JPH0323445A - 感光材料処理装置 - Google Patents

感光材料処理装置

Info

Publication number
JPH0323445A
JPH0323445A JP1157515A JP15751589A JPH0323445A JP H0323445 A JPH0323445 A JP H0323445A JP 1157515 A JP1157515 A JP 1157515A JP 15751589 A JP15751589 A JP 15751589A JP H0323445 A JPH0323445 A JP H0323445A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
photosensitive material
liquid
chambers
processing liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1157515A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Kurokawa
俊夫 黒川
Takashi Nakamura
敬 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1157515A priority Critical patent/JPH0323445A/ja
Publication of JPH0323445A publication Critical patent/JPH0323445A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、例えば銀塩写真式複写機、自動現像機に適用
される感光材料処理装置,特に,複数に区画された処理
室を有する処理槽にて感光材料を湿式処理する感光材料
処理装置に関する。
〈従来の技術〉 一般に、湿式処理において、露光後のハロゲン化銀感光
材料(以下、単に感光材料という)は、その処理工程に
従って、現像、定着(または漂白・定着)、水洗等の処
理が施されている。
このような処理は、通常、自動現像機等により、現像液
、定着液、洗浄水等を入れた各処理槽間を順次搬送する
ことによって行われている。
そして、このような処理に際しても、近年、環境保全,
資源節減が要望されてきており、処理液、特に現像液の
節減が課題となっている。
現像液を節減するには、現像効率を上げることが必要で
あり、実際、所定量の現像液を入れた現像槽を複数用い
て処理すれば現像効率が上がることが知られている。
また、洗浄水を節減するには、水洗槽を複数用いて、カ
ウンターフローで水洗処理すればよいことも知られてい
る。
このようなことから、少量の処理液(現像液等)で処理
可能な方法として、いわゆるカスケード処理方式等が採
用されている. このカスケード処理とは、同種の処理液を入れた複数の
処理槽(例えば、2〜9槽)を並設し、感光材料を各処
理槽間をクロスオーバさせて順次浸漬処理するものであ
る。 この場合、処理液も隣接する処理槽間を順次流れ
るが、処理液の流れ方向は特に定められておらず、感光
材料の進行方向に対し処理液の流れ方向が同方向である
パラレルフローと、逆方向であるカウンターフローとの
両方がある。
しかし、上記のような方法では、複数の処理槽を並設す
るため、装置が大型化して広い設置スペースが必要とな
り、また、空気と接触する部分(クロスオーバ一部)が
増え、そこでの酸化劣化分を補う必要があるため、現像
液の消費量(補充量)の低減化においても十分とはいえ
ない。
そこで、本願出願人は、このような欠点を解消すべく、
複数に区画された処理室を有する処理槽の各処理室に感
光材料を順次通過させて処理する感光材料処理装置およ
び方法を開示している(特願平01−27034号、特
願平01−61707号、特願平01−90422号)
これらの発明によれば、各処理室間において、処理液の
濃度勾配が形成され、処理効率の向上が図れるという効
果がある。
従って、各処理室間での処理液の流通が最小限に抑えら
れるのが好ましく、そのために隣接する処理室間に狭幅
の通路を設けたり、さらにその通路を遮蔽する遮蔽手段
を設けたりする工夫がなされている。
しかるに、1つの処理室内では、処理効率の向上および
処理の安定性の見地から、処理液の温度や組成が均一で
あることが好ましく、そのために、処理液の流動、撹拌
がなされる必要がある。
〈発明が゜解決しようとする課題〉 本発明の目的は、装置の小型化および処理液の補充量の
低減を図ることができ、各処理室間での処理液の濃度勾
配を保ちつつ、処理液の撹拌を行うことができる感光材
料処理装置を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、以下の本発明により達成される。
即ち、本発明は、複数に区画された処理室を有する処理
