JPH03223187A - 施釉珪酸カルシウム軽量体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【産業上の利用分野１ 本発明は、平滑な表面を有し、建築材料として利用し得
る施釉珪酸カルシウム軽量体の製造方法に関する。 【従来の技術】 珪酸カルシウム軽量体は、断熱性に優れると共に、軽量
の割には強度も高い等の特徴を持っている。 然し乍、珪酸カルシウム軽量体は吸水率が高く、また、
表面の美観も伴わない等の欠点を有する為に、珪酸カル
シウム軽量体を建築材料として使用する場合には珪酸カ
ルシウム軽量体の上面に、仕上げ表面を持ち合わせた別
の材料をあらためて施工しなければならなかった。 上記の欠点を補うことを目的として、珪酸カルシウム軽
量体の表面に施釉処理を施して吸水率を低く保つと共に
、美観をも供えた平滑面を保有した材料を得ようとする
試みが従来から研究されて来て居る。 上記研究の一端として、特公平１−４０７５９には、目
止め材を用いて珪酸カルシウム軽量体の表面に平滑面を
生み出した後、施釉する方法が開示されて居り、特開昭
６３−２５２８３には水量の多い釉薬を施釉する方法が
開示されて居る。 この他、凹凸を表面に有する基材に対して、度、釉薬に
粘土や珪酸質等を加えた釉薬を下釉とした平滑な下地を
焼成処理にて造り出し、得られた平滑な下地の上に再度
上釉をかけた後、基材と共に焼成処理することにより、
凹凸を表面に有した基材の表面に施釉して平滑な表面と
した施釉体を入手する事も知られている。

【発明が解決しようとする課題】

然し乍、特公平１−４０７５９に示された目止め材を用
いて平滑な表面を作り出す方法においては、基材を加熱
する際に、目止め材のバインダーとして利用されている
リン酸アルミニウムや水ガラス等が脱水したり、重合し
たりして、目止部に寸法の変化を起こし、基材との間に
寸法の不一致を招く為、結果的に製品の表面に亀裂を発
生したり、反りかえった製品を作り易いという欠点を残
していた。 次に、特開昭６３−２５２８３に開示された方法による
と、吸水率の高い基材に対してもピンホール等の無い施
釉面を得ることは可能であるが、基材に凹凸が存在した
場合には、施釉面にも基材の凹凸がそのまま残されてし
まうという欠点を残していた。 更に、凹凸を表面に有する基材に対して、−度、釉薬に
粘土や珪酸質等を加えた釉薬を下釉とした平滑な下地を
焼成処理にて造り出し、得られた平滑な下地の上に再度
上釉をかけた後、基材と共に焼成処理することにより、
凹凸を表面に有した基材の表面に施釉して平滑な表面と
した施釉体を入手した場合には、吸水率の高い珪酸カル
シウム系の基材に対して十分な保水性を持たせることが
容易でなく、更に、基材と施釉層との熱膨脹率を合致さ
せることも容易ではないという欠点を残していた。 本発明は、吸水率が大きく、表面には無数の開口部を有
する珪酸カルシウム軽量体を基材として利用しながら、
施釉建築材料に要求される４項目、即ち、 イ）釉薬の保水性が基材と同程度に高いこと。 口）施釉面を焼成する時に、釉薬を塗布した下地面が平
滑になっていること。 ハ）焼成時に、基材と施釉面との間の寸法変化度が小さ
いこと。 二）施釉仕上げ後の基材、並びに施釉面が、建築材料と
しての耐久性を持っていること。 を満足させた施釉珪酸カルシウム軽量体の入手方法を開
示することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

