JPH0323543B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、一般式（） 「式中、R¹は、水素原子、カルボキシル保護
基または塩形成陽イオンを、R²は、水素原子ま
たはアミノ保護基を、それぞれ示す。」 で表わされる（4S）−２−アゼチジノン類の新規
な製造法に関する。 近年、有用な生物活性を有するチエナマイシン
米主国特許第3950357号）が見出されたのを契機
として種々の有用なカルバペネム類の純合成的に
得ようとする研究が活発に行われている。 本発明者らは、カルバペネム類を純合成法を鋭
意研究した結果、前述の一般式（）の（4S）−
２−アゼチジノン類が、その合成中間体として有
用であること、さらにはＬ−アスパラギン酸から
化学的に誘導することによつて、一般式（）の
（4S）−２−アゼチジノン類を光学活性体として
得ることができる方法を見出し、本発明を完成し
た。 本発明は、種々の有用なカルバペネム類の中間
体として極めて有用な一般式（）の光学活性な
化合物の新規な製造法を提供するものである。 以下、本発明を詳細に説明する。 一般式（）において、R¹のカルボキシル保
護基としては、β−ラクタム化合物類のカルボキ
シル基の保護基として通常知られているすべての
基を含み、たとえば、医薬的に使用しうる保護基
または中間体として使用しうる保護基が挙げられ
る。 具体的には、たとえば、次のものが挙げられ
る。 (イ) アルキル基；特にメチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、sec.−ブチ
ル、イソブチル、tert.−ブチルおよびペンチル
などの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基。 (ロ) 置換アルキル基；特にトリクロロメチル、ト
リブロモメチル、２，２，２−トリクロロエチ
ル、トリフルオロエチル、２−ブロモプロピ
ル、ヨードメチル、ジヨードメチル、２−クロ
ロエチルおよび２−ブロモエチルなどの置換ア
ルキル基並びに次の置換基から選択された一つ
または二つ以上の置換基で置換されたアルキル
基。 アセチル、プロピオニル、ピバロイル、ベン
ゾイル、ｐ−ブロモベンゾイル、ｐ−tert.−ブ
チルベンゾイル、アセトキシアセチルおよびピ
バロイルオキシアセチルなどのアシル基、１，
４−ヘキサジエン−１−イル−メチルのような
シクロアルカジエニルメチル基、メトキシ、エ
トキシ、イソプロポキシおよびデシルオキシな
どのアルコキシ基、シクロヘキシルオキシのよ
うなシクロアルキルオキシ基、アセトキシ、ジ
メチルアミノアセトキシ、プロピオニルオキシ
およびピバロイルオキシなどのアシルオキシ
基、メチルアミノ、ジメチルアミノおよびジエ
チルアミノなどのモノ−およびジ−アルキルア
ミノ基、アセトアミド、フタルイミドおよびサ
クシンイミドなどのアシルアミノ並びにイミノ
基、２−チエニル、２−フリル、３−tert.−ブ
チル−５−イソチアゾリル、６−ピバロイルオ
キシ−３−ピリダジニルおよび５−フエニルチ
オ−１−テトラゾリルなどの複素環式基、フエ
ノキシ、４−メトキシフエノキシ、４−クロロ
フエノキシ、４−ニトロフエノキシ、４−ベン
ジルオキシフエノキシ、４−メチルフエノキ
シ、２−メチルフエノキシ、２−メトキシフエ
ノキシおよび４−アミノフエノキシなどのアリ
ールオキシ基、フエニルチオ、４−メトキシフ
エニルチオおよび４−クロロフエニルチオなど
のアリールチオ基、ベンジルオキシ、４−ニト
ロベンジルオキシおよび４−クロロベンジルオ
キシなどのアルアルコキシ基、メチルチオ、エ
チルチオ、イソプロピルチオおよびデシルチオ
などのアルキルチオ基、シクロヘキシルチオの
ようなシクロアルキルチオ基、テトラヒドロフ
ラン−２−イル、テトラヒドロピラン−２−イ
ル、フラン−２−イルおよび４−ピリジルなど
の複素環式基、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、tert.−ブチルオキシカルボニルお
よびtert.−アミルオキシカルボニルなどのアル
コキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニ
ル、ジフエニルメトキシカルボニルおよびトリ
フエニルメトキシカルボニルなどのアルアルキ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシフエニ
ル、２，４，６−トリメチルフエニルおよび９
−アントリルなどのアリール基、アセチルチオ
およびピバロイルチオなどのアシルチオ基、シ
アノ基、アリールスルホニルメチル基、２−ジ
メチルスルホニウムメチル基、フタリジル基並
びにカルボキシル基など。 (ハ) アルケニル基；アリル、２−プロペニル、２
−メチル−２−プロペニル、３−フエニル−２
−プロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、
４−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、３
−ペンテニル、４−ペンテニルおよびメタリル
などのアルケニル基。 (ニ) アルキニル基；エチニル、プロパルギルおよ
び３−ブチン−１−イルなどのアルキニル基。 (ホ) アルアルキル基；ベンジル、ベンズヒドリ
ル、ｐ−クロロベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ル、３，５−ジニトロベンジル、ｐ−メトキシ
ベンジル、ｍ−ベンゾイルベンジル、ｐ−tert.
