JPS641468B2 - - Google Patents

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JPS641468B2
JPS641468B2 JP54072813A JP7281379A JPS641468B2 JP S641468 B2 JPS641468 B2 JP S641468B2 JP 54072813 A JP54072813 A JP 54072813A JP 7281379 A JP7281379 A JP 7281379A JP S641468 B2 JPS641468 B2 JP S641468B2
Authority
JP
Japan
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formula
oxoazetidine
acid
reaction
examples
Prior art date
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Expired
Application number
JP54072813A
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English (en)
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JPS55164672A (en
Inventor
Taisuke Matsuo
Tooru Sugawara
Hironaga Masuya
Yasuhiko Kawano
Michihiko Ochiai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Takeda Chemical Industries Ltd filed Critical Takeda Chemical Industries Ltd
Priority to JP7281379A priority Critical patent/JPS55164672A/ja
Priority to AT80301900T priority patent/ATE10191T1/de
Priority to DE8080301900T priority patent/DE3069587D1/de
Priority to EP19800301900 priority patent/EP0021678B1/en
Priority to CA 353545 priority patent/CA1338538C/en
Publication of JPS55164672A publication Critical patent/JPS55164672A/ja
Publication of JPS641468B2 publication Critical patent/JPS641468B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、新規アゼチジン誘導体およびその製
造法に関する。 本発明者らは、新規かつ有用なアゼチジン誘導
体を得る目的で鋭意研究したところ、1位にスル
ホ基を有するアゼチジン誘導体が上記目的に合致
することを見い出し、さらに研究した結果本発明
を完成した。 本発明は、 (1) 一般式 〔式中、R1はR2またはアミノ基を、R2はア
シル化されまたは保護されているアミノ基を、
Xは水素またはメトキシを、それぞれ表わす。
但し、Xがメトキシを表わす時、R1はγ―D
―グルタミル―D又はL―アラニルを表わさな
い。〕で表わされる1―スルホ―2―オキソア
ゼチジン誘導体、 (2) 一般式 〔式中、R2はアシル化されまたは保護され
ているアミノ基を、Xは水素またはメトキシ
を、それぞれ表わす。但し、Xがメトキシを表
わす時、R2はγ―D―グルタミル―D又はL
―アラニルを表わさない。〕で表わされる2―
オキソアゼチジン誘導体をスルホン化反応に付
して一般式 [式中の記号は前記と同意義]で表わされる
化合物またはその塩を製造し、R2が保護され
ているアミノ基の場合には必要によりさらに保
護基を脱離して一般式 [式中の記号は前記と同意義]で表わされる
化合物またはその塩を製造することを特徴とす
る一般式 〔式中、R1はR2またはアミノ基を、R2及び
Xは前記と同意義を、それぞれ表わす但し、X
がメトキシを表わす時、R1はγ―D―グルタ
ミル―D又はL―アラニルを表わさない。〕で
表わされる1―スルホ―2―オキソアゼチジン
誘導体の製造法、および (3) 一般式 〔式中、Xは水素またはメトキシを表わす。〕
で表わされる3―アミノ―1―スルホ―2―オ
キソアゼチジン誘導体をアシル化反応に付すこ
とを特徴とする一般式 〔式中、R3はアシル化されているアミノ基
を、Xは前記と同意義を、それぞれ表わす。但
し、Xがメトキシを表わす時、R3はγ―D―
グルタミル―D又はL―アラニルを表わさな
い。〕で表わされる1―スルホ―2―オキソア
ゼチジン誘導体の製造法である。 前記一般式中、R1はR2またはアミノ基を表わ
し、R2およびR3で表わされるアシル化されてい
るアミノ基におけるアシル基としては、従来知ら
れているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換
しているアシル基、セフアロスポリン誘導体の7
位アミノ基に置換しているアシル基等が挙げられ
る。 上記のアシル基の例としては、たとえば式 R6―CO― 〔式中、R6は低級アルキルまたは置換基を有
していてもよい複素環基を表わす。〕で表わされ
る基、式 〔式中、R7は水素、アミノ酸残基、アミノ基
の保護基または式R8―(CH2)n1―CO―{式中、
R8は置換基を有していてもよい複素環基を、n1
は0〜2の整数を、それぞれ表わす。}で表わさ
れる基を、、R9は水素、低級アルキル、置換基を
有していてもよいフエニル、置換基を有していて
もよい複素環―カルボニルアミノまたは置換基を
有していてもよい複素環基を、それぞれ表わす。〕
で表わされる基、式 R10―R11―CO― 〔式中、R10は式
【式】{式中、R12 は置換基を有していてもよい複素環基または置換
基を有していてもよいフエニルを、R13は水素、
低級アルキルまたは式―R14―R15(式中、R14
低級アルキレンまたは低級アルケニレンを、R15
はカルボキシまたはそのエステルを、それぞれ表
わす。)で表わされる基を、それぞれ表わす。}で
表わされる基を、R11は単なる結合手または式
【式】(式中、R16は低級アルキ ル、置換基を有していてもよいフエニルまたは置
換基を有していてもよいチアゾリル基を表わす。)
で表わされる基を、それぞれ表わす。〕で表わさ
れる基、式 〔式中、R17はヒドロキシ、ヒドロキシスルホ
ニルオキシ、カルボキシ、置換基を有していても
よいウレイド、置換基を有していてもよいスルフ
アモイル、スルホまたは置換基を有していてもよ
いフエノキシカルボニル、ホルミルオキシを、
R18は水素、低級アルキル、低級アルコキシ、ハ
ロゲン、ニトロ、ヒドロキシを、それぞれ表わ
す。〕で表わされる基、式 R19―F20―CH2―CO― 〔式中、R19はシアノ、置換基を有していても
よいフエニル、置換基を有していてもよいフエノ
キシ、置換基を有していてもよい低級アルキル、
置換基を有していてもよいアルケニル、または置
換基を有していてもよい複素環基を、R20は単な
る結合手または―S―を、それぞれ表わす。〕で
表わされる基などが挙げられる。 上記式中、R6で表わされる低級アルキルとし
ては、炭素数1〜6のものが好ましい。R6で表
わされる置換基を有していてもよい複素環基にお
ける複素環基としては、1〜2個の窒素原子を含
む5〜6員複素環基であつて1個の酸素原子を含
みあるいは含まないものが挙げられる。この複素
環基の具体例としては、たとえばイソキサゾリ
ル、ピペラジニルなどが挙げられる。複素環基の
置換基としては、たとえば炭素数1〜3の低級ア
ルキル、炭素数1〜3の低級アルコキシ、ハロゲ
ン、ニトロ、アミノ、オキソ、チオオキソ、置換
基を有していてもよいフエニルなどが挙げられ
る。上記の置換基を有していてもよいフエニルに
おける置換基としては、たとえば炭素数1〜3の
低級アルキル、炭素数1〜3の低級アルコキシ、
ハロゲン、ニトロ、アミノなどが挙げられる。 上記式中、R7で表わされるアミノ酸残基とし
ては、たとえばグリシル、アラニル、バリル、ロ
イシル、イソロイシル、セリル、スレオニル、シ
ステイル、シスチル、メチオニル、α―またはβ
―アスパルチル、α―またはγ―グルタミル、リ
ジル、アルギニル、フエニルアラニル、フエニル
グリシル、チロシル、ヒスチジル、トリプトフイ
ル、プロリルなどが挙げられる。 R7で表わされるアミノ基の保護基としては、
後述のアミノ基の保護基と同様のものが挙げられ
る。 式R8―(CH2)n1―CO―で表わされる基のR8
で表わされる複素環基としては、たとえば1個の
窒素原子または酸素原子を含む5〜6員複素環
基、2〜3個の窒素原子を含む5〜6員複素環
基、1個の窒素原子および1個の硫黄原子を含む
5〜6員複素環基が挙げられ、これらの複素環基
は2個以下の窒素原子を含む6員環基、ベンゼン
環または1個の硫黄原子を含む5員環基と縮合し
ていてもよい。 上記のR8で表わされる複素環基の具体例とし
ては、たとえば、2―ピリジル、3―ピリジル、
4―ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダ
ジニル、ピペラジニル、イミダゾリニル、チアゾ
リル、イソチアゾリル、ピリド〔2,3―d〕ピ
リミジル、ベンゾピラニル、1,8―ナフチリジ
ル、1,5―ナフチリジル、1,6―ナフチリジ
ル、1,7―ナフチリジル、2,7―ナフチリジ
ル、2,6―ナフチリジル、キノリル、チエノ
〔2,3―b〕ピリジルなどが挙げられる。該R8
で表わされる複素環基の置換基としては、たとえ
ば炭素数1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の
低級アルコキシ、ヒドロキシ、オキソ、チオオキ
ソ、アルデヒド、トリフルオロメチル、アミノ、
ハロゲン、炭素数1〜3の低級アルキルスルホニ
ル、4―ホルミル―1―ピペラジニル、フルフリ
デンアミノなどが挙げられる。 R9で表わされる低級アルキルとしては、炭素
数1〜3のものが好ましい。R9で表わされる置
換基を有していてもよいフエニルにおける置換基
としては、たとえば炭素数1〜3の低級アルキ
ル、炭素数1〜3の低級アルコキシ、ハロゲン、
ヒドロキシ、スルホキシ、ベンジルオキシなどが
挙げられる。R9で表わされる置換基を有してい
てもよい複素環基―カルボニルアミノの複素環基
としては、窒素原子を二個有する6員複素環基が
挙げられる。該複素環基としては、たとえばピペ
ラジニルなどが挙げられる。その置換基として
は、たとえば炭素数1〜3の低級アルキル、炭素
数1〜3の低級アルコキシ、オキソ、チオオキ
ソ、アミノなどが挙げられる。R9で表わされる
置換基を有していてもよい複素環基の複素環基と
しては、たとえば1個の硫黄原子を含む5員複素
環基、1個の窒素原子および1個の硫黄原子を含
む5員複素環基が挙げられる。該複素環基の具体
例としては、たとえばチアゾリル、イソチアゾリ
ル、チエニルなどが挙げられる。その置換基とし
てはたとえば炭素数1〜3の低級アルキル、炭素
数1〜3の低級アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキ
シ、ニトロ、アミノなどが挙げられる。 上記式中、R10における式
【式】で 表わされる基のR12で表わされる置換基を有して
いてもよい複素環基における複素環基としては、
1個の窒素原子、硫黄原子または酸素原子を含む
5員複素環基であつて窒素原子を含みあるいは含
まないものが挙げられる。この複素環基の具体例
としては、たとえば2―チアゾリル、4―チアゾ
リル、5―チアゾリル、2―チエニル、3―チエ
ニル、2―フリル、3―フリルなどが挙げられ
る。この複素環基における置換基としては、たと
えば、炭素数1〜3の低級アルキル、炭素数1〜
3の低級アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、ア
ミノ、ハロゲンを置換基として有していてもよい
炭素数2〜4のアシルアミノなどが挙げられる。 R12で表わされる置換基を有していてもよいフ
エニルにおける置換基としては、たとえば炭素数
1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低級アル
コキシ、ハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒドロキシ
または置換ヒドロキシなどが挙げられる。 R13で表わされる低級アルキルとしては、炭素
数1〜3のものが好ましい。 R13における式―R14―R15で表わされる基の
R14で表わされる低級アルキレンとしては、炭素
数1〜3のものが好ましく、その例としてはたと
えばメチレン、エチレン、プロピレン、イソプロ
ピレンなどが、また、R14で表わされるアルケニ
レンとしては炭素数2〜3のものが好ましく、そ
の例としては、たとえば、ビニレン、プロペニレ
ンなどが挙げられる。R15で表わされるカルボキ
シのエステルとしては、たとえばメチルエステ
ル、エチルエステル、プロピルエステルなどが挙
げられる。 R11における式
【式】で表わさ れる基のR16で表わされる低級アルキルとして
は、炭素数1〜3のものが好ましい。R16で表わ
される置換基を有していてもよいフエニルにおけ
る置換基としては、たとえば炭素数1〜3の低級
アルキル、炭素数1〜3の低級アルコキシ、ハロ
ゲン、ニトロ、アミノなどが挙げられる、R16
表わされる置換基を有していてもよいチアゾリル
基の置換基としては、たとえば炭素数1〜3の低
級アルキル、炭素数1〜3の低級アルコキシ、ハ
ロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲンを置換基
として有していてもよい炭素数2〜4のアシルア
ミノなどが挙げられる。 上記式中、R17で表わされる置換基を有してい
てもよいウレイドにおける置換基としては、たと
えば、ナトリウム、カリウムなどと適宜塩を形成
したスルホ、カルバモイル、スルフアモイル、ア
ミジノ、炭素数1〜3のアルキルなどが挙げられ
る。R17で表わされる置換基を有していてもよい
スルフアモイルにおける置換基としては、例え
ば、炭素数1〜3の低級アルキル、アミジノなど
が挙げられる。 R17で表わされる置換基を有してもよいフエノ
キシカルボニルにおける置換基としては、炭素数
1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低級アル
コキシなどが挙げられる。 R18で表わされる低級アルキルおよび低級アル
コキシは、それぞれ、炭素数1〜3のものが好ま
しい。 上記式中、R19で表わされる置換基を有してい
てもよいフエニルの置換基としては、たとえば、
炭素数1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低
級アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、アミノ、ヒド
ロキシ、アミノメチルなどが挙げられる。R19
表わされる置換基を有していてもよいフエノキシ
の置換基としては、前記のR19で表わされるフエ
ニルの置換基と同様のものが挙げられる。R19
表わされる置換基を有していてもよい低級アルキ
ルとしては、炭素数1〜6のものが好ましく、そ
の置換基としてはたとえばハロゲン、ヒドロキ
シ、シアノ、トリフルオロメチルなどが挙げられ
る。R19で表わされる置換基を有してもよいアル
ケニルのアルケニルとしては、たとえば、ビニ
ル、プロペニルが、また、その置換基としては、
たとえば、カルボキシ、シアノなどが挙げられ
る。 R19で表わされる置換基を有していてもよい複
素環基における複素環基としては、1個の硫黄原
子または1〜4個の窒素原子を含む5〜6員複素
環基であつて1個の硫黄原子および1個の窒素原
子を含むものを含む複素環基が挙げられる。この
複素環基の具体例としては、たとえば2―チエニ
ル、3―チエニル、2―ピリジル、3―ピリジ
ル、4―ピリジル、2―チアゾリル、4―チアゾ
リル、5―チアゾリル、イソチアゾリル、1―テ
トラゾリル、5―テトラゾリルなどが挙げられ
る。 R19で表わされる置換基を有していてもよい複
素環基における置換基としては、たとえば炭素数
1〜3の低級アルキル、炭素数1〜3の低級アル
コキシ、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、アミ
ノ、カルボキシ、オキソなどが挙げられる。 上記式において、炭素数1〜6の低級アルキル
の具体例としては、たとえばメチル、トリフルオ
ロメチル、エチル、n―プロピル、イソプロピ
ル、n―ブチル、イソブチル、sec―ブチル、
tert―ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシ
ル、イソヘキシルなどが挙げられる。 上記式において、炭素数1〜3の低級アルキル
の例としては、たとえばメチル、トリフルオロメ
チル、エチル、n―プロピル、イソプロピルなど
が挙げられる。 上記式において、炭素数1〜3の低級アルコキ
シの例としては、メトキシ、エトキシ、n―プロ
ポキシ、イソプロポキシなどが挙げられる。 上記式において、ハロゲンの具体例としては、
塩素、臭素、ヨウ素、フツ素が挙げられる。 上記式において、炭素数1〜3の低級アルキル
スルホニルの例としては、たとえばメチルスルホ
ニル、エチルスルホニル、n―プロピルスルホニ
ル、イソプロピルスルホニルなどが挙げられる。 上記のアシル基において、式R6―CO―(式
中、R6は前記と同意義を有する。)で表わされる
アシル基の具体例としては、たとえば3―(2,
6―ジクロロフエニル)―5―メチルイソキサゾ
ール―4―イル―カルボニル、4―エチル―2,
3―ジオキソ―1―ピペラジノカルボニルなどが
挙げられる。 式
【式】(式中、R7およびR9 は前記と同意義を有する。)で表わされるアシル
基の具体例としては、たとえばD―アラニル、ベ
ンジルN―カルボベンゾキシ―γ―D―グルタミ
ル―D―アラニル、D―フエニルグリシル―D―
アラニル、N―カルボベンゾキシ―D―アラニ
ル、N―カルボベンゾキシ―D―フエニルグリシ
ル、D―アラニル―D―フエニルグリシル、γ―
D―グルタミル―D―アラニル、2―(4―エチ
ル―2,3―ジオキソ―1―ピペラジノカルボキ
サミド)―2―フエニルアセチル、2―(4―エ
チル―2,3―ジオキソ―1―ピペラジノカルボ
キサミド)―2―(4―スルホキシフエニル)ア
セチル、N―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボニル)―D―アラニル、N
―(4―エチル―2,3―ジチオオキソ―1―ピ
ペラジノカルボニル)―D―フエニルグリシル、
2,2―ビス―(4―エチル―2,3―ジオキソ
―1―ピペラジノカルボキサミド)アセチル、2
―(2―アミノ―4―チアゾイル)―2―(4―
エチル―2,3―ジオキソ―1―ピペラジノカル
ボキサミド)アセチル、2―(4―ヒドロキシ―
6―メチルニコチンアミド)―2―フエニルアセ
チル、2―(4―ヒドロキシ―6―メチルニコチ
ンアミド)―2―(4―ヒドロキシフエニル)ア
セチル、2―{5,8―ジヒドロ―2―(4―ホ
ルミル―1―ピペラジニル)―5―オキソピリド
〔2,3―d〕ピリミジン―6―カルボキサミド}
―2―フエニルアセチル、2―(3,5―ジオキ
ソ―1,2,4―トリアジン―6―カルボキサミ
ド)―2―(4―ヒドロキシフエニル)アセチ
ル、2―(3―フルフリデンアミノ―2―オキソ
イミダゾリジン―1―カルボキサミド)―2―フ
エニルアセチル、2―(クマリン―3―カルボキ
サミド)―2―フエニルアセチル、2―(4―ヒ
ドロキシ―7―メチル―1,8―ナフチリジン―
3―カルボキサミド)―2―フエニルアセチル、
2―(4―ヒドロキシ―7―トリフルオロメチル
キノリン―3―カルボキサミド)―2―フエニル
アセチル、N―〔2―(2―アミノ―4―チアゾ
イル)アセチル〕―D―フエニルグリシル、2―
(6―プロモ―1―エチル―1,4―ジヒドロ―
4―オキソチエノ〔2,3―b〕ピリジン―3―
カルボキサミド)―2―フエニルアセチル、2―
(4―エチル―2,3―ジオキソ―1―ピペラジ
ノカルボキサミド)―2―チエニルアセチル、2
―(3―メチルスルホニル―2―オキソイミダゾ
リジン―1―カルボキサミド)―2―フエニルア
セチル、2―(3―フルフリデンアミノ―2―オ
キソイミダゾリジン―1―カルボキサミド)―2
―(4―ヒドロキシフエニル)アセチル、2―
(4―エチル―2,3―ジオキソ―1―ピペラジ
ノカルボキサミド)―2―(4―ベンジルオキシ
フエニル)アセチル、2―(4―エチル―2,3
―ジオキソ―1―ピペラジノカルボキサミド)―
2―(4―メトキシフエニル)アセチル、2―
(8―ヒドロキシ―1,5―ナフチリジン―7―
カルボキサミド)―2―フエニルアセチルなどが
挙げられる。 式R10―R11―CO―(式中、R10およびR11は前
記と同意義を有する。)で表わされるアシル基の
具体例としては、たとえば、N―〔2―(2―ア
ミノ―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノア
セチル〕―D―アラニル、N―〔2―(2―アミ
ノ―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノアセ
チル〕―D―フエニルグリシル、2―(2―アミ
ノ―4―チアゾイル)―2―〔2―(2―アミノ
―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノアセタ
ミド〕アセチル、2―(2―クロロアセタミド―
4―チアゾイル)―2―メトキシイミノアセチ
ル、2―(2―アミノ―4―チアゾイル)―2―
メトキシイミノアセチル、2―(2―アミノ―4
―チアゾイル)―2―オキシイミノアセチル、2
―チエニル―2―メトキシイミノアセチル、2―
フリル―2―メトキシイミノアセチル、2―(4
―ハイドロキシフエニル)―2―メトキシイミノ
アセチル、2―フエニル―2―メトキシイミノア
セチル―2―オキシイミノアセチル、2―〔4―
(γ―D―グルタミルオキシ)フエニル〕―2―
オキシイミノアセチル、2―〔4―(3―アミノ
―3―カルボキシプロポキシ)フエニル〕―2オ
キシイミノアセチルなどが挙げられる。 式
【式】(式中、R17および R18は前記と同意義を有する。)で表わされるア
シル基の具体例としては、たとえば、α―スルホ
フエニルアセチル、α―ハイドロキシフエニルア
セチル、α―ウレイドフエニルアセチル、α―ス
ルホウレイドフエニルアセチル、α―スルフアモ
イルフエニルアセチル、α―フエノキシカルボニ
ルフエニルアセチル、α―(p―トリルオキシカ
ルボニル)フエニルアセチル、α―ホルミルオキ
シフエニルアセチルなどが挙げられる。 式R19―R20―CH2―CO―(式中、R19および
R20は前記と同意義を有する。)で表わされるア
シル基の具体例としては、たとえば、シアノアセ
チル、フエニルアセチル、フエノキシアセチル、
トリフルオロメチルチオアセチル、シアノメメチ
ルチアアセチル、1H―テトラゾイル―1―アセ
チル、チエニルアセチル、2―(2―アミノ―4
―チアゾイル)アセチル、4―ピリジルチオアセ
チル、2―チエニルチオアセチル、3,5―ジク
ロロ―1,4―ジヒドロ―4―オキソピリジン―
1―アセチル、β―カルボキシビニルチオアセチ
ル、2―(2―アミノメチルフエニル)アセチル
などが挙げられる。 上記のアシル基中のアミノ基および/またはカ
ルボキシル基は保護基を有している場合も含む。 該アミノ基の保護基としては、後述する「アミ
ノ基の保護基」と同様のものが挙げられる。 該カルボキシ基の保護基としては、β―ラクタ
ムおよび有機化学の分野で通常カルボキシ基の保
護基として使用し得るすべての基を含み、例えば
そのエステル部分が、たとえばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、第三級ブチル、第三級
アミル、ベンジル、p―ニトロベンジル、p―メ
トキシベンジル、ベンツヒドリール、フエナシ
ル、フエニル、p―ニトロフエニル、メトキシメ
チル、エトキシメチル、ベンジルオキシメチル、
アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、β
―メチルスルホニルエチル、メチルチオメチル、
トリチル、β,β,β―トリクロロエチル,β―
ヨードエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリ
ル、アセチルメチル、p―ニトロベンゾイルメチ
ル、p―メシルベンゾイルメチル、フタルイミド
メチル、プロピオニルオキシメチル、1,1―ジ
メチルプロピル、3―メチル―3―ブテニル、サ
クシンイミドメチル、3,5―ジ第3級ブチル―
4―ヒドロキシベンジル、メシルメチル、ベンゼ
ンスルホニルメチル、フエニルチオメチル、ジメ
チルアミノエチル、ピリジン―1―オキサイド―
2―メチル、メチルスルフイニルメチル、ビス
(p―メトキシフエニル)メチル、2―シアノ―