槽の各処理室内に処理冫夜を満たし、感光材料を大気と
接触することなく前記各処理室を順次通過させて処理す
る感光材料処理装置であって、 前記処理槽に超音波発振器を設置したことを特徴とする
感光材料処理装置である。
また、前記処理槽は、ブロック状の部材により形成され
、狭幅の通路で順次連結された複数の処理室を有するも
のである感光材料処理装置であるのが好ましい. また、前記超音波発振器は、感光材料が通過する経路の
途中に設置されているのが好ましい。
また前記超音波発振器は、少なくとも処理液供給部の近
傍に設置されているのが好ましい。
〈作用〉 このような構成の感光材料処理装置によれば、感光材料
が通過する経路の途中に設置された超音波発振器により
処理液および感光材料に超音波を付与することにより、
これらが微振動し、処理液の撹拌がなされる。 よって
1つの処理室内での処理液の組成や温度が均一化され、
処理効率が向上する。
また、処理液の供給部近傍にて超音波を付与した場合に
は、処理の初期段階,特に現像初期において、現像主薬
の拡欣または反応が促進されるため、感度の向上が図れ
る。
く実施例〉 以下、本発明の感光材料処理装置を添付図面に示す好適
実施例について詳細に説明する。
第l図は、本発明の感光材料処理装置の構成例を示す断
面側面図、第2図は、第1図中の■−■線での断面図で
ある. これら図に示すように、本発明の感光材料処理
装置lは、所定の容積を有する縦長の処理槽2を有する
。 この処理槽2内には,ラック3の側板3l、32間
に設置されたブロック状の部材(以下、ブロック体とい
う)4および5がラック3ごと挿入されている。
これらのブロック体4、5は、例えば、ポリエチレン、
ボリブロビレン、ポリフエニレン才キサイド(PPO)
.ABS樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リウレタン樹脂等のプラスチック、アルミナ等のセラミ
ックスまたはステンレス,チタニウム等の各種金属等の
硬質材料で構成されている。 特に、成形性に優れ、軽
量で、十分な強度を有するという点から、ボリブロビレ
ン、PPO.ABS樹脂等のプラスチックスで構成され
ているのが好ましい。
また、図示の例ではブロック体4、5は中実部材となっ
ているが、中空部材(例えばブロー成形により製造され
る)として構成してもよい。
ブロック体4は、ブロック体5の内側に挿入するように
なっており、この挿入状態で、感光材料100を処理す
るための空間である5つの処理室6A、6B、6C、6
Dおよび6Eが形成される。 また、隣接する処理室6
Aと6B、6Bと6C,6Cと6Dおよび6Dと6Eと
の間には、両処理室を連結する狭幅の通路7l、72、
73および74が形成される。
また、処理室6Aおよび6Eの上部には、それぞれ感光
材料lOOを搬入および搬出するための同様の通路75
および76が形成される。 これらの通路71〜76の
幅は、感光材料100の厚さの5〜40倍程度とするの
が好ましい。
なお、後述する通路の遮蔽手段を設けない場合について
も、通路71〜76の幅は、前記と同様であるが、この
場合には、通路の長さを比較的長くすることが好ましい
また、通路71〜74の内壁面には、撥水化処理または
波板状の表面処理を施しておくのが好ましい。 これに
より、感光材料の通過性の向上が図れるからである。
処理室6A、6B、6Dおよび6Eの中央部付近には、
それぞれl対の搬送ローラ8が設置され、処理室6Cに
は、3対の搬送ローラ8が設置されている。 また、通
路75の感光材料入口付近および通路76の感光材料出
口付近にも、それぞれ1対の搬送ローラ8が設置されて
いる。
これらの各搬送ローラ8は、ブロック体4または5に軸
支されており、ローラ対のいずれか一方または双方が駆
動回転し、ローラ間に感光材料を扶持して感光材料lO
Oを搬送するようになっている。 搬送ローラ8の駆動
機構は、第2図に示すように、図中垂直方向に軸支され
た主軸82の所定箇所に固定されたべベルギア83と、
各搬送ローラ8の回転軸8lの一端部に固定されたべベ
ルギア84とが噛合し、モータ等の駆動源(図示せず)
の作動で主軸82を所定方向に回転することにより、各
搬送ローラ8が回転するようになっている。
この場合、最上部にある搬送ローラ8の回転軸81aは
主軸82とずれた位置にあるので、主軸82に固定され
たギア85を含む歯車列を介して主軸82と平行に支持
された従動軸86を設け、該従動軸86に固定されたべ
ペルギア83と、回転軸81aの一端部に固定されたべ
ベルギア84とを噛合させて回転軸81aを回転させる
。 さらに、回転軸81aには、べベルギア84の内側
にギア87が固定され、該ギア87と他方の搬送ローラ
の回転軸8lbの一端部に固定されたギア88とを噛合
させることにより両搬送ローラ8が同時に駆動回転する
各処理室内の搬送ローラ8では、一方のローラを駆動回
転させ、両ローラの周面同士が接触することによって他