−ブチルベンジル、ｍ−フエノキシベンジル、
ｐ−アセトキシベンジル、ｐ−ピバロイルベン
ジル、ｐ−ベンゾイルベンジル、３，５−ジク
ロロ−４−ヒドロキシベンジル、ｐ−メトキシ
カルボニルベンジル、ｐ−カルボキシベンジル
（これは遊離酸、エステルまたはナトリウム塩
である）、２，４，６−トリメチルベンジル、
ｐ−ピバロイルオキシベンジル、ｐ−tert.−ブ
トキシカルボニルベンジル、ｐ−メトキシベン
ズヒドリル、２，２−ジメチル−５−クマラン
メチル、５−インダニルメチル、ｐ−トリメチ
ルシリルベンジル、イソプロポキシベンジル、
３，５−ビス−tert.−ブトキシ−４−ヒドロキ
シベンジル、フエニルエチル、２−（ｐ−メチ
ルフエニル）エチルおよびトリチルなどのアル
アルキル基。 (ヘ) アリール基；フエニル、４−メチルフエニ
ル、４−ヒドロキシフエニル、４−tert.−ブチ
ルフエニル、４−ニトロフエニル、３，５−ジ
ニトロフエニルおよびカルボキシフエニル（こ
れは遊離酸またはナトリウム塩である）などの
アリール基。 (ト) その他；フタリジル基、インダニル基、クロ
ノラクトン−３−イル基、フリル基、キノリル
基およびＮ−メチルピリジル基。 また、R²のアミノ保護基としては、β−ラク
タム化合物類のアミノ基の保護基として通常知ら
れているすべての基を含む。 具体的には、たとえば、次のものが挙げられ
る。 (イ) アルアルキル基；ベンジル、ベンズヒドリ
ル、ｐ−クロロベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ル、３，５−ジニトロベンジル、ｐ−メトキシ
ベンジル、ｍ−ベンゾイルベンジル、ｐ−tert.
−ブチルベンジル、ｍ−フエノキシベンジル、
ｐ−アセトキシベンジル、ｐ−ピバロイルベン
ジル、ｐ−ベンゾイルベンジル、３，５−ジク
ロロ−４−ヒドロキシベンジル、ｐ−メトキシ
カルボニルベンジル、ｐ−カルボキシベンジル
（これは遊離酸、エステルまたはナトリウム塩
である）、２，４−６−トリメチルベンジル、
ｐ−ピバロイルオキシベンジル、ｐ−tert.−ブ
トキシカルボニルベンジル、ｐ−メトキシベン
ズヒドリル、２，２−ジメチル−５−クマラン
メチル、５−インダニルメチル、ｐ−トリメチ
ルシリルベンジル、イソプロポキシベンジル、
３，５−ビス−tert.−ブトキシ−４−ヒドロキ
シベンジル、フエニルエチル、２−（ｐ−メチ
ルフエニル）エチルおよびトリチルなどのアル
アルキル基。 (ロ) その他；２−ニトロフエニルチオ基、２，４
−ジニトロフエニルチオ基、テトラヒドロフリ
ル基およびテトラヒドロピラニル基。 さらに、R¹の塩形成陽イオンとしては、β−
ラクタム化合物類のカルボキシル基と塩を形成す
るものとして通常知られている塩形成陽イオンを
含む。 具体的には、たとえば、次のものが挙げられ
る。 ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金
属；カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカ
リ土類金属；並びにトリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メ
チルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチ
ルアミン、シクロヘキシルアミン、プロカイン、
ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フエネチ
ルアミン、１−エフエナミンおよびＮ，Ｎ−ジベ
ンジルエチレンジアミンなどの窒素原子を含有す
る有機塩基などが挙げられる。 つぎに本発明の一般式（）の化合物の製造法
を、以下に示す。 「上記式中、R¹およびR²は、それぞれ、前述
したと同じ意味を有し、R³およびR⁴は、それぞ
れ、カルボキシル保護基を、R⁵は、アミノ保護
基を示す。」 次いで、上で述べた各方法を、各製造方法につ
いて説明する。 (1) 一般式（）の化合物は、Ｌ−アスパラギン
酸から、たとえば、日本化学雑誌82，601
（1961）の方法に準じて得ることができる。 R⁴のカルボキシル保護基としては、たとえ
ば、R¹で挙げたと同様のカルボキシル保護基
が挙げられる。 (2) 一般式（）または（）の化合物は、Ｌ−
アスパラギン酸のアミノ基または一般式（）
の化合物のアミノ基を保護する通常の反応によ
つて、それぞれ、得ることができる。 R⁵のアミノ保護基としては、たとえば、R²
で挙げたと同様のアミノ保護基が挙げられる。 (3) 一般式（）の化合物は、一般式（）の化
合物を、たとえば、通常のエステル化反応に付
すことにより容易に得ることができる。 (4) 一般式（）の化合物は、一般式（）の化
合物を、たとえば、通常の加水分解反応に付す
ことにより容易に得ることができる。 (5) 一般式（）の化合物は、一般式（）の化
合物を、塩基の存在下、たとえば、イソブチル
クロロホルメートのようなハロ炭酸エステルと
反応させて、混合酸無水物を生成させた後、こ
れをジアゾメタンと反応させることにより得る
ことができる。この反応は、まず、ベンゼン、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテルお
よびテトラヒドロフランなどの溶媒中で、冷却
乃至常温で数十分から数時間行うことによつて
混合酸無水物を生成させ、これをジアゾメタン
と冷却下に反応させることによつて実施するこ
とができる。 また、別法として一般式（）の化合物を、
常法により酸ハライド誘導体に誘導した後、こ
れをジアゾメタンと反応させることにより一般
式（）で表わされる化合物を得ることもでき
る。 (6) 一般式（）または（）の化合物は、一般
式（）の化合物を、トリエチルアミンまたは
ピリジンなどの塩基の存在下または不存在下、
酸化銀、硝酸銀または安息香酸銀などの触媒を
作用させることによつて得ることができる。こ
の反応は、通常、水またはアルコール類の存在
下、必要に応じて、ジオキサンのような反応に
関与しない溶媒中、常温乃至溶媒還流下で数十
分から数時間実施すればよい。 また、別法として一般式（）の化合物は、
一般式（）の化合物を、カルボキシル基を保
護する通常の反応、たとえば、エステル化また
はアルキル化反応に付すことにより得ることも
できる。 (7) 一般式（）の化合物は、一般式（）の化
