JPH03245404A - 銀合金導電性ペースト - Google Patents

銀合金導電性ペースト

Info

Publication number
JPH03245404A
JPH03245404A JP2041091A JP4109190A JPH03245404A JP H03245404 A JPH03245404 A JP H03245404A JP 2041091 A JP2041091 A JP 2041091A JP 4109190 A JP4109190 A JP 4109190A JP H03245404 A JPH03245404 A JP H03245404A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive paste
silver alloy
silver
powder
alloy conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2041091A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2702796B2 (ja
Inventor
Akinori Yokoyama
明典 横山
Tsutomu Katsumata
勉 勝又
Hitoshi Nakajima
斉 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2041091A priority Critical patent/JP2702796B2/ja
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to KR1019910701423A priority patent/KR950007084B1/ko
Priority to PCT/JP1991/000229 priority patent/WO1991013445A1/ja
Priority to US07/768,750 priority patent/US5242511A/en
Priority to HK98103559.0A priority patent/HK1004870B/en
Priority to AT91904341T priority patent/ATE181452T1/de
Priority to CA002055473A priority patent/CA2055473C/en
Priority to EP91904341A priority patent/EP0470262B1/en
Priority to SU915010199A priority patent/RU2096847C1/ru
Priority to DE69131337T priority patent/DE69131337T2/de
Priority to CN91102031A priority patent/CN1042983C/zh
Publication of JPH03245404A publication Critical patent/JPH03245404A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2702796B2 publication Critical patent/JP2702796B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073—Shielding materials
    • H05K9/0081—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0083—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising electro-conductive non-fibrous particles embedded in an electrically insulating supporting structure, e.g. powder, flakes, whiskers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22—CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/10—Metallic powder containing lubricating or binding agents; Metallic powder containing organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C1/00—Making non-ferrous alloys
    • C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
    • C22C1/0425—Copper-based alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C5/00—Alloys based on noble metals
    • C22C5/06—Alloys based on silver
    • C22C5/08—Alloys based on silver with copper as the next major constituent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C9/00—Alloys based on copper
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