1,1―ジメチルエチル等であるエステル、シリ
ル化合物などが例示される。本発明は該新規単環
式化合物を提供するものであり、該保護基の選択
は特に限定するものではない。 上記一般式におけるアミノ基の保護基として
は、β―ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが便宜に採用される。た
とえばフタロイル、p―ニトロベンゾイル、p―
tert―ブチルベンゾイル、p―tert―ブチルベン
ゼンスルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエン
スルホニル等の芳香族アシル基、たとえばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチ
ル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、メ
タンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオ
ロアセチル、マレイル、サクシニル等の脂肪族ア
シル基、たとえば、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、t―ブトキシカルボニル、イソプ
ロポキシカルボニル、2―シアノエトキシカルボ
ニル、トリクロロエトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、p―ニトロベンジルオキシカ
ルボニル、p―メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、ジフエニルメチルオキシカルボニル、メトキ
シメチルオキシカルボニル、アセチルメチルオキ
シカルボニル、イソボルニルオキシカルボニル、
フエニルオキシカルボニル等のエステル化された
カルボキシル基、さらに、例えば、トリチル、2
―ニトロフエニルチオ、ベンジリデン、4―ニト
ロベンジリデン、ジもしくはトリアルキルシリ
ル、ベンジル、p―ニトロベンジル等のアシル基
以外のアミノ基の保護基が挙げられる。該保護基
の選択は本発明においては、カルボキシの保護基
と同様、特に限定するものではない。 本発明の原料化合物()は、たとえば以下に
示す方法によつて製造することができる。 方法 1) 方法 2) 方法 3) 上記各工程における一般式中の記号の定義につ
いては、R1は前記と同意義を、R4はエステル残
基を、R5はチオール残基を、それぞれ意味する。 上記各定義における例示を示すと次のとおりで
ある。 R4におけるエステル残基としては、メチル、
エチル、プロピル、n―ブチル、t―ブチル、ペ
ンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベン
ジル、p―ニトロベンジル、ベンズヒドリル、ア
ルコキシアルキル、アルカノイロキシメチル、ア
ルケニル、トリクロロエチル、メチルスルホニル
エチル、ベンゾイルメチル、メトキシベンジル、
トリチル、メチルチオメチル、ピバロイルオキシ
メチル、α―アセトキシブチルなどが挙げられ
る。 R5におけるチオール残基としては、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n―
ブチル、t―ブチル、イソブチル、n―アミル、
ビニル、1―イソプロペニル等のアルキル基、メ
トキシメチル、エトキシメチル、ベンジル、フエ
ネチル、キシリルメチル、p―クロルベンジル、
p―ニトロベンジル、p―メトキシベンジル等の
置換アルキル、例えば、フエニル、キシリル、ト
リル、ナフチル、クロロフエニル、ニトロフエニ
ル、メトキシフエニル等の非置換もしくは置換ア
リール、例えば、ベンゾチアゾリル、ベンズオキ
サゾリル、チアゾリル、チアジアゾリルオキサゾ
リル、チエニル、ピリジル、オキサジアゾリル、
オキサトリアゾリル、イミダゾリル、ベンズイミ
ダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル等の複素
環基、例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾ
イル、チオアセチル、チオプロピオニル、チオベ
ンゾイル等のアシル基、例えば、メチルカルバモ
イル、ジメチルカルバモイル、フエニルカルバモ
イル等のカルバモイル基もしくは同様なチオカル
バモイル基
【式】で示される 基等が挙げられる。 次に本発明のアゼチジン誘導体()を製造す
る前記各方法について、以下に詳述する。 方法 1) この方法は、光学活性なアゼチジン誘導体
(′)を製造する基本的な合成法に関するもので
ある。 原料物質として用いられる化合物()は、た
とえばジヤーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ソサイエテイー(Journal of the
American chemical Society)95巻,2401頁
(1973)に記載されている方法、または、それに
準ずる方法により容易に製造される。化合物
()は、まずジスルフイド化剤との反応に付さ
れる。ジスルフイド化剤とは、化合物()にお
ける1位の硫黄がジスルフイド化される反応試剤
を全て含み、さらに具体的には、例えばR5―SH
で示される様なチオール化合物、あるいは、R5
―S―S―R5で示される様なジスルフイド化合
物を挙げることができる(R5は前記と同意義)。 この反応は無溶媒または適当な溶媒中で行なわ
れる。溶媒としては、たとえばジオキサン、N,
N―ジメチルアセトアミド、N,N―ジメチルホ
ルムアミド、ベンゼン、トルエン、第3級ブタノ
ール、イソプロパノール、メチルエチルケトン
等、またはこれらの混合溶媒、その他この反応に
関与しない溶媒はすべて使用できる。反応温度は
特に限定されるものではないが、通常70℃から
150℃で行なうのが適当である。 ジスルフイド化剤として、R5―S―S―R5
示されるジスルフイド化合物を用いる場合、反応
は酸または塩基の存在によつて触媒的に促進され
る。酸としては、たとえば、硫酸、リン酸、塩酸
など鉱酸、p―トルエンスルホン酸、メタンスル
ホン酸、フエニルホスホン酸、酢酸、ギ酸などの
有機酸、塩化鉄、塩化亜鉛、三弗化ホウ素などの
ルイス酸などが挙げられる。酸を使用した場合は
主として2′位に二重結合を有する1―(2′―プロ
ペニル)―アゼチジン()が得られる。また、
塩基としては、ピリジン、キノリン、N,N―ジ
メチルアニリン、トリエチルアミンなどが挙げら
れ、この場合は反応溶媒、時間、温度などによつ
て1―(2′―プロペニル)―アゼチジン()の
他に1′位に二重結合を有する1―(1′―プロペニ
ル)―アゼチジン()が副生する。この1―
(1′―プロペニル)―アゼチジン()は1―
(2′―プロペニル)―アゼチジン()を塩基で
処理することによつても容易に得られる。本工程
の反応は窒素、ヘリウムなどの不活性ガス気流中
で行なうのが好ましい。原料物質()とジスル
フイド化剤とのモル比は、ジスルフイド化剤のS
―求核性によつて左右されるが、通常、約1〜約
10モル程度で行なわれる。反応終了後、生成した
化合物()は溶媒抽出、再結晶、クロマトグラ
フイー等、それ自体公知の分離精製手段により、
任意純度のものとして得ることができる。 ついで、化合物()は、塩基を用いて化合物
()に導びかれる。この反応において使用され
る塩基としては、化合物()とジスルフイド化
剤との反応工程で例示した触媒的に使用すること
ができる塩基等が挙げられる。また、反応に際し
て使用される塩基は少量で充分であり、例えば化
合物()1モルに対し約0.01〜約0.2モルであ
る。反応は一般に溶媒中で行なわれ、使用される
溶媒としては、たとえばジクロルメタン、クロロ
ホルム、ベンゼン、トルエン、第3級ブタノー
ル、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、メチルエチルケトン、N,N―
ジメチルアセトアミド、N,N―ジメチルホルム
アミド等、または、これらの混合溶媒が挙げら
れ、その他、この反応に関与しない溶媒はすべて
使用できる。この反応の温度は特に限定されない
が、室温で進行する場合が多い。生成物()に
於て、R5が式 で示される基である誘導体は、本工程で同時に、
あるいは部分的に得られるものであり、この様な
化合物も還元剤と処理することにより、化合物
()に導びくことができる。 つぎの工程は、化合物()を還元的脱硫反応
に付すことにより行われる。この反応に於て使用
される還元的脱硫化剤としては、例えば、ラネー
ニツケル、ラネーコバルト等が挙げられる。反応
は通常、溶媒中で行なわれ、該溶媒としてはメタ
ノール、エタノール、プロパノール、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、水等が繁用
されるが、その他、この反応に関与しない一般有
機溶媒も使用することができる。 この反応は、室温または加温(約80℃まで)程
度の緩和な条件で容易に進行する。 ついで化合物()のN―側鎖を脱離するため
酸化反応に付す。該酸化反応は、酸化剤を使用す
る酸化反応およびついで溶媒もしくは塩基または
酸触媒を使用する加溶媒分解反応を含む。 上記の酸化反応に用いられる酸化剤としては、
たとえばオゾン、アルカリ金属過マンガン酸塩
(例、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナト
リウム)、アルカリ土類金属過マンガン酸塩(例、
過マンガン酸バリウム)、四酸化オスミウム、四
酢酸鉛などが挙げられる。 該酸化反応は、通常、溶媒中で行なわれ、該溶
媒としてはたとえば、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、N,N―ジメチルホルムアミド、N,N
―ジメチルアセトアミド、ベンゼン、アセトン、
ピリジン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、水、クロロホルム、ジクロルメ
タン、四塩化炭素などが挙げられ、これらの混合
物でもよい。酸化反応に用いられる酸化剤は、化
合物()1モルに対し、オゾンを使用する場合
は、過剰に使用してもよいが、オゾン以外の酸化
剤を使用する場合は、その使用量は、1.0〜4.0モ
ル、さらに好ましくは1.0〜1.2モルである。反応
温度は、特に限定されないが、通常冷却下、ない
しは室温で行なわれることが多い。反応時間は、
通常短時間で終了する。 また、酸化剤として、過マンガン酸塩等を使用
する場合、原料化合物()あるいは、目的化合
物()の分解を少なくするため、例えば、リン
酸緩衝液等の緩衝液を用い、反応液の液性を中性
程度で行うこともできる。また、酸化剤としてオ
ゾンを使用する場合、例えば、クロロホルム、ジ
クロルメタン、四塩化炭素等の溶媒中で反応後、
例えば、過剰のオゾンを除き、ついで、ジメチル
スルフイドで生成した化合物()のオゾナイド
を分解する等、通常オゾノリシス反応で用いられ
る手段を使用すると化合物()を化合物()
に導びくことができる。 つぎに、化合物()から化合物(′)への
変換は、化合物()を加溶媒分解反応に付すこ
とにより行なわれる。この反応は、適当な溶媒中
で行なわれるが、この場合、塩基または酸触媒に
よる方法を適宜選択して行うこともできる。こゝ
で塩基による方法の場合において使用される塩基
としては、例えば、リチウム、カリウム、ナトリ
ウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウ
ム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩等の
無機塩基、金属アルコキサイド類、有機アミン
類、第4級アンモニウム塩等の有機塩基、塩基性
イオン交換樹脂等が、酸による方法の場合におい
て使用される酸としては、例えば塩酸、硫酸、リ
ン酸、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、塩化第2鉄、硫酸第
2鉄等の無機酸もしくはその塩、ギ酸、酢酸、p
―トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有
機酸、シリカゲル、酸性イオン交換樹脂等が挙げ
られる。本反応で使用される溶媒としては、例え
ば、水、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル等、またはこれらの混合溶媒、その他この反応
に関与しない溶媒は全て使用できる。反応は通
常、冷却下ないし加温程度の緩和な条件で容易に
進行する。 以上、各工程に於ける反応生成物は、溶媒抽
出、再結晶、クロマトグラフイー等それ自体公知
