JPH03239203A - 表面高反射鏡 - Google Patents
表面高反射鏡Info
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- JPH03239203A JPH03239203A JP3581190A JP3581190A JPH03239203A JP H03239203 A JPH03239203 A JP H03239203A JP 3581190 A JP3581190 A JP 3581190A JP 3581190 A JP3581190 A JP 3581190A JP H03239203 A JPH03239203 A JP H03239203A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の光学製品に使用
される表面反射多層膜を有する表面高反射鏡に関する。
される表面反射多層膜を有する表面高反射鏡に関する。
光学製品に使用される表面高反射鏡の反射材料としては
、一般的には、可視から近赤外の範囲にわたって反射率
が高い銀が使用されている。しかしながら、銀を使用す
る場合、単層膜では膜付着性、耐湿性、耐硫化性等の点
で劣るという問題がある。このため銀の単層膜に下地層
と、保護層とを形成した多層膜構成とし、膜付着性、耐
湿匝、耐硫化性等を付与している。
、一般的には、可視から近赤外の範囲にわたって反射率
が高い銀が使用されている。しかしながら、銀を使用す
る場合、単層膜では膜付着性、耐湿性、耐硫化性等の点
で劣るという問題がある。このため銀の単層膜に下地層
と、保護層とを形成した多層膜構成とし、膜付着性、耐
湿匝、耐硫化性等を付与している。
例えば、第３図に示すように、４層構造として、基板１
ｅ上に酸化アルミニウムからなる酸化物下地層２ｅを形
成し、酸化物下地層２ｅ上に銀からなる反射層４ｅを形
成し、さらに反射層４ｅ上に保護層として、酸化アルミ
ニウム層５ｅと、二酸化ケイ素層６ｅとを順次形成した
例（”Ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ ａｎｄ ｄｕｒａｂｉ
ｌｉｔｙ ｏｆ Ａｇ ｍ１ｒｒｏｒｓ ｃｏａｔｅｄ
ｗｉｔｈ ｔｈｉｎ １ａｙｅｒｓ ｏｆ／ｄ１２０
３ｐｌｕｓ ｒｅａｃｔｉｖｅｌｙ ｄｅｐｏｓｉｔｅ
ｄ ５ｉｌｉｃｏｎ ｏｘｉｄｅ、 ”Ａｐｐｌ、 ｏ
ｐｔ６．１４（１９７５）、 ２６３９）がある。
ｅ上に酸化アルミニウムからなる酸化物下地層２ｅを形
成し、酸化物下地層２ｅ上に銀からなる反射層４ｅを形
成し、さらに反射層４ｅ上に保護層として、酸化アルミ
ニウム層５ｅと、二酸化ケイ素層６ｅとを順次形成した
例（”Ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ ａｎｄ ｄｕｒａｂｉ
ｌｉｔｙ ｏｆ Ａｇ ｍ１ｒｒｏｒｓ ｃｏａｔｅｄ
ｗｉｔｈ ｔｈｉｎ １ａｙｅｒｓ ｏｆ／ｄ１２０
３ｐｌｕｓ ｒｅａｃｔｉｖｅｌｙ ｄｅｐｏｓｉｔｅ
ｄ ５ｉｌｉｃｏｎ ｏｘｉｄｅ、 ”Ａｐｐｌ、 ｏ
ｐｔ６．１４（１９７５）、 ２６３９）がある。
また第４図に示すように、６層構造として、基板ｌｆ上
に銅からなる下地層２ｆを形成し、下地層２ｆ上に銀か
らなる反射層４ｆを形成し、さらに反射層４ｆ上に保護
層として、酸化アルミニウム層５ｆと、酸化タンタル層
６ｆと、二酸化ケイ素層７ｆと、酸化タンタル層８ｆと
を順次形成した例（′”Ｐｒｏｇｒｅｓｓ １ｎｔｈｅ
ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ａ ｄｕｒａｂｌｅ
５ｉｌｖｅｒ−ｂａｓｅｄ ｈｌｇｈ−ｒｅｆｌｅｃ
ｔａｎｃｅ ｃｏａｔｉｎｇ ｆ’ｏｒ ａｓｔｒｏｎ
ｏｍｉｃａｌ ｔｅｌｅｓｃｏｐｅｓ、 ”Ａｐｐｌ、
Ｏｐｔ、 、 ２４ （１９８５） 、 １１６４）
がある。
に銅からなる下地層２ｆを形成し、下地層２ｆ上に銀か
らなる反射層４ｆを形成し、さらに反射層４ｆ上に保護
層として、酸化アルミニウム層５ｆと、酸化タンタル層
