JPS63258446A - アルコキシベンゼン誘導体の製造方法 - Google Patents
アルコキシベンゼン誘導体の製造方法Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業−1−の利用分野)
本発明は、アルコキシベンゼン誘導体の製造方D、に関
するものである。
するものである。
(従来の技術)
本発明の目的化合物としてのアルコキシベンゼン誘導体
は後記一般式(II)て表わされる。このアルコキシベ
ンゼン誘導体において、YとR2か閉環したものとして
示される、1−アルコキシ−8−アミドナフタレン誘導
体から得られる5−アミド−1,4−ナフトハイドロキ
ノン誘導体は置換基R1及びR2を変更することにより
その還元性を調整することかてき種々の還元剤や酸化防
止剤としての用途かあり、さらに1−アルコキシ−8−
アミドナフタレン誘導体やこれから誘導される8−アミ
ド−1−ナフトール誘導体、8−アルコキシ−1−ナフ
チルアミン誘導体、8−アミノ−1−ナフトール誘導体
等は染料や生理活性を有する化合物(医薬・農薬等)へ
誘導する合成中間体としての広い用途か期待されている
。
は後記一般式(II)て表わされる。このアルコキシベ
ンゼン誘導体において、YとR2か閉環したものとして
示される、1−アルコキシ−8−アミドナフタレン誘導
体から得られる5−アミド−1,4−ナフトハイドロキ
ノン誘導体は置換基R1及びR2を変更することにより
その還元性を調整することかてき種々の還元剤や酸化防
止剤としての用途かあり、さらに1−アルコキシ−8−
アミドナフタレン誘導体やこれから誘導される8−アミ
ド−1−ナフトール誘導体、8−アルコキシ−1−ナフ
チルアミン誘導体、8−アミノ−1−ナフトール誘導体
等は染料や生理活性を有する化合物(医薬・農薬等)へ
誘導する合成中間体としての広い用途か期待されている
。
さらに1−アルコキシ−8−アミ1へリーフタレン誘導
体は写真化学分野においてシアン発色カプラーの合成中
間体として近年注目されつつある。
体は写真化学分野においてシアン発色カプラーの合成中
間体として近年注目されつつある。
5−アミ1〜−1−ナフトール系シアン発色カプラーか
、現像時の疲労現像液による還元退色を受けにくく、し
かも生成色素の暗然堅牢性にも優れていることか見出さ
れた(特開昭60−237448号及び特開昭61−1
53640号)。
、現像時の疲労現像液による還元退色を受けにくく、し
かも生成色素の暗然堅牢性にも優れていることか見出さ
れた(特開昭60−237448号及び特開昭61−1
53640号)。
ところで、写真用カプラーはその発色色素の色相によっ
て大別され(例えばイエロー発色カプラー、マゼンタ発
色カプラー、シアン発色カプラー等)、さらに発色反応
の化学量論から4当量カプラー及び2当量カプラーの2
種に大別される。4当量カプラーは理論的にはハロゲン
化銀4モルの消費によって色素1モルか生成するのに対
し、2当量カプラーはカプラーのカップリング位に離脱
基を有しており、ハロゲン化銀2モルの消費によって色
素1モルか生成するため省資源(箇銀)の立場から有利
であることが知られている。
て大別され(例えばイエロー発色カプラー、マゼンタ発
色カプラー、シアン発色カプラー等)、さらに発色反応
の化学量論から4当量カプラー及び2当量カプラーの2
種に大別される。4当量カプラーは理論的にはハロゲン
化銀4モルの消費によって色素1モルか生成するのに対
し、2当量カプラーはカプラーのカップリング位に離脱
基を有しており、ハロゲン化銀2モルの消費によって色
素1モルか生成するため省資源(箇銀)の立場から有利
であることが知られている。
さらに2当量カプラーはその発色速度が大きいため写真
感度の向−Lや現像時間の短縮か可能となる(米国特許
第3,476.563号、同第3,617.291号、
同第3,880,661号、同第4,052,212号
、同第4,147,766号、英国特許第1,531,
927号、同第2.006,755号、特開昭55−3
2071号、同56−1938号、同56−27147
号など参照)。
感度の向−Lや現像時間の短縮か可能となる(米国特許
第3,476.563号、同第3,617.291号、
同第3,880,661号、同第4,052,212号
、同第4,147,766号、英国特許第1,531,
927号、同第2.006,755号、特開昭55−3
2071号、同56−1938号、同56−27147
号など参照)。
こうして近年のカラーネガフィルムの高感度化に伴って
、カップリング位に離脱基を導入した2当量カプラーか
多用されるようになってきており、前記5−アミド−1
−ナフトール系シアン発色カプラーについてもその例外
ではなく2当量カプラー化か望まれていた。1−ナフト
ール系シアン発色カプラーを2当量化する一般的な方法
はカップリンク位すなわち4位にアルコキシ基を導入す
るものであり(特開昭52−18315号、同54−6
6129号、同54−14736号、同55−3207
1号、同56−1938号、同56−12643号、同
56−27147号など参照)、5−アミド−1−ナフ
トール系シアン発色カプラーては4−アルコキシ−5−
アミド−1−ナフトール誘導体すなわち1−アルコキシ
−8−アミドナフタレン誘導体となる。
、カップリング位に離脱基を導入した2当量カプラーか
多用されるようになってきており、前記5−アミド−1
−ナフトール系シアン発色カプラーについてもその例外
ではなく2当量カプラー化か望まれていた。1−ナフト
ール系シアン発色カプラーを2当量化する一般的な方法
はカップリンク位すなわち4位にアルコキシ基を導入す
るものであり(特開昭52−18315号、同54−6
6129号、同54−14736号、同55−3207
1号、同56−1938号、同56−12643号、同
56−27147号など参照)、5−アミド−1−ナフ
トール系シアン発色カプラーては4−アルコキシ−5−
アミド−1−ナフトール誘導体すなわち1−アルコキシ
−8−アミドナフタレン誘導体となる。
また一般式(II)において、Yかカルボニル基である
として示される、1−アルコキシ−2−カルバモイルベ
ンゼン化合物は、生理活性物質(例えば下熱、鎮痛作用
(特開昭49−124043号)、抗消化性潰瘍作用(
特開昭57−62263号、特公昭58−33866号
)、血糖降下作用(特開昭58−69812号)など)
、感熱記録材料用の非画像部の光安定性改良剤(特開昭
58−136490号)など、工業的に極めて有用な化
合物として知られている。
として示される、1−アルコキシ−2−カルバモイルベ
ンゼン化合物は、生理活性物質(例えば下熱、鎮痛作用
(特開昭49−124043号)、抗消化性潰瘍作用(
特開昭57−62263号、特公昭58−33866号
)、血糖降下作用(特開昭58−69812号)など)
、感熱記録材料用の非画像部の光安定性改良剤(特開昭
58−136490号)など、工業的に極めて有用な化
合物として知られている。
さらに一般式(II)において、Yがスルホニル基であ
るとして示される、1−アルコキシ−2−スルファモイ
ルベンゼン化合物は、除草剤として有用であることか知
られている(米国特許第4゜661.146号参照)。
るとして示される、1−アルコキシ−2−スルファモイ
ルベンゼン化合物は、除草剤として有用であることか知
られている(米国特許第4゜661.146号参照)。
このように、一般式(n)て表わされるアルコキシベン
ゼン誘導体か、工業的に有用な化合物であることは明ら
かである。これらのアルコキシベンゼン誘導体の合成法
として、従来用いられている方法は下記スキーム1に代
表される。
ゼン誘導体か、工業的に有用な化合物であることは明ら
かである。これらのアルコキシベンゼン誘導体の合成法
として、従来用いられている方法は下記スキーム1に代
表される。
すなわち、l−アルコキシ−2−カルバモイルベンゼン
化合物の場合を例にとって説明すると、その合成法とし
ては、一般に下記スキーム1に示すように入手可能な2
−アルコキシ安息香酸誘導体の酸クロリドあるいは酸無
水物とアミンとの縮合反応か用いられる。
化合物の場合を例にとって説明すると、その合成法とし
ては、一般に下記スキーム1に示すように入手可能な2
−アルコキシ安息香酸誘導体の酸クロリドあるいは酸無
水物とアミンとの縮合反応か用いられる。
スキーム1
(V’)
(上記各一般式中、R11はベンゼン環上に置換可能な
基を示し、R1□、R13はアルキル基などを示し、n
はO〜4の整数を示す。) しかし、入手可能な2−アルコキシ安息香酸誘導体((
■)又は(■))は、単純な直鎖の2−アルコキシ化合
物がほとんどであり、アルコキシ基をさらに修飾し、ポ
リマー等に担持させるのは不可能である。仮に、2−ヒ
ドロキシ安息香酸(サリチル酸)誘導体を出発原料とし
、修飾可能な2−(2−ヒドロキシエトキシ)安息香酸
銹導体等に変換したとしても、その酸クロリドあるいは
酸無水物への変換、アミンとの縮合反応において、さら
に修飾可能な置換基(例えばヒドロキシ基)の関与によ
って、反応が複雑になってしまう。
基を示し、R1□、R13はアルキル基などを示し、n
はO〜4の整数を示す。) しかし、入手可能な2−アルコキシ安息香酸誘導体((
■)又は(■))は、単純な直鎖の2−アルコキシ化合
物がほとんどであり、アルコキシ基をさらに修飾し、ポ
リマー等に担持させるのは不可能である。仮に、2−ヒ
ドロキシ安息香酸(サリチル酸)誘導体を出発原料とし
、修飾可能な2−(2−ヒドロキシエトキシ)安息香酸
銹導体等に変換したとしても、その酸クロリドあるいは
酸無水物への変換、アミンとの縮合反応において、さら
に修飾可能な置換基(例えばヒドロキシ基)の関与によ
って、反応が複雑になってしまう。
以上、述べた問題は、l−アルコキシ−2−力
・ルハモイルベンゼン化合物に限られない。例えば、米
国特許第4,661,146号にあるように、1−アル
コキシ−2−スルファモイルベンゼン類についても同様
てあり、アルコキシ基か、さらに修飾可能な2−ヒドロ
キシエトキシ基の場合には、一旦、ヒドロキシ基を保護
した後、縮合反応を行っている。
・ルハモイルベンゼン化合物に限られない。例えば、米
国特許第4,661,146号にあるように、1−アル
コキシ−2−スルファモイルベンゼン類についても同様
てあり、アルコキシ基か、さらに修飾可能な2−ヒドロ
キシエトキシ基の場合には、一旦、ヒドロキシ基を保護
した後、縮合反応を行っている。
そのため、下記スキーム2に示すような、アミド結合を
形成した後、アルコキシ基を導入するルートが検討され
ている。
形成した後、アルコキシ基を導入するルートが検討され
ている。
スキーム2
(IX)
(上記各一般式中、X1□はハロゲン原子などの置換基
を示し、R,R及びR13とnは前記と同し意味をもつ
。) ここで、置換基x11がハロゲン原子の場合を考えてみ
ると、一般にハロゲノベンゼン類のハロゲン原子をアル
コキシ基に変換するには、アルコールと金属ナトリウム
から調製したナトリウムアルコキシドをアルコール及び
アミド(例えばジメチルホルムアミド)との混合溶媒中
て銅塩と共に加熱する方法が用いられている(例えば、
特開昭55−94329号参照)。
を示し、R,R及びR13とnは前記と同し意味をもつ
。) ここで、置換基x11がハロゲン原子の場合を考えてみ
ると、一般にハロゲノベンゼン類のハロゲン原子をアル
コキシ基に変換するには、アルコールと金属ナトリウム
から調製したナトリウムアルコキシドをアルコール及び
アミド(例えばジメチルホルムアミド)との混合溶媒中
て銅塩と共に加熱する方法が用いられている(例えば、
特開昭55−94329号参照)。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、このような従来の方法では、ナトリウムアルコ
キシドなどのアルコキシドを必要とし、このものの調製
には、取扱いに注意を要するナトリウム金属などが用い
られている。そのため、その改良法として、より取扱い
の容易な酸化バリウムを用いる方法が提案されているが
(特開昭55−69536号、J、Org、 Chew
、、 44.3305(1979);アルコキシフェノ
ール類の合成法)他の基質に対してもそのまま適用でき
るわけてはなく、化合物の種類、求核剤の種類、反応条
件によって異なるが、還元的脱ハロゲン化反応か目的と
するl換反応と競争的に進行する場合か多く、アルコキ
シ1−’を用いる従来法と比べて大きなメリットを有す
る合成υ、てはない。さらに、触媒としてギ酸ニスデル
を第一銅塩とともに用いるという改良法も提案されてい
るか(特開昭57−150442号)、この場合、完全