    • H05K3/4053—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
    • H05K3/4069—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in organic insulating substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野〉 本発明は、導電性に優れ、かつ耐酸化性が良く、頗の耐
マイグレーション性に優れた特性をイiし、安価な導電
性ペースト及び該ペーストを用いた#電体1こ関するも
のであり、電磁ンールド。
Cダイボンディングペースト コンデンサーIUW。
s t a 接s a、  接、市、材tL  441
=tl 1lFt 用ヘ−x l−低抵抗体ペーストと
してル用できる。
C従来技#i) 従来、導電性を有する材料として、 カーボン。
鰐、アルミニウムや、銀、パラジウム等のj’t 6 
M。
銀メツキ複合粉が用いられており、 これら導Tu何の
粉末を有機バインダー、必要に応じて溶剤、 添加剤を
加え分散させたペーストが公知である。
C発明が解決しようとする!!題〉 公知導電性ペーストとして用いられているカーボン #
!、  ニッケル、銀及び貴金属粉、頷メツキ複合粉は
、以下のJA点がある。銅、ニッケルは。
安価であるが、酸化により!!収の導電性が低下しやす
い、 また、銀は′に優であり、電場中、特に高湿度下
で鎖がマイグレーションそ起こし、ie縁不良を起こし
易い、*メツキ粉末は、剥がれが生じ鮎<、マた銀のマ
イグレーションの開運がある。 カーボン粉末を用いた
ペーストは、導電性が悪いという欠点を有している。 
また、 Sと銅、 ニッケルを機械的強制結合により合
*粉を作製する方法が開示さし”Cイ6が(Nilf、
  47111M158−15 !1259、 57−
 fl 8 n 72号)、機楳的催嗣結合のため、釦
のマイグレーションの防止には効果に乏しい欠点を有す
る。
(課題を解決するための手段) 本究明は、導電性に優れ、かつ長期にわたり耐酸化性に
優れ、銀マイグレーションを起こさないrc偏な導電性
ペーストに国するものである。
本発明の導電性ペーストに用いる銀糸合金粉末は、高い
導電性、耐酸化性、低銀マイグレーションを有するもの
である。
本究明に用いる銀量合金粉末は、アトマイズ法により作
製されるが、 高圧水アトマイズ法、 高圧ガスアトマ
イズ法が好ましいが、特に、先に同一出願人により出願
した特許qi + −205s 89号において詳細に
説明されており、高1〔ガスアトマイズ法を用いるのが
好ましい、開示内容によれば、葭組成の銀とM(lし、
 MはCu、  Fc、  Co、Niより選ばれた1
種以1:)を混合し、 +活性ガス雰囲気中、るー〉ぼ
中で・を周波誘樽加熱を用いて融解する。 さらに、 
るつぼ先端より社F&を不活性ガス雰囲気中へ噴lIH
する。噴出と同時に、−8圧の不活性ガス乞断熱Ig1
g!させて発生した高速気流を融に向かって噴出、 ア
トマイズ化し、 微粒子を作製する方法である。ここで
用いられる不活性ガスとは、がかる組成の@液と全くが
、あるいは極めてゆるやかにしか反応しないガスを意味
する0例えば、M素、ヘリウム、アルゴン、それらの混
合物などが挙げられる。 また1本発明で用いる銀合金
の特性にIHwIを与えない程度であれば。
若干の不純物ガスが混じっていても構わない。
ガスの圧力Cl1l前)は、  70kg/cm’G以
上が好ましく、  100kg/cm’cz以上がさら
に好ましい、高速気流の速度は、融液との衝突位ψで1
00m7秒以上が好ましく、 さらに、  300m/
秒以上が好ましく、600m/秒以りが最も好ましい、
ガスと1m液とのFt爪速度比は2 g、、1:が好ま
しく、 さら1こ4以にが好ましい。
本発明のA g zM I−x (但し1Mは、Cu、
N】、  Fe、Coより選ばれた1F4!以1 )合
金79本は、 0.01≦×≦0. ぺ (h:(子比
)であるがXが0.01未満では 充分な4坩性が得ら
IIず。
また、 Xが0. 4を越える程の餠瓜は必要ない本発
明の41!性#1合金粉末は、頗膿度力;、 表面近く
で粉末の表面に向かって次第に増加するm域を有する。
表面の鉗C度は平均のme度の2゜倍以上であるが、 
3借以上20倍以下が好ましく、6倍以上15倍以ドが
最も好ましい0本発明で用いられる組合金粉末の特徴で
ある低融点である銀が表面に濃縮された粉体の生成機構
については以下のようlこ考えられるが、 この考えは
本発明の範題を規定するものではない。
すなわち、高圧ガスの断熱膨張で生じた高迷俄流との衝
突により生じた微細な金X液滴が高速気流に同伴し高速
走行しながら急冷凝固する。このa囚過程で低融、々、
である銅成分に富んだ液相が表面に排出されて遅れて固
化し、 表面に釦力1縮された粉末ができるものと名え
bれる。
高圧水アトマイズフッをINいる揚台には、2(紹成の
融wtをるつぼ先端より噴出する。噴出と同IL′Fに
、 ノズル先端より噴出された蝕故に同かって。
加圧された水をノズルより−n出し、S!lI戊の礪散
と衝突させ、微粒子化し、急冷凝固する。このILシ。
水の質ik遼M/融液の質Jit 7 Iff比が」0
以」、であるのが倉fましく、 40以」二であるのが
さらに灯ましい、 また、 水と磁散との衝突4女iF
21こおIIる水の速度は80m/秒以1がこのましく
、 さらに。
00m/秒以上が好ましい、加圧水をノズル先端より噴
出する時の圧力は、  50kg/cm”G以上が好ま
しく、 100kg/cm2G以上がさらに好ま し 
い。