６ｆと、二酸化ケイ素層７ｆと、酸化タンタル層８ｆと
を順次形成した例（′”Ｐｒｏｇｒｅｓｓ １ｎｔｈｅ
ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ａ ｄｕｒａｂｌｅ
５ｉｌｖｅｒ−ｂａｓｅｄ ｈｌｇｈ−ｒｅｆｌｅｃ
ｔａｎｃｅ ｃｏａｔｉｎｇ ｆ’ｏｒ ａｓｔｒｏｎ
ｏｍｉｃａｌ ｔｅｌｅｓｃｏｐｅｓ、 ”Ａｐｐｌ、
Ｏｐｔ、 、 ２４ （１９８５） 、 １１６４）
がある。
上記方法は、いずれも表面高反射鏡の基板としてガラス
を使用する場合に効果を発揮する。
を使用する場合に効果を発揮する。
近年、ポリカーボネート、ポリエステノペアクリル樹脂
等のプラスチック成形技術が発達し、またプラスチック
はガラスと比較して複雑な形状を簡単に成形できるとい
う利点から、光学部材としてその使用範囲も拡大してい
る。例えば、カメラに使用されているペンタプリズムは
、コスト低減のためにプラスチック化が望まれており、
内部中空のペンタ形状成形品に表面反射膜を形成した製
品も使用され始めている。しかしながら、基板がポリカ
ーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチ
ックで形成されている場合は、基板がガラスで形成され
ている場合と比較して、上述と同様の膜構成では、膜付
着性、耐湿性等の点で劣るという問題点がある。
等のプラスチック成形技術が発達し、またプラスチック
はガラスと比較して複雑な形状を簡単に成形できるとい
う利点から、光学部材としてその使用範囲も拡大してい
る。例えば、カメラに使用されているペンタプリズムは
、コスト低減のためにプラスチック化が望まれており、
内部中空のペンタ形状成形品に表面反射膜を形成した製
品も使用され始めている。しかしながら、基板がポリカ
ーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチ
ックで形成されている場合は、基板がガラスで形成され
ている場合と比較して、上述と同様の膜構成では、膜付
着性、耐湿性等の点で劣るという問題点がある。
従って本発明の目的は、基板がポリカーボネート、ポリ
エステル、アクリル樹脂等のプラスチ・ツクで形成され
ている場合においても、膜付着性、耐湿性等に優れた表
面高反射鏡を提供することである。
エステル、アクリル樹脂等のプラスチ・ツクで形成され
ている場合においても、膜付着性、耐湿性等に優れた表
面高反射鏡を提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、基板がポ
リカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラ
スチックで形成されている場合においても、膜付着性、
耐湿性等に優れた表面高反射鏡を得るためには、基板と
銀からなる反射層との付着力を強化すればよいが、基板
上に酸化物層を形成し、その上に硫化物層を形成し、さ
らにその上に反射層を形成すればその付着力を強化でき
ることを発見し、本発明に想到した。
リカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラ
スチックで形成されている場合においても、膜付着性、
耐湿性等に優れた表面高反射鏡を得るためには、基板と
銀からなる反射層との付着力を強化すればよいが、基板
上に酸化物層を形成し、その上に硫化物層を形成し、さ
らにその上に反射層を形成すればその付着力を強化でき
ることを発見し、本発明に想到した。
すなわち、本発明の表面高反射鏡は、（ａ）基板表面上
に形成された酸化物下地層と、ら）前記酸化物下地層上
に形成された硫化物下地層と、（ｃ）前記硫化物下地層
上に形成された銀からなる反射層と、（６）前記反射層
上に形成された保護層とを有することを特徴とする。
に形成された酸化物下地層と、ら）前記酸化物下地層上
に形成された硫化物下地層と、（ｃ）前記硫化物下地層
上に形成された銀からなる反射層と、（６）前記反射層