本発明は、上記の事情に基づいて為されたものであり、
建築材料として利用し得る施釉珪酸カルシウム軽量体を
入手する為に、先ず、比重０．４〜１．０のゾノトライ
ト質珪酸カルシウム軽量体の表面に、軟化温度８００〜
１１００℃のガラスフリット１００重量部に対して２０
〜６０重量部のゾノトライト質珪酸カルシウム粉末と６
０〜２００重量部の水とを含んだ釉薬を下釉として施釉
した後、前記下釉面の上面に、更に、仕上げ釉薬を上釉
として施釉した施釉基体を制作し、次いで前記施釉基体
を８００〜１１００℃にて焼成して、建築材料として利
用し得る施釉珪酸カルシウム軽量体を製造する方法を開
示する。

【作用】

本発明による施釉珪酸カルシウム軽量体の製造方法にあ
っては、基材に比重０．４〜１．０のゾノトライト質珪
酸カルシウム軽量体を使用している。その理由は次の通
りである。 すなわち、ゾノトライト質珪酸カルシウム軽量体の比重
が０．４未満では、脆弱な基材の上に硬質のガラス皮膜
が存在することになり、僅かな力によっても仕上げ施釉
面に亀裂を発生し易い施釉層を設けることになり、建築
材料としては不適となる。逆に、基材の比重が１．０を
超えると、基材の表面は平滑になるものの、建築材料に
求められる基材が軽量であるという優位性を自ら放棄す
ることになるので好ましくない。 本発明による施釉珪酸カルシウム軽量体の製造方法にあ
っては、施釉時に、下釉の一部に基材と同質の珪酸カル
シウムを混合した釉薬を用いるが、下釉としての釉薬に
珪酸カルシウムを混合したのは、下釉としての釉薬に基
材と同質の珪酸カルシウムを混合することによって、基
材として用いる珪酸カルシウムの発泡体に特有の急激な
吸水現象の発生を珪酸カルシウム自体の保水性で補って
、下釉施釉層の厚みを均等に配置して、仕上げ施釉時に
おける上釉用下地面の平坦化を計ると共に、上釉施釉時
に下層部で生じる急激な吸水現象を併せて防止すること
によって仕上げ施釉面でのピンホール発生を防止し、施
釉層の厚さ不均一による焼成処理前節釉面強度の劣化を
も防止する為である。 また、本発明で下釉に利用する釉薬には、ガラス質フリ
ット１００重量部に対してゾノトライト質珪酸カルシウ
ムを２０〜６０重量部混合置部ているが、その理由は次
の通りである。 すなわち、下釉に利用するゾノトライト質珪酸カルシウ
ムの混合量を２０重量部未満とした場合には、下釉とし
ての安定性に欠けると共に、仕上げ施釉時の下地の保水
性が低くなり、良好な仕上げ面か得龍くなる。逆に、ゾ
ノトライト質珪酸カルシウムの混合量が６０重量部を超
えた場合には、釉薬の粘性が高く成り過ぎて、下釉が基
材に均一に塗付されなかったり、焼成処理の後に下釉層
と基材と間に剥離現象を発生し易くなったりする為であ
る。 本発明で下釉に利用する釉薬の水量をガラスフリット１
００重量部に対して６０〜２００重量部と規定したのは
、水量を６０重量部未満としたのでは、釉薬の粘性が高
すぎて基材への施釉か不能となる為であり、また水量が
２００重量部を超える場合には、釉薬の施釉効果が安定
し龍くなる為である。 更に、本発明で、焼成温度を８００℃〜１１００℃とし
たのは、焼成温度が８００℃未満ではゾノトライト質珪
酸カルシウム基材に対して脱水処理を施す際に、ゾノト
ライト質珪酸カルシウム基材から発生する水蒸気が施釉
層の中に気泡として残存してしまう為であり、焼成温度
が１１００℃を超えると基材の収縮を著しくし、製品の
変形や仕上げ面への亀裂を招き易く、建築材料としての
利用が困龍になる為である。 尚、本発明にて呼称するゾノトライト質珪酸カルシウム
軽量体とは、ゾノトライト質が３５％以上を占める珪酸
カルシウム軽量体を呼称するものとする。

