JPH03238636A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野］ 本発明は光磁気メモリー、磁気記録９表示素子などに用
いられる光ディスクに関し、特にコンピュータ用メモリ
ーとして好適な光ディスクに関するものである。

［従来の技術］ 大量の情報を高密度に蓄積でき、しかも高速に情報を読
み出すことのできる光磁気メモリーが近年注目されてい
る。この種の光メモリーとして、それぞれ透明基板上に
干渉層、光磁気記録層および保護層が順次形成されてい
る２個の光磁気記録媒体を保護層を対向させ、接着剤に
よって接着した構造の光ディスクが多（用いられている
。コンピュータメモリ用光ディスクはＩＳＯ／ＤＩＳ　
９１７１において、使用環境としてｌＯ℃〜５０℃、長
期保存条件−１０℃〜５０℃、短期保存条件−２０℃〜
５５℃と定められている。しかし、実使用時にはディス
ク駆動装置内では６０℃程度になる事が予想され、また
夏期に自動車内に放置された場合、７０℃以上の高温に
なる事も予想される。

こうした条件下でも、光ディスクの変形（主として貼合
せディスクのはがれによる）を防ぐために、使用される
接着剤はガラス転移温度Ｔｇが高く、高温での弾性率の
高い接着剤が使われている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、光磁気ディスクの様な、高密度・高機能
光メモリの場合は、高い弾性率の接着剤を使うと、例え
ば７０℃Ｘ８５％ＲＨのエージングテストを行った場合
、基板上に積層された膜に応力が集中し、その結果、記
録層が劣化してしまう。すなわち、高弾性率の接着剤に
よって貼合せた光ディスクは信頼性の上で欠点があった
。

本発明はこのような従来の欠点を解決し、高い信頼性を
有する光ディスクを提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ このような目的を達成するために、本発明光ディスクは
それぞれ透明基板上に干渉層、光磁気記録層および保護
層が順次形成されている２個の光磁気記録媒体が、それ
ぞれの前記保護層を対向させ、接着剤によって接着され
た構造の光ディスクにおいて、前記接着剤の弾性率Ｇ′
が２０℃において１×１０６≦Ｇ’ｉｏ・ｃ≦ｌ　ｘ　
１０’ｄｙｎｅ／ｃｍ”　、　７０℃において２　Ｘ　
ｔｏ’≦に’ｙａ・ｅ≦２　Ｘ　１０＠ｄｙｎｅ／ｃｍ
″かつＧ’ｓ。・ｃ／Ｇ’、。°０≦５０であり、さら
に前記基板の端面部が、第２の接着剤によって接着され
ていることを特徴とする。

［実施例］ 以下実施例によって本発明の詳細な説明する。

まず、第１表に示すような弾性率の異なる９種の接着剤
を準備した。

Ｃ以下余白） ［作　用〕 本発明においては２枚の光磁気媒体を接着して両面光デ
ィスクを構成するための接着剤として、適切な弾性率値
を有するものが選ばれている。そのために、過酷な環境
下におかれても光ディスクが劣化することなく、高い信
頼性を保つことができる。

接着剤の弾性率は、もちろん硬化後の弾性率であり、粘
弾性スペクトロメーターを用い、周波数１０Ｈｚで剪断
法によって測定した。

一方、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板１上に５
ＬＯＩＩ、ＳｉＮｘなどからなる厚さ０．０７μｍの干
渉膜（無機保護膜）　２　、　Ｔ、Ｆ、Ｃ，からなる厚
さ０．０８μｍの光磁気記録膜３　＋　５ＩＯＩ＋から
なる無機保護膜４゜アクリル系Ｕｖ樹脂からなる有機保
護膜５を有する光磁気記録媒体を多数作製した。２個の
媒体を有機保護膜５を対向させて第１表に示した接着剤
６によって接着し、第１図に示すような両面光ディスク
を作製した。接着剤の塗布は加熱ロールコート法により
、接着剤の厚さは６０μｍとした。

このように、接着剤をかえて作製した９種の光ディスク
を比較例試料１〜９とした。さらに、これら９種の光デ
ィスクの外周端面を接着剤７で接着した実施例試料１〜
４および比較例試料１０〜１６を作製した。端面の処理
にはエポキシ系接着剤を用い、第２図（Ａ）に示すよう
に、２枚の媒体８および９の外周側面の全周または幅Ｉ
ＣＩＩ＋程度にわたる３個所または２個所で接着した。

これら各種試料を７０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽内に
２，０００時間保持した後、記録膜の腐食の状況。