上に形成された保護層とを有することを特徴とする。
表面高反射鏡において、基板がポリカーボネート、ポリ
エステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されて
いる場合においても、基板上に基板との付着性の高い酸
化物の下地層を形成し、その酸化物下地層上に硫化物の
下地層を形成し、その硫化物下地層上に銀からなる反射
層を形成すると、基板と銀からなる反射層の膜付着力が
強化される。これにより膜付着性、耐湿性の高い表面高
反射鏡が得られる。
エステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されて
いる場合においても、基板上に基板との付着性の高い酸
化物の下地層を形成し、その酸化物下地層上に硫化物の
下地層を形成し、その硫化物下地層上に銀からなる反射
層を形成すると、基板と銀からなる反射層の膜付着力が
強化される。これにより膜付着性、耐湿性の高い表面高
反射鏡が得られる。
第１図は、本発明の一実施例による表面高反射鏡を概略
的に示す。本表面高反射鏡は、４層構造であり、各層は
真空蒸着法、スパッタリング等により形成されている。
的に示す。本表面高反射鏡は、４層構造であり、各層は
真空蒸着法、スパッタリング等により形成されている。
本実施例では、ポリカーボネート、ポリエステル、アク
リル樹脂等のプラスチックで形成された基板ＩＣ上に表
面高反射鏡が形成される場合を示すが、ガラス基板上に
も形成し得ることは勿論である。
リル樹脂等のプラスチックで形成された基板ＩＣ上に表
面高反射鏡が形成される場合を示すが、ガラス基板上に
も形成し得ることは勿論である。
基板ＩＣ上に硫化物からなる下地層２Ｃが形成され、酸
化物下地層２Ｃ上に硫化物からなる硫化物下地層３Ｃが
形成され、硫化物下地層３Ｃ上に銀からなる反射層４Ｃ
が形成され、さらに反射層４Ｃ上に保護層５Ｃが形成さ
れている。
化物下地層２Ｃ上に硫化物からなる硫化物下地層３Ｃが
形成され、硫化物下地層３Ｃ上に銀からなる反射層４Ｃ
が形成され、さらに反射層４Ｃ上に保護層５Ｃが形成さ
れている。
酸化物下地層２Ｃは、上記プラスチック材料からなる基
板ＩＣと、硫化物からなる硫化物下地層３Ｃと一 ６− の付着性が高い酸化物により形成するが、硫化物下地層
３Ｃが硫化亜鉛から形成されている場合に１．１′、こ
のような酸化物として、酸化アルミニウム、酸化ニオブ
、酸化コバルト、酸化チタンが好ましく・１また硫化物
下地層３Ｃが硫化アン千モンから形成されている場合に
は、このような酸化物としで、酸化ニオブ、酸化コバル
トが好ま［７Ｆハ。酸イ１−物モ電層２Ｃの厚さはｌＱ
ｎｍ以上であり、特に１５ ＝、−１’ｉ （ｌ ｒｌ
ｍで゛ぎ７るのが好ましい。酸化物下地層２Ｃの腺ｆ
ｉ ｆｉ＜ ｉ ０ ｎ ｍ ３、満であると、十分な
付着力が得られプよい９−硫化物下地層３Ｃは、上記酸
化物下地層：か−と、銀からなる反射層４Ｃとの付着性
が高い硫化物）ごよ（′″ｌｌ形成が、」二連したよう
な酸化物下地ｑ２Ｃとの組合せに従った硫化亜鉛または
硫化マ゛千モンが好ましい。硫化物下地層３Ｃの厚さは
ｉ Ｑ ｎ ｍ以上であり、特に１５〜５Ｑｎｍである
のが好ましい、硫化物下地層３Ｃの膜厚がｌＱｎｍ未満
であると、十分な付着力が得られない。
板ＩＣと、硫化物からなる硫化物下地層３Ｃと一 ６− の付着性が高い酸化物により形成するが、硫化物下地層
３Ｃが硫化亜鉛から形成されている場合に１．１′、こ
のような酸化物として、酸化アルミニウム、酸化ニオブ
、酸化コバルト、酸化チタンが好ましく・１また硫化物
下地層３Ｃが硫化アン千モンから形成されている場合に
は、このような酸化物としで、酸化ニオブ、酸化コバル
トが好ま［７Ｆハ。酸イ１−物モ電層２Ｃの厚さはｌＱ
ｎｍ以上であり、特に１５ ＝、−１’ｉ （ｌ ｒｌ
ｍで゛ぎ７るのが好ましい。酸化物下地層２Ｃの腺ｆ
ｉ ｆｉ＜ ｉ ０ ｎ ｍ ３、満であると、十分な
付着力が得られプよい９−硫化物下地層３Ｃは、上記酸
化物下地層：か−と、銀からなる反射層４Ｃとの付着性