合物を、通常のカルボキシル保護基およびアミ
ノ保護基を脱離させる反応、たとえば、パラジ
ウム−炭素などの触媒の存在下、常温、常圧
で、水素による接触還元または加水分解などに
付すことにより得ることができる。 (8) 一般式（）の化合物は、一般式（）の化
合物のアミノ保護基を、通常の方法で脱離する
ことによつて得ることができる。この反応は、
通常、酢酸エチル、水およびテトラヒドロフラ
ンなどの溶媒中、ハロゲン化水素などを用いて
冷却乃至常温下で数時間実施すればよい。 (9) R²がアミノ保護基である一般式（XI）の化
合物は、一般式（）の化合物を、アルデヒド
類、たとえば、ベンズアルデヒドなどと反応さ
せ、得られる化合物を還元処理することによつ
て得ることができる。 この反応において、還元処理として、たとえ
ば、パラジウム−炭素などの触媒の存在下、常
温、常圧で、水素による接触還元をすれば、一
般式（）で表わされる化合物とアルデヒド類
とが反応して得られたシツフの塩基が還元さ
れ、またR⁴の保護基が脱離される。また還元
処理としてシツフの塩基を、水素化ホウ素ナト
リウムで還元した後、パラジウム−炭素などの
触媒の存在下、常温、常圧で、水素による接触
還元をしても、同様に一般式（XI）の化合物を
得ることができる。 あるいは、一般式（）の化合物のアミノ基
を、R²で示される基で通常の方法により保護
した後、得られる化合物を加水分解、還元ある
いは緩和な条件下における処理などの方法によ
りカルボキシル保護基の選択的脱離を行うこと
によつても、一般式（XI）の化合物を得ること
ができる。 また、R²が水素である一般式（XI）の化合
物は、単に一般式（）の化合物のカルボキシ
ル保護基の選択的脱離を行うことにより得るこ
とができる。 (10) 一般式（XII）の化合物は、一般式（）の化
合物を、先の(7)および／あるいは(8)で述べたと
同様の方法に適宜付し、カルボキシル保護基
（R³）およびアミノ保護基（R⁵）を選択的に脱
離することにより得ることができる。 (11) 一般式（）の化合物は、このようにして得
られた出発原料化合物から、つぎのようにして
得ることができる。 (i) 一般式（）、（）、（）または
（）の化合物は、一般式（）、（）、
（XII）または（XI）の化合物を、それぞれ、
閉環反応に付すことにより得ることができ
る。 この反応は、溶媒の存在下または不存在
下、たとえば、塩化チオニル、三塩化リン、
または五塩化リンなどの活性ハロゲン化合物
を作用させた後、トリエチルアミン、ピリジ
ンまたはＮ，Ｎ−ジメチルアニリンなどの塩
基を作用させることによつて実施することが
できる。使用される溶媒としては、反応に関
与しない溶媒であれば、特に限定されない
が、たとえば、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、ベ
ンゼンおよびトルエンなどが挙げられ、これ
らの溶媒を一種または二種以上混合して使用
してもよい。 この反応は、通常、冷却乃至加温下、１〜
10時間実施すればよい。 (ii) 一般式（）の化合物は、一般式（
）の化合物を、たとえば、通常の加水分解
反応に付すことにより得ることができる。 (iii) 一般式（）の化合物は、一般式（
）の化合物の保護基を脱離させた後、得ら
れる化合物のカルボキシル基を保護する反応
に付すことによつて得ることができる。 保護基の脱離反応は、アゼチジノン環を開
裂させることなく実施できる条件を適宜選択
すればよい。具体的には、液体アンモニア中
金属ナトリウムなどを作用させることにより
容易に実施することができる。ついでカルボ
キシル基を保護する反応は、得られた生成物
を、冷却乃至加温下で、たとえば、通常のエ
ステル化反応に付すことにより実施すること
ができる。 (iv) 式（）の化合物は、一般式（）の
化合物を、通常の保護基の脱離反応、たとえ
ば、通常の加水分解反応、具体的には、アル
カリ性加水分解、還元あるいは緩和な条件下
における脱離反応に付すことにより実施する
ことができる。この還元反応あるいは緩和な
条件下における脱離反応は、たとえば、エタ
ノール、イソプロパノール、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、アニソール、酢酸エチル
またはトリフルオロ酢酸などの溶媒中、常
温、常圧で、たとえば、パラジウム−炭素の
ような触媒の存在下、水素を数時間作用させ
るかあるいはトリフルオロ酢酸などで処理す
ることにより実施することができる。得られ
た式（）の化合物は、減圧濃縮、溶媒処
理、晶析、再結晶およびクロマトグラフイー
などにより単離精製することができる。 また、式（）の化合物は、一般式（
）の化合物を、(iii)で記載したようなR²の
アミノ保護基の脱離反応のみに付すことによ
つて、直接得ることもできる。 (v) さらに、一般式（）化合物は、一般式
（）の化合物のカルボキシル基を、通常
の方法により通常の塩とするか、あるいは通
常のカルボキシル基を保護する反応に付すこ
とによつて得ることができる。また、式（
）の化合物のカルボキシル基および／また
はアミノ基を、通常の方法により通常の保護
基で保護するか、あるいはカルボキシル基を
塩に変換することによつても、一般式（）
の化合物を得ることができる。 さらにまた、Ｌ−アスパラギン酸を出発原
料として、それぞれ対応する光学活性な化合
物を得ることもできる。 以上の方法によつて得られた一般式（）の化
合物は、光学活性なカルバペネムおよびアゼチジ
ノン誘導体へ有利に誘導できる合成中間体として
有用である。 そして、光学活性な（）式の化合物は、自体
公知の反応、たとえば、縮合反応、環化反応、置
換反応などを適宜組合せることによつて、チエナ
マイシンタイプの化合物へ誘導することができ
る。 したがつて、一般式（）の化合物は、医薬の
合成中間体として極めて重要な化合物である。 つぎに、本発明を実施例を挙げて説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例 １ (1) Ｌ−アスパラギン酸100ｇに80％硫酸および
ベンジルアルコール250ｇを順次加え、70℃の
湯浴上で攪拌する。同温度で２時間30分攪拌
後、減圧下に濃縮する。得られた残留物を炭酸
水素ナトリウム140ｇを含む冷水500ml中に投入