の分離精製手段により任意純度のものとして得る
ことができる。 方法 2) この方法は、光学不活性なアゼチジン誘導体
(′)を製造する基本的な合成法に関するもので
ある。 原料物質として用いられる化合物()は、た
とえば、モレキユラ・モデイフイケーシヨン・イ
ン・ドラツク・デザイン(Molecular
Modification in Drug Design)45巻、15頁
(1964)に記載されている方法、または、それに
準ずる方法により容易に製造される。 化合物()から()へのメトキシ化反応
は、メタノールの存在下、一般式 MOCH3 (式中、Mはアルカリ金属を示す)で表わされ
るメタノールのアルカリ金属塩とハロゲン化剤と
を作用させることにより行なわれる。メタノール
のアルカリ金属塩とは、リチウムメトキシド、ナ
トリウムメトキシド、カリウムメトキシドが挙げ
られる。 また、ハロゲン化剤としては陽性ハロゲン原子
を供給しうるハロゲン化合物、例えば、塩素、臭
素等のハロゲン、N―クロルスクシンイミド、N
―ブロモスクシンイミド等のN―ハロイミド類、
N―クロルアセトアミド、N―ブロモアセトアミ
ド等のハロアミド類、N―クロルベンゼンスルホ
ンアミド、N―クロル―p―トルエンスルホンア
ミド等のN―ハロスルホンアミド類、1―ハロベ
ンゾトリアゾール類、t―ブチルヒポクロリド等
の有機ヒポクロリド類などがあげられる。この反
応は、溶媒中で行なわれる。溶媒としては、例え
ば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロル
メタン、クロロホルム、アセトニトリル、メタノ
ール、N,N―ジメチルホルムアミド、N,N―
ジメチルアセトアミド等、または、これらの混合
溶媒、その他この反応に関与しない溶媒はすべて
使用できる。 反応は、原料化合物()を前記溶媒に溶解、
または懸濁し、これにメタノールのアルカリ金
属、メタノールおよびハロゲン化剤を加えて反応
させる。このとき、原料化合物()1モルに対
して、メタノールは1モル以上、メタノールのア
ルカリ金属塩は1〜3.5モル、ハロゲン化剤は1
〜2モル程度を加えて反応させることが好まし
い。反応は冷却下、または室温約30℃以下で容易
に進行し、反応系内を酸性にすることにより反応
が停止される。反応停止のための適当な酸として
は、例えば、ギ酸、酢酸、トリクロル酢酸等が使
用される。反応停止後、過剰のハロゲン化剤は、
例えば、チオ硫酸ナトリウム、亜リン酸のトリア
ルキルエステル等の還元剤で処理することにより
除去される。 反応終了後、生成した化合物()は、溶媒抽
出、再結晶、クロマトグラフイー等、それ自体公
知の分離精製手段により任意純度のものとして得
ることができる。 このようにして製造された化合物()に、前
記化合物()から(′)への各工程で行なつ
た酸化と同様な手段を、順次施こすことにより、
化合物(′)の光学不活性体を製造することが
できる。 方法 3) この方法は、たとえばモレキユラ・モデイフイ
ケーシヨン・イン・ドラツグ・デザイン45巻15頁
(1964)に記載されている方法、またはそれに準
ずる方法により得られる化合物()を酸化反応
に付すことにより、化合物(″)を得る。 この酸化反応は、前記方法1)において化合物
()を化合物(′)に変換する酸化反応と同様
の手段を施すことにより行ない得る。 本発明のスルホン化反応とは、スルホ基を導入
する反応をいい、化合物()とたとえば無水硫
酸の反応性誘導体とを反応させることにより行な
うことができる。 上記の無水硫酸の反応性誘導体としては、たと
えば無水硫酸、無水硫酸―ピリジン、無水硫酸―
ジオキサン、無水硫酸―トリメチルアミン、無水
硫酸―クロルスルホン酸などの付加体などが挙げ
られる。 上記反応は、化合物()1モルに対し、無水
硫酸の反応性誘導体を約1〜約5モル、さらに好
ましくは約1〜約2モル添加する。 反応温度は、約0〜約80℃、さらに好ましくは
約10〜約40℃である。上記反応にあたつては、溶
媒を使用してもよく、該溶媒としては、水、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル
などのエーテル類、酢酸エチル、ギ酸エチルなど
のエステル類、クロロホルム、ジクロルメタンな
どのハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、n―ヘキサンなどの炭化水素類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド
類など通常の有機溶媒が単独または混合して用い
られる。反応終了後、反応混合物を溶媒抽出、再
結晶、クロマトグラフイー等それ自体公知の精製
分離手段に付すことにより、化合物()を任意
純度のものとして得ることができる。 本発明方法におけるアシル化は、化合物()
に、R2またはR3で表わされるアシル化されてい
るアミノ基中のアシル基を含むアシル化剤を反応
させることにより行なわれる。 この反応において使用されるアシル化剤はR3
で表わされるアシル基を含む有機カルボン酸、も
しくはこれらの酸の反応性誘導体であつてもよ
い。 こゝで、上記有機酸の反応性誘導体としては、
例えば、酸無水物、活性アミド、活性エステル等
があげられ、このような有機酸の反応性誘導体を
具体的に述べると次のとおりである。 1 酸無水物: ここで酸無水物としては、例えば、ハロゲン化
水素酸(例えば、塩酸、臭化水素酸等)混合酸無
水物、モノアルキル炭酸混合酸無水物、脂肪族カ
ルボン酸(例えば、酢酸、ビバル酸、吉草酸、イ
ソンタン酸、トリクロル酢酸等)混合酸無水物、
芳香族カルボン酸(例えば、安息香酸等)混合酸
無水物、対称型酸無水物等があげられる。 2 活性アミド: ここで活性アミドとしては例えば、ピラゾー
ル、イミダゾール、4―置換イミダゾール、ジメ
チルピラゾール、ベンゾトリアゾール等とのアミ
ドがあげられる。 3 活性エステル: ここで活性エステルとしては例えば、メチルエ
ステル、エチルエステル、メトキシメチルエステ
ル、プロパルギルエステル、4―ニトロフエニル
エステル、2,4―ジニトロフエニルエステル、
トリクロロフエニルエステル、ペンタクロロフエ
ニルエステル、メシルフエニルエステル等のエス
テルの他、1―ヒドロキシ―1H―2―ピリドン、
N―ヒドロキシサクシンイミド、N―ヒドロキシ
フタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエス
テル等があげられる。 このような有機酸の反応性誘導体は使用する酸
の種類によつて適宜選択され、さらにアシル化剤
として遊離の酸を使用する場合には縮合剤の存在
下に反応を行なうのが好ましく、そのような縮合
剤としては例えば、N,N′―ジシクロヘキシル
カルボジイミド、N―シクロヘキシル―N′―モ
ルホリノエチルカルボジイミド、N―シクロヘキ
シル―N′―(4―ジエチルアミノシクロヘキシ
ル)カルボジイミド、N―エチル―N′―(3―
ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド等があ
げられる。 該アシル化反応は、通常溶媒中で行なわれる。
溶媒としては水、アセトン、ジオキサン、アセト
ニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロ
ロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、ジ
メチルホルムアミド、ピリジンまたはその他の反
応に関与しない一般有機溶媒があげられ、これら
のうち親水性の溶媒は水と混合して使用すること
もできる。 またアシル化反応は炭酸アルカリ金属、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミ
ン、N―メチルモルホリン、N―メチルピペリジ
ン等のトリアルキルアミン、N,N―ジアルキル
アニリン、N,N―ジアルキルベンジルアミン、
ピリジン、ピコリン、ルチジン、1,5―ジアザ
ビシクロ〔4,3,0〕ノン―5―エン、1,4
―ジアザビシクロ〔2,2,2〕オクタン、1,
8―ジアザビシクロ〔5,4,4〕ウンデセン―
7等の塩基の存在下に行なうことができ、塩基も
しくは前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼
ねて使用することができる。反応温度は特に限定
されないが、通常冷却下ないしは室温で行なわれ
ることが多い。 また、アシル化反応において、原料化合物
()においてアミノ基における反応性誘導体も
しくはそれらの塩類およびアシル化剤はそれらの
化合物中に不整炭素を有する場合には、立体異性
体を単独であるいは混合物のいずれの状態でも使
用することができる。また、この反応でこれらの
異性体が混在して生成する場合には必要に応じて
夫々をカラムクロマトグラフイ、再結晶等の常法
により単離することができる。 アゼチジン誘導体()の保護基を脱離する方
法としては、その保護基の種類に応じて、酸によ
る方法、塩基による方法、ヒドラジンによる方
法、還元による方法、イミノハロゲン化剤、つい
でイミノエーテル化剤を作用させた後必要に応じ
て加水分解する方法等の常用の方法を適宜選択し
て行うことができる。ここで酸による方法の場合
には、保護基の種類その他の条件によつて異なる
が、酸として例えば塩酸、硫酸、リン酸等の無機
酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン
酸、ベンゼンスルホン酸、p―トルエンスルホン
酸等の有機酸の他、酸性イオン交換樹脂等が使用
される。塩基による方法の場合には、保護基の種
類その他の条件によつて異なるが、塩基として例
えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属もし
くはカルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類
金属の水酸化物、炭酸塩等の無機塩基、金属アル
コキサイド類、有機アミン類、第四級アンモニウ
ム塩等有機塩基の他、塩基性イオン交換樹脂等が
使用される。 上記酸または塩基による方法の場合において溶
媒を使用する場合には親水性有機溶媒、水または
混合溶媒が使用されることが多い。 還元による方法による場合には、保護基の種類
その他の条件により異なるが、例えばすず、亜鉛
等の金属あるいは2塩化クロム、酢酸クロム等の
金属化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有
機および無機酸等の酸を使用する方法、接触還元
用金属触媒の存在下に還元する方法等が挙げら
れ、ここで接触還元による方法で使用される触媒
としては、例えば白金線、白金海綿、白金黒、酸
化白金、コロイド白金等の白金触媒、パラジウム
海綿、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウ
ム硫酸バリウム、パラジウム炭酸バリウム、パラ
ジウム炭素、パラジウムシリカゲル、コロイドパ
ラジウム等のパラジウム触媒、還元ニツケル、酸
化ニツケル、ラネーニツケル、漆原ニツケル等が
挙げられる。 また金属と酸による還元方法の場合においては
鉄、クロム等の金属化合物と塩酸等の無機酸およ
びギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が使用さ
れる。還元による方法は通常溶媒中で行われ、例
えば接触還元による方法においてはメタノール、
エタノール、プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール等のアルコール類、酢酸エチル等が繁
用される。また金属と酸による方法においては
水、アセトン等が繁用されるが酸が液体のときは
酸自身を溶媒として使用することもできる。 反応温度は通常冷却下ないし加温程度で行われ
る。 また、イミノハロゲン化剤、ついでイミノエー
テル化剤を作用させた後必要に応じて加水分解す
ることにより保護基を脱離する方法の場合におい
て使用されるイミノハロゲン化剤としては例えば
3塩化燐、5塩化燐、3臭化燐、5臭化燐、オキ
シ塩化燐、塩化チオニル、ホスゲン等が挙げられ
る。この反応温度は特に限定されないが、通常室
温ないし冷却下で行なわれることが多い。このよ
うにして得られる反応生成物に作用させるイミノ
エーテル化剤としては、アルコール類もしくは金
属アルコキサイド類が挙げられ、アルコールとし
てメタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、n―ブタノール、第3級ブタノー
ル等のアルカノール類またはこれらのアルキル部
分がメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基等で置換され
