JPH03225353A - 静電写真用液体現像剤 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電気抵抗10’ΩC1m以上、誘電率3.5以
下の担体液に少なくとも樹脂を分散してなる静電写真用
液体現像剤に関するものであり、特に再分散性、保存性
、安定性、画像の再現性、定着性の優れた液体現像剤に
関する。
下の担体液に少なくとも樹脂を分散してなる静電写真用
液体現像剤に関するものであり、特に再分散性、保存性
、安定性、画像の再現性、定着性の優れた液体現像剤に
関する。
(従来の技術)
一般の電子写真用液体現像剤はカーボンブラック、ニグ
ロシン、フタロシアニンブルー等の有機又は無機の顔料
あるいは染料とアルキッド樹脂、アクリル樹脂、ロジン
、合成ゴム等の天然又は合成樹脂を石油系脂肪族炭化水
素のような高絶縁性・低誘電率の液体中に分散し、更に
金属セッケン、レシチン、アマニ油、高級脂肪酸、ビニ
ルピロリドンを含有するポリマーなとの極性制御剤を加
えたものである。
ロシン、フタロシアニンブルー等の有機又は無機の顔料
あるいは染料とアルキッド樹脂、アクリル樹脂、ロジン
、合成ゴム等の天然又は合成樹脂を石油系脂肪族炭化水
素のような高絶縁性・低誘電率の液体中に分散し、更に
金属セッケン、レシチン、アマニ油、高級脂肪酸、ビニ
ルピロリドンを含有するポリマーなとの極性制御剤を加
えたものである。
このような現像剤中では樹脂は不溶性ラテックス粒子と
して直径数n−〜数百nmの粒子状に分散されているが
、従来の液体現像剤においては可溶性分散安定用樹脂や
極性制御剤と不溶性ラテンクス粒子との結合が不充分な
為に可溶性分散安定用樹脂及び極性制御剤が溶液中に拡
散し易い状態にあった。この為、長期間の保存や繰り返
し使用によって可溶性分散安定用樹脂が不溶性ラテック
ス粒子から脱離し、粒子が沈降、凝集、堆積したり、極
性が不明瞭になる、という欠点があった。又、−度凝集
、堆積した粒子は再分散しにくいので現像機の随所に粒
子が付着したままとなり、画像部の汚れや送液ポンプの
目づまり等の現像機の故障にもつながっていた。
して直径数n−〜数百nmの粒子状に分散されているが
、従来の液体現像剤においては可溶性分散安定用樹脂や
極性制御剤と不溶性ラテンクス粒子との結合が不充分な
為に可溶性分散安定用樹脂及び極性制御剤が溶液中に拡
散し易い状態にあった。この為、長期間の保存や繰り返
し使用によって可溶性分散安定用樹脂が不溶性ラテック
ス粒子から脱離し、粒子が沈降、凝集、堆積したり、極
性が不明瞭になる、という欠点があった。又、−度凝集
、堆積した粒子は再分散しにくいので現像機の随所に粒
子が付着したままとなり、画像部の汚れや送液ポンプの
目づまり等の現像機の故障にもつながっていた。
これらの欠点を改良する為に可溶性分散安定用樹脂と不
溶性ラテックス粒子を化学的に結合せしめる手段が考案
され、米国特許第3,990,980号等に開示されて
いる。しかしながら、これらの液体現像剤は、粒子の自
然沈降に対する分散安定性はある程度良化しているもの
のまだ充分でなく、実際の現像装置に入れて使用した場
合に装置各部に付着したトナーは塗膜状に固化し、再分
散が困難であるとともに更には装置の故障、複写画像の
汚れ等の原因となるなど実用可能となる再分散安定性に
は不充分であるという欠点があった。又上記に記載され
た樹脂粒子の製造方法では、粒度分布が狭い単分散の粒
子を作製するためには、使用する分散安定剤と、不溶化
する単量体との組合せに著しい制約があり、概して粗大
粒子を多量に含む粒度分布の広い粒子となったりあるい
は平均粒径が2つ以上存在する多分散粒子となった。又
、粒度分布の狭い単分散の粒子で所望の平均粒径を得る
ことが困難で、1−以上の大粒子あるいは0.1−以下
の非常に微細な粒子を形成した。更には使用する分散安
定剤は、煩雑且つ長時間を要する製造工程を経て製造し
なければならない等の問題があった。
溶性ラテックス粒子を化学的に結合せしめる手段が考案
され、米国特許第3,990,980号等に開示されて
いる。しかしながら、これらの液体現像剤は、粒子の自
然沈降に対する分散安定性はある程度良化しているもの
のまだ充分でなく、実際の現像装置に入れて使用した場
合に装置各部に付着したトナーは塗膜状に固化し、再分
散が困難であるとともに更には装置の故障、複写画像の
汚れ等の原因となるなど実用可能となる再分散安定性に
は不充分であるという欠点があった。又上記に記載され
た樹脂粒子の製造方法では、粒度分布が狭い単分散の粒
子を作製するためには、使用する分散安定剤と、不溶化
する単量体との組合せに著しい制約があり、概して粗大
粒子を多量に含む粒度分布の広い粒子となったりあるい
は平均粒径が2つ以上存在する多分散粒子となった。又
、粒度分布の狭い単分散の粒子で所望の平均粒径を得る
ことが困難で、1−以上の大粒子あるいは0.1−以下
の非常に微細な粒子を形成した。更には使用する分散安
定剤は、煩雑且つ長時間を要する製造工程を経て製造し
なければならない等の問題があった。
更に、上記の欠点を改良するために、不溶化する単量体
と、長鎖アルキル部分を含有した単量体あるいは極性成
分を2個以上含有した単量体との共重合体の不溶性分散
樹脂粒子とすることで粒子の分散度、再分散性、保存安
定性を改良する方法が、特開昭60−179751号、
同62−151868号等に開示されている。また、二
官能性モノマーを利用したポリマーもしくは高分子反応
を利用したポリマーの存在下に、不溶化する単量体と、
長鎖アルキル部分を含有した単量体との共重合体の不溶
性分散樹脂粒子とすることで粒子の分散度、再分散性、
保存安定性を改良する方法が、特開昭62−16636
2号、同63−66567号等に開示されている。
と、長鎖アルキル部分を含有した単量体あるいは極性成
分を2個以上含有した単量体との共重合体の不溶性分散
樹脂粒子とすることで粒子の分散度、再分散性、保存安
定性を改良する方法が、特開昭60−179751号、
同62−151868号等に開示されている。また、二
官能性モノマーを利用したポリマーもしくは高分子反応
を利用したポリマーの存在下に、不溶化する単量体と、
長鎖アルキル部分を含有した単量体との共重合体の不溶
性分散樹脂粒子とすることで粒子の分散度、再分散性、
保存安定性を改良する方法が、特開昭62−16636
2号、同63−66567号等に開示されている。
(発明が解決しようとする課題)
一方、近年、電子写真方式によるオフセット印刷用マス
タープレートを用いて、5000枚以上の多数枚を印刷
する方法が試みられ、特にマスタープレートの改良が進
められ、大版サイズで1万枚以上印刷することが可能と
なってきた。又、電子写真製版システムの操作時間の短
縮化も進み、現像一定着工程の迅速化の改良が行なわれ
ている。
タープレートを用いて、5000枚以上の多数枚を印刷
する方法が試みられ、特にマスタープレートの改良が進
められ、大版サイズで1万枚以上印刷することが可能と
なってきた。又、電子写真製版システムの操作時間の短
縮化も進み、現像一定着工程の迅速化の改良が行なわれ
ている。
前記特開昭60−179751号、同62−15186
8号、同62−166362号、同63−66567号
に開示されている手段に従って製造された分散樹脂粒子
は、現像スピードが上昇した場合、粒子の分散性、再分
散性の点で、また定着時間が短縮された場合もしくは大
版サイズ(例えば、A−3サイズ以上)のマスク−プレ
ートの場合、耐剛性の点で各々いまだ必ずしも満足すべ
き性能ではなかった。
8号、同62−166362号、同63−66567号
に開示されている手段に従って製造された分散樹脂粒子
は、現像スピードが上昇した場合、粒子の分散性、再分
散性の点で、また定着時間が短縮された場合もしくは大
版サイズ(例えば、A−3サイズ以上)のマスク−プレ
ートの場合、耐剛性の点で各々いまだ必ずしも満足すべ
き性能ではなかった。
本発明は、以上の様な従来の液体現像剤の有する課題を
解決するものである。
解決するものである。
本発明の目的は、現像一定着工程が迅速化され且つ大版
サイズのマスタープレートを用いる電子写真製版システ
ムにおいても、分散の安定性、再分散性及び定着性に優
れた液体現像剤を提供することである。
サイズのマスタープレートを用いる電子写真製版システ
ムにおいても、分散の安定性、再分散性及び定着性に優
れた液体現像剤を提供することである。
本発明の他の目的は、優れた印刷インク感脂性と耐剛性
を有するオフセント印刷用原版の電子写真法による作成
を可能にする液体現像剤を提供することである。
を有するオフセント印刷用原版の電子写真法による作成
を可能にする液体現像剤を提供することである。
本発明の他の目的は、前記用途に加えて各種静電写真用
及び各種転写用として適切な液体現像剤を提供すること
である。
及び各種転写用として適切な液体現像剤を提供すること
である。
本発明の更に他の目的は、インクジェット記録、陰極線
管記録及び圧力変化あるいは静電変化等の各種変化工程
の記録の様な液体現像剤が使用できるあらゆる系におい
て使用可能な液体現像剤を提供することである。
管記録及び圧力変化あるいは静電変化等の各種変化工程
の記録の様な液体現像剤が使用できるあらゆる系におい
て使用可能な液体現像剤を提供することである。
(課題を解決するための手段)
上記諸口的は、電気抵抗10雫Ωcm以上、かつ誘電率
3.5以下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分散
して成る静電写真用液体現像剤において、該分散樹脂粒
子が、 ■該非水溶媒には可溶であるが重合することによって不
溶化する一官能性単量体(A)、及び■下記一般式(1
)で示される重合体成分を少なくとも含有するブロック
Aと、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ホ
ルミル基、アミノ1 基、ホスホノ基、及び−P4o基(QOは、−Ill、
基又H は−OQ、基を示し、Qlは炭化水素基を表わす〕から
選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分
及び/又は該−官能性単量体(A)に相当する重合体成
分から成るブロックBとから構成され、重量平均分子量
がlXl0’〜5X10’で、且つ該非水溶媒に可溶性
のA−B型ブロック共重合体から成る分散安定用樹脂を
、 各々少なくとも1種含有する溶液を重合反応させること
により得られる重合体樹脂粒子であることを特徴とする
静電写真用液体現像剤によって達成された。
3.5以下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分散
して成る静電写真用液体現像剤において、該分散樹脂粒
子が、 ■該非水溶媒には可溶であるが重合することによって不
溶化する一官能性単量体(A)、及び■下記一般式(1
)で示される重合体成分を少なくとも含有するブロック
Aと、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ホ
ルミル基、アミノ1 基、ホスホノ基、及び−P4o基(QOは、−Ill、
基又H は−OQ、基を示し、Qlは炭化水素基を表わす〕から
選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分
及び/又は該−官能性単量体(A)に相当する重合体成
分から成るブロックBとから構成され、重量平均分子量
がlXl0’〜5X10’で、且つ該非水溶媒に可溶性
のA−B型ブロック共重合体から成る分散安定用樹脂を
、 各々少なくとも1種含有する溶液を重合反応させること
により得られる重合体樹脂粒子であることを特徴とする
静電写真用液体現像剤によって達成された。
一般式(1)
%式%)
式(1)中、voは一〇〇〇−−0CO−2−(CHt
hCOO−1−4C11,)tOCO−1又は−〇−を
表わす(lは1〜3の整数を表わす)。
hCOO−1−4C11,)tOCO−1又は−〇−を
表わす(lは1〜3の整数を表わす)。
Roは炭素数10以上の脂肪族基を表わす。
a、及びafiは、互いに同じでも異なってもよく、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、C00
−D、又は炭化水素基を介した一COO−D+(D+は
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす。
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、C00
−D、又は炭化水素基を介した一COO−D+(D+は
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす。
以下、本発明の液体現像剤について詳細に説明する。
本発明に用いる電気抵抗10”ΩCm以上、かつ誘電率
3.5以下の担体液として好ましくは直鎖状もしくは分
枝状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、又は芳香族炭
化水素、及びこれらのハロゲン置換体を用いることがで
きる。例えばオクタン、イソオクタン、デカン、イソデ
カン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、シ
クロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパーE1
アイソパーG、アイソパーH,アイソパーL(アイソパ
ー:エクソン社の商品名)、シェルゾール70、シェル
ゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商品名)
、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムスコ;ス
ピリンツ社の商品名)等を単独あるいは混合して用いる
。
3.5以下の担体液として好ましくは直鎖状もしくは分
枝状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、又は芳香族炭
化水素、及びこれらのハロゲン置換体を用いることがで
きる。例えばオクタン、イソオクタン、デカン、イソデ
カン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、シ
クロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパーE1
アイソパーG、アイソパーH,アイソパーL(アイソパ
ー:エクソン社の商品名)、シェルゾール70、シェル
ゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商品名)
、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムスコ;ス
ピリンツ社の商品名)等を単独あるいは混合して用いる
。
本発明における最も重要な構成成分である非水系分散樹
脂粒子(以下、ラテックス粒子と称することもある)は
、非水溶媒において、本発明のA−B型ブロック共重合
体である分散安定用樹脂の存在下に、−官能性単量体(
A)を重合すること(いわゆる、重合造粒法)によって
製造したちのである。
脂粒子(以下、ラテックス粒子と称することもある)は
、非水溶媒において、本発明のA−B型ブロック共重合
体である分散安定用樹脂の存在下に、−官能性単量体(
A)を重合すること(いわゆる、重合造粒法)によって
製造したちのである。
ここで、非水溶媒としては、基本的には、前記静電写真
用液体現像剤の担体液に混和するものであれば使用可能
である。
用液体現像剤の担体液に混和するものであれば使用可能
である。
即ち、分散樹脂粒子を製造するに際して用いる溶媒とし
ては、前記担体液に混和するものであればよく、好まし
くは直鎖状又は分枝状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水
素、芳香族炭化水素及びこれらのハロゲン置換体等が挙
げられる。例えばヘキサン、オクタン、イソオクタン、
デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イ
ソドデカン、アイソパーE1アイソパーG1アイソパー
H、アイソパート1シエルゾールフ0.シエルゾール7
1、アムスコOMS、アムスコ460溶剤等11独ある
いは混合して用いる。
ては、前記担体液に混和するものであればよく、好まし
くは直鎖状又は分枝状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水