する。ジエチルエーテル300mlを加えよく攪拌
し、析出する結晶を取する。得られた結晶を
冷水150mlで洗浄し、水から再結晶すれば、融
点222℃を示すＬ−アスパラギン酸−β−ベン
ジルエステル86ｇ（収率52％）を得る。 (2) Ｌ−アスパラギン酸−β−ベンジルエステル
106ｇをアセトン300mlおよび水300mlの混合溶
液に加え、さらにトリエチルアミン99mlを加え
て溶解させる。得られた溶液に２−tert.−ブト
キシカルボニルオキシイミノ−２−フエニルア
セトニトリル117ｇを加え、室温下２時間攪拌
する。アセトンを減圧下に留去した溶液に水
200mlを加え、酢酸エチル150mlずつで３回洗浄
する。洗浄後、クエン酸にて酸性とした後、酢
酸エチル500mlを加え抽出後、有機層を分取す
る。分取した有機層を飽和食塩水溶液100mlで
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた
後、溶媒を減圧下に留去する。得られた残留物
に酢酸エチル−石油エーテル（１：５）400ml
を加えて結晶を取すれば、融点102〜103℃を
示すＮ−tert.−ブトキシカルボニル−Ｌ−アス
パラギン酸−β−ベンジルエステル122ｇ（収
率80％）を得る。 (3) Ｎ−tert.−ブトキシカルボニル−Ｌ−アスパ
ラギン酸−β−ベンジルエステル10.3ｇを無水
ベンゼン120ml中に加え、さらにテトラメチル
エチレンジアミン2.4mlを加えて溶解させる。
得られた溶液に５〜７℃でイソブチルクロロホ
ルメート4.6mlを５分間を要して滴下する。同
温度で40分間撹拌した後、これを予め調製して
おいたジアゾメタンのジエチルエーテル溶液
（予めニトロメチル尿素22ｇを使用して調製し
た）に−10℃で加える。０〜５℃で１時間、さ
らに攪拌下30分間を要して室温まで徐々に昇温
させる。その後過剰のジアゾメタンを減圧下に
留去し、不溶物を去する。液の溶媒を減圧
下に留去すれば、ベンジル＝（3S）−５−ジア
ゾ−３−（tert.−ブトキシカルボニル）アミノ
−４−オキソペンタノエート11.9ｇを得る。こ
れを無水メタノール45mlに溶解させ、これに安
息香酸銀のトリエチルアミン溶液（予め安息香
酸銀0.5ｇをトリエチルアミン4.5mlに溶解させ
て調製した）0.45mlを加え撹拌する。さらに１
時間撹拌した後、活性炭0.5ｇを加え10分間還
流させた後、不溶物を去する。液の溶媒を
減圧下に留去し、得られた残留物をジエチルエ
ーテル120mlに溶解させる。ジエチルエーテル
溶液を水20ml、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
20mlおよび飽和食塩水20mlで順次洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を減圧
下に留去する。得られた残留物をカラムクロマ
トグラフイー（シリカゲルＣ−200；溶出液；
ベンゼン：酢酸エチル＝35：１）で精製すれ
ば、油状のベンジル＝（3R）−３−（tert.−ブト
キシカルボニル）アミノ−４−メトキシカルボ
ニルブタノエート7.8ｇ（収率69％）を得る。 IR（ニート）cm^-1；νNH3360， νC＝Ｏ 1670〜1740 NMR（CDCI₃）δ； 1.43（ｓ，9H，CH₃×３）， 2.55〜2.85（ｍ，4H，CH₂×２）， 3.65（ｓ，3H，OCH₃）， 4.33（ｍ，1H，CH）， 5.13（ｓ，2H，

【式】）， 5.35（ｄ，1H，NH）， 7.35（ｓ，5H，C₆H₅） 元素分析値（C₁₈H₂₅N₁O₆） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 61.52 7.17 3.99 実測値(%) 61.22 7.18 3.82 ［α］²⁰ _D＝＋3.4゜（Ｃ＝4.05、ベンゼン） (4) ベンジル＝（3R）−３−（tert.−ブトキシカル
ボニル）アミノ−４−メトキシカルボニルブタ
ノエート35ｇの氷冷下2.6N塩化水素−酢酸エ
チル溶液115mlを加える。その後室温で1.5時間
撹拌する。得られた溶液に水100ml加え、水層
を分取する。分取した水層を酢酸エチルで洗浄
する。得られた水層に酢酸エチル100mlを加え、
これに炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性
とする。酢酸エチル層を分取し、これを飽和食
塩水20mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去すれば、油状のベンジル＝
（3R）−３−アミノ−４−メトキシカルボニル
ブタノエート22.5ｇ（収率90％）を得る。 IR（ニート）cm^-1；νNH3300〜3400， νC＝Ｏ 1720 NMR（CDCl₃）δ；1.85（bs，2H，NH₂）， 2.30〜2.65（ｍ，4H，CH₂×２）， 3.65（ｍ，1H，CH）， 3.67（ｓ，3H，OCH₃）， 5.15（ｓ，2H，

【式】）， 7.36（ｓ，5H，C₆H₅） ［α］²⁰ _D＝−2.6゜（Ｃ＝2.22、ベンゼン） (5) (イ) ベンジル＝（3R）−３−アミノ−４−メ
トキシカルボニルブタノエート22.5ｇとベン
ズアルデヒド10ｇをベンゼン200ml中に加え、
得られた溶液にモレキユラーシーブス4A22
ｇを加えて室温下に２時間撹拌する。モレキ
ユラーシーブスを去し、液の溶媒を減圧
下に留去する。得られた残留物をメタノール
20mlに溶解させ、５％パラジウム−炭素７ｇ
を加え、室温下に水素存在下接触還元する。
不溶物を去した後、溶媒を減圧下に留去す
る。得られた残留物を酢酸エチルで処理すれ
ば、無定形固体の（3S）−３−ベンジルアミ
ノ−４−メトキシカルボニルブタン酸17.8ｇ
（収率79％）を得る。これをメタノール−ジ
エチルエーテルより再結晶すれば、融点114
〜115.5℃を示すプリズム晶を得る。 IR.（KBr）cm^-1；1740，1580 NMR（CDCl₃）δ；2.35〜3.05（ｍ，4H，CH₂
×２）， 3.40〜3.95（ｍ，1H，CH）， 3.72（ｓ，3H，OCH₃）， 4.11（bs，2H，