に禁水の条件が必要なこと、さらに不活性ガスとして一
酸化炭素を用いるのか望ましいなど、工業的スケールて
はかなり高度な技術を必要とする。
キシドなどのアルコキシドを必要とし、このものの調製
には、取扱いに注意を要するナトリウム金属などが用い
られている。そのため、その改良法として、より取扱い
の容易な酸化バリウムを用いる方法が提案されているが
(特開昭55−69536号、J、Org、 Chew
、、 44.3305(1979);アルコキシフェノ
ール類の合成法)他の基質に対してもそのまま適用でき
るわけてはなく、化合物の種類、求核剤の種類、反応条
件によって異なるが、還元的脱ハロゲン化反応か目的と
するl換反応と競争的に進行する場合か多く、アルコキ
シ1−’を用いる従来法と比べて大きなメリットを有す
る合成υ、てはない。さらに、触媒としてギ酸ニスデル
を第一銅塩とともに用いるという改良法も提案されてい
るか(特開昭57−150442号)、この場合、完全
に禁水の条件が必要なこと、さらに不活性ガスとして一
酸化炭素を用いるのか望ましいなど、工業的スケールて
はかなり高度な技術を必要とする。
さらに、これらの改良法を含めて、従来のウルマン(0
11+1ann)縮合反応において、導入されるアルコ
キシ基(一般式(]X)におけるーoR13)は、その
炭素鎖の短い無置換のもの(例えばメトキシ基、エトキ
シ基など)がほとんどてあり、置換アルコキシ基(例え
ば2−ヒドロキシエトキシ基、0か導入てきた例はない
(例えば、J、 (:hem。
11+1ann)縮合反応において、導入されるアルコ
キシ基(一般式(]X)におけるーoR13)は、その
炭素鎖の短い無置換のもの(例えばメトキシ基、エトキ
シ基など)がほとんどてあり、置換アルコキシ基(例え
ば2−ヒドロキシエトキシ基、0か導入てきた例はない
(例えば、J、 (:hem。
Soc、 (C) :112(1969)参照)。
したかって本発明の目的は、アルコキシベンゼン誘導体
を対応するハロゲノベンセン誘導体より、温和な条件に
て収率よく合成しうる方法を提供することにある。加え
て、導入後容易に修飾しうるような置換アルコキシ基(
例えば2−ヒドロキシエトキシ基、3−ヒドロキシエト
キシ基等)を収率よく導入しうる合成法を確立すること
にある。
を対応するハロゲノベンセン誘導体より、温和な条件に
て収率よく合成しうる方法を提供することにある。加え
て、導入後容易に修飾しうるような置換アルコキシ基(
例えば2−ヒドロキシエトキシ基、3−ヒドロキシエト
キシ基等)を収率よく導入しうる合成法を確立すること
にある。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、こうした従来法の欠点を克服すべく、種
々の検討を重ねた結果、銅または銅塩とアミン類及び塩
基の存在下、ハロゲノベンセン誘導体とアルコール類と
を反応させることにより、温和な条件下て収率よく、か
つ、高選択率て、目的とするアルコキシベンゼン誘導体
を得ることか可能であることを見出した。
々の検討を重ねた結果、銅または銅塩とアミン類及び塩
基の存在下、ハロゲノベンセン誘導体とアルコール類と
を反応させることにより、温和な条件下て収率よく、か
つ、高選択率て、目的とするアルコキシベンゼン誘導体
を得ることか可能であることを見出した。
すなわち本発明は、ハロゲノベンゼン誘導体とアルコー
ル類とを、銅もしくは銅化合物、アミン類及び塩基の存
在下て反応させることを特徴とするアルコキシベンゼン
誘導体の製造方法を提供するものである。
ル類とを、銅もしくは銅化合物、アミン類及び塩基の存
在下て反応させることを特徴とするアルコキシベンゼン
誘導体の製造方法を提供するものである。
本発明の反応は次式て表わすことかてきる。
一般式(I)において、Xはハロゲン原子を表わし、Y
は2価の連結基を表わし、R1は、水素原子、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環残基、アシル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカッシボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシスル
ホニル基、またはアリールオキシスルホニル基を表わし
、R2は芳香族環に置換可能な基を表わし、mは0〜4
の整数を表わず。ここてYは、R1、R2とそれぞれ独
立に結合して5〜7員環を形成していてもよく、mか2
以」−の場合、R2は互いに回してあっても異なってい
てもよい。たたし、YとR2か結合してナフタレン環を
形成する場合に限りmは0か66の整数を表わす。−般
式(旧において、R3は、アルキル基を表わす。一般式
(I)においてXは、塩素原子−1臭素原子、ヨウ素原
子、フッ素原子なとであるが好ましくは塩素原子又は臭
素原子である。一般式(I)においてYは、好ましくは
−C−1 介して連結する(Xか結合している炭素原子から数えて
、4番目にR1か結合する窒素原子かある)二価の連結
基を表わず。ここて、R4、R6はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、アリール基又はR1と結合して5〜
7員環を形成しうる非金属原子群を表わし、R5、R7
をそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又
はR2と結合して5〜7員環を形成しうる非金属原子群
を表わし、R8は、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホ
ンアミド基、アルキル基、アリール基、又はR,、R2
とそれぞれ独立に5〜7員環を形成しうる非金属原子群
を表わし、R9は、水素原子、アルキル基、アリール基
、又はR1、R2とそれぞれ独立に5〜7員環を形成し
うる非金属原子群を表わす。
は2価の連結基を表わし、R1は、水素原子、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環残基、アシル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカッシボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシスル
ホニル基、またはアリールオキシスルホニル基を表わし
、R2は芳香族環に置換可能な基を表わし、mは0〜4
の整数を表わず。ここてYは、R1、R2とそれぞれ独
立に結合して5〜7員環を形成していてもよく、mか2
以」−の場合、R2は互いに回してあっても異なってい
てもよい。たたし、YとR2か結合してナフタレン環を
形成する場合に限りmは0か66の整数を表わす。−般
式(旧において、R3は、アルキル基を表わす。一般式
(I)においてXは、塩素原子−1臭素原子、ヨウ素原
子、フッ素原子なとであるが好ましくは塩素原子又は臭
素原子である。一般式(I)においてYは、好ましくは
−C−1 介して連結する(Xか結合している炭素原子から数えて
、4番目にR1か結合する窒素原子かある)二価の連結
基を表わず。ここて、R4、R6はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、アリール基又はR1と結合して5〜
7員環を形成しうる非金属原子群を表わし、R5、R7
をそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又
はR2と結合して5〜7員環を形成しうる非金属原子群
を表わし、R8は、ヒドロキシル基、アルコキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、スルホ
ンアミド基、アルキル基、アリール基、又はR,、R2
とそれぞれ独立に5〜7員環を形成しうる非金属原子群
を表わし、R9は、水素原子、アルキル基、アリール基
、又はR1、R2とそれぞれ独立に5〜7員環を形成し
うる非金属原子群を表わす。
R4,R5,R9は、より好ましくは、それぞれ独立に
、水素原子、炭素数1〜36のアルキル基(例えば、メ
チル、エチル、プロピル、i−ブチル、ベンジル、メト
キシエチル、2−エチルヘキシル、アリル、プロパルギ
ル、フェネチル、フェノキシエチル)、又は炭素数6〜
36のアリール基(例えば、フェニル、P−)リル、p
−アニシル、p−ニトロフェニル、2−クロロ−5−エ
トキシカルボニルフェニル)を表わす。
、水素原子、炭素数1〜36のアルキル基(例えば、メ
チル、エチル、プロピル、i−ブチル、ベンジル、メト
キシエチル、2−エチルヘキシル、アリル、プロパルギ
ル、フェネチル、フェノキシエチル)、又は炭素数6〜
36のアリール基(例えば、フェニル、P−)リル、p
−アニシル、p−ニトロフェニル、2−クロロ−5−エ
トキシカルボニルフェニル)を表わす。
R6は、より好ましくは、水素原子、炭素数1〜36の
アルキル基、炭素数6〜36のアリール基、又はR1と
ともに5〜7員環を形成しうる非金属原子群を表わす。
アルキル基、炭素数6〜36のアリール基、又はR1と
ともに5〜7員環を形成しうる非金属原子群を表わす。
R1とR6か結合して形成する5〜7員環としては、ピ
ロール、ピラゾール、イミダゾール、2−ヒドロキシピ
リジン、アゼピンなどが挙げられ、これらは、さらに芳
香環、複素環と縮合していてもよいし、水素化された飽
和の形をとってもよい。
ロール、ピラゾール、イミダゾール、2−ヒドロキシピ
リジン、アゼピンなどが挙げられ、これらは、さらに芳
香環、複素環と縮合していてもよいし、水素化された飽
和の形をとってもよい。
R7はより好ましくは、水素原子、炭素数1〜36のア
ルキル基、炭素数6〜36のアリール基、又はR2と結
合して5〜7員環を形成しうる非金属原子群を表わす。
ルキル基、炭素数6〜36のアリール基、又はR2と結
合して5〜7員環を形成しうる非金属原子群を表わす。
R2とR7が結合して5〜7員環を形成する場合、R2
は、置換基ましい。R2とR7か形成する5〜7員環と
しては、R1,R6の場合に記載の複素環の他、ベンゼ
ン、ピリジン、とりミシン、ピリダジン、フラン、チオ
フェンなどが挙げられ、これらはさらに芳香環、複素環
と縮合していてもよいし、水素化された飽和の形をとっ
てもよい。
は、置換基ましい。R2とR7か形成する5〜7員環と
しては、R1,R6の場合に記載の複素環の他、ベンゼ
ン、ピリジン、とりミシン、ピリダジン、フラン、チオ
フェンなどが挙げられ、これらはさらに芳香環、複素環
と縮合していてもよいし、水素化された飽和の形をとっ
てもよい。
R8は、より好ましくは、ヒドロキシル基、炭素数1〜
36のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、i−ブトキシ、n −ドデシルオキシ)、ア
ミノ基、炭素数1〜36のアルキルアミノ基(例えばn
−ブチルアミノ、n−ドデシルオキシプロピルアミノ、
3− (2,4−シーtert−アミルフェノキシ)プ
ロとルアミノ)、炭素数6〜36のアリールアミノ基(
例えば、アニリノ、p−シアノアニリノ、3,4−ジク
ロロアニリノ)、p−スルホアニリノ)、炭素数1〜3
6のスルホンアミド基(例えば、p −トルエンスルホ
ンアミド、メタンスルホンアミド)、炭素数1〜36の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、i−
ブチル、2−エチルヘキシル、ベンジル、メトキシエチ
ル、アリル、プロパルギル、フェネチル、フェノキシエ
チル)、炭素数6〜36のアリール基(例えば、フェニ
ル、p−トリル、p−アニシル、p−ニトロフェニル)
、又は、R,、R2とそれぞれ独立に結合して5〜7員
環を形成しうる非金属原子群を表わす。R2とR8か結
合して形成する5〜7員環としては、ピリジン、ピリダ
ジン、ビリジジンなどが挙げられ、R1とR8か形成す
る5〜7員環としてはイミダゾール、ヒドロキシピリミ
ジンなどが挙げられ、これらはさらに芳香環、複素環と
縮合していてもよいし、水素化された飽和の形をとって
もよい。
36のアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、i−ブトキシ、n −ドデシルオキシ)、ア
ミノ基、炭素数1〜36のアルキルアミノ基(例えばn
−ブチルアミノ、n−ドデシルオキシプロピルアミノ、
3− (2,4−シーtert−アミルフェノキシ)プ
ロとルアミノ)、炭素数6〜36のアリールアミノ基(
例えば、アニリノ、p−シアノアニリノ、3,4−ジク
ロロアニリノ)、p−スルホアニリノ)、炭素数1〜3