素、芳香族炭化水素及びこれらのハロゲン置換体等が挙
げられる。例えばヘキサン、オクタン、イソオクタン、
デカン、イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イ
ソドデカン、アイソパーE1アイソパーG1アイソパー
H、アイソパート1シエルゾールフ0.シエルゾール7
1、アムスコOMS、アムスコ460溶剤等11独ある
いは混合して用いる。
これらの有機溶媒とともに、混合して使用できる溶媒と
しては、アルコール1!(例えば、メチルアルコール、
エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコ
ール、フッ化アルコール等)、ケトンI!(例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、カ
ルボン酸エステル類(例えば酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロ
ピオン酸エチル等)、エーテル類(例えばジエチルエー
テル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えばメチレンジ
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、メチルクロロホルム等)等が挙げられる。
しては、アルコール1!(例えば、メチルアルコール、
エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコ
ール、フッ化アルコール等)、ケトンI!(例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、カ
ルボン酸エステル類(例えば酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロ
ピオン酸エチル等)、エーテル類(例えばジエチルエー
テル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えばメチレンジ
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン
、メチルクロロホルム等)等が挙げられる。
これらの混合して使用する非水溶媒は、重合造粒後、加
熱、あるいは減圧下で留去することが望ましいが、ラテ
ックス粒子分散物として、液体現像剤に持ちこまれても
、現像液の液抵抗が109ΩclI以上という条件を満
足できる範囲であれば問題とならない。
熱、あるいは減圧下で留去することが望ましいが、ラテ
ックス粒子分散物として、液体現像剤に持ちこまれても
、現像液の液抵抗が109ΩclI以上という条件を満
足できる範囲であれば問題とならない。
通常、樹脂分散物製造の段階で担体液と同様の溶媒を用
いる方が好ましく、前述の如く、直鎖状又は分岐状の脂
肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる。
いる方が好ましく、前述の如く、直鎖状又は分岐状の脂
肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロ
ゲン化炭化水素などが挙げられる。
本発明における単量体(A)としては、非水溶媒には可
溶であるが重合することによって不溶化する一官能性単
量体であればいずれでもよい。具体的には、例えば、下
記−船底(U)で表わされる単量体が挙げられる。
溶であるが重合することによって不溶化する一官能性単
量体であればいずれでもよい。具体的には、例えば、下
記−船底(U)で表わされる単量体が挙げられる。
一般式(n)
b+ bt
CH=C
V+ R+
式(n)中、V、は−COO−1−0CO−−CHzO
CO−1CLC00−1−0−1−CON)IC00−
1−C011+10CO−1−3Oz−1Dχ
Dt Dtは、水素原子又は炭素数1〜8の置換されてもよい
脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、2−クロロエチルL2−ブロモエチル基、2
−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、ベンジル
基、クロロベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ジ
メチルベンジル基、フロロベンジル基、2−メトキシエ
チル基、3−メトキシプロピル基等)を表わす。
CO−1CLC00−1−0−1−CON)IC00−
1−C011+10CO−1−3Oz−1Dχ
Dt Dtは、水素原子又は炭素数1〜8の置換されてもよい
脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、2−クロロエチルL2−ブロモエチル基、2
−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、ベンジル
基、クロロベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ジ
メチルベンジル基、フロロベンジル基、2−メトキシエ
チル基、3−メトキシプロピル基等)を表わす。
R1は水素原子又は炭素数1〜6の置換されてもよい脂
肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、2−クロロエチル基、2゜2−ジクロロエチル
基、2,2.2−)IJフロロエチル基、2−ブロモエ
チル基、2−グリシジルエチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2.3−ジヒドロキ
シプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基
、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−二
トロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタンスル
ホニルエチル基、2−エトキシエチル基、N、N−ジメ
チルアミノエチル基、N、N−ジエチルアミノエチル基
、トリメトキシシリルプロピル基、3−ブロモプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、2−フルフリルエチル基
、2−チエニルエチル基、2−ピリジルエチル基、2−
モルホリノエチル基、2−カルボキシエチル基、3−カ
ルボキシブロビル基、4−カルボキシブチル基、2〜ホ
スホエチル基、3−スルホプロピル基、4スルホブチル
基、2−カルボキシアミドエチル基、3−スルホアミド
プロピル基、2−N−メチルカルボキシアミドエチル基
、シクロペンチル基、クロロシクロヘキシル基、ジクロ
ロヘキシル11)を表わす。
肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、2−クロロエチル基、2゜2−ジクロロエチル
基、2,2.2−)IJフロロエチル基、2−ブロモエ
チル基、2−グリシジルエチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2.3−ジヒドロキ
シプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基
、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2−二
トロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタンスル
ホニルエチル基、2−エトキシエチル基、N、N−ジメ
チルアミノエチル基、N、N−ジエチルアミノエチル基
、トリメトキシシリルプロピル基、3−ブロモプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、2−フルフリルエチル基
、2−チエニルエチル基、2−ピリジルエチル基、2−
モルホリノエチル基、2−カルボキシエチル基、3−カ
ルボキシブロビル基、4−カルボキシブチル基、2〜ホ
スホエチル基、3−スルホプロピル基、4スルホブチル
基、2−カルボキシアミドエチル基、3−スルホアミド
プロピル基、2−N−メチルカルボキシアミドエチル基
、シクロペンチル基、クロロシクロヘキシル基、ジクロ
ロヘキシル11)を表わす。
bl及びb2は互いに同じでも異なってもよく、各々前
記−船式(1)におけるalまたはa2と同一の内容を
表わす。
記−船式(1)におけるalまたはa2と同一の内容を
表わす。
具体的な単量体(A)としては、例えば、炭素数1〜6
の脂肪族カルボン酸(酢酸、プロピオン酸、醋酸、モノ
クロロ酢酸、トリフロロプロピオン酸等)のビニルエス
テル類あるいはアリルエステル類;アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等の不飽
和カルボン酸の炭素数1〜4の置換されてもよいアルキ
ルエステル類又はアミドM(アルキル基として例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロ
エチル基、2−ブロモエチル基、2−フロロエチル基、
トリフロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−二トロエチル基、2−メトキシエチ
ル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−ベンゼンス
ルホニルエチル基、2−(N、N−ジメチルアミノ)エ
チル基、2−(N、N−ジエチルアミノ)エチル基、2
−カルボキシエチル基、2−ホスホエチル基、4−カル
ボキシブチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホブ
チル基、3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−3−
クロロプロピル基、2−フルフリルエチル基、2−ピリ
ジニルエチル基、2−チエニルエチル基、トリメトキシ
シリルプロピル基、2カルボキシアミドエチル基等);
スチレン誘導体(例エバ、スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、クロロスチレ
ン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニルベンゼ
ンスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、クロロメチ
ルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、メトキシメチ
ルスチレン、N、N−ジメチルアミノメチルスチレン、
ビニルベンゼンカルボキシアミド、ビニルベンゼンスル
ホアミド等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸
、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;マレ
イン酸、イタコン酸の環状酸無水物;アクリロニトリル
;メタクリコニトリル:重合性二重結合基含有のへテロ
環化合物(具体的には、例えば、高分子学会編[高分子
データハンドブック−基礎編−」、p175〜184、
培風舘(1986年刊)に記載の化合物、例えば、N−
ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル
ピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルテトラヒドロフ
ラン、ビニルオキサゾリン、ビニルチアゾール、N−ビ
ニルモルホリン等)等が挙げられる。
の脂肪族カルボン酸(酢酸、プロピオン酸、醋酸、モノ
クロロ酢酸、トリフロロプロピオン酸等)のビニルエス
テル類あるいはアリルエステル類;アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等の不飽
和カルボン酸の炭素数1〜4の置換されてもよいアルキ
ルエステル類又はアミドM(アルキル基として例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロ
エチル基、2−ブロモエチル基、2−フロロエチル基、
トリフロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−二トロエチル基、2−メトキシエチ
ル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−ベンゼンス
ルホニルエチル基、2−(N、N−ジメチルアミノ)エ
チル基、2−(N、N−ジエチルアミノ)エチル基、2
−カルボキシエチル基、2−ホスホエチル基、4−カル
ボキシブチル基、3−スルホプロピル基、4−スルホブ
チル基、3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−3−
クロロプロピル基、2−フルフリルエチル基、2−ピリ
ジニルエチル基、2−チエニルエチル基、トリメトキシ
シリルプロピル基、2カルボキシアミドエチル基等);
スチレン誘導体(例エバ、スチレン、ビニルトルエン、
α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、クロロスチレ
ン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、ビニルベンゼ
ンスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、クロロメチ
ルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、メトキシメチ
ルスチレン、N、N−ジメチルアミノメチルスチレン、
ビニルベンゼンカルボキシアミド、ビニルベンゼンスル
ホアミド等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸
、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;マレ
イン酸、イタコン酸の環状酸無水物;アクリロニトリル
;メタクリコニトリル:重合性二重結合基含有のへテロ
環化合物(具体的には、例えば、高分子学会編[高分子
データハンドブック−基礎編−」、p175〜184、
培風舘(1986年刊)に記載の化合物、例えば、N−
ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニル
ピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルテトラヒドロフ
ラン、ビニルオキサゾリン、ビニルチアゾール、N−ビ
ニルモルホリン等)等が挙げられる。
単量体(A)は二種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる分散安定用樹脂は、A−B型ブロッ
ク共重合体であり、1つのブロック(ブロックAと称す
る)は、−船底(1)で示される繰り返し単位から成る
重合体成分から構成され、他の1つのブロック(ブロッ
クBと称する)は、前記した特定の極性基から選ばれる
少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分及び/又
は前記したー官能性単量体(A)に相当する重合体成分
から構成され、且つ重量平均分子量がlXl0’〜5X
10’である事を特徴とする。
ク共重合体であり、1つのブロック(ブロックAと称す
る)は、−船底(1)で示される繰り返し単位から成る
重合体成分から構成され、他の1つのブロック(ブロッ
クBと称する)は、前記した特定の極性基から選ばれる
少なくとも1種の極性基を含有する重合体成分及び/又
は前記したー官能性単量体(A)に相当する重合体成分
から構成され、且つ重量平均分子量がlXl0’〜5X
10’である事を特徴とする。
該ブロック共重合体におけるブロックAとブロックBの
存在割合は、99/l〜50150 (重量比)である
ことが好ましい。
存在割合は、99/l〜50150 (重量比)である
ことが好ましい。
ブロックBにおいて含有される、特定の極性基含有の重
合体成分は、好ましくは該分散安定用樹脂100重量部
中1〜30重量部で、より好ましくは1〜15重量部で
ある。又、ブロックBにおいて特定の極性基含有の重合
体成分が存在しない場合、該−官能性単量体(A)に相
当する重合体成分は、好ましくは該樹脂100重量部中