が高い硫化物）ごよ（′″ｌｌ形成が、」二連したよう
な酸化物下地ｑ２Ｃとの組合せに従った硫化亜鉛または
硫化マ゛千モンが好ましい。硫化物下地層３Ｃの厚さは
ｉ Ｑ ｎ ｍ以上であり、特に１５〜５Ｑｎｍである
のが好ましい、硫化物下地層３Ｃの膜厚がｌＱｎｍ未満
であると、十分な付着力が得られない。
硫化物下地層３Ｃ上に形成された銀からなる反射層４Ｃ
は、４５ｎｍ以上の膜厚を有するのが好ましく、特に１
００〜２００ｎｍ とするのが好ましい。膜厚が４５ｎ
ｍ未満であると、完全な反射とならず、／’％−フミラ
ー化するので、好ましくない。
は、４５ｎｍ以上の膜厚を有するのが好ましく、特に１
００〜２００ｎｍ とするのが好ましい。膜厚が４５ｎ
ｍ未満であると、完全な反射とならず、／’％−フミラ
ー化するので、好ましくない。
最後に、反射層４Ｃ上に形成した保護層５Ｃは、酸化ア
ルミニウムにより形成するのが好ましく、また膜厚は２
Ｑｎｍ以上、特に２０〜１１００ｎであるのが好まし、
い。膜厚が３Ｑｎｍ未満であると、反射層４Ｃの保護作
用が充分でない。
ルミニウムにより形成するのが好ましく、また膜厚は２
Ｑｎｍ以上、特に２０〜１１００ｎであるのが好まし、
い。膜厚が３Ｑｎｍ未満であると、反射層４Ｃの保護作
用が充分でない。
第２図は、本発明の別の実施例による表面高反射鏡を概
略的に示す。この実施例では、保護層５ｄは酸化アルミ
ニウム層と透明材料からなる層との多層膜からなるが、
その他の層（酸化物下地層２ｄ。
略的に示す。この実施例では、保護層５ｄは酸化アルミ
ニウム層と透明材料からなる層との多層膜からなるが、
その他の層（酸化物下地層２ｄ。
硫化物下地１１３ｄ及び反射層４ｄ）については、第１
図の実施例と同じである。
図の実施例と同じである。
透明材料としては、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、
酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブ、二酸化ケイ素
、フッ化マグネシウム等の誘電体があげられ、その膜厚
は２０ｎｍ以上、特に２０〜１ｏｏｎｍであるのが好ま
しい。
酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブ、二酸化ケイ素
、フッ化マグネシウム等の誘電体があげられ、その膜厚
は２０ｎｍ以上、特に２０〜１ｏｏｎｍであるのが好ま
しい。
酸化アルミニウム層と透明材料からなる層とは一層ずつ
でもよいが、交互に積層させてもよい。
でもよいが、交互に積層させてもよい。
積層の場合、各層は２〜５層程度とするのがよい。
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例１〜６
第１図に示す構成の表面高反射鏡を作成するために、ま
ずポリカーボネートからなる基板ＩＣ上に、下記第１表
に示す酸化物の層を真空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形
成し、酸化物下地層２Ｃとした。この酸化物下地層２Ｃ
上に、下記第１表に示す組合せに従い、硫化物の層を真
空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形成し、硫化物下地層３
Ｃとした４、この硫化物下地層３Ｃ上に、反射材料とし
て膜厚ＩＱＱｎａ＋の銀からなる反射層４Ｃを真空蒸着
法により形成した１ｏさらに反射層４Ｃ上に膜厚１１０
０ｎの酸化アルミニウドからなる保護層５Ｃを真空蒸着
法にＪ゛り形成し、表面高反射鏡を形成した。
ずポリカーボネートからなる基板ＩＣ上に、下記第１表
に示す酸化物の層を真空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形
成し、酸化物下地層２Ｃとした。この酸化物下地層２Ｃ
上に、下記第１表に示す組合せに従い、硫化物の層を真
空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形成し、硫化物下地層３