6のスルホンアミド基(例えば、p −トルエンスルホ
ンアミド、メタンスルホンアミド)、炭素数1〜36の
アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、i−
ブチル、2−エチルヘキシル、ベンジル、メトキシエチ
ル、アリル、プロパルギル、フェネチル、フェノキシエ
チル)、炭素数6〜36のアリール基(例えば、フェニ
ル、p−トリル、p−アニシル、p−ニトロフェニル)
、又は、R,、R2とそれぞれ独立に結合して5〜7員
環を形成しうる非金属原子群を表わす。R2とR8か結
合して形成する5〜7員環としては、ピリジン、ピリダ
ジン、ビリジジンなどが挙げられ、R1とR8か形成す
る5〜7員環としてはイミダゾール、ヒドロキシピリミ
ジンなどが挙げられ、これらはさらに芳香環、複素環と
縮合していてもよいし、水素化された飽和の形をとって
もよい。
一般式(I)において、R1は好ましくは、水素原子、
炭素数1〜36のアルキル基(例えば、メチル、エチル
、プロピル、i−ブチル、ペンシル、メトキシエチル、
2−エチルヘキシル、アリル、プロパルギル、フェネチ
ル、フェノキシエチル)、炭素数6〜36のアリール基
(例えば、フェニル、P−)−リル、p−アニシル、p
−ニトロフェニル、2−クロロ−5−エトキシカルボニ
ルフェニル)、ヘテロ環残基(例えば、ピリジン−3−
イル)、炭素数1〜36のアシル基(例えばホルミル、
アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ベンゾイル、ド
デカノイル、2−エチルヘキサノイル、2− (2,4
−シーt−ペンチルフェノキシ)ブタノイル、トリフル
オロアセチル、トリクロロアセチル、p−ニトロベンゾ
イル、p−クロロベンゾイル、ペンタフルオロベンゾイ
ル)、炭素数1〜36のアルキルスルホニル基(例えば
メタンスルホニル、エタンスルホニル、n−フタンスル
ホニル、ペンシルスルホニル、トリフルオロメタンスル
ボニル、n−ドデカンスルホニル、n−ヘキサデカンス
ルホニル)、炭素数6〜36のアリールスルホニル基(
例えばフェニルスルホニル、p−トリルスルホニル、m
−ニトロフェニルスルホニル、P−ドデシルフェニルス
ルホニル)、又は炭素数1〜36のアルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、n−ドデシルオキシ)、又は
炭素数2〜36のアルコキシカルボニル基(例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、i−ブトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、ドデシルオキシカルボニル)を表わす。一般
式(I)においてR2は好ましくは、ハロゲン原子(フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子)、炭素数1〜18のア
ルキル基(例えばメチル、エチル、i−プロピル、t−
ブチル、トリフルオロメチル、ペンシル、n−ドデシル
)、カルボキシル、スルホ、ヒ1〜ロキシル、シアノ、
炭素数1〜37のカルバモイル基(例えばカルバモイル
、N、N−ジメチルカルバモイル、N、N−ジエチルカ
ルバモイル、N−メチルカル八モイル、N−ブチルカル
バモイル、N−シクロへキシルカルバモイル、N、N−
シヘキシルカルハモイル、N−ドデシルカルバモイル、
N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N
−(3−(2,4−シーt−ペンチルフェノキシ)プロ
ピル)カルバモイル、N−(4−(2,4−ジ−t−ペ
ンチルフェノキシ)ブチル)カルバモイル)、炭素数O
〜36のスルファモイル基(例えばスルファモイル、N
−メチルスルファモイル、N−ブチルスルファモイル、
N、N−ジメチルスルファモイル、N、N−ジエチルス
ルファモイル、N−ドデシルスルファモイル)、炭素数
1〜36のカルボンアミド基(例えばホルムアミド、ア
セトアミド、トリフルオロアセトアミド、プロパンアミ
ド、ベンズアミド、p−ニトロベンズアミド、トデカン
アミド)、炭素数1〜36のスルホンアミド基(例えば
メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、メタン
スルホンアミド、トリフルオロメタンスルホンアミド、
ベンゼンスルホンアミド、p−トルエンスルホンアミド
、ペンシルスルホンアミド、n−ヘキサデカンスルホン
アミド)、炭素数1〜36のアルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、メトキシエトキシ、ペンシルオキシ、
n−ドデシルオキシ)、炭素数2〜36のアルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、n−ドデシルオキシカルボニル)、アミノ基(
例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、モルホ
リノ)、ニトロ基又は炭素数1〜24のアシル基(例え
ばホルミル、アセチル、ベンゾイル、ドデカノイル)を
表わす。
炭素数1〜36のアルキル基(例えば、メチル、エチル
、プロピル、i−ブチル、ペンシル、メトキシエチル、
2−エチルヘキシル、アリル、プロパルギル、フェネチ
ル、フェノキシエチル)、炭素数6〜36のアリール基
(例えば、フェニル、P−)−リル、p−アニシル、p
−ニトロフェニル、2−クロロ−5−エトキシカルボニ
ルフェニル)、ヘテロ環残基(例えば、ピリジン−3−
イル)、炭素数1〜36のアシル基(例えばホルミル、
アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ベンゾイル、ド
デカノイル、2−エチルヘキサノイル、2− (2,4
−シーt−ペンチルフェノキシ)ブタノイル、トリフル
オロアセチル、トリクロロアセチル、p−ニトロベンゾ
イル、p−クロロベンゾイル、ペンタフルオロベンゾイ
ル)、炭素数1〜36のアルキルスルホニル基(例えば
メタンスルホニル、エタンスルホニル、n−フタンスル
ホニル、ペンシルスルホニル、トリフルオロメタンスル
ボニル、n−ドデカンスルホニル、n−ヘキサデカンス
ルホニル)、炭素数6〜36のアリールスルホニル基(
例えばフェニルスルホニル、p−トリルスルホニル、m
−ニトロフェニルスルホニル、P−ドデシルフェニルス
ルホニル)、又は炭素数1〜36のアルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、n−ドデシルオキシ)、又は
炭素数2〜36のアルコキシカルボニル基(例えばメト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、i−ブトキシカ
ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、t−ブトキシカ
ルボニル、ドデシルオキシカルボニル)を表わす。一般
式(I)においてR2は好ましくは、ハロゲン原子(フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子)、炭素数1〜18のア
ルキル基(例えばメチル、エチル、i−プロピル、t−
ブチル、トリフルオロメチル、ペンシル、n−ドデシル
)、カルボキシル、スルホ、ヒ1〜ロキシル、シアノ、
炭素数1〜37のカルバモイル基(例えばカルバモイル
、N、N−ジメチルカルバモイル、N、N−ジエチルカ
ルバモイル、N−メチルカル八モイル、N−ブチルカル
バモイル、N−シクロへキシルカルバモイル、N、N−
シヘキシルカルハモイル、N−ドデシルカルバモイル、
N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルバモイル、N
−(3−(2,4−シーt−ペンチルフェノキシ)プロ
ピル)カルバモイル、N−(4−(2,4−ジ−t−ペ
ンチルフェノキシ)ブチル)カルバモイル)、炭素数O
〜36のスルファモイル基(例えばスルファモイル、N
−メチルスルファモイル、N−ブチルスルファモイル、
N、N−ジメチルスルファモイル、N、N−ジエチルス
ルファモイル、N−ドデシルスルファモイル)、炭素数
1〜36のカルボンアミド基(例えばホルムアミド、ア
セトアミド、トリフルオロアセトアミド、プロパンアミ
ド、ベンズアミド、p−ニトロベンズアミド、トデカン
アミド)、炭素数1〜36のスルホンアミド基(例えば
メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、メタン
スルホンアミド、トリフルオロメタンスルホンアミド、
ベンゼンスルホンアミド、p−トルエンスルホンアミド
、ペンシルスルホンアミド、n−ヘキサデカンスルホン
アミド)、炭素数1〜36のアルコキシ基(例えばメト
キシ、エトキシ、メトキシエトキシ、ペンシルオキシ、
n−ドデシルオキシ)、炭素数2〜36のアルコキシカ
ルボニル基(例えばメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、n−ドデシルオキシカルボニル)、アミノ基(
例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、モルホ
リノ)、ニトロ基又は炭素数1〜24のアシル基(例え
ばホルミル、アセチル、ベンゾイル、ドデカノイル)を
表わす。
一般式(I)て表わされる化合物は、より好ましくは、
一般式(X)〜(XI17)て表わされる化合物から選
ばれる。(一般式(X)〜(yH)において、X、R,
、R2,R4,R5及びmは、前記と回し意味をもつ。
一般式(X)〜(XI17)て表わされる化合物から選
ばれる。(一般式(X)〜(yH)において、X、R,
、R2,R4,R5及びmは、前記と回し意味をもつ。
)
一般式(X)
一般式(XI)
環を形成するに必要な非金属原子群を表わす。)IH
一般式(X[[l)において、−C−N−とZによって
形成される5〜7員環の複素環としては、ピロール、ピ
ラゾール、イミダゾール、2−ヒドロキシピリジン、ア
ゼピンなどが挙げられ、これらは、さらに芳香環、複素
環と縮合していてもよい。
形成される5〜7員環の複素環としては、ピロール、ピ
ラゾール、イミダゾール、2−ヒドロキシピリジン、ア
ゼピンなどが挙げられ、これらは、さらに芳香環、複素
環と縮合していてもよい。
一般式(XIV)
但し、一般式(X)および(XI17)においては、R
1は炭素数1〜36のアシル基、炭素数1〜36のアル
キルスルホニル基、炭素数6〜36のアリールスルホニ
ル基、または炭素数2〜36のアルコキシカルボニル基
であることが好ましい。
1は炭素数1〜36のアシル基、炭素数1〜36のアル
キルスルホニル基、炭素数6〜36のアリールスルホニ
ル基、または炭素数2〜36のアルコキシカルボニル基
であることが好ましい。
一般式(I)て表わされる化合物は、さらに好ましくは
一般式(X)、(X[)、(X[[)、l)から選ばれ
る。
一般式(X)、(X[)、(X[[)、l)から選ばれ
る。
一般式(旧において、R3はより好ましくは炭素数1〜
36の1級のアルキル基(例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ベンジル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキ
シプロピル、2−メトキシエチル、2−エチルヘキシル
、アリル、プロパルギル、フェネチル、2−フェノキシ
エチル、2−(p−ニトロフェノキシ)エチル、2−ク
ロロエチル、2−ブロモエチル、n−ヘキシル、2−(
2−ヒドロキシエトキシ)エチル、p−ニトロベンジル
〕を表わす。
36の1級のアルキル基(例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ベンジル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキ
シプロピル、2−メトキシエチル、2−エチルヘキシル
、アリル、プロパルギル、フェネチル、2−フェノキシ
エチル、2−(p−ニトロフェノキシ)エチル、2−ク
ロロエチル、2−ブロモエチル、n−ヘキシル、2−(
2−ヒドロキシエトキシ)エチル、p−ニトロベンジル
〕を表わす。
本発明の反応は銅もしくは銅化合物、アミン類及び塩基
の存在下て行われる。銅化合物は酸化数1価〜2価のも
のいずれも用いることかてきる。
の存在下て行われる。銅化合物は酸化数1価〜2価のも
のいずれも用いることかてきる。