【式】）， 7.45（ｓ，5H，C₆H₅） 元素分折値（C₁₃H₁₇N₁O₄） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 62.14 6.82 5.57 実測値(%) 61.85 6.85 5.62 ［α］²⁰ _D＝−16.1゜（Ｃ＝0.982、メタノール） (ロ) ベンジル＝（3R）−３−アミノ−４−メト
キシカルボニルブタノエート1.7ｇおよびベ
ンズアルデヒド0.72ｇをベンゼン17mlに溶解
させこれにモレキユラーシーブス4A3ｇを加
え、室温で４時間撹拌した後、40℃前後まで
加温し、モレキユラーシーブスを去後、溶
媒を減圧下に留去すれば、黄色油状のベンジ
ル＝（3R）−３−ベンジリデンアミノ−４−
メトキシカルボニルブタノエートを得る。 IR（ニート）cm^-1；νC＝01725 νC＝N1640 次いで、これをエタノール20mlに溶解させ、氷
冷下、水素化ホウ素ナトリウム0.75ｇを、添加
し、２時間攪拌後、氷浴中で溶媒を減圧下に留去
する。得られた残留物にジエチルエーテル30mlお
よび飽和食塩水10mlを加え、十分振盪した後、有
機層を分取する。分取した有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去する。得ら
れた残留物をカラムクロマトグラフイー（シリカ
ゲルＣ−200；溶出液；ベンゼン）で精製すれば、
ベンジル＝（3R）−３−ベンジルアミノ−４−メ
トキシカルボニルブタノエート0.93ｇ（収率40
％）を得る。 IR（ニート）cm^-1；νC＝Ｏ 1720 NMR（CDCl₃）δ； 2.47〜2.77（ｍ，4H，CH₂×２）， 3.25〜3.72（ｍ，1H，CH）， 3.64（ｓ，3H，OCH₃）， 3.77（bs，2H，

【式】）， 5.15（ｓ，2H，

【式】）， 7.36（ｓ，10H，C₆H₅×２） 更に、これを無水メタノール50mlに溶解させ、
これに５％パラジウム−炭素0.19ｇを添加した
後、撹拌しながら室温下にて30分間水素を吸収さ
せ、パラジウム−炭素を別する。これをメタノ
ール25mlで洗浄する。液と洗浄液を合わせて、
減圧下に、溶媒を留去すれば、油状物0.64ｇを得
る。これを酢酸エチルで処理すれば、（3S）−３
−ベンジルアミノ−４−メトキシカルボニルブタ
ン酸0.4ｇ（収率58％）を得る。 (6) （3S）−３−ベンジルアミノ−４−メトキシ
カルボニルブタン酸3.2ｇを氷冷下塩化チオニ
ル15ml中に加える。室温下1.5時間攪拌後、過
剰の塩化チオニルを減圧下に留去する。得られ
た残留物に無水ベンゼンを加え、減圧留去する
ことを３回繰り返す。得られた残留物を無水ベ
ンゼン200mlに溶解させ、これをトリエチルア
ミン3.6mlを含む無水ベンゼン750ml中へ５時間
を要して滴下する。さらに３時間攪拌後、
0.5N希塩酸100mlで２回、水100ml、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液80mlおよび飽和食塩水80
mlで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた後、溶媒を減圧下に留去する。得られた
残留物をカラムクロマトグラフイー（シリカゲ
ルＣ−200；溶出液；ベンゼン：酢酸エチル＝
５：１）にて精製すれば、結晶の（4S）−１−
ベンジル−４−メトキシカルボニルメチル−２
−アゼチジノン1.96ｇ（収率66％）を得る。こ
れをジエチルエーテル−ｎ−ヘキサンより再結
晶すれば、融点43.5〜44.5℃を示す無色プリズ
ム晶を得る。 IR（CHCl₃）cm^-1；νC＝０ 1730〜1755 NMR（CDCl₃）δ；2.45〜2.87（ｍ，3H，C₃−
H〓，CH₂COOCH₃）， 3.16（dd，1H，Ｊ＝５Hz，15Hz，C₃−H〓）， 3.59（ｓ，3H，OCH₃）， 3.98（ｍ，1H，C₄−Ｈ）， 4.35（ABq，2H，

【式】）， 7.25（ｓ，5H，C₆H₅） 元素分析値（C₁₃H₁₅N₁O₃） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 66.94 6.48 6.00 実測値(%) 66.74 6.51 5.99 ［α］²⁰ _D＝＋23.8゜（ｃ＝1.01、ベンゼン） 実施例 ２ （4S）−１−ベンジル−４−メトキシカルボニ
ルメチル−２−アゼチジノン1.6ｇをメタノール
16mlに溶解させ、氷冷下1N水酸化ナトリウム水
溶液7.3mlを加え、１時間反応させた後、メタノ
ールを減圧下に留去する。得られた水溶液を少量
の酢酸エチルで洗浄し、1N塩酸7.6mlを加えて酸
性とし、酢酸エチル20mlで抽出し、酢酸エチル層
を分取する。分取した酢酸エチル層を飽和食塩水
５mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物に
ジエチルエーテルを加えて取すれば、淡黄色の
（4S）−１−ベンジル−４−カルボキシメチル−
２−アゼチジノン1.3ｇ（収率86％）を得る。こ
れをベンゼンより再結晶すれば、融点109〜110℃
を示す無色プリズム晶を得る。 IR（KBr）cm^-1；νC＝０ 1730，1690， νC＝０ 1745，1720（シヨルダー） NMR（CDCl₃）δ； 2.50〜2.75（ｍ，2H，−CH₂ CO₂H）， 2.80〜3.45（ｍ，2H，C₃−H〓，H〓）， 3.97（ｍ，1H，C₄−Ｈ）， 4.47（ABq，2H，

【式】）， 7.39（ｓ，5H，C₆H₅） 元素分析値（C₁₂H₁₃N₁O₃） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 65.74 5.98 6.38 実測値(%) 65.74 6.02 6.24 ［α］²⁰ _D＝＋12.2゜（ｃ＝0.866、エタノール） 実施例 ３ 液体アンモニア150ml中に金属ナトリウム0.15
ｇを小片にして分割添加し、20分間撹拌する。液
体アンモニア環流温度で、（4S）−１−ベンジル
−４−カルボキシメチル−２−アゼチジノン0.31
ｇを５分間で分割添加し、さらに、５分間反応さ
せた後、減圧下にアンモニアを留去する。得られ
た灰白色固体に−20℃に冷却した1N塩酸7.8mlを
含有するエタノール30mlを加え、徐々に昇温させ
ながら溶解させる。これにジフエニルジアゾメタ
ン３ｇを加え、室温下に60分間反応させる。反応
終了後、エタノールを減圧下に留去した後、得ら
れた残留物に酢酸エチル30mlを加え有機層を分取