5〜50重量部であり、より好ましくは10〜40重量
部である。
合体成分は、好ましくは該分散安定用樹脂100重量部
中1〜30重量部で、より好ましくは1〜15重量部で
ある。又、ブロックBにおいて特定の極性基含有の重合
体成分が存在しない場合、該−官能性単量体(A)に相
当する重合体成分は、好ましくは該樹脂100重量部中
5〜50重量部であり、より好ましくは10〜40重量
部である。
A−B型ブロック共重合体の重量平均分子量は、好まし
くは2X10’〜lXl0’である。
くは2X10’〜lXl0’である。
ブロックAを構成する一般式(1)で示される繰り返し
単位について詳しく説明する。
単位について詳しく説明する。
−船底(1)において、V、は好ましくは−000−1
0CO−又は−〇−を表わす。
0CO−又は−〇−を表わす。
Roは炭素数10以上のアルキル基又はアルケニル基を
表わし、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。
表わし、これらは直鎖状でも分岐状でもよい。
具体的には、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テ
トラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイ
コサニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデセニル基
、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル
基、リルル基等が挙げられる。
トラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイ
コサニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデセニル基
、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル
基、リルル基等が挙げられる。
a、及びa、は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、フロヒル15等) 、
−COO−D、又は−C1(tcOo−D+ CD+は
、水素原子又は置換されていてもよい炭素数22以下の
炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、脂環式基、アリール基等)を表わす〕を表わ
す。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、フロヒル15等) 、
−COO−D、又は−C1(tcOo−D+ CD+は
、水素原子又は置換されていてもよい炭素数22以下の
炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、アラ
ルキル基、脂環式基、アリール基等)を表わす〕を表わ
す。
D、は、具体的には、水素原子のほか、好ましい炭化水
素基としては、炭素数1〜22のW換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサニル
基、ドコサニル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエ
チル基、2シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエ
チル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基
等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニ
ル基、2−ペンテニル基、3−メチル2−ペンテニル基
、1−ペンテニル基、1−ヘキセニ/L’L 2−ヘキ
セニル!、 4−J チル−2へキセニル基、デセニル
基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基
、オクタデセニル基、リルル基等)、炭素数7〜12の
置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モヘンシル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環
式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシル
エチル基、2−シクロペンチルエチル基等)、及び炭素
数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェ
ニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピル
フェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、
ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフ
ェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイル
アミドフェニル基等)が挙げられる。
素基としては、炭素数1〜22のW換されてもよいアル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコサニル
基、ドコサニル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエ
チル基、2シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエ
チル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基
等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニ
ル基、2−ペンテニル基、3−メチル2−ペンテニル基
、1−ペンテニル基、1−ヘキセニ/L’L 2−ヘキ
セニル!、 4−J チル−2へキセニル基、デセニル
基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基
、オクタデセニル基、リルル基等)、炭素数7〜12の
置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モヘンシル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環
式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシル
エチル基、2−シクロペンチルエチル基等)、及び炭素
数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェ
ニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピル
フェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、
ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフ
ェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイル
アミドフェニル基等)が挙げられる。
又、本発明に供される分散安定用樹脂のブロックAにお
いて一般式(1)で示される繰り返し単位とともに、他
の繰り返し単位を共重合成分として含有してもよい、他
の共重合成分としては、船底(1)の繰り返し単位に相
当する単量体と共重合可能な単量体よりなるものであれ
ばいずれの化合物でもよい。
いて一般式(1)で示される繰り返し単位とともに、他
の繰り返し単位を共重合成分として含有してもよい、他
の共重合成分としては、船底(1)の繰り返し単位に相
当する単量体と共重合可能な単量体よりなるものであれ
ばいずれの化合物でもよい。
しかし、好ましくは、他の成分は含有しない方が好まし
く、多くてもブロックA中の20重量部を超えない範囲
で用いられる。20重量部を越えると分散樹脂粒子の分
散安定性が劣化してしまう。
く、多くてもブロックA中の20重量部を超えない範囲
で用いられる。20重量部を越えると分散樹脂粒子の分
散安定性が劣化してしまう。
ブロックAにおいて、−船底(1)で示される繰り返し
単位は二種以上を併用してもよい。
単位は二種以上を併用してもよい。
次に、本発明のブロック共重合体のブロックBを構成す
る重合体成分について詳細に説明する。
る重合体成分について詳細に説明する。
ブロックBは、−官能性単量体(A)に相当する重合体
成分及び/又は前記した特定の極性基含有の重合体成分
で構成される。
成分及び/又は前記した特定の極性基含有の重合体成分
で構成される。
一官能性単量体(A)に相当する重合体成分としては、
不溶化する単量体(A)で前記したと同様の内容のもの
が挙げられる。
不溶化する単量体(A)で前記したと同様の内容のもの
が挙げられる。
好ましくは、分散樹脂粒子となる一官能性単量体(A)
と同一の単量体で構成される。
と同一の単量体で構成される。
又、特定の極性基中、 P−Qo基において、Q、は0
H Q1基又は−〇〇、基を表わし、口、は炭素数1〜10
の炭化水素基を表わす。Qlの炭化水素基として好まし
くは、炭素数1〜8の置換されてもよい脂肪族基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、
又は置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニ
ル基等)を表わす。
H Q1基又は−〇〇、基を表わし、口、は炭素数1〜10
の炭化水素基を表わす。Qlの炭化水素基として好まし
くは、炭素数1〜8の置換されてもよい脂肪族基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、
又は置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニ
ル基等)を表わす。
又、本発明の極性基中、アミノ基は、−NO,,1〜1
0の炭化水素基を表わし、好ましくは炭素数1〜7の炭
化水素基を表わし、具体的には、前記したQ、の炭化水
素基と同一の内容を表わす。
0の炭化水素基を表わし、好ましくは炭素数1〜7の炭
化水素基を表わし、具体的には、前記したQ、の炭化水
素基と同一の内容を表わす。
更により好ましくは、Qls as及び04の炭化水素
基は、炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基、置
換されてもよいヘンシル基、又は置換されてもよいフェ
ニル基が挙げられる。
基は、炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基、置
換されてもよいヘンシル基、又は置換されてもよいフェ
ニル基が挙げられる。
以上の特定の極性基を含有する重合体成分に相当する単
量体としては、特定の極性基を少なくとも1種含有した
ー官能性単量体であればいずれでもよい。例えば、高分
子学会編「高分子データハンドブック〔基礎編〕」培風
舘(1986年刊)等に記載されている。具体的には、
アクリル酸、α及び/又はβ−置換アクリル酸(例えば
α−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2
アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−
フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β
−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ
体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン
酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、
クロトン酸、2アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペ
ンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン
酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2オク
テン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マ
レイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニ
ルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホス
ホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エス
テル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸の
エステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を
含有する化合物等が挙げられる。
量体としては、特定の極性基を少なくとも1種含有した
ー官能性単量体であればいずれでもよい。例えば、高分
子学会編「高分子データハンドブック〔基礎編〕」培風
舘(1986年刊)等に記載されている。具体的には、
アクリル酸、α及び/又はβ−置換アクリル酸(例えば
α−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2
アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−
フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β
−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ
体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン
酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、
クロトン酸、2アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペ
ンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン
酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2オク
テン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マ
レイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニ
ルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホス
ホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エス
テル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸の
エステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を
含有する化合物等が挙げられる。
これらの化合物の具体例として以下のものを挙げること
ができる。但し、以下の各側において、eは−H1−C
H5、−CI、 −Br、−CN、−CIlzCOOC
Hi又はcutcoonを示し、fは−H又は−CH,
を示し、nlは2〜10の整数を示し、111は1〜1
0の整数を示し、11H は1〜4の整数を示す。xlは−COOII 、−0−
P−O)1、1 OH (RいR5はC3 4のアルキル基を示す) を表わす。
ができる。但し、以下の各側において、eは−H1−C
H5、−CI、 −Br、−CN、−CIlzCOOC
Hi又はcutcoonを示し、fは−H又は−CH,
を示し、nlは2〜10の整数を示し、111は1〜1
0の整数を示し、11H は1〜4の整数を示す。xlは−COOII 、−0−
P−O)1、1 OH (RいR5はC3 4のアルキル基を示す) を表わす。
X、は
C0OH又は
OH
を表わす。
(1)
cot=c
oon
(2)
OH3
CH=CH
COO)!