Ｃとした４、この硫化物下地層３Ｃ上に、反射材料とし
て膜厚ＩＱＱｎａ＋の銀からなる反射層４Ｃを真空蒸着
法により形成した１ｏさらに反射層４Ｃ上に膜厚１１０
０ｎの酸化アルミニウドからなる保護層５Ｃを真空蒸着
法にＪ゛り形成し、表面高反射鏡を形成した。
第 １ 表
この表面高反射鏡を、温度４０℃、湿度９５％ＲＨの恒
温室に放置し、２１６時間経過するまで２４時間毎にセ
ロハンテープによる剥離試験を行い、耐湿性試験を行っ
た。なお実際の使用を考慮すると、剥離するまでの時間
は２００時間以上が望ましい。結果を第３表に示す。
温室に放置し、２１６時間経過するまで２４時間毎にセ
ロハンテープによる剥離試験を行い、耐湿性試験を行っ
た。なお実際の使用を考慮すると、剥離するまでの時間
は２００時間以上が望ましい。結果を第３表に示す。
また実施例１については、上記耐湿性試験前後で４５°
の入射光に対する分光反射率を測定した。
の入射光に対する分光反射率を測定した。
結果を第６図に示す。この結果によれば、耐湿性試験の
前後で４５°入射光の分光反射率はほとんど変化せず、
また耐湿性試験後においても、波長が１０ ４３０〜７００ ｎｍの可視域では、９７％以上の高反
射率が得られた。
前後で４５°入射光の分光反射率はほとんど変化せず、
また耐湿性試験後においても、波長が１０ ４３０〜７００ ｎｍの可視域では、９７％以上の高反
射率が得られた。
実施例７
第２図に示す構成の表面高反射鏡を作成するために、保
護層５ｄとして酸化アルミニウム層を含む透明材料の多
層膜を形成し、それ以外は実施例１〜６と同じ条件で表
面高反射鏡を形成した。なお、保護層５ｄは厚さ［ｉ５
ｎｍの酸化アルミニウム層と、厚さ５５ｎｍの酸化ジル
コニウムからなる誘電体層との２層からなる。実施例１
〜６と同様に試験した結果、膜付着性、耐湿性について
は、実施例１〜６と同様であった。
護層５ｄとして酸化アルミニウム層を含む透明材料の多
層膜を形成し、それ以外は実施例１〜６と同じ条件で表
面高反射鏡を形成した。なお、保護層５ｄは厚さ［ｉ５
ｎｍの酸化アルミニウム層と、厚さ５５ｎｍの酸化ジル
コニウムからなる誘電体層との２層からなる。実施例１
〜６と同様に試験した結果、膜付着性、耐湿性について
は、実施例１〜６と同様であった。
比較例１〜８
酸化物下地層と硫化物下地層とを下記第２表に示す酸化
物と硫化物との組合せにより形成した以外、実施例１〜
６と同じ条件で表面高反射鏡を形成し、実施例１〜６と
同じ耐湿性試験を行った。
物と硫化物との組合せにより形成した以外、実施例１〜
６と同じ条件で表面高反射鏡を形成し、実施例１〜６と
同じ耐湿性試験を行った。
結果を第３表に示す。
第 ２
表
比較例９
第３図に示すような４層構造からなる表面高反射鏡を作
成するために、ポリカーボネートからなる基板１ｅ上に
膜厚３Ｑｎ＋ｒ＋の酸化アルミニウムからなる下地層２
ｅを真空蒸着法により形成し、下地層２ｅ上に膜厚１１
００ｎの銀からなる反射層４ｅを真空蒸着法により形成
し、さらに反射層４ｅ上に保護層として、膜厚３０ｎｍ
の酸化アルミニウム層５ｅと、膜厚１５Ｑｎｍの二酸化
ケイ素層６ｅとを、真空蒸着法により順次形成した。得
られた表面高反射鏡に対して、実施例１〜６と同じ耐湿
性試験を行った。結果を第３表に示す。
成するために、ポリカーボネートからなる基板１ｅ上に
膜厚３Ｑｎ＋ｒ＋の酸化アルミニウムからなる下地層２
ｅを真空蒸着法により形成し、下地層２ｅ上に膜厚１１
００ｎの銀からなる反射層４ｅを真空蒸着法により形成
し、さらに反射層４ｅ上に保護層として、膜厚３０ｎｍ
の酸化アルミニウム層５ｅと、膜厚１５Ｑｎｍの二酸化
ケイ素層６ｅとを、真空蒸着法により順次形成した。得
られた表面高反射鏡に対して、実施例１〜６と同じ耐湿
性試験を行った。結果を第３表に示す。
比較例１０
第４図にふいて、ポリカーボネートで形成された基板Ｉ
ｆ上に、銅を真空蒸着法により膜厚４０ｎｍに形成し、
下地層２ｆとした。この下地層２ｆ上に反射材料として
膜厚１１００ｎの銀からなる反射層４ｆを真空蒸着法に