方のローラを従動回転させる構成となっている。 なお
、両ローラなギアで連結し、双方のローラを駆動回転す
る構成としてもよい。
このような各搬送ローラ8の構成材料は、耐久性、処理
液Qに対する耐薬品性を有するものであるのが好ましく
、例えば、ネオブレン、EPTゴム等の各種ゴム、サン
ブレーン、サーモラン、ハイトレル等のエラストマー、
硬質塩化ビニル、ボリブロビレン、ポリエチレン、AB
S樹脂、PPO、ナイロン、ROM、フェノール樹脂、
シリコーン樹脂、テフロン等の各種樹脂、アルミナ等の
セラミックス、ステンレス、チタン、ハステロイ等の耐
食性を有する金属類、またはこれらを組み合わせたもの
を挙げることができる。
処理室6A、6B、6Dおよび6Eの搬送ローラ8の上
下近傍には、感光材料100を案内するための対をなす
ガイド9が設置されている。 また、処理室6Cの搬送
ローラ8間には、円弧状に湾曲し、この湾曲部に沿って
感光材料100の方向を転換する反転ガイド10が設置
されている。
これらのガイド9および10は、例えば或型プラスチッ
クや金属の板で構成され、ガイドな貫通する開口90が
ほぼ均一な配置で形成されている。 この間口90の存
在により処理液Qの流通が可能となり、循環が促進され
るため、処理効率が高まる。
このようなガイド9、lO、前記搬送ローラ8およびそ
の駆動系により感光材料100を所定の経路で搬送する
搬送手段が構或される。
各処理室6A〜6Eおよび通路71〜74内は、処理液
Qで満たされており、感光材料100の処理時には、新
鮮な処理液(補充液)が供給される。 処理液の供給、
排出位置は、その処理液の種類により決定される。 図
示の例では、処理液が洗浄液の場合に好適な位置を示し
ている。 即ち、感光材料lOOが最後に通過する処理
室6E内に、処理液の給液管の一端である給液口11が
設置され、一方、感光材料100が最初に通過する処理
室6A内に排浦管の一端である排液口12が設置されて
いる。
この場合、感光材料100の処理時(搬送時)には、給
液口11からの新鮮な処理液(/5ll:浄液)Qが処
理室6E内に注入されると、洗浄室6E内にあったほぼ
同量の処理液が通路74を経て下位の処理室6Dへ流入
し、同様に通路73,処理室6C、通路72、処理室6
B、通路71を順次経て処理室6Aへ流れ込み、疲労し
た処理液が排液口l2からオーバーフローにより排出さ
れる。 そして、各処理室6A〜6E内の処理液(洗浄
液)の組成には勾配が形成されており、即ち処理液の新
鮮な度合いは、処理室6E>6D>6C>6B>.6A
となっている。
一方、感光材料100は、図中矢印で示すごとく、処理
室6A、6B、6C、6D、6Eの順に搬送される。
従って、処理液(洗浄液)の流れ方向は、感光材料lO
Oの搬送方向と逆方向(カウンターフロー)である。 
このようにすることにより、洗浄効率が向上し、一定の
洗浄効果を得るにあたっての洗/91液の消費量(供給
量)をより少なくすることができる。
処理戚Qが、現像液、漂白液、定着液または漂白・定着
液である場合には,処理液・の給l夜口および排液口を
上記とは逆に設ける。 即ち、給液口11を処理室6A
内に設け、排液口l2を処理室6E内に設け、処理液の
流れ方向が感光材料100の搬送方向と同方向(パラレ
ルフロー)となるようにする。 これにより現像効率等
が向上し、処理液の消費量(供給量)を少なくすること
ができる。
このように、本発明では、処理槽2内が複数の処理室に
区画されているため、各処理室6A〜6E内の処理液の
濃度または組成に勾配が形成され、よって処理効率が向
上する。
特に、図示の感光材料処理装W1では、各通路71〜7
4が狭幅であるため、隣接する処理室間において、必要
以上の処理液Qの流通が生じず、よって上記液組成勾配
が十分に保たれる。
また、感光材料100は、各処理室6A〜6Eを通過す
る間に大気との接触がなく、即ち、前述した従来のカス
ケード処理のように、大気中でのクロスオーバーがない
ため、クロスオーバー時間の節減や処理液補充量の低減
が図れ、写真性も向上する。
なお、給液口1lおよび排液口l2の設置位置、設置数
等は上述の例に限定されない。
また、排液口12による排液は、オーバーフローによる
ものに限らず、ボンブ等の吸引により強制的に排液する
ような構成としてもよい。
各処理室6A〜6Eの通路7l〜76との接続部分には
、感光材料100の非通過時にこの部分を遮蔽(封止)
しつる遮蔽手段としての弁13aおよび13bが設置さ
れている。 この弁13a.13bは、第2図に示すよ
うに、いずれも両端が縮径(円錐状)したローラ状をな
しているが、その構成は弁13aと13bとで異なって
いる。
弁13aは、その比重が処理液Qよりも小さく、よって
浮力により浮上し、各処理室6A〜6Eの上部を遮蔽す
るものである。 これに対し、弁13bは、その比重が
処理液Qよりも大きく、よって沈降し、各処理室6A.