(3)
CH2=C
Coo((Jh)rr7 xi
(4)
6口2=C
CONH(CH0f璽X+
(6)
f
(7)
CH1=C
Coo (CHを斥rOCO(Cl z′hiT−X
+(8) co、、c CONH(CHt)77−OCO(C1(z)17−X
+(9) CHg=C C0NHCOO(CL)VIT−X+ (10) CHg=C CON)ICONH(C1h′)−F−VX+(11) (12) CH,、、、C C0NHCHCHzCOOH cuzcoon (13) ( CHg=C COO(CHg>1i−7NHCO(CHJr7 X
+(m+は同じでも異なってもよい) (14) cnz=c CONH(CHt)TNHCOO(CHz′)TVL(
15) CHg=C)I−CHtOCO(CHg)r7− L(
16) CH,=C H COOC)1.CHC)It(Cud−r7−X+(1
8) (20) CH2=C C00(CHz)−i−i−CONOCOzCHz−X
z)z本発明のA−B型ブロック共重合体は、従来公知
の重合反応法によって製造することができる。
+(8) co、、c CONH(CHt)77−OCO(C1(z)17−X
+(9) CHg=C C0NHCOO(CL)VIT−X+ (10) CHg=C CON)ICONH(C1h′)−F−VX+(11) (12) CH,、、、C C0NHCHCHzCOOH cuzcoon (13) ( CHg=C COO(CHg>1i−7NHCO(CHJr7 X
+(m+は同じでも異なってもよい) (14) cnz=c CONH(CHt)TNHCOO(CHz′)TVL(
15) CHg=C)I−CHtOCO(CHg)r7− L(
16) CH,=C H COOC)1.CHC)It(Cud−r7−X+(1
8) (20) CH2=C C00(CHz)−i−i−CONOCOzCHz−X
z)z本発明のA−B型ブロック共重合体は、従来公知
の重合反応法によって製造することができる。
具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体において、極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類
、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウ
ムハライド類等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等によ
るイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする
光重合反応、あるいはグループ移動重合反応等の公知の
いわゆるリビング重合反応でA−B型ブロック共重合体
を合成した後、極性基を保護した官能基を、加水分解反
応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解反応
等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させる方
法が挙げられる。その1つの例を下記の反応スキーム(
1)に示した。
当する単量体において、極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類
、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウ
ムハライド類等)あるいはヨウ化水素/ヨウ素系等によ
るイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする
光重合反応、あるいはグループ移動重合反応等の公知の
いわゆるリビング重合反応でA−B型ブロック共重合体
を合成した後、極性基を保護した官能基を、加水分解反
応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解反応
等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させる方
法が挙げられる。その1つの例を下記の反応スキーム(
1)に示した。
(以下余白)
反応スキーム(1)
CH3
CH3
CH3
R:
b :
(JI3
0OCHs
0OCR3
(ii)
停止反応
アルキル基、
ポルフィリン環残基
等を示す。
: 保護基、例えば、
C(CJS)s、
5t(CJt)i等を示す。
block結合を示す。
例えば、P、 Lutz、 P、 Masson et
al+ Polym。
al+ Polym。
Bull、、 12. 79 (1984) 、B
、 C,Anderson、 G、 D。
、 C,Anderson、 G、 D。
Andrews et al、 Macroso
lecules+ 14+ 1601 (198
1)、 K、 Hatada+ K、 Ute+
et al+ Polym、 J−I 1ヱ
。
lecules+ 14+ 1601 (198
1)、 K、 Hatada+ K、 Ute+
et al+ Polym、 J−I 1ヱ
。
977 (1985)、同1fi、 1037 (19
86)、右手浩−1畑田耕−「高分子加工」並、 36
6 (1987)、東村敏延、沢本光男[高分子論文集
J 46.189 (1989)、門。
86)、右手浩−1畑田耕−「高分子加工」並、 36
6 (1987)、東村敏延、沢本光男[高分子論文集
J 46.189 (1989)、門。
Kuroki、 T、 Aida、 J、 Am、 C
hell、 5oc−+ 109+4737(198
7)、相田卓三、井上祥平「有機合成化学J 43.3
00 (1985)、D、 Y、 Sogah、 W、
R。
hell、 5oc−+ 109+4737(198
7)、相田卓三、井上祥平「有機合成化学J 43.3
00 (1985)、D、 Y、 Sogah、 W、
R。
Hertler et al、 Macromolec
ules+ 20+ 1473 (1987)等に記載
の合成方法に従って容易に合成される。
ules+ 20+ 1473 (1987)等に記載
の合成方法に従って容易に合成される。
他のA−B型ブロック共重合体の合成法としては、極性
基を保護しないままの単量体を用いてジシオカーハメン
ト化合物を開始剤とした光イニファーター重合法によっ
て合成することもできる。
基を保護しないままの単量体を用いてジシオカーハメン
ト化合物を開始剤とした光イニファーター重合法によっ
て合成することもできる。
例えば、大津隆行「高分子」釘、 248 (198B
)、檜森俊−1大津隆−1Po1y+w、 Rep、
Jap、、 3J−、3508(198B)、特開昭6
4−111号、特開平1−26619号等に記載の合成
方法に従って合成される。
)、檜森俊−1大津隆−1Po1y+w、 Rep、
Jap、、 3J−、3508(198B)、特開昭6
4−111号、特開平1−26619号等に記載の合成
方法に従って合成される。
又、本発明の特定の極性基を保護する保護基及びその保
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば、前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇
、栗田恵輔「反応性高分子J■講談社刊(1977年)
、T、 L Greene+rProtective
Groups in Organic 5ynthe
sisJ。
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば、前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇
、栗田恵輔「反応性高分子J■講談社刊(1977年)
、T、 L Greene+rProtective
Groups in Organic 5ynthe
sisJ。
John Wiley & 5ons (1981年)
、J、 F、 H,McOmie。
、J、 F、 H,McOmie。
rProtective Groups in Org
anic Chemistry」Plenum Pre
ss+ (1973年)等の総説に詳細に記載されてい
る方法を適宜選択して行なうことができる。
anic Chemistry」Plenum Pre
ss+ (1973年)等の総説に詳細に記載されてい
る方法を適宜選択して行なうことができる。
本発明で用いられる分散樹脂粒子を製造するには、一般
に、前述の様な分散安定用樹脂及び単量体(A)とを非
水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニト
リル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下に加熱重
合させればよい。具体的には、■分散安定用樹脂及び単
量体(A)の混合溶液中に重合開始剤を添加する方法、
■分散安定用樹脂を溶解した溶液中に単量体(A)を重
合開始剤とともに滴下してゆく方法、あるいは、■分散
安定用樹脂全量と単量体(A)の一部を含む混合溶液中
に、重合開始剤とともに残りの単量体を任意に添加する
方法、更には、■非水溶媒中に、分散安定用樹脂及び単
量体(A)の混合溶液を、重合開始剤とともに任意に添
加する方法等があり、いずれの方法を用いても製造する
ことができる。
に、前述の様な分散安定用樹脂及び単量体(A)とを非
水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニト
リル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下に加熱重
合させればよい。具体的には、■分散安定用樹脂及び単
量体(A)の混合溶液中に重合開始剤を添加する方法、
■分散安定用樹脂を溶解した溶液中に単量体(A)を重
合開始剤とともに滴下してゆく方法、あるいは、■分散
安定用樹脂全量と単量体(A)の一部を含む混合溶液中
に、重合開始剤とともに残りの単量体を任意に添加する
方法、更には、■非水溶媒中に、分散安定用樹脂及び単
量体(A)の混合溶液を、重合開始剤とともに任意に添
加する方法等があり、いずれの方法を用いても製造する
ことができる。
単量体(A)の総量は、非水溶媒100重量部に対して
5〜80重量部程度であり、好ましくは10〜50重量
部である。
5〜80重量部程度であり、好ましくは10〜50重量
部である。
分散安定用樹脂である可溶性の樹脂は、上記で用いられ
る全単量体100重量部に対して1〜100重量部であ
り、好ましくは5〜50重量部である。
る全単量体100重量部に対して1〜100重量部であ
り、好ましくは5〜50重量部である。
重合開始剤の量は全単量体量の0.1〜5重量%が適切
である。
である。
又、重合温度は50〜180°C程度であり、好ましく
は60〜120°Cである。反応時間は1〜15時間が
好ましい。
は60〜120°Cである。反応時間は1〜15時間が
好ましい。
反応に用いた非水溶媒中に、前記したアルコール類、ケ
トン類、エーテル類、エステル類等の極性溶媒を併用し
た場合あるいは、重合造粒化される単量体(A)の未反