た化合物が挙げられ、金属アルコキサイド類とし
ては、上記の様なアルコールから誘導されるナト
リウムアルコキサイド、カリウムアルコキサイド
等のアルカリ金属アルコキサイドおよびカルシウ
ムアルコキサイド、バリウムアルコキサイド等の
アルカリ土類金属アルコキサイドなどが例示され
る。 また例えば、保護基が有機カルボン酸の残基で
ありそのカルボニル基に隣接した炭素に遊離のア
ミノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキ
シ基、スルホ基等の置換基がある場合にはこれら
の基の隣接基効果をさらに高める処理を行つてカ
ルボニル基の反応性を高めて保護基を脱離すると
好ましい結果が得られ、有利である。そのような
場合の例として、例えば上記のカルボニル基に隣
接した炭素上の置換基が遊離のアミノ基である場
合について例示すると、その遊離のアミノ基をチ
オウレイド基に変換した後脱アシル化する方法等
ペプタイド結合の分解方法に用いられている公知
の方法を適用して保護基を脱離する方法が挙げら
れる。 この反応の温度は特に限定されず、保護基の種
類、脱離方法等の種類に応じて適宜選択される
が、冷却下ないし加温程度の緩和な条件で行うの
が好ましい。 この反応において、R1がカルボキシ基を有す
る基の化合物の場合でそのカルボキシ基における
誘導体がカルボキシ基に転じる場合があるが、も
ちろんこの場合もこの発明の範囲に包含される。 このようにして得られる保護基の脱離された化
合物()は常法により所望の塩に導くことがで
きる。 化合物()は、スルホ基を有するので、一般
に、塩基と作用して塩を形成し得る。したがつ
て、化合物()は、塩として採取されることも
あり、塩として得られたものを遊離形にしてもよ
くまた他の塩としてもよい。さらに、遊離形で得
られた化合物()を塩としてもよい。上記の塩
基としては、たとえばリチウム、カリウム、ナト
リウム、カルシウム、アンモニウムなどの無機塩
基、たとえばピリジン、コリジン、トリエチルア
ミン、トリエタノールアミンなどの有機塩基など
が挙げられる。 本発明の化合物()の塩も、本発明に包含さ
れる。また塩として得られた化合物を遊離形にす
る方法としては、たとえば、酸を用いる方法等が
挙げられる。使用される酸は、保護基の種類、そ
の他の条件によつて異なるが、酸として例えば、
塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、p
―トルエンスルホン酸等の有機酸が繁用される。
その他、酸性イオン交換樹脂等が使用される。ま
た、溶媒としては例えばアセトン、テトラヒドロ
フラン、メタノール、エタノール、ジオキサン等
の親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用され
ることが多い。 また、アシル化反応において原料化合物として
用いられる化合物()は、塩の形のものを用い
てもよい。該塩としては、前記化合物()の塩
の例で挙げたものと同様のものが挙げられる。 該アシル化反応において、原料化合物が塩の形
のものを用いた場合には、製造される化合物
()も塩として得られることがある。塩として
得られた場合には、前記化合物()の塩の変換
と同様の方法で、他の塩の形として採取すること
もできる。 さらに、塩の形で得られた化合物()を遊離
形として採取することもできる。塩を遊離形にす
るには、前記化合物()の塩を遊離形にする方
法と同様の方法が挙げられる。 また化合物()は、立体異性体(例、D―異
性体、L―異性体)が存在する場合がある。この
場合には、それらの各異性体、およびそれらの混
合物も、本発明に含まれる。 これら異性体は単独で、あるいは混合物のいず
れの状態でも医薬として使用することができる。
また、これら異性体が混合物として得られる場合
には、必要に応じて通常の光学分割方法により
夫々を単離することができる。 このようにして得られる化合物()は医薬と
して有用であり、たとえばある種のグラム陽性、
グラム陰性菌に対して抗菌力を有する。たとえ
ば、化合物()は以下の表に示す抗菌力を有す
る。
【表】
【表】
【表】
【表】 マウスへの静脈注射投与による本発明の化合物
()の急性毒性は、500mg/Kg以上であつた。 本発明の化合物()は、たとえば上記の細菌
による感染をひきおこされた哺乳動物(例、マウ
ス、ラツト、人など)の治療に有用である。 本発明の化合物()は、細菌感染治療剤とし
て、たとえば上記哺乳動物の呼吸器感染症、尿路
感染症、化膿性疾患、胆道感染症、腸内感染症、
産婦人科感染症、外科感染症などの治療に用いる
ことができる。その1日投与量は、化合物()
として約20〜約200mg/Kgであり、毎日2〜4回
に分けて1回約5〜約100mg/Kgとなる量を投与
するのが適当である。また、化合物()または
生理学的に許容され得る塩を常套手段によつてた
とえば錠剤、カプセル剤、ドロツプ剤などの剤型
にして経口的に投与することができ、または常套
手段によつてたとえば注射剤に成型し、常套手段
によつて製造された滅菌性担体中に配合し非経口
的に投与することができる。 以下に参考例および実施例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明する。 参考例 1 6β―ベンジルオキシカルボキサミド―6―メ
トキシペニシラン酸―1―オキシドメチルエステ
ル4.1g,n―アミルマーカプタン10mlの混合物
を110℃で24時間かきまぜる。過剰のn―アミル
マーカプタンを留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーに付す。n―ヘキサン―酢
酸エチル(2:1)で溶出すると4β―n―アミ
ルジチオ―3β―ベンジルオキシカルボキサミド
―3α―メトキシ―2―オキソアゼチジン―1―
(2―イソプロペニル)酢酸メチルエステル2.5g
が得られる。 IRνKBr naxcm-1;3300,1767,1736。 NMR(CDCl3,ppm);0.93(t,―CH3),1.2〜
1.7(m,―CH2―),1.92(s,―CH3),2.76
(t,―S―CH2―),3.60(s,―CH3),3.83
(s,―CH3),4.92(s,
【式】),5.07 (s,
【式】),5.20(m,=CH2),5.23(s, ―CH―),5.20(m,=CH2),7.42(S,
aromatic H). 参考例 2 4β―n―アミルジチオ―3β―ベンジルオキシ
カルボキサミド―3α―メトキシ―2―オキソア
ゼチジン―1―(2―イソプロペニル)酢酸メチ
ルエステル2.3gの塩化メチレン60ml溶液にトリ
エチルアミン0.15gを加え、室温で1.5時間かき
まぜる。溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーに付す。n―ヘキサン―酢
酸エチル(4:1)で溶出すると4β―n―アミ
ルジチオ―3β―ベンジルオキシカルボキサミド
―3α―メトキシ―2―オキソアゼチジン―1―
(α―イソプロピリデン)酢酸メチルエステル2.2
gが得られる。 IRνKBr naxcm-1;3300,1768,1735。 NMR(CDCl3,ppm);0.92(t,―CH3),1.15〜
1.98(m,―CH2―),2.08(s,―CH3),2.32
(s,―CH3),2.65(t,―S―CH2―),3.64
(s,―CH3),3.83(s,―CH3),5.23(s,―
CH2―),5.32(s,
【式】),5.70(s, NH),7.42(s,aromatic H). 参考例 3 4β―n―アミルジチオ―3β―ベンジルオキシ
カルボキサミド―3α―メトキシ―2―オキソア
ゼチジン―1―(α―イソプロピリデン)酢酸メ
チルエステル2.1gのエタノール溶液40mlに、ラ
ネーニツケル18mlを加え、室温で1時間かきまぜ
る。ラネーニツケルを去後、液の溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフイーに付
す。n―ヘキサン―酢酸エチル(3:1)で溶出
すると3―ベンジルオキシカルボキサミド―3―
メトキシ―2―オキソアゼチジン―1―(α―イ
ソプロピリデン)酢酸メチルエステル0.62gが得
られる。 IRνKBr naxcm-1;1760,1718,1510。 NMR(CDCl3,ppm);1.93(s,―CH3),2.20
(s,―CH3),3.50(s,―CH3),3.70(s,―
CH3),3.91(dd,J=4,6Hz,C4―H),
5.13(s,―CH2―),6.03(s,NH),7.26(s,
aromatic H). 参考例 4 3―ベンジルオキシカルボキサミド―3―メト
キシ―2―オキソアゼチジン―1―(α―イソプ
ロピリデン)酢酸メチルエステル6.0gの塩化メ
チレン150ml溶液を−50℃〜−30℃に保ちつつ、
オゾンを導入する。1時間後、反応液は青色とな
るから、窒素を導入して過剰のオゾンを除き、こ
れにジメチルスルフイドを加え、室温で1時間か
きまぜる。反応液を水洗し、溶媒を留去すると、
3―ベンジルオキシカルボキサミド―3―メトキ
シ―2―オキソアゼチジン―1―α―ケト酢酸メ
チルエステル6.1gが得られる。これを、メタノ
ール75mlに溶かし、0.002%ナトリウムメチラー
ト―メタノール溶液19mlを加え、室温で15分間か
きまぜる。酢酸0.3gを加え、溶媒を留去、残留
物を酢酸エチルに溶かし、水洗後、溶媒を留去、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに
付す。酢酸エチル―n―ヘキサン(1:1)で溶
出すると、3―ベンジルオキシカルボキサミド―
3―メトキシ―2―オキソアゼチジン2.7gが結
晶として得られる。 旋光度;〔α〕25D+68.2゜(c=1,MeOH) IRνCHCL3 naxcm-1;3420,1774,1723。 NMR(CDCl3,ppm);3.45(s,―CH3),3.60
(d,J=6Hz,C4―H),3.80(d,J=6Hz,
C4―H),5.14(s,―CH2―),6.74(broads,
NH),7.34(s,aromatic H)。 参考例 5 3―ベンジルオキシカルボキサミド―2―オキ
ソアゼチジン―1―(2―イソプロペニル)酢酸
メチルエステル14gの無水テトラヒドロフラン
400ml溶液をかきまぜ、−30〜−20℃に保ちつつ、
次亜塩素酸t―ブチル5.7ml、ついでメタノール
32mlにリチウム0.348gを加えた溶液を加える。−
15℃で30分保つた後、酢酸1mlを加え、溶媒を留
去する。残留物を酢酸エチルに溶解し、水洗後、
溶媒を留去する。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフイーに付し、n―ヘキサン―酢酸エチ
ル(1:1)で溶出すると、3―ベンジルオキシ
カルボキサミド―3―メトキシ―2―オキソアゼ
チジン―1―(α―イソプロピリデン)酢酸メチ
ルエステル11.1gが結晶として得られる。 融点;77℃ IRνKBr naxcm-1;1761,1723。 NMR(CDCl3,ppm);1.91(s,―CH3),2.22
(s,―CH3),3.53(s,―CH3),3.73(s,―
CH3),4.1(ABq,J=6Hz,C4―H),5.20
(s,―CH2―),6.58(s,NH),7.36(s,
aromatic H). 参考例 6 参考例5で得られる3―ベンジルオキシカルボ
キサミド―3―メトキシ―2―オキソアゼチジン
―1―(α―イソプロピリデン)酢酸メチルエス
テル7.2gの塩化メチレン150ml溶液を−50〜−30
℃に保ちつつ、オゾンを導入すると、55分後に反
応液は青色を示す。窒素ガスを導入して、反応液
が無色となつてから、ジメチルスルフイド6mlを
加え、室温で30分かきまぜる。反応液を水洗し、
溶媒を留去すると、3―ベンジルオキシカルボキ
サミド―3―メトキシ―2―オキソアゼチジン―
1―α―ケト酢酸メチルエステル8.1gが得られ
る。これを、メタノール100mlに溶解し、0.002%
ナトリウムメチラート―メタノール溶液25mlを加
え、室温で15分間かきまぜてから、溶媒を留去す
る。残留物を酢酸エチルに溶解し、水洗後、溶媒
を留去すると3―ベンジルオキシカルボキサミド
―3―メトキシ―2―オキソアゼチジン3.3g結
晶として得られる。本品のIR,NMRは、参考例
4で得られる光学活性体に一致する。 旋光度;〔α〕25D0゜(c=1,MeOH) 参考例 7 3―フエニル酢酸アミド―2―オキソアゼチジ
ン―1―(α―イソプロピリデン)酢酸メチルエ
ステル47.5gの塩化メチレン750ml溶液を−70℃
以下に冷却し、粉末化した五塩化リン93.7g,ピ