6B、6D、6Eの下部を遮蔽するものである。
弁13aおよび13bの比重の調整は、それらの構成材
料の選択により行うことができる。 例えば、弁13a
および13bを中実ローラとする場合、弁13aの構成
材料として、発泡ボリブロビレン、発泡PPO、発泡A
BS等を、弁13bの構成材料として、硬質塩化ビニル
、A B S 樹脂、PPO等を用いればよい。
また、弁13aが、処理液Qより比重が大なる材料で構
成されていたとしても、図示のごとく弁1. 3 aを
中空ローラとすることにより浮力を与えることができる
また、弁13bについても、必要により金属等の芯材を
入れる(図示せず)ことにより、弁13b全体の比重を
増大させることができる。
なお、通路71〜76の遮蔽性を向上するという観点か
らは、弁13aおよび13bを、シJコーンゴムやその
他の各種エラストマー専の弾性体で構成し、またはこれ
らの材料で弁13a,13bのローラ周面を被覆してお
くのが好ましい。
このような弁13a、13bは、感光材料lOOの非通
過時には通路71〜76の出入口を遮蔽しているが、感
光材料100が通過する際には、感光材料100に押圧
されてブロック体4、5に形成された傾斜面14a、I
. 4 bに沿って転動じ、感光材料100の通過か可
能となる。 そして、感光材料100が通過した後は、
弁13a、13bが元にもどり、再び通路71〜76の
出入口を遮断する。
なお、遮蔽手段としては上記弁によるものに限定されず
、例えば特願昭63−142464号に記載されている
流体(パラフィン、液晶、オイル等)による流体シャッ
ター 磁性流体によるシャッター、特願昭63−947
55号に記載されているローラタイブの遮蔽部材、特願
昭63−94756号に記載されているスキージータイ
プの遮蔽部材、特願乎Of−27034号の第2図に示
されているクランク機構により移動する遮蔽板、または
その他のパッキン、ガスケット、ラビリンス等を用いて
もよい。
また、本発明では、必ずしも遮蔽手段を設けなくてもよ
い。
さて、本発明の感光材料処理装置では、感光材料100
の搬送経路の途中に超音波発振器が設置されている。
第1図に示す構成例では、処理室6C内に超音a振動子
l5が設置され、この超音波振動子l5に交流電源l6
が接続されている。
なお、超音波発振器は、公知の任意の種類、構成のもの
が使用可能である。
このような超音波発振器の設置位置は、第1図に示すも
のに限られず、例えば次のような設置パターンが可能で
ある。
■ 処理室6A〜6Eの全ての室または任意の室に設置 ■ 1つの処理室に対し、2以上の超音波発振器を設置 ■ 通路71〜74に対面するように設置■ 上記■〜
■の任意の組み合わせ このような超音波発振器により超音波を付与しつつ処理
を行うと、処理液Qおよび感光材料l00が微振動し、
処理液の撹拌がなされる。
これにより、各処理室6A〜6E内処理液Qの組成およ
び温度が均一化され、処理効率の向上および処理の安定
化が図れる。 この場合、撹拌による各処理室間での処
理液の流動(移動)は生じないため、各処理室間での処
理液の濃度勾配は保たれる。
なお、各処理室毎に処理液に微振動を与える場合、処理
槽2全体に振動を与える場合のいずれでちまい。 後者
の場合、処理槽2の外壁に超音tl振動子が接触するよ
うに超音波発振器を設置することもできる。
本発明では、超音波発振器を少なくとち処理液供給部の
近傍に設置すると、比較的高い処理効果が得られる。 
特に、処理液Qが現像液である場合には、処理室6A(
給l夜口を設置)および/または処理室6Bに超音波発
振器を設置すると、感度が向上する。 その原理は定か
ではないが、現像においては、現像主薬の拡散または反
応が促進されるからであると考えられる。
また、処理液Qが漂白・定着液または定着冴の場合、定
着速度が速くなり、特に、上記■を行うと、その効果が
顕著となり好ましい。
また、処理液Qが洗浄液の場合、等しい洗浄効果(現像
主薬の洗い出し効果)を得るための洗浄時間を短縮する
ことができる。
本発明において、超音波発振器は、広範囲の周波数が使
用可能であり、特に2 0 kHz〜1 0 0 MH
z程度のものが好適である。
また,超音波発振器を処理室内または通路に設ける場合
、その出力は比較的小さくてよく、例えば50W〜lO
kW程度でも十分な効果が得られる。
本発明においては、超音波発振器として超音波モータを
用いることもできる。
即ち、第1図中に示す処理室6A〜6E内に設置された
搬送ローラ8の全部または一部を超音波モータで駆動す
る。
この超音波モータの構成例を第3図に示す。