応物が残存する場合、該溶媒あるいは単量体の沸点以上
に加温して留去するかあるいは、減圧留去することによ
って除くことが好ましい。
トン類、エーテル類、エステル類等の極性溶媒を併用し
た場合あるいは、重合造粒化される単量体(A)の未反
応物が残存する場合、該溶媒あるいは単量体の沸点以上
に加温して留去するかあるいは、減圧留去することによ
って除くことが好ましい。
以上の如くして本発明により製造された非水系分散樹脂
粒子は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子として存在す
ると同時に、非常に安定な分散性を示し、特に現像装置
内において長く繰り返し使用をしても分散性が良くかつ
現像スピードが向上しても再分散も容易であり装置の各
部に付着汚れを生ずることが全く認められない。
粒子は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子として存在す
ると同時に、非常に安定な分散性を示し、特に現像装置
内において長く繰り返し使用をしても分散性が良くかつ
現像スピードが向上しても再分散も容易であり装置の各
部に付着汚れを生ずることが全く認められない。
また、加熱等により定着した場合、強固な被膜が形成さ
れ、優れた定着性を示した。
れ、優れた定着性を示した。
更に、本発明の液体現像剤は、現像一定着工程が迅速化
され且つ大版サイズのマスタープレートを用いた場合で
も、分散安定性、再分散性及び定着性に優れている。
され且つ大版サイズのマスタープレートを用いた場合で
も、分散安定性、再分散性及び定着性に優れている。
特に、特開昭62−166362号あるいは特開昭63
−66567号に記載された内容の非水系分散樹脂では
、重合して不溶化する単量体と共重合し得る、エステル
結合等を分子内に少なくとも2ヶ以上含有する単量体と
ともに、重合体主鎖から総原子数8ヶ以上離れた部位に
、重合性二重結合基を結合した共重合成分を含有する該
非水溶媒に可溶性のランダム共重合体を分散安定用樹脂
として用いて、重合造粒した樹脂粒子(ラテックス粒子
)であるが、これらの粒子の分散性及び耐剛性は従来の
粒子に比べ大巾に性能向上がなされているが、大版サイ
ズのオフセット印刷用マスタープレートを用いた製版機
(例えば富士写真フィルム■製、ELP−560、EL
P−820等)、あるいは製版機の処理スピードを早く
した場合に、粒子の分散性にいまだ問題があり、製版機
の汚れ(特に現像装置の汚れ)が生じたり、粒子の凝集
・沈降を生じたり、あるいはマスタープレートを印刷し
た時に、画像部の強度が未だ十分でなく、耐刷性が低下
したりした。本発明で供される樹脂粒子を用いた場合に
は、こうした過酷な条件においても何ら問題を生じない
。
−66567号に記載された内容の非水系分散樹脂では
、重合して不溶化する単量体と共重合し得る、エステル
結合等を分子内に少なくとも2ヶ以上含有する単量体と
ともに、重合体主鎖から総原子数8ヶ以上離れた部位に
、重合性二重結合基を結合した共重合成分を含有する該
非水溶媒に可溶性のランダム共重合体を分散安定用樹脂
として用いて、重合造粒した樹脂粒子(ラテックス粒子
)であるが、これらの粒子の分散性及び耐剛性は従来の
粒子に比べ大巾に性能向上がなされているが、大版サイ
ズのオフセット印刷用マスタープレートを用いた製版機
(例えば富士写真フィルム■製、ELP−560、EL
P−820等)、あるいは製版機の処理スピードを早く
した場合に、粒子の分散性にいまだ問題があり、製版機
の汚れ(特に現像装置の汚れ)が生じたり、粒子の凝集
・沈降を生じたり、あるいはマスタープレートを印刷し
た時に、画像部の強度が未だ十分でなく、耐刷性が低下
したりした。本発明で供される樹脂粒子を用いた場合に
は、こうした過酷な条件においても何ら問題を生じない
。
以上の如く、本発明のラテックス粒子の高再分散性は、
不溶化する単量体(A)とともに用いる可溶性のA−B
型ブロック共重合体に依存するものである。
不溶化する単量体(A)とともに用いる可溶性のA−B
型ブロック共重合体に依存するものである。
即ち本発明の分散安定用樹脂は、該非水溶媒に対し親和
性の大きな長鎖脂肪族基含有の重合体成分から構成され
るブロックAと、該非水溶媒に対し親和性が小さく、不
溶化する単量体(A)に対して親和性を有する重合体成
分から構成されるブロックBとが結合したA−B型ブロ
ック共重合体であることを特徴とする。
性の大きな長鎖脂肪族基含有の重合体成分から構成され
るブロックAと、該非水溶媒に対し親和性が小さく、不
溶化する単量体(A)に対して親和性を有する重合体成
分から構成されるブロックBとが結合したA−B型ブロ
ック共重合体であることを特徴とする。
これにより、分散樹脂粒子に対し、ブロック8部分が重
合造粒時に物理化学的な相互作用で充分に吸着され、且
つ非水系分散媒に対して親和性が大きいブロックA部分
が該溶媒に対して充分に溶媒和し且つ立体的な反発効果
も充分に作用する(所謂、テール状吸着となる)ことが
可能となり本発明の効果が達成されたと推定される。
合造粒時に物理化学的な相互作用で充分に吸着され、且
つ非水系分散媒に対して親和性が大きいブロックA部分
が該溶媒に対して充分に溶媒和し且つ立体的な反発効果
も充分に作用する(所謂、テール状吸着となる)ことが
可能となり本発明の効果が達成されたと推定される。
これに対し、従来公知のブロックAで用いられる重合体
成分とブロックBで用いられる重合体成分とのランダム
共重合体では、吸着部分となる成分が溶媒和する成分で
構成される高分子鎖中にランダムに結合しているため、
分散樹脂粒子への吸着が充分でな(、更に、その吸着の
パターンがループ状となるために立体反発効果も疎外さ
れてしまい、分散安定性が充分でなかった。
成分とブロックBで用いられる重合体成分とのランダム
共重合体では、吸着部分となる成分が溶媒和する成分で
構成される高分子鎖中にランダムに結合しているため、
分散樹脂粒子への吸着が充分でな(、更に、その吸着の
パターンがループ状となるために立体反発効果も疎外さ
れてしまい、分散安定性が充分でなかった。
又、オフセットマスター原版として印刷した時のトナー
画像部の劣化を生じない高耐剛性は、不溶化する単量体
(A)と、それに吸着した分散ポリマーが、お互いの相
溶性が良好で、温和な定着条件でも十分に相溶化し、均
一で強固な皮膜を形成することで達成されるものと推定
される。
画像部の劣化を生じない高耐剛性は、不溶化する単量体
(A)と、それに吸着した分散ポリマーが、お互いの相
溶性が良好で、温和な定着条件でも十分に相溶化し、均
一で強固な皮膜を形成することで達成されるものと推定
される。
本発明の液体現像剤において所望により着色剤を使用し
ても良い。その着色剤は特に限定されるものではな〈従
来公知の各種顔料又は染料を使用することができる。
ても良い。その着色剤は特に限定されるものではな〈従
来公知の各種顔料又は染料を使用することができる。
分散樹脂自体を着色する場合には、例えば着色の方法の
1つとしては、顔料又は染料を用いて分散樹脂に物理的
に分散する方法があり、使用する顔料又は染料は非常に
多く知られている。例えば、磁性酸化鉄粉末、粉末ヨウ
化鉛、カーボンブラック、ニグロシン、アルカリブルー
、ハンザイエロ、キナクリドンレッド、フタロシアニン
ブルーなどが挙げられる。
1つとしては、顔料又は染料を用いて分散樹脂に物理的
に分散する方法があり、使用する顔料又は染料は非常に
多く知られている。例えば、磁性酸化鉄粉末、粉末ヨウ
化鉛、カーボンブラック、ニグロシン、アルカリブルー
、ハンザイエロ、キナクリドンレッド、フタロシアニン
ブルーなどが挙げられる。
着色の方法の他の1つとしては、特開昭57−4873
8号などに記載されている如く、分散樹脂を、好ましい
染料で染色する方法がある。あるいは、他の方法として
、特開昭53−54029号に開示されている如く、分
散樹脂と染料を化学的に結合させる方法があり、あるい
は、特公昭44−22955号等に記載されている如く
、重合造粒法で製造する際に、予め色素を含有した単量
体を用い、色素含有の共重合体とする方法がある。
8号などに記載されている如く、分散樹脂を、好ましい
染料で染色する方法がある。あるいは、他の方法として
、特開昭53−54029号に開示されている如く、分
散樹脂と染料を化学的に結合させる方法があり、あるい
は、特公昭44−22955号等に記載されている如く
、重合造粒法で製造する際に、予め色素を含有した単量
体を用い、色素含有の共重合体とする方法がある。
本発明の液体現像剤には、荷電特性の強化あるいは画像
特性の改良等のために、所望により種々の添加剤を加え
ても良く、例えば原崎勇次「電子写真」第16巻、第2
号、44頁に具体的に記載されているものが用いられる
。
特性の改良等のために、所望により種々の添加剤を加え
ても良く、例えば原崎勇次「電子写真」第16巻、第2
号、44頁に具体的に記載されているものが用いられる
。
例えば、ジー2−エチルへキシルスルホコハク酸金属塩
、ナフテン酸金属塩、高級脂肪酸金属塩、レシチン、ポ
リ(ビニルピロリドン)、半マレイン酸アミド成分を含
む共重合体等が挙げられる。
、ナフテン酸金属塩、高級脂肪酸金属塩、レシチン、ポ
リ(ビニルピロリドン)、半マレイン酸アミド成分を含
む共重合体等が挙げられる。
本発明の液体現像剤の主要な各組成分の量について説明
すれば下記の通りである。
すれば下記の通りである。
樹脂(及び所望により用いられる着色剤)を主成分とし
て成るトナー粒子は、担体液体1000重量部に対して
0.5重量部〜50重量部が好ましい。0.5重量部未
満であると画像濃度が不足し、50重量部を超えると非
画像部へのカブリを生じ易い。更に、前記の分散安定用
の担体液体可溶性樹脂も所望により使用され、担体液体
1000重量部に対して0.5重量部〜100重量部程
度を加えることができる。
て成るトナー粒子は、担体液体1000重量部に対して
0.5重量部〜50重量部が好ましい。0.5重量部未
満であると画像濃度が不足し、50重量部を超えると非
画像部へのカブリを生じ易い。更に、前記の分散安定用
の担体液体可溶性樹脂も所望により使用され、担体液体
1000重量部に対して0.5重量部〜100重量部程
度を加えることができる。
上述の様な荷電調節剤は、担体液体1000重量部に対
して0.001〜1.0重量部が好ましい。更に所望に
より各種添加剤を加えても良く、それら添加物の総量は
、現像剤の電気抵抗によってその上限が規制される。即
ち、トナー粒子を除去した状態の液体現像剤の電気抵抗
が10’Ωcmより低くなると良質の連続階調像が得ら
れ難くなるので、各添加物の添加量を、この限度内でコ
ントロールすることが必要である。
して0.001〜1.0重量部が好ましい。更に所望に
より各種添加剤を加えても良く、それら添加物の総量は
、現像剤の電気抵抗によってその上限が規制される。即
ち、トナー粒子を除去した状態の液体現像剤の電気抵抗
が10’Ωcmより低くなると良質の連続階調像が得ら
れ難くなるので、各添加物の添加量を、この限度内でコ
ントロールすることが必要である。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