する。分取した有機層を水10ml、飽和食塩水５ml
で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せ、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
カラムクロマトグラフイー（シリカゲルＣ−
200；溶出液；ベンゼン：酢酸エチル＝10：１）
で精製すれば、淡黄色結晶の（4S）−４−ジフエ
ニルメトキシカルボニルメチル−２−アゼチジノ
ン0.35ｇ（収率85％）を得る。これをジエチルエ
ーテルより再結晶すれば、融点65.5〜66.5℃を示
す無色針状晶を得る。 IR（CHCl₃）cm^-1；Ｃ＝０ 1760，1735（シヨル
ダー） νN＝Ｈ 3310 NMR（CDCl₃）δ； 2.41〜3.37（ｍ，4H，CH₂×２）， 3.89（ｍ，1H，CH）， 6.40（ｍ，1H，NH）， 6.96（ｓ，1H，

【式】）， 7.40（ｓ，10H，C₆H₅×２） 元素分析値（C₁₈H₁₇N₁O₃） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 73.20 5.80 4.74 実測値(%) 73.04 5.81 4.87 ［α］²⁰ _D＝＋46.6゜（ｃ＝0.956，ベンゼン） 実施例 ４ (イ) （4S）−４−ジフエニルメトキシカルボニル
メチル−２−アゼチジノン0.3ｇをエタノール
10mlに溶解させ、５％パラジウム−炭素0.09ｇ
を加え、水素気流中1.5時間振盪させる。触媒
を去後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残
留物をジエチルエーテル処理すれば、白色粉末
状の（4S）−４−カルボキシメチル−２−アゼ
チジノン0.115ｇ（収率88％）を得る。これを
テトラヒドロフランより再結晶すれば、融点
169〜171℃（分解）を示す無色プリズム晶を得
る。 IR（KBr）cm^-1；νNH 3250， νC＝Ｏ 1690〜1740 NMR（D₂O）δ；2.52〜2.92（ｍ，3H，CH₂×
１，C₃−H〓）， 3.16（dd，1H，C₃−H〓）， 3.95（ｍ，1H，C₄−CH） 元素分析値（C₅H₇N₁O₃） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 46.51 5.46 10.85 実測値(%) 46.77 5.49 10.86 ［α］²⁰ _D＝＋12.3゜（ｃ＝0.504、エタノール） 又、エタノールの代わりにテトラヒドロフラン
を使用し、50〜90℃で３時間上記したような水素
添加して、処理すれば、（4S）−４−カルボキシ
メチル−２−アゼチジノンを得る。 (ロ) （4S）−４−ジフエニルメトキシカルボニル
メチル−２−アゼチジノン0.052ｇに氷冷下、
アニソール0.5mlおよびトリフルオロ酢酸0.5ml
を加え、20分間撹拌した後、溶媒を減圧下に留
去する。次いで、トルエン５mlを加え、これを
減圧留去する操作を２回行い、得られた残留物
にジエチルエーテル−酢酸エチル２：１）３ml
を加えて攪拌後、取すれば、（4S）−４−カ
ルボキシメチル−２−アゼチジノン0.014ｇ
（収率60％）を得る。 実施例 ５ (1) Ｌ−アスパラギン酸26.6ｇを水200mlに懸濁
させ、10〜15℃に保ちながら4N水酸化ナトリ
ウム水溶液を30分間を要して滴下し、得られた
混合物にＬ−アスパラギン酸を溶解させる。次
いで、ベンジルオキシカルボニルクロリド34.3
mlおよび4N−水酸化ナトリウム水溶液50mlを、
５〜７℃に保ちながら80分間を要して同時滴下
する。滴下終了後、徐々に室温まで昇温させな
がら、1.5時間攪拌する。反応終了後、未反応
のベンジルオキシカルボニルクロリドをジエチ
ルエーテル100mlで抽出して除き、得られた水
溶液に氷冷下濃塩酸33mlを滴下する。この際析
出する油状物を酢酸エチル150mlで抽出し、分
取する。分取した有機層を飽和食塩水で洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減
圧下に溶媒を留去し、得られた油状物をジエチ
ルエーテル−石油エーテル（１：２）で結晶化
させ取すれば、融点109.5〜111℃のＮ−ベン
ジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパラギン酸
34.4ｇを（収率64.4％）を得る。 (2) Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパ
ラギン酸26.7ｇ、ベンジルアルコール120mlお
よびｐ−トルエンスルホン酸・１水和物1.5ｇ
をトルエン15mlに溶解させ、１時間共沸脱水さ
せる。トルエンを減圧蒸留して除去し、過剰の
ベンジルアルコールを87〜89℃／６mmHgにて
留去する。得られた残留物に石油エーテルを加
えて洗浄し、デカントする。油層を酢酸エチル
200mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄し、飽和食塩水50mlで洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶媒を留
去し、石油エーテルで結晶化させ、結晶を取
するれば、Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ
−アスパラギン酸−α，β−ジ−ベンジルエス
テル38.1ｇを得る。 融点65〜65.5℃（ジエチルエーテル−石油エー
テルから再結晶） ［α］²⁵ _D＝−1.84゜（ｃ＝10.24、酢酸） (3) Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アスパ
ラギン酸−α，β−ジ−ベンジルエステル22.4
ｇをアセトン500mlおよび水125mlに溶解させ、
これに水酸化リチウム・１水和物2.4ｇを50ml
の水に溶解させた溶液を、室温下で３時間を要
して滴下する。滴下終了後、アセトンを留去
し、得られた残留物をジエチルエーテルで洗浄
し、水層に氷冷下、濃塩酸4.5mlを加え、撹拌
する。析出した結晶を取し、水および石油エ
ーテルで順次洗浄すれば、Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニル−Ｌ−アスパラギン酸−β−ベンジ