リジン71.2gを加え、氷水中70分かきまぜる。反
応液を−70℃に冷却し、n―ブタノール150mlを
加え、徐々に0℃にもどす。1時間後氷水300ml
を加え、水層をとり、炭酸水素ナトリウムで液性
をPH6.2とする。クロロホルムで抽出し、溶媒を
留去すると、3―アミノ―2―オキソアゼチジン
―1―(α―イソプロピリデン)―酢酸メチルエ
ステル56gが得られる。 IRνCHCl3 naxcm-1;3400,3330,1750,1720。 NMR(CDCl3,ppm);1.90(s,―CH3),2.04
(br.s,NH2),2.16(s,―CH3),3.2―3.9
(m,―CH2―),3.73(s,―CH3),4.28(m,
【式】). 参考例 8 3―アミノ―2―オキソアゼチジン―1―(α
―イソプロプリデン)酢酸メチルエステル58gの
塩化メチレン240ml溶液に、氷冷下かきまぜなが
ら、プロピレンオキサイド120ml、ついでカルボ
ベンゾキシクロライド56.3gを加える。反応液を
室温にもどし、30分かきまぜる。溶媒を留去し、
残留物にエーテルを加えると結晶が析出する。3
―ベンジルオキシカルボキサミド―2―オキソア
ゼチジン―1―(α―イソプロピリデン)酢酸メ
チルエステル82.6gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3280,1738,1710。 NMR(CDCl3,ppm);1.95(s,―CH3),2.19
(s,―CH3),3.4―3.9(m,―CH2―),3.74
(s,OCH3),4.89(m,
【式】),5.11 (s,―CH2―),5.66(d,NH),7.34(s,
aromatic H). 参考例 9 3―ベンジルオキシカルボキサミド―2―オキ
ソアゼチジン―1―(α―イソプロピリデン)酢
酸メチルエステル13.3gの塩化メチレン400ml溶
液を−30℃〜−20℃に冷却下、オゾンを導入す
る。2時間後、反応液は青色となるから、窒素を
導入して過剰のオゾンを除き、これにジメチルス
ルフイド20mlを加え、室温で1時間かきまぜる。
反応液を水洗し、溶媒を留去すると、3―ベンジ
ルオキシカルボキサミド―2―オキソアゼチジン
―1―α―ケト酢酸メチルエステル19.9gが得ら
れる。これをメタノール200mlに溶かし、0.002%
ナトリウムメチラート―メタノール溶液30mlを加
え、室温で15分間かきまぜる。反応液に酢酸0.5
gを加え、溶媒を留去し、氷水―メタノール
(3:1)を加えると3―ベンジルオキシカルボ
キサミド―2―オキソアゼチジン7.62gが得られ
る。 IRνKBr naxcm-1;3350,1740,1725,1700。 NMR(DMSO―d6,ppm);3.08〜3.40(m,―
CH2―),4.63(m,
【式】),5.00(s,― CH2―),7.28(s,aromatic H),7.80(s,
【式】),7.85(d,―NH). 参考例 10 3―ベンジルオキシカルボキサミド―2―オキ
ソアゼチジン220mg、含水パラジウム―炭素400mg
をアルコール12mlに懸濁し、水素気流下で激しく
かきまぜる。30分後触媒をろ去し、ろ液を濃縮す
ると、3―アミノ―2―オキソアゼチジン76mgが
結晶として得られる。 IRνCHCl3 naxcm-1;3425,3300,1760。 NMR(DMSO―d6,ppm);2.63(br.s,―NH2),
2.80―3.33(m,―CH2―),4.00(m,
【式】),7.63(s,
【式】). 実施例 1 3―フエニルアセタミド―2―オキソアゼチジ
ン1.23g N,N―ジメチルホルムアミド(=
DMF)15mlに溶かし、ピリジン―無水硫酸コン
プレツクス1.15gを加えて6時間かきまぜる。エ
ーテル50mlを加えて析出する粉末を取し、エー
テル、ついでエタノールで洗い、ピリジニウム
3―フエニルアセタミド―2―オキソアゼチジン
―1―スルホネート1.47gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3300,1775,1665,1300〜1190,
1045. NMR(d6―DMSO,ppm);3.25(dd,J=3,
6Hz,C4―H),3.46(s,―CH2―),3.62
(t,J=6Hz,C4―H),4.84(ddd,J=3,
6,8Hz,C3―H),7.29(s,aromatic H),
7.9〜9.0(m,aromatic H),8.83(d,J=8
Hz,NH). 実施例 2 3―チエニルアセタミド―2―オキソアゼチジ
ン0.21gをDMF2mlに溶かし、ピリジン―無水硫
酸コンプレツクス0.318gを加えて1日かきまぜ
る。エーテル20mlを加えて分離する油状物質を
XAD―カラムで精製して3―(チエニルアセ
タミド)―2―オキソアゼチジン―1―スルホン
酸0.175gを得る。 IRνKBr naxcm-1;1760,1660,1250,1050. NMR(d6―DMSO,ppm);3.32(dd.J=3,6
Hz,C4―H),3.61(t,J=6Hz,C4―H),
3.69(s,―CH2―),4.84(ddd,J=3,6,
8Hz,C3―H),6.8〜7.4(m,aromatic H),
8.88(d,J=8Hz,NH). 実施例 3 3―〔2―(2―クロロアセタミド―4―チア
ゾイル)―2―メトキシイミノアセタミド〕―2
―オキソアゼチジン(シン異性体)0.631gを
DMF10mlに溶かしピリジン―無水硫酸コンプレ
ツクス0.637gを加えて3日間反応させる。エー
テル30mlを加えて分離する油状物質をダウエツク
ス(Dowex)50W Na型樹脂〔ダウケミカル社
製(米国)〕を通し、溶出液を凍結乾燥して粗ナ
トリウム3―〔2―〔2―クロロアセタミド―4
―チアゾイル)―2―メトキシイミノアセタミ
ド〕―2―オキソアゼチジン―1―スルホネート
(シン異性体)0.89gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3430,1760,1690,1650,1140。 NMR(D2O,ppm);3.95(dd,J=3.6Hz,C4
H),4.12(s,―CH3),4.15(t,J=6Hz,
C4―H),4.93(s,―CH2Cl),5.22(dd,J=
3,6Hz,C3―H),7.52(s,
【式】) 上記粗ナトリウム3―〔2―(2―クロロアセ
タミド―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノ
アセタミド〕―2―オキソアゼチジン―1―スル
ホネート(シン異性体)0.556gを水8mlに溶か
し、氷冷下かきまぜながら、ナトリウムモノメチ
ルジチオカルバメート0.172gを加えて3時間か
きまぜる。不溶物を去して、液をXAD―
カラムで精製し、ナトリウム3―〔2―(2―ア
ミノ―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノア
セタミド〕―2―オキソアゼチジン―1―スルホ
ネート(シン異性体)0.174gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3450,1770,1670,1610,1260,
1050。 NMR(D2O,ppm);3.89(dd,J=4,6Hz,C4
―H),4.03(s,―CH3),4.09(t,J=6Hz,
C4―H),5.16(dd,J=4,6Hz,C3―H),
7.01(s,
【式】) 実施例 4 3―〔2―(2―クロロアセタミド―4―チア
ゾイル)アセトアミド―2―オキソアゼチジン
0.515gをDMF20mlにけんだくし、ピリジン―無
水硫酸コンプレツクス0.325gを加えて実施例3
と同様に処理して、ナトリウム3―〔2―(2―
クロロアセタミド―4―チアゾイル)アセタミ
ド〕―2―オキソアゼチジン―1―スルホネート
0.569gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3430,1760,1660,1550,1260,
1150,1050 NMR(d6―DMSO,ppm);3.30(dd,J=3,
6Hz,C4―H),3.52(s,―CH2―),3.60
(t,J=6Hz,C4―H),4.34(s,―
CH2Cl),4.85(ddd,J=3,6,8Hz,C3
H),6.97(s,
【式】),8.74(d,J= 8Hz,NH). ナトリウム3―〔2―(2―クロロアセタミド
―4―チアゾイル)アセタミド―2―オキソアゼ
チジン―1―スルネート0.486gを水6mlに溶か
し氷冷下かきまぜながらナトリウム モノメチル
ジチオカルバメート0.154gを加え、実施例3と
同様に処理して、ナトリウム3―〔2―(2―ア
ミノ―4―チアゾイル)アセタミド〕―2―オキ
ソアゼチジン―1―スルホネート0.144gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3400,3270,1760,1650,1610,
1270,1235,1200,1050 NMR(d6―DMSO,ppm);3.25(dd,J=3,
6Hz,C4―H),3.30(s,―CH2―),3.62
(t,J=6Hz,C4―H),4.85(ddd,J=3,
6,8Hz,C3―H),6.25(s,
【式】), 6.82(s,NH2),8.66(d,J=8Hz,NH). 実施例 5 3―(α―スルホフエニルアセタミド)―2―
オキソアゼチジンナトリウム塩0.46gをDMF5ml
に溶かし、ピリジン―無水硫酸コンプレツクス
0.478gを加えて3日間反応させる。ジエチルエ
ーテル30mlを加えて分離する油状物質を
Dowex50W Na型樹脂を通し、溶出液をアンバ
ーライトXAD―〔ローム・アンド・ハース社
製(米国)〕カラムで精製すると、3―(α―ス
ルホフエニルアセタミド)―2―オキソアゼチジ
ン―1―スルホン酸ジナトリウム塩0.61gを得
る。 IRνKBr naxcm-1;3450,1760,1660,1630,1200―
1100,1045 NMR(d6―DMSO,ppm);3.17(dd,J=3,
6Hz,C4―H),3.58(t,J=3Hz,C4―H),
4.56(s,
【式】),4.76(m,C3―H),7.2 ―7.6(m,aromatic H),8.55(d,J=8Hz,
NH). 実施例 6 3―〔2―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボキサミド)―2―フエニル
アセタミド〕―2―オキソアゼチジン0.285gを
DMF3mlに溶かしピリジン―無水硫酸コンプレツ
クス0.234gを加えて4日間反応させる。実施例
5と同様に処理して、ナトリウム3―〔2―(4
―エチル―2,3―ジオキソ―1―ピペラジノカ
ルボキサミド)―2―フエニルアセタミド〕―2
―オキソアゼチジン―1―スルホネート0.219g
を得る。 IRνKBr naxcm-1;3470,3280,1760,1705,1670,
1510,1250,1190,1050。 NMR(d6―DMSO,ppm);1.10(t,J=7Hz,
―CH3),3.13(dd,J=3,6Hz,C4―H),
3.41(q,J=7Hz,―CH2―),3.45―3.65
(m,―CH2―),3.59(t,J=6Hz,C4
H),3.80―4.00(m,―CH2―),4.85(ddd,J
=3,6,8Hz,C3―H),5.45(d,J=8
Hz,
【式】),7.2―7.5(m,aromatic H),9.20(d,J=8Hz,NH),9.81(d,
J=8Hz,NH) 実施例 7 3―〔2―(ベンジルオキシカルボキサミド)
―2―フエニルアセタミド〕―2―オキソアゼチ
ジン0.177gをDMF1mlに溶かしピリジン―無水
硫酸コンプレツクス0.16gを加えて4日間反応さ
せる。ジエチルエーテル10mlを加えて、分離する
油状物質にエタノールを加えて粉末化させて、ピ
リジニウム3―〔2―(ベンジルオキシカルボキ
サミド)―2―フエニルアセタミド〕―2―オキ
ソアゼチジン―1―スルホネート0.092gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3280,1765,1685,1660,1300―
1200,1040 NMR(d6―DMSO,ppm);3.16(dd,J=4,
6Hz,C4―H),3.57(t,J=6Hz,C4―H),
4.83(ddd,J=4,6,8Hz,C3―H),5.07
(s,―CH2―),5.26(d,J=8Hz,
【式】),7.36(s,aromatic H),7.85 (broadd,NH),7.9―9.0(m,aromatic H). 実施例 8 3―ベンジルオキシカルボキサミド―3―メト