銅化合物として好ましくは銅塩が用いられる。
本発明において用いられる銅または銅塩としては既知の
ものすべてか用いることかてきる。代表的なものは以下
の通っである。
ものすべてか用いることかてきる。代表的なものは以下
の通っである。
(イ)銅
粉末状、粒状、板状、鎖状または線状の銅(ロ)1価の
銅(無水物または水和物)塩化第一銅、臭化第一銅、シ
アン化第−銅、沃化第一銅、酸化第一銅、チオシアン酸
第−銅等 (ハ)2価の銅(無水物または水利物)酢酸銅、銅アセ
チルアセトネート、臭化第二銅、塩化第二銅、クエン酸
第二銅、塩化ニアンモニウム銅、4−シクロヘキシル醋
耐錆、ギ酸銅、グルコン酸銅、水酸化第二銅、硝酸銅、
オレイン酸銅、酸化第二銅、リン酸第二銅、塩化第二銅
カリウム、硫酸銅、硫化第二銅、炭酸銅、ドデカン耐錆
、エチルアセト酢酸銅、フッ化銅、しゅう鍛鋼、過塩素
鍛鋼、ピロリン酸相、セレン酸相、ステアリン酸銅、酒
石酸銅、キサントゲン耐錆等 これらの銅または銅塩のうち本発明において好ましく用
いられるのは2価の銅塩(例えば酢酸銅、塩化第二銅、
臭化第二銅等)である。
銅(無水物または水和物)塩化第一銅、臭化第一銅、シ
アン化第−銅、沃化第一銅、酸化第一銅、チオシアン酸
第−銅等 (ハ)2価の銅(無水物または水利物)酢酸銅、銅アセ
チルアセトネート、臭化第二銅、塩化第二銅、クエン酸
第二銅、塩化ニアンモニウム銅、4−シクロヘキシル醋
耐錆、ギ酸銅、グルコン酸銅、水酸化第二銅、硝酸銅、
オレイン酸銅、酸化第二銅、リン酸第二銅、塩化第二銅
カリウム、硫酸銅、硫化第二銅、炭酸銅、ドデカン耐錆
、エチルアセト酢酸銅、フッ化銅、しゅう鍛鋼、過塩素
鍛鋼、ピロリン酸相、セレン酸相、ステアリン酸銅、酒
石酸銅、キサントゲン耐錆等 これらの銅または銅塩のうち本発明において好ましく用
いられるのは2価の銅塩(例えば酢酸銅、塩化第二銅、
臭化第二銅等)である。
本発明において用いられるアミン類としてはN、N、N
”、N′−テトラメチルエチレンシアミン、アミジン類
(例えば1,8−ジアザビシクロ[5,4,O]−7−
ウンデセン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,O]−
5−ノネン等)、アミノ酸類(例えばグリシン、サルコ
シン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレ
オニン、グルタミン酸、リシン、アルギニン、ヒスチジ
ン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、プ
ロリン、ヒドロキシプロリン等)またはピリジン類(例
えばピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコ
リン、2,6−ルチジン、2,4−ルチジン、2.3−
ルチジン、2゜5−ルチジン、3,5−ルチジン、3,
4−ルチジン、2,4.6−コリジン、4−ジメチルア
ミノピリジン、2−ジメチルアミノピリジン、2−ピコ
リン酸、2.2′−ジピリジル、2.2′−ジピリジル
アミン、2,2′−ジピリジルメタン、2,2′−ジピ
リジルケトン、キノリン、2−メチルキノリン、3−メ
チルキノリン、4−メチルキノリン、8−ヒ1〜ロキシ
キノリン、イソキノリン、2.2′、6′、2”−ター
ピリジル、2.2′−シキノリル、■、1′−ジイソキ
ノリル、3,3′−ジイソキノリル、2−アミノピリジ
ン、■−アミノイソキノリン、2−アミノキノリン、ア
クリジン、9−メチルアクリジン、1゜IO−フェナン
トロリン、2.4−ジメチル−1,10−フェナントロ
リン、2,4.6−トリー2−ピリジルー1.3.5−
1−リアジン、2゜9−ジメチル−1,10−フェナン
トロリン、2.4,7.9−ブトラメチル−1,10−
フエナントロリン等)等がある。
”、N′−テトラメチルエチレンシアミン、アミジン類
(例えば1,8−ジアザビシクロ[5,4,O]−7−
ウンデセン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,O]−
5−ノネン等)、アミノ酸類(例えばグリシン、サルコ
シン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレ
オニン、グルタミン酸、リシン、アルギニン、ヒスチジ
ン、フェニルアラニン、チロシン、トリプトファン、プ
ロリン、ヒドロキシプロリン等)またはピリジン類(例
えばピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコ
リン、2,6−ルチジン、2,4−ルチジン、2.3−
ルチジン、2゜5−ルチジン、3,5−ルチジン、3,
4−ルチジン、2,4.6−コリジン、4−ジメチルア
ミノピリジン、2−ジメチルアミノピリジン、2−ピコ
リン酸、2.2′−ジピリジル、2.2′−ジピリジル
アミン、2,2′−ジピリジルメタン、2,2′−ジピ
リジルケトン、キノリン、2−メチルキノリン、3−メ
チルキノリン、4−メチルキノリン、8−ヒ1〜ロキシ
キノリン、イソキノリン、2.2′、6′、2”−ター
ピリジル、2.2′−シキノリル、■、1′−ジイソキ
ノリル、3,3′−ジイソキノリル、2−アミノピリジ
ン、■−アミノイソキノリン、2−アミノキノリン、ア
クリジン、9−メチルアクリジン、1゜IO−フェナン
トロリン、2.4−ジメチル−1,10−フェナントロ
リン、2,4.6−トリー2−ピリジルー1.3.5−
1−リアジン、2゜9−ジメチル−1,10−フェナン
トロリン、2.4,7.9−ブトラメチル−1,10−
フエナントロリン等)等がある。
これらのアミン類のうち本発明において好ましく用いら
れるものは以下の−・般式(XV)により表わすことか
てきる。
れるものは以下の−・般式(XV)により表わすことか
てきる。
式中R、R、R及びR17はそれぞれ独立14
I5 16 に水素原子、炭素数0〜36のアミノ基(例えばアミノ
基、N、N−ジメチルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、N、N−ジエチルアミノ基、ア
ニリノ基等)、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数1
〜36のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
、メトキシエトキシ基、オクチルオキシ基等)、炭素数
1〜36のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、i
−プロピル基、t−メチル基、n−ドデシル基等)、炭
素数2〜36のアルケニル基(例えばビニル基、アリル
基、オレイル基等)、炭素数6〜36のアリール基(例
えばフェニル基、ナフチル基、p−)リル基、p−ヒド
ロキシフェニル基等)及び炭素数1〜24の複素環基(
例えばピリジル、キノリル、フリル、チェニル、ピリミ
ジル、イミダゾリル等)を表わす。
I5 16 に水素原子、炭素数0〜36のアミノ基(例えばアミノ
基、N、N−ジメチルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、N、N−ジエチルアミノ基、ア
ニリノ基等)、ヒドロキシ基、メルカプト基、炭素数1
〜36のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基
、メトキシエトキシ基、オクチルオキシ基等)、炭素数
1〜36のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、i
−プロピル基、t−メチル基、n−ドデシル基等)、炭
素数2〜36のアルケニル基(例えばビニル基、アリル
基、オレイル基等)、炭素数6〜36のアリール基(例
えばフェニル基、ナフチル基、p−)リル基、p−ヒド
ロキシフェニル基等)及び炭素数1〜24の複素環基(
例えばピリジル、キノリル、フリル、チェニル、ピリミ
ジル、イミダゾリル等)を表わす。
R14、R15、R16及びR1□はまたそれぞれ独立
に炭素原子またはへテロ原子(例えば窒素原子、酸素原
子、イオウ原子、セレン原子等)てあってR14とR1
5、R15とR16またはR16とR17により置換も
しくは無置換の5〜20員環の炭化水素環(例えばベン
ゼン環、ナフタレン環、シクロヘキサン環、シクロペン
タン環、シクロヘキセン環、シクロへキザシエン環等)
または複素環(例えばピリジン、キノリン、ピリミジン
、トリアジン、フラン、チオフェン等)を構成する要素
てあってもよい。
に炭素原子またはへテロ原子(例えば窒素原子、酸素原
子、イオウ原子、セレン原子等)てあってR14とR1
5、R15とR16またはR16とR17により置換も
しくは無置換の5〜20員環の炭化水素環(例えばベン
ゼン環、ナフタレン環、シクロヘキサン環、シクロペン
タン環、シクロヘキセン環、シクロへキザシエン環等)
または複素環(例えばピリジン、キノリン、ピリミジン
、トリアジン、フラン、チオフェン等)を構成する要素
てあってもよい。
一般式(XV)て表わされる化合物の例としては前記の
2,2′−ジピリジル、2.2′:6′。
2,2′−ジピリジル、2.2′:6′。
2″−ターピリジル、2,2′−シキノリル、1.1′
−ジイソキノリル、3,3′−ジイソキノリル、1,1
0−フェナントロリン、2,9−ジメチル−1,lO−
フェナントロリン、2゜4.7.9−テトラメチル−1
,lO−フェナントロリン、2,4.6−1−ソー2−
ピリジル=1.5.5−)−リアジンやジメチルグリオ
キシム等がある。
−ジイソキノリル、3,3′−ジイソキノリル、1,1
0−フェナントロリン、2,9−ジメチル−1,lO−
フェナントロリン、2゜4.7.9−テトラメチル−1
,lO−フェナントロリン、2,4.6−1−ソー2−
ピリジル=1.5.5−)−リアジンやジメチルグリオ
キシム等がある。
本発明において用いられる塩基としては通常の有機反応
に用いられる塩基を用いることかできる。1t!基とし
てはその共役酸の氷中ての解離定数(pKa)か9以」
−のものか好ましい。塩基の例としては水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、Rmナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、水素化ナトリクム、水素化カリウム
、水素化リチウム、ナトリウムアミド、酸化カルシウム
、酸化バリウム、七−フトキシカリウムなどのアルカリ
金属もしくはアルカリ土類金属化合物並びにクアニジン
、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデ
セン(DBU)、1.5−ジアザビシクロ[4,3,O
] −5−ノネン(DBN)等がある。本発明において
好ましく用いられる塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化
ナトリウム、DBU等かある。
に用いられる塩基を用いることかできる。1t!基とし
てはその共役酸の氷中ての解離定数(pKa)か9以」
−のものか好ましい。塩基の例としては水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、Rmナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、水素化ナトリクム、水素化カリウム
、水素化リチウム、ナトリウムアミド、酸化カルシウム
、酸化バリウム、七−フトキシカリウムなどのアルカリ
金属もしくはアルカリ土類金属化合物並びにクアニジン
、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデ
セン(DBU)、1.5−ジアザビシクロ[4,3,O
] −5−ノネン(DBN)等がある。本発明において
好ましく用いられる塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化
ナトリウム、DBU等かある。
本発明においてアミン類と銅もしくは銅化合物は別々に
反応系に添加してもよいか、あらかしめアミン類の銅錯
体を調製して銅錯体として同時に添加することもできる
。本発明に用いる銅錯体としては1価または2価の銅塩
と一般式(XV)で表わされるアミン類との錯体か好ま
しく、特に好ましい錯体としては下記一般式(XVI)
て表わされる錯体な挙げることかてきる。
反応系に添加してもよいか、あらかしめアミン類の銅錯
体を調製して銅錯体として同時に添加することもできる
。本発明に用いる銅錯体としては1価または2価の銅塩