【実施例】

Ｋ腹皿ユ ゾノトライト質の生成率が５０％であって、比重が０．
５、吸水率が１２０％、表面がアルミニウム粉末の添加
による発泡によって多孔質になっているゾノトライト質
珪酸カルシウム材から、板厚３０ｍｍ、板幅３００ｍｍ
、板長６００ｍｍの試片を切り出した。その後、アルミ
ノ硼珪酸質ガラスフリット（日本フリット社製　ＰＴ−
５００１）１００重量部に対して、ゾノトライト質珪酸
カルシウム材を３０重量部と、水を８０重量部との割合
で添加調合して得た下釉を、固体量１．５Ｋｇ／ｄの割
合で前記試片面に施釉した。それに引き続いて下釉施釉
面上に、アルミノ硼珪酸質ガラスフリット（日本フリッ
ト社製　ＰＴ−５００１）１００重量部に対して、粘土
を１０重量部と、水５０重量部とを添加調合して得た上
釉を、固体量１．５Ｋｇ／ｄの割合で前記下釉処理面上
に施釉した。その後、上記施釉基体に、９００℃にて２
時間の焼成処理を施して施釉ゾノトライト質珪酸カルシ
ウム軽量体を得た。この施釉ゾノトライト質珪酸カルシ
ウム軽量体について、ピンホールの有無と、施釉面の亀
裂発生度と、仕上げ面の平坦度とを調査した結果、製品
には、ピンホールと施釉面の亀裂発生が一切認められず
、基材に用いたゾノトライト質珪酸カルシウム材表面の
凹凸を仕上げ面に写すこともなかった上に、施釉仕上げ
面の平坦度も十分であった。 Ｋ胤■ユ ゾノトライト質の生成率が５０％であって、比重が０．
５、吸水率が１２０％、表面がアルミニウム粉末の添加
による発泡によって多孔質になっているゾノトライト質
珪酸カルシウム材から、板厚３０ｍｍ、板幅３００ｍｍ
、板長６００ｍｍの試片を切り出した。その後、アルミ
ノ硼珪酸質ガラスフリット（日本フリット社製　ＰＴ−
５００１）１００重量部に対して、ゾノトライト質珪酸
カルシウム材を５０重量部と、水を１２０重量部との割
合で添加調合して得た下釉を、固体量１゜５　Ｋ　ｇ　
／　ｒｔｆの割合で前記試片面に施釉した。それに引き
続いて下釉施釉面上に、アルミノ硼珪酸質ガラスフリッ
ト（日本フリット社製ＰＴ−５００ｔ＞　ｉｏｏ重量部
に対して、粘土を１０重量部と、水を５０重量部とを添
加調合して得た上釉を、固体量１．５　Ｋ　ｇ／ｌｒｒ
の割合で前記下釉処理面上に施釉した。その後、上記施
釉基体に、９００℃にて２時間の焼成処理を施して施釉
ゾノトライト質珪酸カルシウム軽量体を得た。この施釉
ゾノトライト質珪酸カルシウム軽量体について、ピンホ
ールの有無と、施釉面の亀裂発生度と、仕上げ面の平坦
度とを調査した結果、製品には、ピンホールと施釉面の
亀裂発生が一切認められず、基材に用いたゾノトライト
質珪酸カルシウム材表面の凹凸を仕上げ面に写すことも
なかった上に、細仕上げ面の平坦度も十分であった。 Ｌ狡且ユ ゾノトライト質の生成率が５０％であって、比重が０゜
５、吸水率が１２０％、表面がアルミニウム粉末の添加
による発泡によって多孔質になっているゾノトライト質
珪酸カルシウム材から、板厚３Ｑｍｍ、板幅３００ｍｍ
、板長６００ｍｍの試片を切り出した。その後、上記試
片上に、アルミノ硼珪酸質ガラスフリット（日本フリッ
ト社製ＰＴ−５００１）１００重量部に対して、粘土を
１０重量部と、水を８０重量部の割合で添加調合して得
た上釉のみを、固体量３．０Ｋｇ／ｒＩｆの割合で施釉
した後、上記施釉基体に、９００℃にて２時間の焼成処