内 の八 1: P 刊
ドデシルメタクリレート95g及びテトラヒドロフラン
200gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−7
8°Cに冷却した。1.1−ジフェニルブチルリチウム
1.0gを加え、12時間反応した。更に、この混合溶
液にトリフェニルメチルメタクリレート5g及びテトラ
ヒドロフラン25gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱
気した後添加し、更に8時間反応した。この混合物をO
′Cにした後、メタノール10M1を加え、30分間反
応し、重合を停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下
に温度30°Cとし、これに30%塩化水素エタノール
溶液15dを加え1時間攪拌した。次に、減圧下に反応
混合物を全体量が半分になるまで溶媒を留去した後、メ
タノールII!、中に再沈した。沈澱物を捕集し、減圧
乾燥して得られた重合体は、重量平均分子量が4.5
X 10’で収量は70gであった。
200gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−7
8°Cに冷却した。1.1−ジフェニルブチルリチウム
1.0gを加え、12時間反応した。更に、この混合溶
液にトリフェニルメチルメタクリレート5g及びテトラ
ヒドロフラン25gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱
気した後添加し、更に8時間反応した。この混合物をO
′Cにした後、メタノール10M1を加え、30分間反
応し、重合を停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下
に温度30°Cとし、これに30%塩化水素エタノール
溶液15dを加え1時間攪拌した。次に、減圧下に反応
混合物を全体量が半分になるまで溶媒を留去した後、メ
タノールII!、中に再沈した。沈澱物を捕集し、減圧
乾燥して得られた重合体は、重量平均分子量が4.5
X 10’で収量は70gであった。
CP)−1
co、 CH。
−ecHz−C)yr−b−(CHz−C斤 (重
量比)COOC+zHzs C00H bはブロック結合を示す(以下同様)。
量比)COOC+zHzs C00H bはブロック結合を示す(以下同様)。
内 のム l P −2
オクタデシルメタクリレ一ト46g、(テトラフェニル
ポルフィナート)アルミニウムメチル0.5g及び塩化
メチレン60gの混合溶液を窒素気流下に温度30’C
とした。これに300W−キセノンランプ光をガラスフ
ィルターを通して25cm+の距離から光照射し、12
時間反応した。この混合物に更にベンジルメタクリレー
ト4gを加え、同様に8時間光照射した後、この反応混
合物にメタノール3gを加えて30分間撹拌し反応を停
止させた。次に、この反応混合物にPd−Cを加え、温
度25°Cで1時間接触還元反応を行なった。
ポルフィナート)アルミニウムメチル0.5g及び塩化
メチレン60gの混合溶液を窒素気流下に温度30’C
とした。これに300W−キセノンランプ光をガラスフ
ィルターを通して25cm+の距離から光照射し、12
時間反応した。この混合物に更にベンジルメタクリレー
ト4gを加え、同様に8時間光照射した後、この反応混
合物にメタノール3gを加えて30分間撹拌し反応を停
止させた。次に、この反応混合物にPd−Cを加え、温
度25°Cで1時間接触還元反応を行なった。
不溶物を濾別した後、メタノール500d中に再沈し、
沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
で重量平均分子量3X10’であった。
沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33g
で重量平均分子量3X10’であった。
CP)−2
CHI CH。
A CHt −C)rr−b −一−(CHz −Ch
rCOOCtaHst(n) C0OH出
の八 37 P −3トリデシルメタクリレ一
ト90g及びテトラヒドロフラン200gの混合溶液を
窒素気流下に、充分に脱気し、−78℃に冷却した。1
.1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウム0.8
gを加え、6時間撹拌した。更にこの混合物に4−ビニ
ルフェニルオキシトリメチルシラン10gを加え6時間
攪拌した後、メタノール3gを加えて30分間攪拌した
。
rCOOCtaHst(n) C0OH出
の八 37 P −3トリデシルメタクリレ一
ト90g及びテトラヒドロフラン200gの混合溶液を
窒素気流下に、充分に脱気し、−78℃に冷却した。1
.1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウム0.8
gを加え、6時間撹拌した。更にこの混合物に4−ビニ
ルフェニルオキシトリメチルシラン10gを加え6時間
攪拌した後、メタノール3gを加えて30分間攪拌した
。
次にこの反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液1
0gを加え、25“Cで1時間攪拌した後、メタノ−ル
ミf中に再沈し、沈澱物を捕集した。沈澱物をメタノー
ル300dで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、
収量58gで重量平均分子量3.5×104であった。
0gを加え、25“Cで1時間攪拌した後、メタノ−ル
ミf中に再沈し、沈澱物を捕集した。沈澱物をメタノー
ル300dで2回洗浄し乾燥した。得られた重合体は、
収量58gで重量平均分子量3.5×104であった。
CP)
CH。
ヘキサデシルメタクリレート95g1ベンジルNN−ジ
エチルジチオカーバメート2.0gの混合物を、窒素気
流下に容器に密閉し、温度60°Cに加温した。これに
400 Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフ
ィルターを通して、10時間光照射し光重合した。これ
にアクリル酸5g及びメチルエチルケトン180gを加
えた後、窒素置換し再び10時間光照射した。
エチルジチオカーバメート2.0gの混合物を、窒素気
流下に容器に密閉し、温度60°Cに加温した。これに
400 Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフ
ィルターを通して、10時間光照射し光重合した。これ
にアクリル酸5g及びメチルエチルケトン180gを加
えた後、窒素置換し再び10時間光照射した。
得られた反応混合物をメタノール1.51に再沈、捕集
し、乾燥した。得られた重合体は、収量68gで重量平
均分子量4X10’であった。
し、乾燥した。得られた重合体は、収量68gで重量平
均分子量4X10’であった。
CP)
CHz
ステアリルメタクリレート80g及びテトラヒドロフラ
ン200 gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、
−78℃に冷却した。1,1−ジフェニル−3−メチル
ペンチルカリウム1.0gを加え、10時間攪拌した。
ン200 gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、
−78℃に冷却した。1,1−ジフェニル−3−メチル
ペンチルカリウム1.0gを加え、10時間攪拌した。
更にこの混合物にスチレン20gを加え8時間攪拌した
後、この反応混合物を0゛Cとしメタノール10dを加
えた。次に、これをメタノールi、s!!、中に再沈し
、沈澱物を濾葉し、乾燥して得られた重合体は、収量6
8gで重量平均分子量3X10’であった。
後、この反応混合物を0゛Cとしメタノール10dを加
えた。次に、これをメタノールi、s!!、中に再沈し
、沈澱物を濾葉し、乾燥して得られた重合体は、収量6
8gで重量平均分子量3X10’であった。
(P)−5
H3
−−クス の tan−yt
分散安定用樹脂P−1を10g、酢酸ビニル100g及
びアイソパーHを380gの混合溶液を、窒素気流下攪
拌しながら温度70°Cに加温した。2,2゛アゾビス
(イソバレロニトリル)(略称:A、B、V、N、)を
0.8g加え2時間反応し、更ニA、B、V、N、を0
.6g加えて2時間反応した。開始剤添加後20分して
白濁を生じ、反応温度は88゛Cまで上昇した。温度を
100°Cに上げ2時間攪拌して未反応の酢酸ビニルを
留去した。冷却後200メツシユのナイロン布を通して
粗大粒子を除去し、得られた白色分散物は、重合率86
%で平均粒径0.21−のラテックスであった。
びアイソパーHを380gの混合溶液を、窒素気流下攪
拌しながら温度70°Cに加温した。2,2゛アゾビス
(イソバレロニトリル)(略称:A、B、V、N、)を
0.8g加え2時間反応し、更ニA、B、V、N、を0
.6g加えて2時間反応した。開始剤添加後20分して
白濁を生じ、反応温度は88゛Cまで上昇した。温度を
100°Cに上げ2時間攪拌して未反応の酢酸ビニルを
留去した。冷却後200メツシユのナイロン布を通して
粗大粒子を除去し、得られた白色分散物は、重合率86
%で平均粒径0.21−のラテックスであった。
m−クス の 2〜4:D−2〜D−4ラテック
ス粒子の製造例1において、分散安定用樹脂P−1を下
記表−1の各樹脂に代えた他は、製造例1と同様にして
、各ラテックス粒子D−2〜D−4を製造した。
ス粒子の製造例1において、分散安定用樹脂P−1を下
記表−1の各樹脂に代えた他は、製造例1と同様にして
、各ラテックス粒子D−2〜D−4を製造した。
表
ラテックス粒子の製造例1において、分散安定用樹脂P
−1を下記表−2の各樹脂に代えた他は、製造例1と同
様にして、各ラテックス粒子D−5〜D−9を製造した
0重合率は各ラテックスとも83〜88%であった。
−1を下記表−2の各樹脂に代えた他は、製造例1と同
様にして、各ラテックス粒子D−5〜D−9を製造した
0重合率は各ラテックスとも83〜88%であった。
(以下余白)
−一 クス の 10:I)−10酢酸ビニル8
5g、N−ビニルピロリドン15g、分散安定用樹脂P
−1を12g及びn−デカン380gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度75°Cに加温した。2.2
’ −アゾビスイソブチロニトリル(略称: A、1.
B、N、 )を1.7g加え4時間反応し、さらにA、
1.B、N、を0.5g加えて2時間反応した。冷却後
200メツシユのナイロン布を通して粗大粒子を除去し
、得られた白色分散物は平均粒径0.254のラテック
スであった。
5g、N−ビニルピロリドン15g、分散安定用樹脂P
−1を12g及びn−デカン380gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度75°Cに加温した。2.2
’ −アゾビスイソブチロニトリル(略称: A、1.