と一般式(XV)で表わされるアミン類との錯体か好ま
しく、特に好ましい錯体としては下記一般式(XVI)
て表わされる錯体な挙げることかてきる。
一般式(XVI)
(Cu (L) !;L) (” ) p一般式(X
VI)においてLは一般式(XV)で表ねされる化合物
と同じ意味を示し、文は1〜4の整数を示し、Tは錯体
のアニオンまたは共有結合成分を示す。pはCuとTの
チャージバランスをとるために必要な数(例えば1/2
.1.2等)を示す。例えばCuが2価てTが1価のア
ニオンのときpは2である。pが複数のとき工は同して
あっても異なっていてもよい。本発明に用いる銅錯体は
一般式(XVI)で表わされる銅錯体に他の異なる塩が
複合した複塩の形であってもよい。■の例をアニオン形
で以下に示す。
VI)においてLは一般式(XV)で表ねされる化合物
と同じ意味を示し、文は1〜4の整数を示し、Tは錯体
のアニオンまたは共有結合成分を示す。pはCuとTの
チャージバランスをとるために必要な数(例えば1/2
.1.2等)を示す。例えばCuが2価てTが1価のア
ニオンのときpは2である。pが複数のとき工は同して
あっても異なっていてもよい。本発明に用いる銅錯体は
一般式(XVI)で表わされる銅錯体に他の異なる塩が
複合した複塩の形であってもよい。■の例をアニオン形
で以下に示す。
F−、Cn−、Br−1I−、ClO4−。
BF’−1CHCOO−、NO2−1NO3−1N3−
1SCN−、OH−、CN−、5O42−1SO32−
、H3O−1H3O3−1N a S O4−。
1SCN−、OH−、CN−、5O42−1SO32−
、H3O−1H3O3−1N a S O4−。
N a S 03 、CO3
本発明において用いられる銅錯体の例として以下のもの
を挙げることがてきる。
を挙げることがてきる。
(Cu (py)2 )Cu。
(Cu (py) 2)Br2
(Cu (bpy))Cu。
(Cu (bpy))Br2
〔Cu(bPy) 〕C文C
0Cu (b P y) ) CJlj (Cn O
4−)(Cu (bpy)2 )I2 (Cu (bpy))(NO3)2 (Cu (bpy)z )(NO3)2(Cu (bp
y) )<NO3)2(Cu (bpy))(SCN
)2 CCuC12(terp)) (Cu (p h e n ) 2 ) Cl z(C
u (phen) )(C9,04)(Cu (ph
en)3 )(C文04)2(Cu (phen)
)No3 (Cu (phen) 3)(No3)2(たたし、p
y=ピリジン、bpy=:z、2′−ビピリジル、ph
en=1,10−フェナントロリン、terp=2.2
′: 6 ′、2”−ターピリジル) これらの銅錯体は水またはアルコール系溶媒中対応する
銅塩とピリジン類とを混合することにより容易に得るこ
とかできる。これらの銅錯体の合成法及び性質について
は新実験化学講座、第8巻、「無機化合物の合成mJ
(丸善株式会社)に詳しい。
4−)(Cu (bpy)2 )I2 (Cu (bpy))(NO3)2 (Cu (bpy)z )(NO3)2(Cu (bp
y) )<NO3)2(Cu (bpy))(SCN
)2 CCuC12(terp)) (Cu (p h e n ) 2 ) Cl z(C
u (phen) )(C9,04)(Cu (ph
en)3 )(C文04)2(Cu (phen)
)No3 (Cu (phen) 3)(No3)2(たたし、p
y=ピリジン、bpy=:z、2′−ビピリジル、ph
en=1,10−フェナントロリン、terp=2.2
′: 6 ′、2”−ターピリジル) これらの銅錯体は水またはアルコール系溶媒中対応する
銅塩とピリジン類とを混合することにより容易に得るこ
とかできる。これらの銅錯体の合成法及び性質について
は新実験化学講座、第8巻、「無機化合物の合成mJ
(丸善株式会社)に詳しい。
次に本発明の反応の反応条件について詳細に述べる。
本発明におけるアルコール類の反応基質すなわちハロゲ
ノベンゼン化合物に対するモル比は0.1〜1000て
あり、好ましくは1.0〜200、さらに好ましくは1
0〜100である。
ノベンゼン化合物に対するモル比は0.1〜1000て
あり、好ましくは1.0〜200、さらに好ましくは1
0〜100である。
本発明における銅、銅化合物または銅錯体の反応基質に
対するモル比は1.0X10”〜10てあり、好ましく
はi、oxio−6〜1.0、さらに好ましくは1.0
X10−3〜0、lである。
対するモル比は1.0X10”〜10てあり、好ましく
はi、oxio−6〜1.0、さらに好ましくは1.0
X10−3〜0、lである。
本発明におけるアミン類の反応基質に対するモル比はi
、oxio−10〜1000、好ましくは1.0X10
’〜200、さらに好ましくは1.0xlO−3〜10
0である。ただしアミン類が一般式(Xv)で表わされ
る化合物であるときは反応基質に対するモル比は好まし
くは1.0×10−6〜t、o、さらに好ましくは1.
0xlO−3〜0.1である。
、oxio−10〜1000、好ましくは1.0X10
’〜200、さらに好ましくは1.0xlO−3〜10
0である。ただしアミン類が一般式(Xv)で表わされ
る化合物であるときは反応基質に対するモル比は好まし
くは1.0×10−6〜t、o、さらに好ましくは1.
0xlO−3〜0.1である。
本発明における塩基の反応基質に対するモル比は0.1
〜100、好ましくは0.5〜lO1さらに好ましくは
1.O〜3.0である。
〜100、好ましくは0.5〜lO1さらに好ましくは
1.O〜3.0である。
アミン類がDBU、DBN、グアニジン等の強塩基であ
るときは、アミン類は塩基の代わりとして用いることが
てき、この時アミン類の反応基質に対するモル比は前記
塩基のそれに準じる。ここで強塩基とはその共役酸の水
中での解離定数(pKa)が9以上の塩基のことを言う
。
るときは、アミン類は塩基の代わりとして用いることが
てき、この時アミン類の反応基質に対するモル比は前記
塩基のそれに準じる。ここで強塩基とはその共役酸の水
中での解離定数(pKa)が9以上の塩基のことを言う
。
本発明の反応における溶奴としてはアセトニトリル、N
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミl−、ジメチルスルホキシト、N−メヂルビロリ1
−ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジグライム、エーテル、ヘキザメチルホスホリル
トリアミト、スルホラン、ジエチルカーボネート、■、
3−ジメチルー2−イミタゾリI〜ン等を挙げることか
てきるか、反応に用いられるアルコール類またはアミン
類(例えばピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ
−ピコリン、キノリン、2,6−ルチジン、2,4.6
−コリシン、N、N、N′。
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミl−、ジメチルスルホキシト、N−メヂルビロリ1
−ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジグライム、エーテル、ヘキザメチルホスホリル
トリアミト、スルホラン、ジエチルカーボネート、■、
3−ジメチルー2−イミタゾリI〜ン等を挙げることか
てきるか、反応に用いられるアルコール類またはアミン
類(例えばピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ
−ピコリン、キノリン、2,6−ルチジン、2,4.6
−コリシン、N、N、N′。
N′−テトラメチルエヂレンシアミン、DBU、DBN
等)を過剰量用いて溶媒としても作用させるのかより好
ましい。
等)を過剰量用いて溶媒としても作用させるのかより好
ましい。
反応温度は一78°C〜200 ’C2好ましくは一2
0℃〜100℃、さらに好ましくは一1O°C〜60°
Cである。
0℃〜100℃、さらに好ましくは一1O°C〜60°
Cである。
(化合物の具体例)
以下に本発明の反応を適用する化合物の具体例を一般式
(I)及び(II)で示される化合物の組合せて示すか
、これらに限定されるものではない。
(I)及び(II)で示される化合物の組合せて示すか
、これらに限定されるものではない。
/′
/′
/′
メ
/″
(発明の効果)
本発明方法によれば、アルコキシベンゼン誘導体を温和
な条件て収率よく、かつ高選択率で得ることかてきる。
な条件て収率よく、かつ高選択率で得ることかてきる。
また本発明方法によればアルコキシ基を好収率て導入す
ることかでき、さらに修飾して使用されるアルコキシベ
ンゼン誘導体の合成方法として好適である。
ることかでき、さらに修飾して使用されるアルコキシベ
ンゼン誘導体の合成方法として好適である。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例1
1−アセトアミド−8−ヒドロキシエトキシナフタレン
の合成(例示化合物1−(8)の合r&)1、、 H,
Klemm、 J、 W、 Spraguc、 E、
Y、 Mak、 J。
の合成(例示化合物1−(8)の合r&)1、、 H,
Klemm、 J、 W、 Spraguc、 E、
Y、 Mak、 J。
Org、 Cbem−、22,164(1957)によ
り8−ブロモ−1−ナフチルアミンを合成した。すなわ
ち、1゜8−ジアミノナフタレン36gを2.4文の水
に分散し、84m1の濃塩酸を加えスチームハス−1−
て約1時間加、!8攪拌した。ろ過により不溶物を除去
後水−メタノール混合により冷却し、内1.IQ〜5°
Cて亜硝酸ナトリウム16gの木400m1溶液を約1
時間て滴下した。さらに1詩間攪拌の後冷蔵庫にて1[
1静置した。生したアズイミノナフタレンの沈殿をろ過
し、水洗し、次いて風乾し、40gのアズイミノナフタ
レンを得た。
り8−ブロモ−1−ナフチルアミンを合成した。すなわ
ち、1゜8−ジアミノナフタレン36gを2.4文の水
に分散し、84m1の濃塩酸を加えスチームハス−1−
て約1時間加、!8攪拌した。ろ過により不溶物を除去
後水−メタノール混合により冷却し、内1.IQ〜5°
Cて亜硝酸ナトリウム16gの木400m1溶液を約1
時間て滴下した。さらに1詩間攪拌の後冷蔵庫にて1[
1静置した。生したアズイミノナフタレンの沈殿をろ過
し、水洗し、次いて風乾し、40gのアズイミノナフタ
レンを得た。
濃臭化水素酸240m1に110°Cて加熱攪拌下調粉
末16gを加え30分間加熱した。アズイミノナフタレ
ン40gを徐々に加え、発泡が収まってからさらに30
分間加熱した。500m1の水を加え加熱後熱時ろ過し
た。ろ液を冷却し、水酸化す1ヘリウムで中和し、析出
した結晶をろ過、水洗、乾燥することにより8−ブロモ
−1−ナフチルアミンを24g得た。
末16gを加え30分間加熱した。アズイミノナフタレ
ン40gを徐々に加え、発泡が収まってからさらに30
分間加熱した。500m1の水を加え加熱後熱時ろ過し
た。ろ液を冷却し、水酸化す1ヘリウムで中和し、析出
した結晶をろ過、水洗、乾燥することにより8−ブロモ
−1−ナフチルアミンを24g得た。
8−フロモー1−ナフチルアミン11.1gをN、N−
ジメチルポルムアミド50m1に溶解し、ピリジン8g
及び無水酢酸7,7gを加え80°Cで3蒔間攪拌した
。室温に冷却後500m1の木を加え析出した結晶をろ
過した。結晶を酢酸エヂルートルエン混合溶媒より再結
晶することにより1−アセトアミI<−8−ブロモナフ
タレンを11.1g得た。
ジメチルポルムアミド50m1に溶解し、ピリジン8g
及び無水酢酸7,7gを加え80°Cで3蒔間攪拌した
。室温に冷却後500m1の木を加え析出した結晶をろ
過した。結晶を酢酸エヂルートルエン混合溶媒より再結
晶することにより1−アセトアミI<−8−ブロモナフ
タレンを11.1g得た。
エチレングリコール15.5gに60%水素化ナトリウ
ム0.9g、ピリジン19.8g、塩化第1銅25 m
gを順次加え、次いて1−アセトアミド−8−ブロモ
ナフタレン2.64gを少しずつ加えた。添加後さらに
5時間室温で攪拌の後200m1の水を加え析出した結
晶をろ過した。結晶をトルエンより再結晶することによ
り目的とする1−アセトアミド−8−ヒドロキシエトキ
シナフタレンを2.11g(収率80%)、融点177
〜180℃ 実施例2 1−ヒドロキシエトキシ−8−メタンスルホンアミドナ
フタレンの合r&(例示化合Th1− (9)の合成) 8−ブロモ−1−ナフチルアミン11.1gをとリジン
50稽に溶解し、室温てメチルスルホニルクロリド8.