理を施した。こうして得られた製品について、ピンホー
ルの有無と、施釉面の亀裂発生度と、仕上げ面の平坦度
とを調査した結果、製品には、ピンホールと施釉面の亀
裂発生が一切認められなかったものの、基材に用いたゾ
ノトライト質珪酸カルシウム材表面の凹凸の形状が仕上
げ面に写されていた上、細仕上げ面の平坦度も不十分で
あった。 Ｌ紋血ユ ゾノトライト質の生成率が５０％であって、比重が０．
５、吸水率が１２０％、表面がアルミニウム粉末の添加
による発泡によって多孔質になっているゾノトライト質
珪酸カルシウム材から、板厚３０ｍｍ、板幅３００ｍｍ
、板長６００ｍｍの試片を切り出した。その後、アルミ
ノ硼珪酸質ガラスフリット（日本フリット社製　ＰＴ−
５００１）１００重量部に対して、粘土３０重量部と、
水８０重量部とを添加調合して得た下釉を、固体量１．
５Ｋｇ／ｒｒｒの割合で前記試片面に施釉した。 これに引き続いて、下釉施釉面上に、アルミノ硼珪酸質
ガラスフリット（日本フリット社１！　　ＰＴ−５００
１）１００重量部に対して、粘土を１０重量部と、水を
５０重量部の割合で添加調合して得た上釉を、固体１１
．５Ｋｇ１ｒｄの割合で前記下釉処理面上に施釉し、そ
の後、９００℃にて、上記施釉基体に２時間の焼成処理
を施して施釉ゾノト質珪酸カルシウム軽量体を得た。こ
の施釉ゾノト質珪酸カルシウム軽量体について、ピンホ
ールの有無と、施釉面の亀裂発生度と、仕上げ面の平坦
度とを調査した結果、製品には、ピンホールが認められ
なかった上に、仕上げ面に、基材として用いたゾノトラ
イト質珪酸カルシウム材表面の凹凸を写すことも無く、
施釉仕上げ面の平坦度も十分であったっなものの、施釉
面には多くの亀裂発生が認められた。 上記のアルミノ硼珪酸質ガラスフリット（日本フリット
社製　ＰＴ−５００１）に代えて、硼珪酸質ガラスフリ
ット（日本フェロ−社製　Ｎｏ１２−３６０９、Ｎｏ１
２−３６１４＞を使用して試験した結果も、上記と同様
の結果であって、ゾノトライト質珪酸カルシウムを基材
として、施釉ゾノトライト質珪酸カルシウム軽量体を製
造するに際して、先ずゾノトライト質珪酸カルシウム軽
量体の基材面上に、ガラスフリットと、ゾノトライト質
珪酸カルシウムと、水とを規定量調合した下釉を施釉し
、引き続き仕上げ釉としての上釉を施釉し、その後、規
定温度にて焼成処理することにより、建築材料として利
用されるに適した軽量素材の提供を可能にした。 【発明の効果］ 本発明の実施により、表面に凹凸の激しいゾノトライト
質珪酸カルシウム軽量体を基材としながら、断熱性、耐
久性、仕上げ面の美観、強度、撓水性、加工性、の何れ
にも優れた軽量の建築素材を容易に提供することが可能
になり、建築業界に寄与するところ大なるものがある。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 比重０．４〜１．０のゾノトライト質珪酸カルシウム軽
   量体の表面に、ガラスフリット１００重量部に対して２
   ０〜６０重量部のゾノトライト質珪酸カルシウムの粉末
   と６０〜２００重量部の水とを調合した釉薬を下釉とし
   て施釉した後、前記下釉面の上面に、更に、仕上げ釉薬
   を上釉として施釉して施釉基体を制作し、次いで前記施
   釉基体を８００〜１１００℃にて焼成することを特徴と
   する施釉珪酸カルシウム軽量体の製造方法。