同図に示すように、超音波モータl7は、中心部に円柱
状の圧電素子171を有し、その両端部の周面にフリー
ローラ172が圧接され、これらをフリーローラ172
の周面同士が接触するように一対配設置したものである
この超音波モータl7によれば、圧電素子171に設置
された分割電極(図示せず)への交流電圧の印加により
圧電素子に直角な2方向の屈曲振動を励振し、かつそれ
らの駆動電圧の位相を90’ずらすことにより圧電素子
171の両端部に楕円軌跡を描く振動を発生させ、これ
に伴って、その部分に圧接されたフリーローラ172が
圧電素子周面との摩擦力によりそれぞれ第3図中の矢印
方向に回転する。 そして、感光材料100は、回転す
る対のフリーローラ172間に扶持され、搬送される。
また、同時にフリーローラ172の周面等を通じて、処
理液および感光材料100に超音波振動を付与すること
ができる。
このような超音波モータ17は,それ自体小型であり、
しかも感光材料を搬送する機能と超音波を付与する機能
とを併有するため、感光材料処理装置の小型化に貢献す
る。
なお、超音波モータの構造は、第3図に示すものに限定
されないことは言うまでもない。
以上、本発明の感光材料処理装置の構成を各図に基づい
て説明したが、本発明はこれに限定されず、例えば特願
平01−61707号に記載されている処理路が幅狭の
スリット状になっているものや、処理槽内をローラおよ
び区画部材等で仕切ったもの等、複数の処理室を有する
ものであればいかなるものでもよい。
本発明において、処理対象される感光材才4の種類は特
に限定されず、例えば、カラーネガフィルム、カラー反
転フィルム、カラー印画紙、カラーボジフィルム、カラ
ー反転印画紙、製版用写真感光材料、X線写真感光材料
、黒白ネガフィルム、黒白印画紙、マイクロ用感光材料
等,各種感光材料が挙げられる。
また、本発明は、例えば、温式の複写機、自動現像機、
プリンタープロセッサ、ビデオプリンタープロセッサー
 写真プリント作成コインマシーン、検版用カラーペー
パー処理機等の各種感光材料処理装置に適用することが
できる。
く実験例〉 (実験l) 第1図および第2図に示す構造の感光材料処理装置を用
いて感光材料(冨士写真フィルム社製フジ力ラーペーパ
ー)に対し、下記の(′IC浄処理を行った。
なお、処理槽における処理室数は5室,各処理室の合計
容量は約1212である。
〈洗浄処理〉 洗浄水:イオン交換水 浣浄水温度:約25℃ 洗浄水流れ方向:カウンターフロー /lc浄水補充量+ 4 0 0 mj/m2超音波発
振器/ 種類:本多電子社製W−115 設置位置:処理室6cの底部 出力:300W 周en : 2 8、45、100kHz(D’3aこ
の処理における実験結果は次の通りである。
超音波発振器を設置しない以外は同様の装置で処理した
ものに比べ,発色現像主薬の洗い出し効果で判定した水
洗時間が、20〜30%程度減少した。
(実験2) 超音波発振器の設置位置を処理室6A(紹演口有)とし
た以外は実験1と同様の処理装置を用い、市販の現像液
(パラレルフロー)にて、感光材料(富士写真フイルム
社製フジ力ラーペーパー)に現像処理を行った。
その結果、超音波発振器を設置しない以外は同様の装置
で処理したものに比べ、感光材料の感度(GL)が向上
することが確認された。
(実験3) 実験1と同様の処理装置を用い、市販の漂白・定着液(
パラレルフロー)にて、感光材科(冨士写真フイルム社
製フジ力ラーベーバー)に漂白・定着処理を行った。
その結果、超音波発振器を設置しない以外は同様の装置
で処理したものに比べ、定着速度が速くなることが確認
された。
〈発明の効果〉 本発明の感光材料処理装置によれば、複数の処理室にて
処理するため、装置の小型化および処理液の補充量の低
減を図ることができる。
特に、各処理室間での処理液の流通を最小限に抑えるこ
と、即ち処理’tri a度勾配を保ちつつ,処理室内
での処理t夜の撹拌を行うことがでるので、処理効率の
向上および処理の安定化が図れる。
例えば、処理液が現像機能を有するものである場合には
、感度が向上し、定着機能を有するものである場合には
定着速度が速まり、洗浄機能を有するものである場合に
は、洗浄効率が高まる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の感光材料処理装置の構成例を示す断
面側面図である。 第2図は、第1図中のII − I1 49での断面図
である。 第3図は、本発明の感光材料処理装置に用いられる超音