6gを滴下した。50’Cて5時間反応の後室温に冷却
し、300イの水を加え濃塩酸て中和し、析出した結晶
をろ過、水洗、乾帰した。結晶をトルエンより再結晶す
ることにより1−フロモー8−メタンスルホンアミ1〜
ナフタレンを10.8g得た。
ム0.9g、ピリジン19.8g、塩化第1銅25 m
gを順次加え、次いて1−アセトアミド−8−ブロモ
ナフタレン2.64gを少しずつ加えた。添加後さらに
5時間室温で攪拌の後200m1の水を加え析出した結
晶をろ過した。結晶をトルエンより再結晶することによ
り目的とする1−アセトアミド−8−ヒドロキシエトキ
シナフタレンを2.11g(収率80%)、融点177
〜180℃ 実施例2 1−ヒドロキシエトキシ−8−メタンスルホンアミドナ
フタレンの合r&(例示化合Th1− (9)の合成) 8−ブロモ−1−ナフチルアミン11.1gをとリジン
50稽に溶解し、室温てメチルスルホニルクロリド8.
6gを滴下した。50’Cて5時間反応の後室温に冷却
し、300イの水を加え濃塩酸て中和し、析出した結晶
をろ過、水洗、乾帰した。結晶をトルエンより再結晶す
ることにより1−フロモー8−メタンスルホンアミ1〜
ナフタレンを10.8g得た。
エチレンクリコール15.5gに水酸化すI−リウム1
gを加えスチームハス」−て加熱攪拌して均一溶液とし
室温に冷却し、とリジン19.8g及び塩化第二銅二水
和物34 m gを加え、ざらに1−フロモー8−メタ
ンスルホンアミドナフタレンを3.00g徐々に加えた
。3時間攪拌の後300m1の水を加え濃塩酸で中和し
、析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより再結晶
することにより目的とする1−ヒトロキシエトギシー8
−メタンスルホンアミドナフタレンを2.56g(収率
91%)得た。融点84〜85°C実施例3 1−ヒトロキシエトギシー8−メタンスメホンアミトナ
フタレンの合成(合成例2と異なる反応条件による例示
化合物1−(9)の合成)エチレンクリコール7.8に
DBUl、9g及び塩化第二銅二水和物21 m gを
加えさらに1−ブロモ−8−メタンスルホンアミドナフ
タレン1.5gを徐々に加えた。8時間室温て攪拌の後
300m1の水を加え、濃塩酸で中和し、析出した結晶
をろ過した。結晶をトルエンより再結晶することにより
目的とする1−ヒドロキシエトキシ−8−メタンスルホ
ンアミドナフタレンを1.25g(収率89%)得た。
gを加えスチームハス」−て加熱攪拌して均一溶液とし
室温に冷却し、とリジン19.8g及び塩化第二銅二水
和物34 m gを加え、ざらに1−フロモー8−メタ
ンスルホンアミドナフタレンを3.00g徐々に加えた
。3時間攪拌の後300m1の水を加え濃塩酸で中和し
、析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより再結晶
することにより目的とする1−ヒトロキシエトギシー8
−メタンスルホンアミドナフタレンを2.56g(収率
91%)得た。融点84〜85°C実施例3 1−ヒトロキシエトギシー8−メタンスメホンアミトナ
フタレンの合成(合成例2と異なる反応条件による例示
化合物1−(9)の合成)エチレンクリコール7.8に
DBUl、9g及び塩化第二銅二水和物21 m gを
加えさらに1−ブロモ−8−メタンスルホンアミドナフ
タレン1.5gを徐々に加えた。8時間室温て攪拌の後
300m1の水を加え、濃塩酸で中和し、析出した結晶
をろ過した。結晶をトルエンより再結晶することにより
目的とする1−ヒドロキシエトキシ−8−メタンスルホ
ンアミドナフタレンを1.25g(収率89%)得た。
融点84.5〜85°C実施例4
1−カルボエトキシアミノ−8−ヒドロキシエトキシナ
フタレンの合成(例示化合物1−(10)の合IO#、
) 8−ブロモ−1−ナフチルアミンii、IgをN、N−
ジメチルアセトアミド50m1に溶解し、80°Cて攪
拌しなからクロロ炭酸エチル5.5gを滴下した。5時
間攪拌の後冷却し、500m1の水を加え、200m1
の酢酸エチルにより抽出した。酢酸エチル溶液を300
m1の水て2回水洗の後硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
した。残渣にチルエン−n−ヘキサン混合溶媒を加え晶
析することによりl−ノロモー8−カルボエトキシアミ
ノナフタレンの結晶を12.1g(収率82%)得た。
フタレンの合成(例示化合物1−(10)の合IO#、
) 8−ブロモ−1−ナフチルアミンii、IgをN、N−
ジメチルアセトアミド50m1に溶解し、80°Cて攪
拌しなからクロロ炭酸エチル5.5gを滴下した。5時
間攪拌の後冷却し、500m1の水を加え、200m1
の酢酸エチルにより抽出した。酢酸エチル溶液を300
m1の水て2回水洗の後硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮
した。残渣にチルエン−n−ヘキサン混合溶媒を加え晶
析することによりl−ノロモー8−カルボエトキシアミ
ノナフタレンの結晶を12.1g(収率82%)得た。
DBU3.8gをエチレンクリコール7.8gに溶解し
、室温て[Cu (bpy)2 ] 02文45mgを
加えた。次いて1−ブロモ−8−カルボエトキシアミノ
ナフタレン2.94gを徐々に加え、さらに2時間攪拌
した。反応液に100dを加え濃塩酸て中和し析出した
結晶をろ過した。
、室温て[Cu (bpy)2 ] 02文45mgを
加えた。次いて1−ブロモ−8−カルボエトキシアミノ
ナフタレン2.94gを徐々に加え、さらに2時間攪拌
した。反応液に100dを加え濃塩酸て中和し析出した
結晶をろ過した。
結晶をトルエンより再結晶することにより目的とする1
−カルボエトキシアミノ−8−ヒドロキシエトキシナフ
タレンを2.56g (収率93%)得た。融点122
〜123℃ 実施例5 1−カルボエトキシアミノ−8−ヒドロキシエトキシナ
フタレンの合成(実施例4と異なる反応条件による例示
化合物1− (10)の合成)エチレンクリコール25
gに炭酸カリウム3.5gを加え、スチームハス上て加
熱撹拌して溶解し室温に冷却した。[Cu (bpy)
2 ] 02文45 m gを加え、次いで1−ノロモ
ー8−カルボエトキシアミノナフタレン2.94gを徐
々に加え、さらに2時間攪拌した。反応液に水200m
1を加え析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより
再結晶することにより目的とするl−カルボエトキシア
ミノ−8−ヒドロキシエトキシナフタレンを2.45g
(収率89%)得た。融点122〜123°C 実施例6 1−メトキシ−8−メタンスルホンアミドナフタレンの
合成(例示化合物1− (3)の合成)水酸化カリウム
0.84をメタノール13gに加え、スチームハス上で
加熱攪拌して溶解し、室温に冷却した。2.2′−ピリ
ジル31 m g及び塩化第二銅二本和物17 m g
を加え、次いてl−ブロモ−8−メタンスルホンアミド
ナフタレン3.0Ogを徐々に加え、さらに2時間攪拌
した。反応液に水10017dを加え、濃塩酸て中和し
析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより再結晶す
ることにより目的とするl−メトキシ−8=メタンスル
ホンアミドナフタレンを2.16g(収率86%)得た
。融点98〜100°C)実施例7 ■−メトキシー8−メタンスルホンアミドナフタレンの
合成(実施例6と異なる反応条件による例示化合物1−
(3)の合成) t−ブトキシカリウム1.7gをメタノール8gに分散
し室温て撹拌しながら [Cu (phen) コCJlj 249 m g
を加えた。
−カルボエトキシアミノ−8−ヒドロキシエトキシナフ
タレンを2.56g (収率93%)得た。融点122
〜123℃ 実施例5 1−カルボエトキシアミノ−8−ヒドロキシエトキシナ
フタレンの合成(実施例4と異なる反応条件による例示
化合物1− (10)の合成)エチレンクリコール25
gに炭酸カリウム3.5gを加え、スチームハス上て加
熱撹拌して溶解し室温に冷却した。[Cu (bpy)
2 ] 02文45 m gを加え、次いで1−ノロモ
ー8−カルボエトキシアミノナフタレン2.94gを徐
々に加え、さらに2時間攪拌した。反応液に水200m
1を加え析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより
再結晶することにより目的とするl−カルボエトキシア
ミノ−8−ヒドロキシエトキシナフタレンを2.45g
(収率89%)得た。融点122〜123°C 実施例6 1−メトキシ−8−メタンスルホンアミドナフタレンの
合成(例示化合物1− (3)の合成)水酸化カリウム
0.84をメタノール13gに加え、スチームハス上で
加熱攪拌して溶解し、室温に冷却した。2.2′−ピリ
ジル31 m g及び塩化第二銅二本和物17 m g
を加え、次いてl−ブロモ−8−メタンスルホンアミド
ナフタレン3.0Ogを徐々に加え、さらに2時間攪拌
した。反応液に水10017dを加え、濃塩酸て中和し
析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより再結晶す
ることにより目的とするl−メトキシ−8=メタンスル
ホンアミドナフタレンを2.16g(収率86%)得た
。融点98〜100°C)実施例7 ■−メトキシー8−メタンスルホンアミドナフタレンの
合成(実施例6と異なる反応条件による例示化合物1−
(3)の合成) t−ブトキシカリウム1.7gをメタノール8gに分散
し室温て撹拌しながら [Cu (phen) コCJlj 249 m g
を加えた。
1−ブロモー8−メタンスルホンアミドナフタレン3.