より形成し、さらに反射層４ｆ上に保護層として、膜厚
６Ｑｎｍの酸化アルミニウム層５ｆと、膜厚７５ｎｍの
酸化タンタル層６ｆと、膜厚７５ｎｍの酸化ケイ素層７
ｆと、膜厚７５ｎｍの酸化タンタル層８ｆとを、真空蒸
着法により順次形成した。得られた表面高反射鏡に対し
て、実施例１〜６と同じ耐湿性試験を行った。結果を第
３表に示す。
ｆ上に、銅を真空蒸着法により膜厚４０ｎｍに形成し、
下地層２ｆとした。この下地層２ｆ上に反射材料として
膜厚１１００ｎの銀からなる反射層４ｆを真空蒸着法に
より形成し、さらに反射層４ｆ上に保護層として、膜厚
６Ｑｎｍの酸化アルミニウム層５ｆと、膜厚７５ｎｍの
酸化タンタル層６ｆと、膜厚７５ｎｍの酸化ケイ素層７
ｆと、膜厚７５ｎｍの酸化タンタル層８ｆとを、真空蒸
着法により順次形成した。得られた表面高反射鏡に対し
て、実施例１〜６と同じ耐湿性試験を行った。結果を第
３表に示す。
比較例１１〜１２
第５図に示すような３層構造からなる表面高反射鏡を作
成するために、ポリカーボネートからなる基板ｌｉ上に
、硫化亜鉛の層（比較例１１）及び硫化アンチモン（比
較例１２）の層を真空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形成
し、硫化物下地層３１とした。この硫化物下地層３１上
に反射材料として膜厚１１００ｎの銀からなる反射層４
１を真空蒸着法により形成した。さらに反射層４１上に
膜厚１１００ｎ酸化アルミニウムからなる保護層５Ｉを
真空蒸着法により形成した。得られた表面高反射鏡に対
して、実施例１〜６と同じ耐湿性試験を行った。結果を
第３表に示す。
成するために、ポリカーボネートからなる基板ｌｉ上に
、硫化亜鉛の層（比較例１１）及び硫化アンチモン（比
較例１２）の層を真空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形成
し、硫化物下地層３１とした。この硫化物下地層３１上
に反射材料として膜厚１１００ｎの銀からなる反射層４
１を真空蒸着法により形成した。さらに反射層４１上に
膜厚１１００ｎ酸化アルミニウムからなる保護層５Ｉを
真空蒸着法により形成した。得られた表面高反射鏡に対
して、実施例１〜６と同じ耐湿性試験を行った。結果を
第３表に示す。
１３−
１４−
第 ３
表
以上から明らかなよう（３本発明の表面高反射鏡におい
ては、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化コバルト、
酸化チタンの少なくとも一材料からなる酸化物下地層が
、基板及び硫化亜鉛からなる硫化物下地層との膜付着性
において特に優れていることがわかる。また酸化ニオブ
、酸化コノイルトの少なくとも一材料からなる酸化物下
地層が、基板及び硫化アンチモンからなる硫化物下地層
との膜付着性において特に優れていることがわかる。
ては、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化コバルト、
酸化チタンの少なくとも一材料からなる酸化物下地層が
、基板及び硫化亜鉛からなる硫化物下地層との膜付着性
において特に優れていることがわかる。また酸化ニオブ
、酸化コノイルトの少なくとも一材料からなる酸化物下
地層が、基板及び硫化アンチモンからなる硫化物下地層
との膜付着性において特に優れていることがわかる。
以上詳述したように、本発明の表面高反射鏡においては
、基板と銀からなる反射層との間に酸化物下地層と、硫
化物下地層とを順次形成している。
、基板と銀からなる反射層との間に酸化物下地層と、硫
化物下地層とを順次形成している。
従って基板がポリカーボネート、ポリエステル、アクリ
ル樹脂等のプラスチックで形成されている場合において
も、基板と反射層との間の付着力が強化されているため
、膜付着性、耐湿性等に優れている。
ル樹脂等のプラスチックで形成されている場合において
も、基板と反射層との間の付着力が強化されているため
、膜付着性、耐湿性等に優れている。
以上においてプラスチック基板に反射鏡を形成する場合