B、N、 )を1.7g加え4時間反応し、さらにA、
1.B、N、を0.5g加えて2時間反応した。冷却後
200メツシユのナイロン布を通して粗大粒子を除去し
、得られた白色分散物は平均粒径0.254のラテック
スであった。
−一 クス の 11:D−11分散安定用樹樹
脂−7を20g及びn−ドデカン470gの混合溶液を
、窒素気流下撹拌しながら、温度60°Cに加温した。
脂−7を20g及びn−ドデカン470gの混合溶液を
、窒素気流下撹拌しながら、温度60°Cに加温した。
この溶液中に、メチルメタクリレート 100g、n−
ドデシルメルカプタン1.0 g及びA、B、V、N、
を0.8gの混合溶液を、2時間で滴下した。そのまま
2時間反応後、A、B、V、N。
ドデシルメルカプタン1.0 g及びA、B、V、N、
を0.8gの混合溶液を、2時間で滴下した。そのまま
2時間反応後、A、B、V、N。
を0.3g加え2時間反応した。冷却後、200メノン
エのナイロン布を通して粗大粒子を除去し、得られた白
色分散物は平均粒径0,2B−のラテックスであった。
エのナイロン布を通して粗大粒子を除去し、得られた白
色分散物は平均粒径0,2B−のラテックスであった。
m−クスの 12:D−12
下記構造の分散安定用樹脂P−11を14g、酢酸ビニ
ル100g、クロトン酸5g及びアイソパーEを468
gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら、温度70℃
に加温した。A、B、V、N、を0.8g加え6時間反
応後、温度100°Cに上げてそのまま1時間攪拌し、
残存する酢酸ビニルを留去した。冷却後、200メツシ
ユのナイロン布を通して粗大粒子を除去し、得られた白
色分散物は重合率85%で、平均粒径0.24−のラテ
ックスであった。
ル100g、クロトン酸5g及びアイソパーEを468
gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら、温度70℃
に加温した。A、B、V、N、を0.8g加え6時間反
応後、温度100°Cに上げてそのまま1時間攪拌し、
残存する酢酸ビニルを留去した。冷却後、200メツシ
ユのナイロン布を通して粗大粒子を除去し、得られた白
色分散物は重合率85%で、平均粒径0.24−のラテ
ックスであった。
−1l
CH,CH3
−(CHz −Chrr−b −−HCHCHh−co
ocいH,、C0OH 重量平均分子量3.3X10’ m−クス の 13:D−13 下記構造の分散安定用樹脂P−12を14g、酢酸ビニ
ル100 g、4〜ペンテン酸6.0g及びアイソパー
Gを380gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら、
温度75°Cに加温した。A、B、V、N、を0.7g
加え4時間反応し、さらニA、B、V、N、を0.5g
加えて2時間反応した。冷却後200メソシユのナイロ
ン布を通して粗大粒子を除去し、得られた白色分散物は
平均粒径0.23−のラテックスであった。
ocいH,、C0OH 重量平均分子量3.3X10’ m−クス の 13:D−13 下記構造の分散安定用樹脂P−12を14g、酢酸ビニ
ル100 g、4〜ペンテン酸6.0g及びアイソパー
Gを380gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら、
温度75°Cに加温した。A、B、V、N、を0.7g
加え4時間反応し、さらニA、B、V、N、を0.5g
加えて2時間反応した。冷却後200メソシユのナイロ
ン布を通して粗大粒子を除去し、得られた白色分散物は
平均粒径0.23−のラテックスであった。
−12
C0OC+aHgq 0COCHz OH
重量平均分子量3.0X10’ m−クス の 14:D−14 スチレン100g、分散安定用樹脂P−5を16g及び
アイソパーHを380gの混合溶液を、窒素気流下攪拌
しながら温度60°Cに加温した。A、B、V、N。
重量平均分子量3.0X10’ m−クス の 14:D−14 スチレン100g、分散安定用樹脂P−5を16g及び
アイソパーHを380gの混合溶液を、窒素気流下攪拌
しながら温度60°Cに加温した。A、B、V、N。
を0.6g加えて4時間反応し、更ニA、B、V、N、
を0.3g加えて3時間反応した。冷却後、200メン
シユのナイロン布を通して粗大粒子を除去し、得られた
白色分散物は、平均粒径約0.18taのラテックスで
あった。
を0.3g加えて3時間反応した。冷却後、200メン
シユのナイロン布を通して粗大粒子を除去し、得られた
白色分散物は、平均粒径約0.18taのラテックスで
あった。
m−クス の ts: A)ラテックス
粒子D−1の製造例1において、ポリ(オクタデシルメ
タクリレート)20g、酢酸ビニル100g、オクタデ
シルメタクリレート1.0g及びアイソパーHを385
gの混合溶液を用いた他は、製造例1と同様に操作した
。
粒子D−1の製造例1において、ポリ(オクタデシルメ
タクリレート)20g、酢酸ビニル100g、オクタデ
シルメタクリレート1.0g及びアイソパーHを385
gの混合溶液を用いた他は、製造例1と同様に操作した
。
得られた白色分散物は重合率85%で平均粒径0.20
−のラテックスであった。(特開昭60−179751
号記載のラテックス粒子) m−クス の 6二 B)ラテックス粒子
D−1の製造例1において、下記構造の分散安定用樹脂
R−1を10g、酢酸ビニル100g、下記化学構造の
単量体(1)を1g及びアイソパーHを385gの混合
溶液を用いた他は、製造例1と同様に操作した。
−のラテックスであった。(特開昭60−179751
号記載のラテックス粒子) m−クス の 6二 B)ラテックス粒子
D−1の製造例1において、下記構造の分散安定用樹脂
R−1を10g、酢酸ビニル100g、下記化学構造の
単量体(1)を1g及びアイソパーHを385gの混合
溶液を用いた他は、製造例1と同様に操作した。
得られた白色分散物は重合率86%で平均粒径0.24
−のラテックスであった。(特開昭63−66567号
記載のラテックス粒子) 単量体(1) CH3 coz=c COO(CHz)zOcOcJ+v(n)分散安定用樹
脂:R−1 CH,CH。
−のラテックスであった。(特開昭63−66567号
記載のラテックス粒子) 単量体(1) CH3 coz=c COO(CHz)zOcOcJ+v(n)分散安定用樹
脂:R−1 CH,CH。
−(CH2−CH−→CHi−C)r−COOCIIH
3? C00(C)It)zOco(CHz)zcO
OcHzcH=cHt(重量組成比) 実施例1 ドデシルメタクリレート/アクリル酸(共重合比:95
15重量比)共重合体10g、ニグロシン10g及びシ
ェルゾール71の30gをガラスピーズと共にペイント
シェーカー(東京精機@)に入れ、4時間分散しニグロ
シンの微小な分散物を得た。
3? C00(C)It)zOco(CHz)zcO
OcHzcH=cHt(重量組成比) 実施例1 ドデシルメタクリレート/アクリル酸(共重合比:95
15重量比)共重合体10g、ニグロシン10g及びシ
ェルゾール71の30gをガラスピーズと共にペイント
シェーカー(東京精機@)に入れ、4時間分散しニグロ
シンの微小な分散物を得た。
ラテックス粒子の製造例1の樹脂分散物30g、上記ニ
グロシン分敷物2.5g、 FOC−1400(日産化
学株製、テトラデシルアルコール)15g、〔オクタデ
セン−半マレイン酸オクタデシルアミド共重合体〕の0
.08gをシェルゾール71のIfに希釈することによ
り静電写真用液体現像剤を作製した。
グロシン分敷物2.5g、 FOC−1400(日産化
学株製、テトラデシルアルコール)15g、〔オクタデ
セン−半マレイン酸オクタデシルアミド共重合体〕の0
.08gをシェルゾール71のIfに希釈することによ
り静電写真用液体現像剤を作製した。
・ A−B
上記製造例において樹脂分散物を以下の樹脂粒子に代え
て比較用の液体現像剤A、Bの2種を作製した。
て比較用の液体現像剤A、Bの2種を作製した。
比較用液体現像剤Aニ
ラテックス粒子の製造例15の樹脂分散物比較用液体現
像剤Bニ ラテックス粒子の製造例16の樹脂分散物これらの液体
現像剤を全自動製版機ELP404V(富士写真フィル
ム■製)の現像剤として用い、電子写真感光材料である
ELPマスター■タイプ(富士写真フィルム■製)を露
光、現像処理した。製版スピードは5版/分で行なった
。更に、ELPマスター■タイプを2000枚処理した
後の現像装置へのトナー付着汚れの有無を観察した。複
写画像の黒化率(画像面積)は、30%の原稿を用いて
行なった。
像剤Bニ ラテックス粒子の製造例16の樹脂分散物これらの液体
現像剤を全自動製版機ELP404V(富士写真フィル
ム■製)の現像剤として用い、電子写真感光材料である
ELPマスター■タイプ(富士写真フィルム■製)を露
光、現像処理した。製版スピードは5版/分で行なった
。更に、ELPマスター■タイプを2000枚処理した
後の現像装置へのトナー付着汚れの有無を観察した。複
写画像の黒化率(画像面積)は、30%の原稿を用いて
行なった。
その結果を表−3に示した。
前記した製版条件で各現像剤を用いて製版した所、現像
装置の、汚れを生じず、又2000枚目の製版プレート
の画像が鮮明な現像剤は、本発明の場合のみであった。
装置の、汚れを生じず、又2000枚目の製版プレート
の画像が鮮明な現像剤は、本発明の場合のみであった。
一方、各現像剤より製版して得られたオフセット印刷用
マスタープレート(ELPマスター)を常法により印刷
し、印刷物の画像に文字の欠落、ベタ部のカスレ等の発
生するまでの印刷枚数を比較した所、本発明の現像剤を
用いて得られたマスタープレートは10000枚以上で
も発生せず、比較例Aを用いたマスタープレートでは6
000枚で発生した。又比較例Bの場合は8000枚で
発生した。
マスタープレート(ELPマスター)を常法により印刷
し、印刷物の画像に文字の欠落、ベタ部のカスレ等の発
生するまでの印刷枚数を比較した所、本発明の現像剤を
用いて得られたマスタープレートは10000枚以上で
も発生せず、比較例Aを用いたマスタープレートでは6
000枚で発生した。又比較例Bの場合は8000枚で
発生した。
以上の結果の如く、本発明の樹脂粒子を使って現像剤と
したもののみが、現像装置の汚れを全く生じないと同時
に、マスタープレートの印刷枚数も著しく向上したもの
であった。
したもののみが、現像装置の汚れを全く生じないと同時
に、マスタープレートの印刷枚数も著しく向上したもの
であった。
又、比較例A及び比較例Bの場合は、製版条件が過酷な
条件(従来は2〜3枚/分の製版スピードで複写画像の
黒化率は8〜10%程度である)で用いられると、現像
装置(特に背面電極板上)の汚れが生じる様になり、2
000枚後位には、プレート上の複写画像の画質に影響
(D+*axの低下、細線のカスレ等)がでてくる様に
なった。また、マスタープレートの印刷枚数は、比較例
Aで著しく低下した。
条件(従来は2〜3枚/分の製版スピードで複写画像の
黒化率は8〜10%程度である)で用いられると、現像
装置(特に背面電極板上)の汚れが生じる様になり、2
000枚後位には、プレート上の複写画像の画質に影響
(D+*axの低下、細線のカスレ等)がでてくる様に
なった。また、マスタープレートの印刷枚数は、比較例
Aで著しく低下した。
これらの結果は、本発明の樹脂粒子が明らかに優れてい
ることを示すものである。
ることを示すものである。
実施例2
ラテックス粒子の製造例2で得られた白色分散物100
g及びスミカロンブラック1.5gの混合物を温度10
0℃に加温し、4時間加熱攪拌した。室温に冷却後20
0メツシユのナイロン布を通し、残存した染料を除去す
ることで、平均粒径0.24t!mの黒色の樹脂分散物
を得た。
g及びスミカロンブラック1.5gの混合物を温度10
0℃に加温し、4時間加熱攪拌した。室温に冷却後20
0メツシユのナイロン布を通し、残存した染料を除去す
ることで、平均粒径0.24t!mの黒色の樹脂分散物
を得た。
上記黒色樹脂分散物32g、ナフテン酸ジルコニウム0
.05g 、 FOC−1600(日産化学■製、ヘキ
サデシルアルコール)20gをシェルゾール71の11
に希釈することにより液体現像剤を作製した。
.05g 、 FOC−1600(日産化学■製、ヘキ
サデシルアルコール)20gをシェルゾール71の11
に希釈することにより液体現像剤を作製した。
これを実施例1と同様の装置により現像した所、200
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く発生
しなかった。
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く発生