OOgを徐々に加えさらに2時間攪拌の抜水100mJ
を加え析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより再
結晶することにより目的とする■−メトキシー8−メタ
ンスルホンアミドナフ々レンを2.06g (収率82
%)得た。融点99〜100°C 実施例8 種々の1.8−ジ置換ナフタレン類を用い、下記式によ
り下記第4表の反応条件てアルコール類を反応させた。
OOgを徐々に加えさらに2時間攪拌の抜水100mJ
を加え析出した結晶をろ過した。結晶をトルエンより再
結晶することにより目的とする■−メトキシー8−メタ
ンスルホンアミドナフ々レンを2.06g (収率82
%)得た。融点99〜100°C 実施例8 種々の1.8−ジ置換ナフタレン類を用い、下記式によ
り下記第4表の反応条件てアルコール類を反応させた。
その結果を第4表にまとめた。
塩基
アミン
第4表から明らかなように反応基質の1−ハロゲノナフ
タレンにおいてハロゲン原子のベリ位のアミ1〜基(一
般式(I)においてR2NH−と規定した)の存在か本
発明の反応において必須である。すなわち本反応は1−
アミド−8−ハロゲノフタレン誘導体について基質特異
的である。また本反応において塩基、アミン及び銅また
は銅塩のいずれもか必須であることか第4表より明らか
である。
タレンにおいてハロゲン原子のベリ位のアミ1〜基(一
般式(I)においてR2NH−と規定した)の存在か本
発明の反応において必須である。すなわち本反応は1−
アミド−8−ハロゲノフタレン誘導体について基質特異
的である。また本反応において塩基、アミン及び銅また
は銅塩のいずれもか必須であることか第4表より明らか
である。
実施例9
5−カルボエトキシアミノ−1−[N−(3−ドデシル
オキシプロピル)カルバモイル]−4−ヒドロキシエト
キシ−1−ナフトール(特開昭61−153640号特
許請求の範囲に包含されるシアン色素形成カプラー、例
示化合物1−(29))の合成 5−カルボエトキシアミノ−2−[N−(3−1〜デシ
ルオキシプロピル)カルバモイル]−1−ナフトール(
特開昭61−153640号明細書に記載の例示カプラ
ー(8))を同明細書に記載の方法に従って合成した。
オキシプロピル)カルバモイル]−4−ヒドロキシエト
キシ−1−ナフトール(特開昭61−153640号特
許請求の範囲に包含されるシアン色素形成カプラー、例
示化合物1−(29))の合成 5−カルボエトキシアミノ−2−[N−(3−1〜デシ
ルオキシプロピル)カルバモイル]−1−ナフトール(
特開昭61−153640号明細書に記載の例示カプラ
ー(8))を同明細書に記載の方法に従って合成した。
融点79〜,81°C次に5−カルボエトキシアミノ−
1−[N−(3−Fデシルオキシフプロビル)カルバモ
イル]−1−ナフトール50gをクロロホルム350m
1に溶解し、水冷下撹拌しなから臭素を16.4g約3
0分て滴下した。1時間攪拌の後反応液を500棺の水
て3回水洗し濃縮した。残渣にアセトニトリル400m
1を加え溶解、晶析法いてろ過することにより4−フロ
モー5−カルボエトキシアミノ−2−[N−(3−ドデ
シルオキシプロピル)カルバモイル]−1−ナフトール
を51.9g(収率90%)得た。融点94〜96°C
エチレングリコール120m1に水醇化ナトリウム2g
を加え、スチームハス上て加熱、溶解後水冷した。[C
u (d P Y ) ] Cn 290 m gを
加え、次いて4−フロモー5−カルボエトキシアミノ−
2−[N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルハモイ
ルコー1−ナフトール11.6gを加えた。3時間攪拌
の抜水240m1を加え濃塩酸で中和した。酢酸エチル
200m1を加えて抽出し酢酸エチル溶液を300m1
の水て2回水洗した。酢酸エチル溶液を硫酸ナトリウム
て乾燥後約115量に濃縮しアセトニトリルを加えて晶
析した。析出した結晶をろ過、アセトニトリル洗浄状い
て乾燥することにより目的とする5−カルボエトキシア
ミノ−2−[N−(3−ドデシルオキシプロピル)カル
バモイル]−4−ヒドロキシエトキシ−1−ナフトール
を9.9g (収率88%)得た。融点133〜134
°C 同様にして下記反応に従い合成した化合物群を第5表に
示した。
1−[N−(3−Fデシルオキシフプロビル)カルバモ
イル]−1−ナフトール50gをクロロホルム350m
1に溶解し、水冷下撹拌しなから臭素を16.4g約3
0分て滴下した。1時間攪拌の後反応液を500棺の水
て3回水洗し濃縮した。残渣にアセトニトリル400m
1を加え溶解、晶析法いてろ過することにより4−フロ
モー5−カルボエトキシアミノ−2−[N−(3−ドデ
シルオキシプロピル)カルバモイル]−1−ナフトール
を51.9g(収率90%)得た。融点94〜96°C
エチレングリコール120m1に水醇化ナトリウム2g
を加え、スチームハス上て加熱、溶解後水冷した。[C
u (d P Y ) ] Cn 290 m gを
加え、次いて4−フロモー5−カルボエトキシアミノ−
2−[N−(3−ドデシルオキシプロピル)カルハモイ
ルコー1−ナフトール11.6gを加えた。3時間攪拌
の抜水240m1を加え濃塩酸で中和した。酢酸エチル
200m1を加えて抽出し酢酸エチル溶液を300m1
の水て2回水洗した。酢酸エチル溶液を硫酸ナトリウム
て乾燥後約115量に濃縮しアセトニトリルを加えて晶
析した。析出した結晶をろ過、アセトニトリル洗浄状い
て乾燥することにより目的とする5−カルボエトキシア
ミノ−2−[N−(3−ドデシルオキシプロピル)カル
バモイル]−4−ヒドロキシエトキシ−1−ナフトール
を9.9g (収率88%)得た。融点133〜134
°C 同様にして下記反応に従い合成した化合物群を第5表に
示した。
RNHBr
RNHOR,’1
実施例10
1−ヒトロキシエ1〜キシー2−フェニルカルバモイル
ベンゼン(例示化合物2− (2))の合成2−ブロモ
安息香酸20.1gをトルエン200m1に分散し、こ
れに塩化チオニル14.5mlを加え、内温80〜90
℃にて2時間反応した。トルエンを留去して得られた油
状物をアニリン8.4g、ジメチルアセトアミド120
m1の溶液に滴下し、室温にて1時間攪拌した。これに
酢酸エチル300m1を加え、2回水洗し、芒硝にて乾
燥した。溶媒を留去した後、n−ヘキサン−酢酸エチル
系で晶析を行い、1−ブロモ−2−フェニルカルバモイ
ルベンゼン22.0gを得た。
ベンゼン(例示化合物2− (2))の合成2−ブロモ
安息香酸20.1gをトルエン200m1に分散し、こ
れに塩化チオニル14.5mlを加え、内温80〜90
℃にて2時間反応した。トルエンを留去して得られた油
状物をアニリン8.4g、ジメチルアセトアミド120
m1の溶液に滴下し、室温にて1時間攪拌した。これに
酢酸エチル300m1を加え、2回水洗し、芒硝にて乾
燥した。溶媒を留去した後、n−ヘキサン−酢酸エチル
系で晶析を行い、1−ブロモ−2−フェニルカルバモイ
ルベンゼン22.0gを得た。
エチレングリコールIs、6gにDBUl、9g、塩化
第一銅50mg、1−ブロモ−2−フェニルカルバモイ
ルベンゼン1.38g、さらにピリジン14揃を順次加
え、室温にて30分攪拌した。これに酢酸エチル、水を
加え、塩酸にて酸性化した後、有機層を2回水洗した。
第一銅50mg、1−ブロモ−2−フェニルカルバモイ
ルベンゼン1.38g、さらにピリジン14揃を順次加
え、室温にて30分攪拌した。これに酢酸エチル、水を
加え、塩酸にて酸性化した後、有機層を2回水洗した。
芒硝乾燥後、溶媒を留去し、これにn−ヘキサンを加え
て晶析を行い、目的とする1−ヒドロキシエトキシ−2
−フェニルカルバモイルベンゼンを1.05g(収率8
1%)得た。融点114〜116.5°C実施例11 1−ヒドロキシエトキシ−2−フェニルカルバモイルベ
ンゼン(例示化合物2−(2))の合成(実施例1Oと
異なる反応条件) エチレングリコール15.6gに水酸化ナトリウム0.
5gを加え、スチームバス上て加熱攪拌して均一溶液と
した後、室温に冷却し、塩化第二銅二水和物21mg、
2,2′−ビピリジル20mg、さらに1−ブロモ−2
−フェニルカルバモイルベンゼン1.38gを順次加え
、室温で3時間攪拌した。その後、実施例10と同様の
後処理を行い、目的とする1−ヒドロキシエトキシ−2
−フェニルカルバモイルベンゼンを1.20g (収率
93%)得た。融点114.5〜1166C実施例12 例示化合物2− (16)の合成 2−ブロモ安息香酸20.Igをトルエン200m1に
分散し、これに塩化チオニル14.5mlを加え、内温
80〜90°Cにて2時間反応した。トルエンを留去し
て得られた油状物を3−アミノピリジン9.4g、ジメ
チルアセトアミド120摺の溶液に滴下し、室温にて1
時間攪拌した。これに酢酸エチル300m1を加え、2
回水洗し、芒硝にて乾燥した。溶媒を留去した後、ヘキ
サン−酢酸エチルにて晶析を行い、1−ブロモ−2−ピ
リジルカルバモイルベンゼン20.1gを得た。
て晶析を行い、目的とする1−ヒドロキシエトキシ−2
−フェニルカルバモイルベンゼンを1.05g(収率8
1%)得た。融点114〜116.5°C実施例11 1−ヒドロキシエトキシ−2−フェニルカルバモイルベ
ンゼン(例示化合物2−(2))の合成(実施例1Oと
異なる反応条件) エチレングリコール15.6gに水酸化ナトリウム0.