ディスクのはがれの有無を目視によって調べた。

さらに記録信号の再生Ｃ／Ｎを測定し、エージング前の
Ｃ／Ｎと比較した。これらの結果をまとめて第２表に示
す、第２表における３段階評価の内容は次の通りである
。すなわち、腐食についてはピンホール面積をエージン
グ前のそれと比較し、３倍以下を○、１０倍以下をΔ、
１０倍をこえたものを×とした。ディスクのはがれおよ
びずれについては、１１００ｕ以下を○、３００μｍ以
下を△、３００μ■をこえたものを×とした。記録信号
の再生については、エージングによるＣ／Ｎの低下、Δ
Ｃ／Ｎが１ｄＢ以下を○、３ｄＢ以下を△、３ｄＢをこ
えたものをＸとした。なお、第２表の端面処理槽におけ
る２ｋｇ／ａｍ”　、５ｋｇ／ｃａ＋”および１０ｋｇ
／ｃｍ”はそれぞれ端面処理に使用した接着剤の接着強
度を示している。

第 表 第２表から明らかなように、２．０００時間の耐久試験
の後に記録膜の腐食およびディスクの剥がれ・ずれが生
ぜず、記録信号の再生特性が良好なものは、実施例試料
１，２．３および４である。これらに使用されている接
着剤Ａ、Ｂ、ＣおよびＨは、すべてその弾性率が２０℃
において１×１０６≦Ｇ’ｚｏ’ｅ≦１　ｘ　１０’ｄ
ｙｎｅ／ｃｍ”　、　７０℃において２×１０’≦Ｇ’
ｙａ・ｃ≦２　Ｘ　１０’ｄｙｎｅ／ｃｍ”　、かつＧ
’ｓ。・ｃ／Ｇ゛７゜°０≦５０である。すなわち、接
着剤は適度の硬さを有し、さらに常温の値と７０℃の値
の変化が小さいことが必要である。さらに第２表に示す
ように、これらの適切な接着剤に加え、光ディスクの外
周部を接着することが重要である。実施例試料１と比較
例試料１１および１２との比較から明らかなように、外
周部の接着には接着力５ｋｇ／ｃｍ”以上の接着剤を用
い、少なくとも３点において接着することが望ましい、
接着剤り、Ｅ、Ｆ、、ＧおよびＩを使用した場合には、
端面処理を施しても効果がない。

端面処理の方法としては、第２図（Ｂ）に示すように、
外周側面でな（２枚の媒体の対向する面の外周部を接着
してもよい。この時の半径方向の接着範囲は浅い程よ（
，１ｍｍ以下が望ましい。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、信号の再生特性
が良（、かつ信頼性の高い光ディスクを得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明実施例の破断面を含む斜視図、 第２図は端面接着を説明する断面図である。 ｌ・・・光デイスク基板、 ２・・・無機保護膜、 ３・・・光磁気記録膜、 ４・・・無機保護膜、 ５・・・有機保護膜、 ６・・・接着剤、 ７・・・端面接着剤、 ８．９・・・光磁気記録媒体。 ２：’ｌ！Ｈ％貨１１膜 ３Ｘル磁気記録膿 ４；Ｗ＾保譚職 ５　有調保罐膜 ６・接４１Ｐｊ ７；箇面浸眉躬 本忙明（旧列／１ｗＴＦｆｒＪｋＢＬ針視図第１図 ９ （Ｂ） ｍ面拶看を説明ずろ劇廓訪面図 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）それぞれ透明基板上に干渉層、光磁気記録層および
   保護層が順次形成されている２個の光磁気記録媒体が、
   それぞれの前記保護層を対向させ、接着剤によって接着
   された構造の光ディスクにおいて、前記接着剤の弾性率
   Ｇ′が２０℃において１×１０＾６≦Ｇ′＿２＿０＿℃
   ≦１×１０＾７ｄｙｎｅ／ｃｍ＾２、７０℃において２
   ×１０＾５≦Ｇ′＿７＿０＿℃≦２×１０＾６ｄｙｎｅ
   ／ｃｍ＾２、かつＧ′＿２＿０＿℃／Ｇ′＿７＿０＿℃
   ≦５０であり、さらに前記基板の端面部が、第２の接着
   剤によって接着されていることを特徴とする光ディスク
   。 ２）前記第２の接着剤の接着力が５ｋｇ／ｃｍ＾２以上
   であり、かつ前記基板の外周部が少なくとも３個所で接
   着されていることを特徴とする請求項１に記載の光ディ
   スク。 ３）前記記録層がアモルファス−希土類遷移金属合金を
   主成分とすることを特徴とする請求項１または２に記載
   の光ディスク。