ルエステル12.3ｇ（収率69％）を得る。 融点 108〜109℃（ベンゼンより再結晶） ［α］²⁶ _D＝＋11.9゜（ｃ＝1.49、酢酸） (4) 窒素雰囲気下、Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル−Ｌ−アスパラギン酸−β−ベンジルエステ
ル1.43ｇをベンゼン15ml中に加え、ついでテト
ラメチルエチレンジアミン0.30mlを加えて溶解
させる。これに、ベンゼン２mlで希釈したイソ
ブチルクロロホルメート0.58mlを、内温５〜７
℃で２分間を要して滴下する。５〜７℃で20分
間撹拌した後、析出したテトラメチルエチレン
ジアミン・塩酸塩を、アルゴン雰囲気下にて
過する。液をジアゾメタンのジエチルエーテ
ル溶液（予めニトロソメチル尿素2.7ｇを使用
して調製した）30mlに５℃以下で滴下する。次
いで1.5時間撹拌した後、徐々に室温まで昇温
させ、過剰のジアゾメタンを除いた後、溶媒を
減圧下に留去すれば、淡黄色油状の粗ベンジル
＝（3S）−５−ジアゾ−３−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−４−オキソペンタノエート
1.76ｇを得る。 IR（ニート）cm^-1；νN₂2120， νC＝Ｏ 1690〜1740 (5) 窒素雰囲気下、粗ベンジル＝（3S）−５−ジ
アゾ−３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
４−オキソペンタノエート1.76ｇをメタノール
６mlに溶解させる。次いで、この溶液に、室温
で安息香酸銀0.5ｇを含むトリエチルアミン溶
液0.15mlを加える。［この時発泡と発熱（40℃
まで上昇）があり、析出する銀が暗褐色とな
る。］反応終了後、カーボン0.2ｇを加えて10分
間還流させ、脱色および過剰の安息香酸銀を失
活させる。セライト過し、得られた液の溶
媒を減圧下に留去する。得られた残留物を酢酸
エチル15mlに溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液５mlおよび飽和食塩水３mlで順次洗浄
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフイー（シリカゲルＣ−200；溶出液；
ベンゼン：酢酸エチル＝30：１）で精製すれ
ば、ベンジル＝（3S）−３−ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ−４−メトキシカルボニルブタ
ノエート0.905ｇ（収率58.7％）を得る。 融点48〜49℃（ジエチルエーテル−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶） 元素分析値（C₂₁H₂₃N₁O₃） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 65.44 6.02 3.63 実測値(%) 65.25 5.98 3.75 ［α］²⁰ _D＝＋0.52゜（ｃ＝3.16、ベンゼン） (6) ベンジル＝（3S）−３−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−４−メトキシカルボニルブタノ
エート1.33ｇをメタノール67mlに溶解させ、５
％パラジウム−炭素0.4ｇを添加後、室温下、
撹拌しながら、1.5時間水素を吸収させる。触
媒を別し、これをメタノール10mlで洗浄す
る。液と洗浄液を合わせ、溶媒を減圧下に留
去し、得られた残留物をクロロホルムで洗浄し
た後、結晶を取すれば、（3S）−３−アミノ
−４−メトキシカルボニルブタン酸0.467ｇ
（収率84.1％）を得る。 融点 186〜187℃（分解）（メタノールから再
結晶） 元素分析値（C₆H₁₁N₁O₄） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 44.72 6.88 8.69 実測値(%) 44.74 6.89 8.42 ［α］²⁰ _D＝−13.3゜（ｃ＝1.77；メタノール：水
＝２：１） (7) ベンジル＝（3S）−３−アミノ−４−メトキ
シカルボニルブタン酸0.320ｇを、氷冷下、塩
化チオニル3.2mlに加え、室温で1.5時間攪拌す
る。塩化チオニルを減圧下に留去し、得られた
残留物に無水ベンゼン５mlを加え、減圧留去す
る操作を２回繰り返す。得られた残留物をジオ
キサン50mlに溶解させ、予め調製されたトリエ
チルアミン0.55mlを含有するジオキサン溶液50
ml中へ４時間を要して滴下する。この反応液を
一夜放置した後、不溶物を去し、液の溶媒
を減圧下に留去する。得られた残留物をカラム
クロマトグラフイー（シリカゲルＣ−200；溶
出液；クロロホルム：アセトン＝５：１）で、
原点部分を除去した後、分取薄層クロマトグラ
フイー（展開液；ベンゼン：酢酸エチル＝１：
３で３回展開させ、目的とするスポツトをかき
取り、酢酸エチル30mlで溶出させた後、溶出液
から溶媒を減圧下に留去する）で精製すれば、
（4S）−４−メトキシカルボニルメチル−２−
アゼチジノン0.010ｇを得る。 IR（CHCl₃）cm^-1；νNH3420， νC＝Ｏ 1760，1735 NMR（CDCl₃）δ； 2.31〜2.90（ｍ，3H，C₃−H〓，−
CH₂CO₂CH₃）， 3.21（ddd，1H，C₃−H〓）， 3.76（ｓ，3H，OCH₃）， 4.03（ｍ，1H，C₄−Ｈ）， 6.63（ｍ，1H，NH） ［α］²⁰ _D＝＋63゜（ｃ＝0.23、ベンゼン） 参考例 １ (1) （4S）−４−カルボキシメチル−２−アゼチ
ジノン0.065ｇを、アルゴン雰囲気下、無水テ
トラヒドロフラン５mlに溶解させ、トリエチル
アミンの無水テトラヒドロフラン溶液（トリエ
チルアミン0.375mlを５ml中に含む）１mlを加
え、−20℃でイソブチルクロロホルメートの無
水テトラヒドロフラン溶液（イソブチルクロロ
ホルメート0.375mlを５ml中に含む）１mlを加
え、同温度で１時間撹拌する。 一方、アルゴン雰囲気下２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン0.25mlを無水テトラヒド