しなかった。
又、得られたオフセット印刷用マスタープレートの画質
は鮮明であり、1力枚印刷後の印刷物の画質も非常に鮮
明であった。
は鮮明であり、1力枚印刷後の印刷物の画質も非常に鮮
明であった。
実施例3
ラテックス粒子の製造例13で得られた白色分散物10
0g及びビクトリアブルーBを3gの混合物を温度70
℃〜80°Cに加温し6時間攪拌した。室温に冷却後2
00メツシユのナイロン布を通し、残存した染料を除去
して平均粒径0.23mの青色の樹脂分散物を得た。
0g及びビクトリアブルーBを3gの混合物を温度70
℃〜80°Cに加温し6時間攪拌した。室温に冷却後2
00メツシユのナイロン布を通し、残存した染料を除去
して平均粒径0.23mの青色の樹脂分散物を得た。
上記青色樹脂分散物32g、ナフテン酸ジルコニウム0
.05gをアイソパーHの11に希釈することにより液
体現像剤を作製した。
.05gをアイソパーHの11に希釈することにより液
体現像剤を作製した。
これを、実施例1と同様の装置により現像した所、20
00枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く見
られなかった。又、得られたオフセント印刷用マスター
プレートの画質は鮮明であり、1力枚印刷後の印刷物の
画質も非常に鮮明であった。
00枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く見
られなかった。又、得られたオフセント印刷用マスター
プレートの画質は鮮明であり、1力枚印刷後の印刷物の
画質も非常に鮮明であった。
実施例4
ラテックス粒子の製造例6で得た白色樹脂分散物32g
、実施例1で得たニグロシン分散物2.5g、FOC−
1400(日産化学■製、テトラデシルアルコール)2
0g及びジイソブチレンと無水マレイン酸の共重合体の
半ドコサニルアミド化物0.02gをアイソパーGの1
1に希釈することにより、液体現像剤を作製した。
、実施例1で得たニグロシン分散物2.5g、FOC−
1400(日産化学■製、テトラデシルアルコール)2
0g及びジイソブチレンと無水マレイン酸の共重合体の
半ドコサニルアミド化物0.02gをアイソパーGの1
1に希釈することにより、液体現像剤を作製した。
これを実施例1と同様の装置により現像した所、200
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く見ら
れなかった。又、得られたオフセット印刷用マスタープ
レートの画質及び1力枚印刷後の印刷物の画質とも鮮明
であった。
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く見ら
れなかった。又、得られたオフセット印刷用マスタープ
レートの画質及び1力枚印刷後の印刷物の画質とも鮮明
であった。
更にこの現像剤を3力月放置した後、上記と全く同様の
処理を行なったが、経時前と全く変わらなかった。
処理を行なったが、経時前と全く変わらなかった。
実施例5
ポリ(デシルメタクリレート)10g、アイソパーHを
30g及びアルカリブルー8gを、ガラスピーズと共に
ペイントシェーカーに入れ、2時間分散を行ないアルカ
リブルーの微小な分散物を得た。
30g及びアルカリブルー8gを、ガラスピーズと共に
ペイントシェーカーに入れ、2時間分散を行ないアルカ
リブルーの微小な分散物を得た。
ラテックス粒子の製造例5で得られた白色樹脂分散物D
−5を30g、上記のアルカリブルー分散物4.2 g
、イソステアリルアルコール15g及びジイソブチレ
ンと無水マレイン酸の共重合体の半ドコサニルアミド化
物0.06gをアイソパーGの11に希釈することによ
り液体現像剤を作製した。
−5を30g、上記のアルカリブルー分散物4.2 g
、イソステアリルアルコール15g及びジイソブチレ
ンと無水マレイン酸の共重合体の半ドコサニルアミド化
物0.06gをアイソパーGの11に希釈することによ
り液体現像剤を作製した。
これを実施例1と同様の装置により現像した所、200
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く見ら
れなかった。又、得られたオフセット印刷用マスタープ
レートの画質及び1力枚印刷後の印刷物の画質ともに非
常に鮮明であった。
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く見ら
れなかった。又、得られたオフセット印刷用マスタープ
レートの画質及び1力枚印刷後の印刷物の画質ともに非
常に鮮明であった。
実施例6〜11
実施例5において、ラテックス粒子D−5に代えて下記
表−4の各ラテックスを用いた他は、実施例5と同様に
して液体現像剤を作製した。
表−4の各ラテックスを用いた他は、実施例5と同様に
して液体現像剤を作製した。
表
4
これを実施例1と同様の装置により現像した所、200
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く発生
しなかった。
0枚現像後でも装置に対するトナー付着汚れは全く発生
しなかった。
又、得られたオフセット印刷用マスタープレートの画質
は鮮明であり、1力枚印刷後の印刷物の画質も非常に鮮
明であった。
は鮮明であり、1力枚印刷後の印刷物の画質も非常に鮮
明であった。
更にこの現像剤を3力月放置した後、上記と全く同様の
処理を行なったが、経時前と全く変わらなかった。
処理を行なったが、経時前と全く変わらなかった。
(発明の効果)
本発明により、分散安定性、再分散性、及び定着性の優
れた現像液が得られた。特に、非常に製版スピードの速
い製版条件で用いても、現像装置に汚れを生じず、且つ
得られたオフセット印刷用マスタープレートの画質及び
1力枚印刷後の印刷物の画質ともに非常に鮮明であった
。
れた現像液が得られた。特に、非常に製版スピードの速
い製版条件で用いても、現像装置に汚れを生じず、且つ
得られたオフセット印刷用マスタープレートの画質及び
1力枚印刷後の印刷物の画質ともに非常に鮮明であった
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電気抵抗10^9Ωcm以上、かつ誘電率3.5以下の
非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分散して成る静電
写真用液体現像剤において、該分散樹脂粒子が、 (1)該非水溶媒には可溶であるが重合することによっ
て不溶化する一官能性単量体(A)、及び(2)下記一
般式( I )で示される重合体成分を少なくとも含有す
るブロックAと、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキ
シル基、ホルミル基、アミノ基、ホスホノ基、及び▲数
式、化学式、表等があります▼基(Q_0は、−Q_1
基又は−OQ_1基を示し、Q_1は炭化水素基を表わ
す〕から選ばれる少なくとも1種の極性基を含有する重
合体成分及び/又は該一官能性単量体(A)に相当する
重合体成分から成るブロックBとから構成され、重量平
均分子量が1×10^4〜5×10^5で、且つ該非水
溶媒に可溶性のA−B型ブロック共重合体から成る分散
安定用樹脂を、 各々少なくとも1種含有する溶液を重合反応させること
により得られる重合体樹脂粒子であることを特徴とする
静電写真用液体現像剤。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式( I )中、V_0は−COO−、−OCO−、▲数
式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等
があります▼、又は−O−を表わす(lは1〜3の整数
を表わす)。 R_0は炭素数10以上の脂肪族基を表わす。 a_1及びa_2は、互いに同じでも異なってもよく、
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−C
OO−D_1又は炭化水素基を介した−COO−D_1
(D_1は水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を
示す)を表わす。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018949A JP2640155B2 (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 静電写真用液体現像剤 |
| US07/647,110 US5114822A (en) | 1990-01-31 | 1991-01-29 | Liquid developer for electrostatic photography |
| EP91300696A EP0440435B1 (en) | 1990-01-31 | 1991-01-30 | Liquid developer for electrostatic photography |
| DE69103921T DE69103921D1 (de) | 1990-01-31 | 1991-01-30 | Flüssigentwickler für elektrostatische Photographie. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018949A JP2640155B2 (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 静電写真用液体現像剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03225353A true JPH03225353A (ja) | 1991-10-04 |
| JP2640155B2 JP2640155B2 (ja) | 1997-08-13 |
Family
ID=11985902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018949A Expired - Fee Related JP2640155B2 (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 静電写真用液体現像剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2640155B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0695974A1 (en) | 1994-07-18 | 1996-02-07 | Nippon Paint Company Limited | Liquid developer and method of preparing the same |
| JP2002161119A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-04 | Nippon Shokubai Co Ltd | 樹脂粒子の製造方法 |
| JP2010024270A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Toagosei Co Ltd | 非水系分散体及びその製造方法並びに静電写真用液体現像剤 |
-
1990
- 1990-01-31 JP JP2018949A patent/JP2640155B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0695974A1 (en) | 1994-07-18 | 1996-02-07 | Nippon Paint Company Limited | Liquid developer and method of preparing the same |
| JP2002161119A (ja) * | 2000-11-28 | 2002-06-04 | Nippon Shokubai Co Ltd | 樹脂粒子の製造方法 |
| JP2010024270A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Toagosei Co Ltd | 非水系分散体及びその製造方法並びに静電写真用液体現像剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2640155B2 (ja) | 1997-08-13 |
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