａｎ
＊ＩＬＡ）〔発明の効果〕 かくして得られる本発明の目的物（１）は、可逆的かつ
選択的なＭＡＯ−Ａ阻害作用を有し、うつ病、老人性う
つ症状、気分の抑うつ、意欲の低７０ 下、不安、不眠、食欲不振等の治療・予防に用いること
ができる。加えて本発明の目的物（Ｉ）は、作用持続時
間も短く、副作用（肝障害、チーズ効果、偏頭痛等）も
少ないという優れた特長を有する。更に、本発明の目的
物（Ｉ）は、毒性が低く、高い安全性を有する。例えば
、マウス（ＳａｃＦｄｄＹ系，雄性，５−６週令）に、
３−（６−シアノエトキシー２−ナフチル）−５−メト
キシメチル２−オキサゾリドン２ ｇ／Ｋｇを経口投与
した場合、２週間経過しても死亡例は観察されなかった
。
＋Ｉ＋１μ）実施例 ６９ （５Ｓ） −３− （６−ヒドロキシ−２−ナフチル）
−５−メトキシメチル−２−オキサゾリドン３．６９ｇ
とシクロブロビルメチルブロミド２．８４ｇを、実施例
６８と同様に処理して、（５Ｓ） −３− （６−シク
ロプロビルメトキシ−２−ナフチル）−５−メトキシメ
チル−２−オキサゾリドン４．０７ｇを無色鱗片状晶と
して得るｍ．ｐ． １１９〜１１９．５ ’Ｃ［α
ｌ ＋５４．４’ （ｃ＝１．０８． クａｎ
＊ＩＬＡ）〔発明の効果〕 かくして得られる本発明の目的物（１）は、可逆的かつ
選択的なＭＡＯ−Ａ阻害作用を有し、うつ病、老人性う
つ症状、気分の抑うつ、意欲の低７０ 下、不安、不眠、食欲不振等の治療・予防に用いること
ができる。加えて本発明の目的物（Ｉ）は、作用持続時
間も短く、副作用（肝障害、チーズ効果、偏頭痛等）も
少ないという優れた特長を有する。更に、本発明の目的
物（Ｉ）は、毒性が低く、高い安全性を有する。例えば
、マウス（ＳａｃＦｄｄＹ系，雄性，５−６週令）に、
３−（６−シアノエトキシー２−ナフチル）−５−メト
キシメチル２−オキサゾリドン２ ｇ／Ｋｇを経口投与
した場合、２週間経過しても死亡例は観察されなかった
。
７１
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフ
ィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ＾２は水
酸基、低級アルコキシ基、低級アルキルスルホニルオキ
シ基、トリアゾ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基又
は低級アルカノイルアミノ基を表す。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理
的に許容し得る塩。 ２、アリール基がフェニル基、シクロアルキル基が炭素
数３〜６のシクロアルキル基、含酸素複素単環式基がテ
トラヒドロフリル基である請求項１記載の化合物。 ３、Ｒ＾１が低級アルケニルオキシ基又は低級アルカノ
イルオキシ基であるか、あるいはシクロプロピル基、水
酸基及びシアノ基から選ばれる基で置換されていてもよ
い低級アルコキシ基、Ｒ＾２が低級アルコキシ基である
請求項２記載の化合物。 ４、Ｒ＾１がシクロプロピル基及びシアノ基から選ばれ
る基で置換されていてもよい低級アルコキシ基である請
求項３記載の化合物。 ５、Ｒ＾１がナフタレン環の６位に置換し、５−置換−
２−オキサゾリドン−３−イル基がナフタレン環の２位
に置換した請求項１〜４記載の化合物。 ６、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフ
ィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ＾３は低
級アルキル基を表す。）で示されるナフチルカルバミン
酸低級アルキルエステル化合物又はその塩と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を表す
。） で示されるオキシラン化合物又はその塩とを反応させ、
所望により、生成物を薬理的に許容し得る塩とすること
を特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容し
得る塩の製法。 ７、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフ
ィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｘ＾１は反
応性残基を表す。） で示されるナフタレン化合物又はその塩と一般式▲数式
、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を表す
。） で示されるオキサゾリドン化合物又はその塩とを反応さ
せ、所望により、生成物を薬理的に許容し得る塩とする
ことを特徴をする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容し
得る塩の製法。 ８、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフ
ィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表す。） で示されるプロパンジオール化合物と一般式ＣＯ（Ｘ＾
２）＿２ （但し、Ｘ＾２は反応性残基を表す。） で示されるカルボニル化合物とを縮合させ、所望により
、生成物を薬理的に許容しうる塩とすることを特徴とす
る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容し
うる塩の製法。 ９、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフ
ィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基を表す。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体と一般式 Ｒ＾４−Ｘ＾３ （但し、Ｒ＾４は低級アルキル基又は低級アルキルスル
ホニル基、Ｘ＾３は反応性残基を表す。）で示される化
合物とを縮合反応させ、所望により、生成物をその薬理
的に許容しうる塩とすることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容し
うる塩の製法。 １０、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基、Ｒ＾
５はアリール−低級アルキル基を表す。）で示されるナ
フチルオキサゾリドン誘導体又はその塩を還元した後、
所望により、生成物を薬理的に許容し得る塩とすること
を特徴とする、一般式▲数式、化学式、表等があります
▼ （但し、Ｒ＾２は前記と同一意味を有する。）で示され
るナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容
し得る塩の製法。 １１、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を表す
。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその塩と
一般式 Ｒ＾６−Ｘ＾４ （但し、Ｒ＾６は低級アルケニル基、低級アルキニル基
、モノもしくはジ低級アルキルアミノカルボニル基又は
低級アルカノイル基であるか、あるいはアリール基、シ
クロアルキル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級ア
ルコキシ基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミ
ノカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルカノイルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキ
ルスルフィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選
ばれる基で置換されていてもよい低級アルキル基、Ｘ＾
４は反応性残基を表す。） で示される化合物又はその塩とを反応させ、生成物を所
望により、薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とす
る、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容し
得る塩の製法。 １２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を表す
。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその塩と
一般式 Ｒ＾７−ＣＨ＝ＣＨ＿２ （但し、Ｒ＾７はシアノ基又は低級アルコキシカルボニ
ル基を表す。） で示される化合物又はその塩とを反応させ、所望により
、生成物を薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とす
る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
ナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理的に許容し
得る塩の製法。 １３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を表す
。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその塩と
低級アルキルイソシアネートとを反応させ、所望により
、生成物を薬理的に許容し得る塩とすることを特徴とす
る、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾８は低級アルキル基を表し、Ｒ＾２は前記
と同一意味を有する。） で示されるナフチルオキサゾリドン誘導体又はその薬理
的に許容し得る塩の製法。 １４、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフ
ィニル基及び低級アルキルスルホニル基から選ばれる基
で置換されていてもよい低級アルコキシ基、Ｒ＾３は低
級アルキル基を表す。）で示されるナフチルカルバミン
酸低級アルキルエステル化合物又はその塩。１５、一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾２は水酸基、低級アルコキシ基、低級アル
キルスルホニルオキシ基、トリアゾ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基又は低級アルカノイルアミノ基を表す
。） で示されるオキサゾリドン化合物又はその塩。 １６、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は水素原子、水酸基、ニトロ基、アミノ
基、スルホ基、アミノスルホニル基、低級アルケニルオ
キシ基、低級アルキニルオキシ基、モノもしくはジ低級
アルキルアミノカルボニルオキシ基又は低級アルカノイ
ルオキシ基であるか、あるいはアリール基、シクロアル
キル基、含酸素複素単環式基、水酸基、低級アルコキシ
基、シアノ基、ジ低級アルキルアミノ基、アミノカルボ
ニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイ
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