ロフラン２mlに溶解させ、これに氷冷下ｎ−ブ
チルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（ｎ−ブチル
リチウム1.5mmolを含む）１mlを加え、同温度
で30分撹拌した後、−78℃に冷却し、酢酸ベジ
ル0.21mlを加えて15分間撹拌する。 このようにして調製した溶液中に、先に調製
した溶液を、−78℃で、アルゴン雰囲気下導入
する。さらに20分間撹拌した後、これに飽和塩
化アンモニウム水溶液４mlを加え、次いで酢酸
エチル20mlを加えた後、有機層を分取する。分
取した有機層を、希塩酸５ml、水３ml、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液３mlおよび飽和食塩水
３mlで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させる。溶媒を減圧下に留去すれば、油
状物0.24ｇを得る。この油状物を分取薄層クロ
マトグラフイー（展開液；クロロホルム：アセ
トン＝３：１）で精製すれば、無色油状の
（4R）−４−（３−ベンジルオキシカルボニル−
２−オキソプロピル）−２−アゼチジノン0.023
ｇ（収率18％）を得る。 IR（ニート）cm^-1；νNH3250〜3360， νC＝Ｏ 1700〜1770 NMR（CDCl₃）δ；2.32〜3.34（ｍ，4H，C₃−
H〓，H〓−CH₂ COCH₂−）， 3.48（ｓ，2H，

【式】） 3.91（ｍ，1H，C₄−Ｈ）， 5.15（ｓ，2H，

【式】）， 6.30（ｍ，1H，NH）， 7.33（ｓ，5H，C₆H₅） ［α］²⁰ _D＝＋43.2゜（ｃ＝0.370、ベンゼン） (2) （4R）−４−（３−ベンジルオキシカルボニ
ル−２−オキソプロピル）−２−アゼチジノン
0.83ｇおよびｐ−カルボキシベンゼンスルホニ
ルアジド0.076ｇを、アセトニトリル1.5mlに加
え、さらに、氷冷下トリエチルアミン0.13mlを
加え溶解させる。次いで室温まで昇温させ、同
温度で１時間攪拌後、不溶物を去し、液を
ジエチルエーテル10mlで希釈した後、水２ml、
飽和炭酸ナトリウム水溶液２mlおよび飽和食塩
水２mlで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。溶媒を減圧下に留去し、得られた
残留物をｎ−ヘキサンで処理すれば、無定形固
体0.079ｇ（収率87％）を得る。これをジエチ
ルエーテルより再結晶すれば、融点99〜102℃
を示す（4R）−４−［３−（ベンジルオキシカル
ボニル）−３−ジアゾ−２−オキソプロピル］−
２−アゼチジノンを得る。 IR（CH₂Cl₂）cm^-1；3405，2140，1765， 1715，1647 NMR（CDCl₃）δ； 2.50〜3.36（ｍ，3H，₃−H〓，H〓，

【式】）， 3.38（dd，1H，

【式】）， 3.99（ｍ，1H，C₄−Ｈ）， 5.26（ｓ，2H，

【式】）， 6.06（ｍ，1H，NH）， 7.37（ｓ，5H，C₆H₅） ［α］²⁰ _D＝＋68.8゜（ｃ＝0.276、ベンゼン） (3) （4R）−４−［３−（ベンジルオキシカルボニ
ル）−３−ジアゾ−２−オキソプロピル］−２−
アゼチジノン0.059ｇを無水ベンゼン20mlに溶
解させ、酢酸第二ロジウム0.3mgを加え、80〜
85℃で45分間攪拌する。次いでこの溶液の液量
を半量まで減圧濃縮し、得られた濃縮物にジエ
チルエーテル15mlを加え、不溶物を去する。
液の溶媒を減圧下に留去し、得られた残留物
をカラムクロマトグラフイー（シリカゲル；Ｃ
−200、溶出液；ベンゼン：酢酸エチル＝10：
１）で精製すれば、淡黄色結晶状のベンジル＝
（2R，5R）−３，７−ジオキソ−１−アザビシ
クロ［３，２，０］ヘプタン−２−カルボキシ
ラート0.044ｇ（収率83％）を得る。これをジ
エチルエーテルより再結晶すれば、融点68〜69
℃を示す無色針状晶を得る。 IR（CH₂Cl₂）cm^-1；νC＝Ｏ 1772，1745 （CCl₄）cm^-1；νC＝Ｏ 1785，1775，1745 NMR（CDCl₃）δ； 2.36（dd，1H，Ｊ＝8.0Hz，19.1Hz，C₄−Ｈ）， 2.74〜3.05（ｍ，2H，C₄−Hb，C₆−Ｈ）， 3.63（dd，1H，Ｊ＝5.0Hz，16.0Hz，C₆−
H〓）， 4.14（ｍ，1H，C₅−Ｈ）， 4.73（ｓ，1H，C₂−Ｈ）， 5.21（ｓ，2H，

【式】）， 7.36（ｓ，5H，C₆H₅） 元素分析値（C₁₄H₁₃N₁O₄） Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 64.86 5.05 5.40 実測値(%) 64.91 5.10 5.41 ［α］²⁰ _D＝＋32.3゜（ｃ＝0.67、ベンゼン）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 「式中、R¹は、水素原子、カルボキシル保護
   基または塩形成陽イオンを、R²は、水素原子ま
   たはアミノ保護基を、それぞれ示す。」 で表わされる光学活性な３−（置換）アミノ−４
   −（置換）カルボキシブタン酸を閉環反応させる
   ことを特徴とする、 一般式 「式中、R¹およびR²は、それぞれ、前述した
   と同じ意味を有する。」 で表わされる（4S）−２−アゼチジノン類の製造
   法。 ２ 閉環反応を活性ハロゲン化剤の存在下で行う
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   （4S）−２−アゼチジノン類の製造法。 ３ 活性ハロゲン化剤が、塩化チオニル、五塩化
   リンまたは三塩化リンである特許請求の範囲第２
   項記載の（4S）−２−アゼチジノン類の製造法。 ４ 一般式 「式中、R³はカルボキシル保護基を示し、R²
   は、前述したと同じ意味を有する。」 で表わされる光学活性な３−（置換）アミノ−４
   −置換カルボキシブタン酸を閉環反応させた後、
   カルボキシル保護基を脱離させるか、あるいは脱
   離させた後、塩に変換することを特徴とする、 一般式 「式中、R²は、前述したと同じ意味を有す
   る。」 で表わされる特許請求の範囲第１項〜第３項いず
   れか記載の（4S）−２−アゼチジノン類の製造
   法。