について説明したが、本発明はこれに限定されず、ガラ
ス基板に形成した場合にも良好な効果を発揮する。
について説明したが、本発明はこれに限定されず、ガラ
ス基板に形成した場合にも良好な効果を発揮する。
第１図は本発明の一実施例による表面高反射鏡を示す断
面図であり、 第２図は本発明の別の一実施例による表面高反射鏡を示
す断面図であり、 第３図は従来の表面高反射鏡の一例を示す断面図であり
、 第４図は従来の表面高反射鏡の別の例を示す断面図であ
り、 第５図は従来の表面高反射鏡のさらに別の例を示す断面
図であり、 第６図は本発明の一実施例による表面高反射鏡の２１６
時間耐湿性試験前後での４５°入射光の分光反射率を示
すグラフである。 １ｃ、１ｄ、１ｅ、１ｆ、ｌｉ １ ・基板２ｃ、 ２
ｄ、 ２ｅ・・・・・酸化物下地層２ｆ・・・・・・・
・銅下地層 ３ｃ、 ３ｄ、 ３ｉ・・・・・酸化物下地層４ｃ、４
１４ｅ、４ｆ、４ｉ ・・反射層紅、 ５ｄ、 ５ｅ、
５ｆ、 ５ｉ 、 ６ｆ、 ７ｆ、 ８ｆ ・保護層
面図であり、 第２図は本発明の別の一実施例による表面高反射鏡を示
す断面図であり、 第３図は従来の表面高反射鏡の一例を示す断面図であり
、 第４図は従来の表面高反射鏡の別の例を示す断面図であ
り、 第５図は従来の表面高反射鏡のさらに別の例を示す断面
図であり、 第６図は本発明の一実施例による表面高反射鏡の２１６
時間耐湿性試験前後での４５°入射光の分光反射率を示
すグラフである。 １ｃ、１ｄ、１ｅ、１ｆ、ｌｉ １ ・基板２ｃ、 ２
ｄ、 ２ｅ・・・・・酸化物下地層２ｆ・・・・・・・
・銅下地層 ３ｃ、 ３ｄ、 ３ｉ・・・・・酸化物下地層４ｃ、４
１４ｅ、４ｆ、４ｉ ・・反射層紅、 ５ｄ、 ５ｅ、
５ｆ、 ５ｉ 、 ６ｆ、 ７ｆ、 ８ｆ ・保護層
Claims (3)
- （１）表面高反射鏡において、 （ａ）基板表面上に形成された酸化物下地層と、 （ｂ）前記酸化物下地層上に形成された硫化物下地層と
、 （ｃ）前記硫化物下地層上に形成された銀からなる反射
層と、 （ｄ）前記反射層上に形成された保護層とを有すること
を特徴とする表面高反射鏡。 - （２）請求項１に記載の表面高反射鏡において、前記酸
化物下地層が酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸化コバ
ルト、酸化チタンのすくなくとも一材料からなり、前記
硫化物下地層が硫化亜鉛からなることを特徴とする表面
高反射鏡。 - （３）請求項１に記載の表面高反射鏡において、前記酸
化物下地層が酸化ニオブ、酸化コバルトのすくなくとも
一材料からなり、前記硫化物下地層が硫化アンチモンか
らなることを特徴とする表面高反射鏡。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2035811A JP2590020B2 (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
| US07/654,422 US5216551A (en) | 1990-02-16 | 1991-02-12 | Surface reflector |
| GB9103162A GB2241709B (en) | 1990-02-16 | 1991-02-14 | Surface reflector |
| DE4104735A DE4104735C2 (de) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | Flächenreflektor |
| FR919101845A FR2658618B1 (fr) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | Reflecteur multicouche pour dispositif optique. |