波モータの構成例を示す斜視図である。 符号の説明 1・・・感光材料処理装置 2・・・処理槽 3・・・ラック 3l、32・・・側板 4、5・・・ブロック体 51・・・溝 6A〜6E・・・処理室 71〜76・・・通路 8・・・搬送ローラ 8l・・・回転軸 82・・・主軸 8゛3、84・・・ベベルギア 85、87、88・・・ギア 86・・・従動軸 9・・・ガイド 90・・・開口 10・・・反転ガイド l 1 ・・・給冫夜口 12・・・排戒口 13a、1 3 b −・・弁 14a.l4b−・・傾斜面 15・・・超音波振動子 l6・・・交流電源 l7・・・超音波モータ 171・・・圧電素子 172・・・フリーローラ 100・・・感光材料 Q・・・処理液 F I  G.3 17 172 l

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数に区画された処理室を有する処理槽の各処理
    室内に処理液を満たし、感光材料を大気と接触すること
    なく前記各処理室を順次通過させて処理する感光材料処
    理装置であって、前記処理槽に超音波発振器を設置した
    ことを特徴とする感光材料処理装置。
  2. (2)前記処理槽は、ブロック状の部材により形成され
    、狭幅の通路で順次連結された複数の処理室を有するも
    のである請求項1に記載の感光材料処理装置。
JP1157515A 1989-06-20 1989-06-20 感光材料処理装置 Pending JPH0323445A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1157515A JPH0323445A (ja) 1989-06-20 1989-06-20 感光材料処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1157515A JPH0323445A (ja) 1989-06-20 1989-06-20 感光材料処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0323445A true JPH0323445A (ja) 1991-01-31

Family

ID=15651365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1157515A Pending JPH0323445A (ja) 1989-06-20 1989-06-20 感光材料処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0323445A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4980714A (en) Photosensitive material processing apparatus
JPH03231746A (ja) ハロゲン化銀感光材料の処理方法
JPS614059A (ja) カラ−写真感光材料用自動現像機
JPH0323445A (ja) 感光材料処理装置
JPH03121453A (ja) ハロゲン化銀感光材料の処理方法
JPH02205846A (ja) 感光材料処理装置
JP2741549B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH03110556A (ja) 感光材料処理装置
JP2696762B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH02205847A (ja) 感光材料処理装置
JPH02232656A (ja) 感光材料処理装置
JPH02130548A (ja) 感光材料処理装置
JPH0377943A (ja) 感光材料処理装置
JP2762422B2 (ja) 感光材料処理装置
JP2696759B2 (ja) 補充制御方法
JPH11194465A (ja) 写真材料の処理方法
JPH0383058A (ja) 感光材料の処理方法
JPH0915807A (ja) 感光材料処理装置
JPH02230144A (ja) 感光材料処理装置
JP2722420B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH01267648A (ja) 感光材料処理装置および感光材料処理方法
JP3322752B2 (ja) 感光材料処理装置
JPH0534890A (ja) 感光材料処理装置
JPH05127338A (ja) 感光材料処理装置
JP2652736B2 (ja) ブレード組立体および感光材料処理装置