キシ―2―オキソアゼチジン0.25gをDMF2mlに
溶かし、ピリジン―無水硫酸コンプレツクス
0.318gを加えて5日間反応させる。反応液にエ
ーテル20mlを加えて分離する油状物質をDowex
50W Na型樹脂を通すと、ナトリウム3―ベンジ
ルオキシカルボキサミド―3―メトキシ―2―オ
キソアゼチジン―1―スルホネート0.35gを得
る。 IRνKBr naxcm-1;3450,1760,1715,1250,1140,
1050。 実施例 9 3―〔2―(2―クロロアセタミド―4―チア
ゾイル)―2―メトキシイミノアセタミド〕―3
―メトキシ―2―オキソアゼチジン(シン異性
体)0.825gをDMF7mlに溶かし、これにピリジ
ン―無水硫酸コンプレツクス0.796gを加えて3
日間反応させる。反応液にエーテル35mlを加えて
分離する油状物質をDowex 50W Na型樹脂を通
した後、XAD―カラムで精製し、ナトリウム
3―〔2―(2―クロロアセタミド―4―チアゾ
イル)―2―メトキシイミノアセタミド〕―3―
メトキシ―2―オキソアゼチジン―1―スルホネ
ート(シン異性体)0.568gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3470,3250,1770,1670,1540,
1280,1230,1170,1050。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.43(s,―CH3),
3.61,3.84(ABq,J=6Hz,C4―H),3.92
(s,―CH3),4.39(s,―CH2―),7.44(s,
【式】),9.89(s,NH),12.7(broad, NH). 上記ナトリウム3―〔2―(2―クロロアセタ
ミド―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノア
セタミド〕―3―メトキシ―2―オキソアゼチジ
ン―1―スルホネート(シン異性体)0.478gを
水7mlに溶かし、これにナトリウム モノメチル
ジチオカルバメート0.13gを加えて1時間かきま
ぜる。不溶物を去して、液をXAD―カラ
ムで精製すると、ナトリウム3―〔2―(2―ア
ミノ―4―チアゾイル)―2―メトキシイミノア
セタミド〕―3―メトキシ―2―オキソアゼチジ
ン―1―スルホネート(シン異性体)0.267gを
得る。 IRνKBr naxcm-1;3425,3325,1765,1670,1615,
1520,1290〜20,1170,1045。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.41(s,―CH3),
3.59,3.79(ABq,J=6Hz,C4―H),3.87
(s,―CH3),6.72(s,
【式】),7.12 (broad s,NH),9.79(s,NH). 実施例 10 3―シアノアセタミド―2―オキソアゼチジン
0.15gをDMF0.5mlに溶かし、ピリジン―無水硫
酸コンプレツクス0.30gを加え、3日間反応させ
る。反応液にジエチルエーテルを加え、分離する
油状物質を実施例5と同様に処理して、ナトリウ
ム3―シアノアセタミド―2―オキソアゼチジン
―1―スルホネート0.183gも得る。 IRνKBr naxcm-1;2270,1760,1660,1250。 NMR(D2O,ppm);3.91(dd.J=2,6Hz,C4
H),3.96(s,―CH2―),4.05(t,J=6Hz,
C4―H),5.08(dd,J=2,6Hz,C3―H). 実施例 11 3―(1H―テトラゾール―1―アセタミド)
―2―オキソアゼチジン0.16gをDMF1mlに溶か
し、これにピリジン―無水硫酸コンプレツクス
0.26gを加え、室温で3日間反応させる。反応液
にジエチルエーテルを加え、分離する油状物質を
実施例5と同様に処理して、ナトリウム3―
(1H―テトラゾール―1―アセタミド)―2―オ
キソアゼチジン―1―スルホネート0.154gを得
る。 IRνKBr naxcm-1;1762,1665,1250。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.21(dd,J=2,
6Hz,C4―H),3.61(t,J=6Hz,C4―H),
4.85(ddd,J=2,6,8Hz,C3―H),5.26
(s,―CH2―),9.22(d.J=8Hz,NH),9.30
(s,
【式】). 実施例 12 3―〔3―(2,6―ジクロロフエニル)―5
―メチルイソキサゾール―4―イル〕―カルボキ
サミド―2―オキソアゼチジン0.214gをDMF1
mlに溶かし、これにピリジン―無水硫酸コンプレ
ツクス0.20gを加え3日間反応させる。反応液に
ジエチルエーテルを加え、分離する油状物質を実
施例5と同様に処理して、ナトリウム3―〔3―
(2,6―ジクロロフエニル)―5―メチルイソ
キサゾール―4―イル〕―カルボキサミド―2―
オキソアゼチジン―1―スルホネート0.212gを
得る。 IRνKBr naxcm-1;1762,1665,1250。 NMR(d6―DMSO,ppm);2.77(s,―CH3),
3.25(dd.J=2,6Hz,C4―H),3.57(t,J=
6Hz,C4―H),4.86(ddd,J=2,6,8Hz,
C3―H),7.53(s,aromatic H),8.74(d,
J=8Hz,NH). 実施例 13 3―ベンジルオキシカルボキサミド―2―オキ
ソアゼチジン0.44g、ピリジン―無水硫酸コンプ
レツクス0.32g,DMF2mlの溶液を室温で2日間
放置したのちジエチルエーテルを加えると、淡黄
色針状晶のピリジニウム3―ベンジルオキシカル
ボキサミド―2―オキソアゼチジン―1―スルホ
ネートの0.613gが得られる。 融点;134〜138℃(分解) 元素分析値 C16H17N3O6S 計算値 C50.65;H4.52;N11.08 実測値 C50.57;H4.51;N11.04 IRνKBr naxcm-1;3320,1760,1695,1530,1270,
1240,1055。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.30(dd,J=2,
6Hz,C4―H),3.62(dd,J=6Hz,C4―H),
4.64(ddd,J=8,6,2Hz,C3―H),5.06
(s,―CH2―),6.60〜7.40(broad s,NH),
8.0(d,J=8Hz,NH),8.10(dd,J=6Hz,
【式】),8.62(dd,J=6Hz,
【式】),8.94(dd,J=6Hz,
【式】). 実施例 14 3―(N―カルボベンゾキシ―D―アラニンア
ミド)―2―オキソアゼチジン2.185g、ピリジ
ン―無水硫酸コンプレツクス2.39g、無水
DMF10mlの溶液を室温で4日間放置する。反応
液にジエチルエーテルを加えると無色針状晶のピ
リジニウム3―(N―カルボベンゾキシ―D―ア
ラニンアミド)―2―オキソアゼチジン―1―ス
ルホネート2.7gが得られる。 融点;120〜125℃(分解)。 IRνKBr naxcm-1;1762,1678,1660,1525,1250,
1040. NMR(d6―DMSO,ppm);1.22(d,J=7Hz,
CH3)3.27(dd,J=6,2Hz,C4―H),3.63
(t,J=6Hz,C4―H),4.03(q,J=7Hz,
【式】),4.90(ddd,J=8,6,2Hz, C3―H),5.03(s,―CH2―),7.33(s,
aromatic H),8.0〜9.1(m.aromatic H). 上記、ピリジニウム3―(N―カルボベンゾキ
シ―D―アラニンアミド)―2―オキソアゼチジ
ン―1―スルホネート0.15gをDowex 50W Na
型で処理して、ナトリウム塩とした後、これに、
酢酸20mg、パラジウム黒50mgを加え、水素気流中
20分間かきまぜる。触媒を去し、液を凍結乾
燥するとナトリウム3―D―アラニンアミド―2
―オキソアゼチジン―1―スルホネートの酢酸塩
84mgが得られる。 IRνKBr naxcm-1;1760,1670,1550,1260,1240,
1045. NMR(D2O,ppm);1.62(d,J=7Hz,―
CH3),1.98(s,―CH3),3.80(dd,J=2,
6Hz,C4―H),3.99(t,J=6Hz,C4―H),
4.20(q,J=7Hz,
【式】),5.00(dd,J =2,6Hz,C3―H). 実施例 15 3―(ベンジルN〓―カルボベンゾキシ―γ―
D―グルタミル―D―アラニンアミド)―2―オ
キソアゼチジン0.30g、ピリジン―無水硫酸コン
プレツクス0.187g,DMF1mlの混合物を均一溶
液となるまで、かきまぜた後、12時間室温に保
つ。ジエチルエーテルを加え、分離する油状物質
にエタノールを加えると、ピリジニウム3―(ベ
ンジルN〓―カルボベンゾキシ―γ―D―グルタ
ミル―D―アラニンアミド)―2―オキソアゼチ
ジン―1―スルホネート―0.26gが結晶として得
られる。 IRνKBr naxcm-1;3300,1760,1740,1690,1640,
1570,1270,1210,1045. 上記、ピリジニウム3―(ベンジルN〓―カル
ボベンゾキシ―γ―D―グルタミル―D―アラニ
ンアミド)―2―オキソアゼチジン―1―スルホ
ネート0.26gをDowex 50W Na型樹脂に通し、
溶出液を凍結乾燥したものを水20mlに溶解する。
これに、バラジウム黒0.20gを加え、水素気流
中、1時間かきまぜる。触媒を去後、液を凍
結乾燥し、ナトリウム3―(γ―D―グルタミル
―D―アラニンアミド)―2―オキソアゼチジン
―1―スルホネート0.1gを得る。 IRνKBr naxcm-1;1760,1650,1630,1530,1260,
1240,1050。 NMR(D2O,ppm);1.43(d.J=7Hz,―CH3),
2.16(q,J=7Hz,―CH2―),2.54(t,J=
7Hz,―CH2―),3.74(dd,J=2,6Hz,C4
―H),3.80(t,J=6Hz,
【式】),3.97 (t,J=6Hz,C4―H),4.34(q,J=7Hz,
【式】),4.96(dd,J=2,6Hz,C3― H). 実施例 16 ピリジニウム3―ベンジルオキシカルボキサミ
ド―2―オキソアゼチジン―1―スルホネート
0.13gを60%エタノール4.5mlに溶かし、10%パ
ラジウム炭素(含水・日本エンゲルハルト社製)
0.13gを加え、水素気流中、室温で1.5時間かき
まぜる。触媒を去後、液を濃縮乾固し、3―
アミノ―2―オキソアゼチジン―1―スルホン酸
60mgを得る。 IRνKBr naxcm-1;3400,1750,1240,1050。 NMR(D2O,ppm);3.56(dd.J=3,6Hz,C4
H),4.05(t,J=6Hz,C4―H),4.45(dd.J
=3,6Hz,C3―H) 上記、3―アミノ―2―オキソアゼチジン―1
―スルホン酸50mgの水1ml溶液に、フエニル酢酸
クロリド69mgのテトラヒドロフラン1ml溶液と炭
酸水素ナトリウム101mgとを、氷冷下、かきまぜ
ながら交互に加える。さらに、室温で30分かきま
ぜてから、反応液を、リン酸でPH5.8に調製し、
減圧下、テトラヒドロフランを留去する。水層を
酢酸エチルで洗い、アンバーライトXADで精
製し、ナトリウム3―フエニルアセタミド―2―
オキソアゼチジン―1―スルホネート42mgを得
る。 IRνKBr naxcm-1;3310,1780,1670,1300―1200,
1080,1065。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.27(dd.J=3,6
Hz,C4―H),3.46(s,―CH2―),3.60(t,
J=6Hz,C4―H),4.84(ddd,J=3,6,
8Hz,C3―H),7.29(s,aromatic H),8.83
(d,J=8Hz,NH). 実施例 17 3―(α―ウレイドフエニルアセタミド)―2
―オキソアゼチジン0.349gをDMF5mlに溶かし、
ピリジン―無水硫酸コンプレツクス0.955gを加
えて4日間反応させる。エーテル30mlを加えて分
離する油状物質をDowex 50W Na型樹脂を通
し、アンバーライトXAD―カラムで精製する
と、次に示す二つの生成物を単離した。ナトリウ
ム3―(α―ウレイドフエニルアセタミド)―2
―オキソアゼチジン―1―スルホネート86mgを得
る。 IRνKBr naxcm-1;3430,3340,1755,1650,1510,
1240,1190,1040。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.14(dd,J=3,