5gを加え、スチームバス上て加熱攪拌して均一溶液と
した後、室温に冷却し、塩化第二銅二水和物21mg、
2,2′−ビピリジル20mg、さらに1−ブロモ−2
−フェニルカルバモイルベンゼン1.38gを順次加え
、室温で3時間攪拌した。その後、実施例10と同様の
後処理を行い、目的とする1−ヒドロキシエトキシ−2
−フェニルカルバモイルベンゼンを1.20g (収率
93%)得た。融点114.5〜1166C実施例12 例示化合物2− (16)の合成 2−ブロモ安息香酸20.Igをトルエン200m1に
分散し、これに塩化チオニル14.5mlを加え、内温
80〜90°Cにて2時間反応した。トルエンを留去し
て得られた油状物を3−アミノピリジン9.4g、ジメ
チルアセトアミド120摺の溶液に滴下し、室温にて1
時間攪拌した。これに酢酸エチル300m1を加え、2
回水洗し、芒硝にて乾燥した。溶媒を留去した後、ヘキ
サン−酢酸エチルにて晶析を行い、1−ブロモ−2−ピ
リジルカルバモイルベンゼン20.1gを得た。
メタノール20m1に、DBU 1.9g、CuCu
2 (bpy)2 ” 2H2044mg、1−ブロ
モ−2−ピリジルカルバモイルベンゼン1.39g、さ
らにピリジン10m1を順次加え、室温にて、2時間攪
拌した。これに酢酸エチル、木を加え、塩酸にて中和し
た後、有機層を2回水洗した。芒硝乾燥後、溶媒を留去
し、メタノールから再結晶し、目的とする例示化合物2
−(16)を0.92g (収率85%)得た。融点1
12〜114°C 実施例13 例示化合物2− (6)の合成エチレング
リコール15.6dとピリジン15m1の混合溶媒に金
属銅310 rsg、炭酸カリウム3.5gを加え、ス
チームバス上で30分加28Wl拌した。室温まて冷却
した後l−ブロモ−2−(4−ニトロフェニルカルバモ
イル)ベンゼン1.60g、2,2′−ビピリジル20
■gを加え、室温にて30分間攪拌した。これに酢酸エ
チル、水を加え、塩酸にて中和した後、分液を行い、有
機層を2回水洗した。芒硝乾燥後、溶媒を留去し、ヘキ
サン−イソプロパツールより晶析して、例示化合物2−
(6)1.30g (収率87%)を得た。融点18
5〜187℃ 実施例14〜22 2−カルバモイル−1−ハロゲンベンゼン化合物とアル
コール類を第1表に示した化合物に代えた以外は実施例
12と同様にしてl−アルコキシ−2−カルバモイルベ
ンゼン化合物を合成した。
2 (bpy)2 ” 2H2044mg、1−ブロ
モ−2−ピリジルカルバモイルベンゼン1.39g、さ
らにピリジン10m1を順次加え、室温にて、2時間攪
拌した。これに酢酸エチル、木を加え、塩酸にて中和し
た後、有機層を2回水洗した。芒硝乾燥後、溶媒を留去
し、メタノールから再結晶し、目的とする例示化合物2
−(16)を0.92g (収率85%)得た。融点1
12〜114°C 実施例13 例示化合物2− (6)の合成エチレング
リコール15.6dとピリジン15m1の混合溶媒に金
属銅310 rsg、炭酸カリウム3.5gを加え、ス
チームバス上で30分加28Wl拌した。室温まて冷却
した後l−ブロモ−2−(4−ニトロフェニルカルバモ
イル)ベンゼン1.60g、2,2′−ビピリジル20
■gを加え、室温にて30分間攪拌した。これに酢酸エ
チル、水を加え、塩酸にて中和した後、分液を行い、有
機層を2回水洗した。芒硝乾燥後、溶媒を留去し、ヘキ
サン−イソプロパツールより晶析して、例示化合物2−
(6)1.30g (収率87%)を得た。融点18
5〜187℃ 実施例14〜22 2−カルバモイル−1−ハロゲンベンゼン化合物とアル
コール類を第1表に示した化合物に代えた以外は実施例
12と同様にしてl−アルコキシ−2−カルバモイルベ
ンゼン化合物を合成した。
その結果を第6表に示した。
比較例1〜3
塩基(NaOH)、アミン(2,2′−ビピリジル)及
び銅#A(CuC文 ・2H20)のいずれかを省いた
以外は実施例2と同様にして反応を行わせてl−ヒドロ
キシエトキシ−2−フェニルカルバモイルベンゼンを合
成した。その結果を第7表に示した。
び銅#A(CuC文 ・2H20)のいずれかを省いた
以外は実施例2と同様にして反応を行わせてl−ヒドロ
キシエトキシ−2−フェニルカルバモイルベンゼンを合
成した。その結果を第7表に示した。
上記表の結果より、本反応において、塩基、アミン及び
銅または銅塩のいずれも必要であることかわかる。
銅または銅塩のいずれも必要であることかわかる。
実施例23 例示化合物3−(12)の合成下記スキー
ムに従い、原料Gを合成し、ざらに銅塩を用いる今回の
反応を行った。
ムに従い、原料Gを合成し、ざらに銅塩を用いる今回の
反応を行った。
G 3−12
■−1)原料Gの合成
0−ニトロアニリン(C)4.1gをジメチルアセトア
ミド50m1に溶かし、これに、0−ブロモベンゾイル
クロリド(D)6.7gを滴下し、さらにアセトニトリ
ル30dを加え、内温90°Cにて3時間攪拌した。室
温にもどし、酢酸エチル200m1を加え、2回水洗し
た。少量残存する0−ニトロアニリンを蒸留にて除去し
た後(b、p、85〜95°C/ O、、3n+ml1
g) 、残渣をn−ヘキサン/ミープロパツールから晶
析して、化合物Eを7.0g得た。収率73% 還元鉄12.8g、塩化アンモニウム0.7gに酢酸0
.7ml、水16m1、i−プロパツール80dを加え
、窒素雰囲気下、1時間加熱還流し、これに化合%E6
.4gを加えて、さらに30分加熱還流した。熱面に鉄
粉をろ別後、ろ液を濃縮し、水を加えて、結晶化させ、
化合物Fをろ取した。4.8g (収率82%) 次いで化合物F4.7g、p−)ルエンスルホン酸0.
3gをトルエン30m1に分散し、脱水しながら加熱還
流を3時間行った。室温にもどし、酢酸エチル100m
1を加え、2回水洗した。溶媒な留去後、カラムクロマ
トクラフィー(クロロホルム)にて精製後、アセトニト
リルより晶析して、化合物G2.8gを得た。収率64
%■−2)例示化合物3−(12)の合成ジエチレング
リコール50dに水素化ナトリウム(40%)i、Og
を少量ずつ加え、これに°、塩化第一銅1.0g、2.
2′−ビピリジル1.6g、化合物G2.7gを順次加
え、さらにピリジン50m1を加え、12時間室温にて
攪拌した。反応混合物を、リン酸−カリウム水溶液に注
ぎ、食塩を飽和させた後、酢酸エチルで抽出した。溶媒
留去後、カラムクロマトグラフィー(クロロホルム/酢
酸エチル=1/3)にて精製し、化合物3− (12)
1.6gを得た。収率54%、融点143.5〜146
8C 実施例24 例示化合物3− (4)の合成下記スキー
ムに従い、原料Jを合成し、ざらに銅塩を用いる今回の
反応を行った。
ミド50m1に溶かし、これに、0−ブロモベンゾイル
クロリド(D)6.7gを滴下し、さらにアセトニトリ
ル30dを加え、内温90°Cにて3時間攪拌した。室
温にもどし、酢酸エチル200m1を加え、2回水洗し
た。少量残存する0−ニトロアニリンを蒸留にて除去し
た後(b、p、85〜95°C/ O、、3n+ml1
g) 、残渣をn−ヘキサン/ミープロパツールから晶
析して、化合物Eを7.0g得た。収率73% 還元鉄12.8g、塩化アンモニウム0.7gに酢酸0
.7ml、水16m1、i−プロパツール80dを加え
、窒素雰囲気下、1時間加熱還流し、これに化合%E6
.4gを加えて、さらに30分加熱還流した。熱面に鉄
粉をろ別後、ろ液を濃縮し、水を加えて、結晶化させ、
化合物Fをろ取した。4.8g (収率82%) 次いで化合物F4.7g、p−)ルエンスルホン酸0.
3gをトルエン30m1に分散し、脱水しながら加熱還
流を3時間行った。室温にもどし、酢酸エチル100m
1を加え、2回水洗した。溶媒な留去後、カラムクロマ
トクラフィー(クロロホルム)にて精製後、アセトニト
リルより晶析して、化合物G2.8gを得た。収率64
%■−2)例示化合物3−(12)の合成ジエチレング
リコール50dに水素化ナトリウム(40%)i、Og
を少量ずつ加え、これに°、塩化第一銅1.0g、2.
2′−ビピリジル1.6g、化合物G2.7gを順次加
え、さらにピリジン50m1を加え、12時間室温にて
攪拌した。反応混合物を、リン酸−カリウム水溶液に注
ぎ、食塩を飽和させた後、酢酸エチルで抽出した。溶媒
留去後、カラムクロマトグラフィー(クロロホルム/酢
酸エチル=1/3)にて精製し、化合物3− (12)
1.6gを得た。収率54%、融点143.5〜146
8C 実施例24 例示化合物3− (4)の合成下記スキー
ムに従い、原料Jを合成し、ざらに銅塩を用いる今回の
反応を行った。
し乙
HI J
■−1)原料Jの合成
p−シフロモベンゼン(H)80gにクロロスルホン酸
90dを加え、内温60°Cにて1時間攪拌後、室温に
もどし、氷水に少量ずつ加えた。析出した結晶を水洗後
、送風乾燥を行い、化合物Iを90.1g得た。化合物
I3.34g、3,4−ジクロロアニリン1.62gを
アセトニトリル30m1に分散し、これにピリジン0.
8mlを加えた後、2時間加熱還流した。室温にもどし
、酢酸エチル100m1を加え、水洗を2回行った後、
芒硝にて乾燥した。溶媒を留去後、n−ヘキサン/酢酸
エチルにて晶析を行い、化合物J3.2gを得た。融点
176〜179°C ■−2)例示化合物3− (4)の合成ジエチレングリ
コール107iに水素化ナトリウム0.1gを加え、さ
らに塩化第一銅10 m g、1.10−フェナントロ
リン18 m g、化合物J 460 m gを順次加
えた後、ピリジン5mlを加え、室温にて15時間攪拌
した。酢酸エチル100m1を加え、2回水洗後、溶媒
を留去して得られた油状物をシリカゲル分取用薄層クロ
マトクラフィー(展開溶媒:クロロホルム/酢耐エチル
=173)にて精製し、例示化合物3− (4)を油状
物として85 m g得た。精製前の油状物中に副生成
物は検出されなかった。n−ヘキサン−酢酸エチルにて
結晶化し、例示化合物3− (4)を結晶として67m
g得た。融点111.5〜114’c
90dを加え、内温60°Cにて1時間攪拌後、室温に
もどし、氷水に少量ずつ加えた。析出した結晶を水洗後
、送風乾燥を行い、化合物Iを90.1g得た。化合物
I3.34g、3,4−ジクロロアニリン1.62gを
アセトニトリル30m1に分散し、これにピリジン0.
8mlを加えた後、2時間加熱還流した。室温にもどし
、酢酸エチル100m1を加え、水洗を2回行った後、
芒硝にて乾燥した。溶媒を留去後、n−ヘキサン/酢酸
エチルにて晶析を行い、化合物J3.2gを得た。融点
176〜179°C ■−2)例示化合物3− (4)の合成ジエチレングリ
コール107iに水素化ナトリウム0.1gを加え、さ
らに塩化第一銅10 m g、1.10−フェナントロ
リン18 m g、化合物J 460 m gを順次加
えた後、ピリジン5mlを加え、室温にて15時間攪拌
した。酢酸エチル100m1を加え、2回水洗後、溶媒
を留去して得られた油状物をシリカゲル分取用薄層クロ
マトクラフィー(展開溶媒:クロロホルム/酢耐エチル
=173)にて精製し、例示化合物3− (4)を油状
物として85 m g得た。精製前の油状物中に副生成
物は検出されなかった。n−ヘキサン−酢酸エチルにて
結晶化し、例示化合物3− (4)を結晶として67m
g得た。融点111.5〜114’c
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )で表わされるハロゲノベンゼン誘導
体とR_3OHで表わされるアルコール類とを、銅もし
くは銅化合物、アミン類及び塩基の存在下で反応させ、
下記一般式(II)で表わされるアルコキシベンゼン誘導
体を得ることを特徴とするアルコキシベンゼン誘導体の
製造方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはハロゲン原子を表わし、Yは2価の連結基
を表わし、R_1は水素原子、アルキル基、アリール基
、ヘテロ環残基、アシル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アルコキシ基、カルバモイル基、
スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基又はアリ
ールオキシスルホニル基を表わし、R_2は芳香族環に
置換可能な基を表わし、mは0〜4の整数を表わす。こ
こで、YはR_1、R_2とそれぞれ独立に結合して5
〜7員環を形成していてもよく、mが2以上の場合、R
_2は互いに同じであっても異なっていてもよい。ただ
し、YとR_2が結合してナフタレン環を形成する場合
に限り、mは0〜6の整数を表わす。) 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_3はアルキル基を表わし、R_1、R_2
、Y、mはそれぞれ一般式( I )におけるものと同義
である。)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62218498A JPH0813759B2 (ja) | 1986-09-01 | 1987-09-01 | アルコキシベンゼン誘導体の製造方法 |
| DE3819025A DE3819025A1 (de) | 1987-09-01 | 1988-06-03 | Verfahren zur herstellung von alkoxybenzolverbindungen |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-205344 | 1986-09-01 | ||
| JP20534486 | 1986-09-01 | ||
| JP61-279608 | 1986-11-26 | ||
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| JPH03218367A (ja) * | 1989-10-26 | 1991-09-25 | Tanabe Seiyaku Co Ltd | ナフチルオキサゾリドン誘導体、その製法及びその合成中間体 |
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1987
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Patent Citations (3)
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