| FR9215033A FR2684769B1 (fr) | 1990-02-16 | 1992-12-14 | Reflecteur multicouche pour dispositif optique. |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2035811A JP2590020B2 (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03239203A true JPH03239203A (ja) | 1991-10-24 |
| JP2590020B2 JP2590020B2 (ja) | 1997-03-12 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2035811A Expired - Fee Related JP2590020B2 (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2590020B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011145438A1 (ja) * | 2010-05-19 | 2011-11-24 | 日本電気硝子株式会社 | 反射部材 |
| WO2015125677A1 (ja) * | 2014-02-19 | 2015-08-27 | コニカミノルタ株式会社 | 透明導電体 |
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|---|---|---|---|---|
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01279202A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-09 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 反射体 |
| JPH01300202A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Sharp Corp | 反射体および該反射体を用いた干渉装置 |
| JPH01319701A (ja) * | 1988-05-12 | 1989-12-26 | Luz Ind Israel Ltd | 保護された銀被着基板とそれを含有するミラー |
-
1990
- 1990-02-16 JP JP2035811A patent/JP2590020B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01279202A (ja) * | 1988-05-02 | 1989-11-09 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 反射体 |
| JPH01319701A (ja) * | 1988-05-12 | 1989-12-26 | Luz Ind Israel Ltd | 保護された銀被着基板とそれを含有するミラー |
| JPH01300202A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Sharp Corp | 反射体および該反射体を用いた干渉装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011145438A1 (ja) * | 2010-05-19 | 2011-11-24 | 日本電気硝子株式会社 | 反射部材 |
| WO2015125677A1 (ja) * | 2014-02-19 | 2015-08-27 | コニカミノルタ株式会社 | 透明導電体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2590020B2 (ja) | 1997-03-12 |
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