6Hz,C4―H),3.54(t,J=6Hz,C4―H),
4.83(ddd,J=3,6,8Hz,C3―H),5.28
(d,J=8Hz,
【式】),5.68(s, NH2),6.80(d,J=8Hz,NH),7.35
(broad s,aromatic H),9.12(d,J=8
Hz,NH). ジナトリウム3―(α―スルホナトウレイドフ
エニルアセタミド)―2―オキソアゼチジン―1
―スルホネート0.455g得る。 IRνKBr naxcm-1;3440,1755,1660,1520,1230,
1140,1040。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.14(dd,J=3,
6Hz,C4―H),3.57(t,J=6Hz,C4―H),
4.83(ddd.J=3,6,8Hz,C3―H),5.33
(d,J=8Hz,
【式】),7.2―7.5(m, aromatic H),7.6(d,J=8Hz,NH),8.36
(broad s,NH),9.18(d,J=8Hz,NH). 実施例 18 3―〔2―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボキサミド)―2―フエニル
アセタミド〕―3―メトキシ―2―オキソアゼチ
ジン0.313gをDMF3mlに溶かし、ピリジン―無
水硫酸コンプレツクス0.359gを加えて5日間反
応させる。ジエチルエーテル30mlを加えて分離す
る油状物質をDowex 50W Na型樹脂を通し、溶
出液をアンバーライトXAD―カラムで精製す
ると、ナトリウム3―〔2―(4―エチル―2,
3―ジオキソ―1―ピペラジノカルボキサミド)
―2―フエニルアセタミド〕―3―メトキシ―2
―オキソアゼチジン―1―スルホネート0.202g
を得る。 IRνKBr naxcm-1;3460,1770,1710,1675,1510,
1250,1190,1050 実施例 19 3―〔2―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボキサミド)―4―ヒドロキ
シフエニルアセタミド〕―2―オキソアゼチジン
0.404gをDMF4mlに溶かし、ピリジン―無水硫
酸コンプレツクス0.637gを加えて4日間反応さ
せる。ジエチルエーテル30mlを加えて分離する油
状物質をDowex 50W、Na型樹脂を通し、溶出
液をアンバーライトXAD―カラムで精製する
と、ジナトリウム3―〔2―(4―エチル―2,
3―ジオキソ―1―ピペラジノカルボキサミド)
―2―(4―スルホナトオキシフエニル)アセタ
ミド〕―2―オキソアゼチジン―1―スルホネー
ト0.203gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3470,1760,1710,1675,1500,
1250,1190,1050。 NMR(d6―DMSO,ppm);1.09(t,J=7Hz,
CH3),3.19(dd,J=3,5Hz,C4―H),
3.42(q,J=7Hz,―CH2―),4.86(m,C3
―H),5.40(d,J=7Hz,
【式】),7.24 (ABq,J=9,17Hz,aromatic H),9.20
(d,J=8Hz,NH),9.76(d,J=7Hz,
NH). 実施例 20 3―〔2―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボキサミド)―2―(4―ヒ
ドロキシフエニル)アセタミド〕―2―オキソア
ゼチジン0.404gをDMF2mlに溶かし、ピリジン
―無水硫酸コンプレツクス0.191gを加えて4日
間反応させる。エチルエーテル20mlを加えて分離
する油状物質をDowex 50W Na型樹脂に通し、
溶出液をアンバーライトXAD―カラムで精製
して、実施例19で得られたジナトリウム3―〔2
―(4―エチル―2,3―ジオキソ―1―ピペラ
ジノカルボキサミド)―2―(4―スルホナトオ
キシフエニル)アセタミド〕―2―オキソアゼチ
ジン―1―スルホネート0.096gとナトリウム3
―〔2―(4―エチル―2,3―ジオキソ―1―
ピペラジノカルボキサミド)―2―(4―ヒドロ
キシフエニル)アセタミド〕―2―オキソアゼチ
ジン―1―スルホネート0.08gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3470,3300,1755,1710,1675,
1500,1265,1240,1190,1050。 NMR(d6―DMSO,ppm);1.09(t,J=7Hz,
―CH3),2.97(dd,J=3,5Hz,C4―H),
3.34(q,J=7Hz,―CH2―),3.35(t,J=
5Hz,C4―H),4.84(m,C3―H),5.40(d,
J=7Hz,
【式】),7.24(ABq,J=8, 16Hz,aromatic H),7.99(s,OH),9.10
(d,J=8Hz,NH),9.77(d,J=7Hz,
NH). 実施例 21 3―(4―エチル―2,3―ジオキソ―1―ピ
ペラジノカルボキサミド)―2―オキソアゼチジ
ン0.128gをDMF3mlに溶かし、ピリジン―無水
硫酸コンプレツクス0.16gを加えて3日間反応さ
せる。エチルエーテル25mlを加えて分離する油状
物質をDowex 50W Na型樹脂に通し、溶出液を
アンバーライトXAD―カラムで精製して、ナ
トリウム3―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボキサミド)―2―オキソア
ゼチジン―1―スルホネート0.095gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3300,1760,1710,1675,1520,
1260,1180,1050。 実施例 22 3―〔N―(4―エチル―2,3―ジオキソ―
1―ピペラジノカルボニル)―D―アラニンアミ
ド〕―2―オキソアゼチジン0.326gをDMF3ml
に溶かし、ピリジン―無水硫酸コンプレツクス
0.319gを加えて3日間反応させる。エチルエー
テル30mlを加えて分離する油状物質をDowex
50W Na型樹脂に通し、溶出液をアンバーライト
XAD―カラムで精製して、ナトリウム3―
〔N―(4―エチル―2,3―ジオキソ―1―ピ
ペラジノカルボニル)―D―アラニンアミド〕―
2―オキソアゼチジン―1―スルホネート0.253
gを得る。 IRνKBr naxcm-1;3300,1760,1710,1675,1520,
1250,1190,1050。 実施例 23 3―アミノ―2―オキソアゼチジン0.152gを
DMF2mlに溶かし、これに2,4―ジオキソ―5
―フエニル―1,3―ジオキソラン0.315gを少
量ずつ加える。10分後にピリジン―無水酢酸コン
プレツクス0.563gを加えて3日間室温に放置す
る。エチルエーテル20mlを加えて分離する油状物
質をDowex 50W Na型樹脂に通し、溶出液をア
ンバーライトXAD―カラムで精製して、3―
(α―スルホナトオキシフエニルアセタミド)―
2―オキソアゼチジン―1―スルホン酸ジナトリ
ウム塩0.790gを得る。 IRνKBr naxcm-1;1762,1663,1240。 NMR(d6―DMSO,ppm);3.32(dd,J=2,
6Hz,C4―H),3.52(t,J=5.5Hz,C4
H),4.77(ddd,J=2,8,5.5Hz,C4―H),
5.39(s,
【式】),7.33(s,aromatic H),8.63(d,J=8Hz,NH). 実施例 24 3―(2―シン―メトキシイミノ―2―フエニ
ルアセタミド)―2―オキソアゼチジン0.157g
をDMF1mlに溶かし、ピリジン―無水硫酸コンプ
レツクス0.202gを加えて、3日間室温に放置す
る。エチルエーテル10mlを加えて分離する油状物
質をDowex 50W Na型樹脂に通し、溶出液をア
ンバーライトXAD―カラムで精製して、ナト
リウム3―(2―シン―メトキシイミノ―2―フ
エニルアセタミド)―2―オキソアゼチジン―1
―スルホネート0.183gを得る。 IRνKBr naxcm-1;1760,1660,1530,1250。 NMR(DMSO―d6,ppm);3.67(t,J=5.5Hz,
C4―H),3.90(s,―OCH3),4.95(ddd,J=
2,8,5.5Hz,C3―H),7.3―7.7(m,
aromatic H),9.38(d,J=9Hz,NH) 実施例 25 ピリジニウム3―メトキシ―3―ベンジルオキ
シカルボキサミド―2―オキソアゼチジン―1―
スルホネート0.18gを60%エタノール3mlに溶か
し、10%パラジウム炭素(含水、日本エンゲルハ
ルト社製)0.15gを加え、水素気流中、室温で1
時間かきまぜる。触媒を去後、液を濃縮、乾
固し、3―アミノ―3―メトキシ―2―オキソア
ゼチジン―1―スルホン酸35mgを得る。 IRνKBr naxcm-1;3400,1758,1240,1050。 NMR(D2O,ppm);3.76,4.25(ABq,J=6
Hz,C4―H),3.52(s,OCH3). 上記、3―アミノ―3―メトキシ―2―オキソ
アゼチジン―1―スルホン酸30mgの水1ml溶液に
2―(2―クロロアセタミド―4―チアゾイル)
―2―メトキシイミノ酢酸(シン異性体)から合
成した酸クロリド89mgのテトラヒドロフラン1ml
溶液と、炭酸水素ナトリウム36mgとを、氷冷下か
きまぜながら、交互に加える。さらに室温で20分
かきまぜてから、反応液をリン酸でPH5.8に調整
し、減圧下、テトラヒドロフランを留去する。水
層を酢酸エチルで洗い、アンバーライトXAD―
で精製すると実施例9に記載のナトリウム3―
〔2―(2―クロロアセタミド―4―チアゾイル)
―2―メトキシイミノアセタミド〕―3―メトキ
シ―2―オキソアゼチジン―1―スルホネート
(シン異性体)28mgが得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 [式中、R1はR2またはアミノ基を、R2はアシ
    ル化されまたは保護されているアミノ基を、Xは
    水素またはメトキシを、それぞれ表わす。但し、
    Xがメトキシを表わす時、R1はγ―D―グルタ
    ミル―D又はL―アラニルを表わさない。]で表
    わされる1―スルホ―2―オキソアゼチジン誘導
    体またはその塩。 2 一般式 [式中、R2はアシル化されまたは保護されて
    いるアミノ基を、Xは水素またはメトキシを、そ
    れぞれ表わす。但し、Xがメトキシを表わす時、
    R2はγ―D―グルタミル―D又はL―アラニル
    を表わさない。]で表わされる2―オキソアゼチ
    ジン誘導体をスルホン化反応に付して一般式 [式中の記号は前記と同意義]で表わされる化
    合物またはその塩を製造し、R2が保護されてい
    るアミノ基の場合には必要によりさらに保護基を
    脱離して一般式 [式中の記号は前記と同意義]で表わされる化
    合物またはその塩を製造することを特徴とする一
    般式 [式中、R1はR2またはアミノ基を、R2及びX
    は前記と同意義を、それぞれ表わす。但し、Xが
    メトキシを表わす時、R1はγ―D―グルタミル
    ―D又はL―アラニルを表わさない。]で表わさ
    れる1―スルホ―2―オキソアゼチジン誘導体ま
    たはその塩の製造法。 3 一般式 [式中、Xは水素またはメトキシを表わす。]
    で表わされる3―アミノ―1―スルホ―2―オキ
    ソアゼチジン誘導体またはその塩をアシル化反応
    に付すことを特徴とする一般式 [式中、R3はアシル化されているアミノ基を、
    Xは前記と同意義を、それぞれ表わす。但し、X
    がメトキシを表わす時、R3はγ―D―グルタミ
    ル―D又はL―アラニルを表わさない。]で表わ
    される1―スルホ―2―オキソアゼチジン誘導体
    またはその塩の製造法。 4 一般式 [式中、R1はR2またはアミノ基を、R2はアシ
    ル化されまたは保護されているアミノ基を、Xは
    水素またはメトキシを、それぞれ表わす。但し、
    Xがメトキシを表わす時、R1はγ―D―グルタ
    ミル―D又はL―アラニルを表わさない。]で表
    わされる1―スルホ―2―オキソアゼチジン誘導
    体またはその塩を含有する抗菌組成物。
JP7281379A 1979-06-08 1979-06-08 Azetidine derivative and its preparation Granted JPS55164672A (en)

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