高圧水アトマイズにより作製された急冷凝IIIPB末
は、不規則形状のものが多く含まれるが。
本発明では、球状粒子の[鴎に入る。この誓合には、各
粒子の長兄を各粒子の粒径とする。
ここに、銀濃度とはAg/(Ag十M)(距子比2 M
はNl、Co、  Cu、  Feより選ばれた1種以
上の金属)をa魅する0表Wll+1+びに表面近くの
頗t5度の測定はXl’S(X線光電子分光分析WIN
)を用いて下、1この方法で1fった。
装置2:  KRATO5JIFJX5AMllOO資
料: 試料台fこ両面接nテープをはりっけ、 、×r
斗粒粉末両面接着テープ上を先金に覆うようにf・1着
さ せ た。
エツチング条件: アルゴンイオンガンを加速1111
I:3keVで用い、 アルゴンイオンビームの試料「
11に対する入射角45度、室内J五カ10−’Lor
rで毎回10分間行った。
16111111度の測定条件: マグネシウムのにα
線(電m12kv、li流10mA)を入射させ、 光
電づ°−の取り出し角は試料前に対し90度、室内圧力
1(1−@t o r rで行った。銀濃度の測定は測
定ついでエツチングを51ii11繰り返し行い、最初
の2回の測定の平均優を表面のIll!ll上した。
平均の銀濃度の測定は、試料を′e4硝酸中で溶解し、
  ICP(Xi波誘導N合型プラズマ光九分析yt 
> を用いてlI!!定した。
本発明で用イルcu、  N i、  Fc、  Co
は。
高い導電性を有するが、 特にNi、  Va、  (
:oは磁気的特性に優れ、電磁波シールドn0にfli
Iれる。
本発明で用いられる組合金粉末の平均粒子径は。
0.11−1O0aであるが、 J −30μm /J
’ Irf t。
し <、1−10  μ m  が 最 も 4LF 
 ま し イ、   I  OOIr  rr)を越え
る場合には、印刷J忰、 チキソトロピー粘性が悪く、
かえって4電性が悪く、 また、C】。
1μm未満では接触at抗が増加し、 かえって導電性
が劣る。
形状は、W状、樹枝状、第片状及びそれらの混合物が用
いられるが、球状、鱗片状及びそれらの混合物が好まし
い It片状粒子の形状は、杼/厘みが3以上であるの
が好ましい+ 粒形及び形状の測定には、走f型電子I
III微錆を用い、視野内の100@の粒子の灘定賛の
平均値を用いた。
鱗片状粉を得るには、本発明で用いられる組合金粉末を
公知な方法で機械的に変形させる方法でよい3例えば、
スタンプミル、ボールミル、 振動式ボールミル等の方
法が打ましい、ボールミルを用いる場合には、不活性の
溶剤、辿びにボール等を球状粉末とともに7I+いて鱗
片化するのが!fまし い。
本発明で用いるj11介金粉本は−n式AX、〜1.1
(但し1MはCu、Ni、 l−’(4,Goより選ば
れた1種以上、0.0+≦X≦0.4. 1X了・比)
であるが、特性を損なわないrjg!であれば、 八1
゜Zn、  Sn、  Pb、  Si、  Mn、 
 Ri、  Ma、  Cr、  Ir、  Nb、 
 Sb、  B、  r’、  Mに、Li、C。
Na、  Ba、  Ti、  In、  Au、  
Pd、  pt、  Rh、  Ru、  Zr、  
Hr、  Y、  1.aなどの金属、1′金属、及び
それらの化合物を添加しても構わない。
本代1こ用いる有機バインダーとしては、熱可塑性樹脂
、#1硬化性樹脂より選ばれたIQ以上であるが、燕可
塑性樹脂としては1例えば、熱可盟性アクリル樹脂、ア
ルキッド樹脂、塩化ビニル樹n、  ウレタン!Mn、
  ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、酢酸ビニル樹脂、 エチレン−酢酸ビニルハ重合体
、ポリカーボネート崩脂、スチレン系h+ nnなどが
半げられる。中でも。
熱可塑性アクリル樹脂がIIrましい、 また、al1
11’化性樹脂としては、エポキシm1lFi、  フ
ェノール樹nR。
メラミン樹*、  アルキッド樹脂  ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹間、熱岐化性アクリル11111)
1゜ホIJイミド樹脂、 メラミンアルキッドm Il
l及びそれらの変性樹脂の1種以−ヒの組合せがあげら
れる。
中でも、エポキシ樹脂、 フェノールl1111111
の1種。
戒は2種以上の組合せが好ましい、エポキシ樹脂として
は1分子景380〜8000のビスフェノ−hAmエポ
キシ樹脂、 ノボラック型エポキシ樹脂、 ブロム化ビ
スフェノールAfiエポキシ樹脂。
脂環式エポキシ樹脂あるいはそれらの変性樹脂。
脂肪酸変性樹脂などがあげられる。フェノール樹脂とし
ては、 ノボラック型、 レゾール型のフェノール樹脂
、ロジンに性フェノール樹脂を単独戚はエポキシ樹脂の
架橋Mとして用いるのが好ましい。
メラミン樹脂としては1例えばメチロール化メラミンm
脂あるいはアルキル化メチロールメラミンmn停をエポ
キシ樹脂の架橋刑として混ぜ合わせて用いるのが好まし
い、エポキシ樹脂の熱硬化剤としては、必要に応じて有
機ポリアミン、#無水物、 ジシアンジアミド、 ベン
ゾグアナミン。
ビグアニド、 アルキルフェニルビグアニド、 ヂフェ
ニルビグアニド、三ぶつかほう殿などの公知の硬化荊な
どが用いられる。
本awAの導電性ペーストは、顔合金粉末100重量部
に対して、イjmバイングー5〜100重量部を有する
が、、!lza敬部未溝部未満は、!F1膜IIの導電
性金m粉末を結合させておくに充分な樹111量がなく
、#電性 m械的L11度を低下させる。 また、 1
00重量部を超える場合L;1.導電性金属の量が足り
ず、充分なl#導電性得られなりs、  女fましくは
、  10〜50fi量部である。   本代lVJの
導電性ペーストを用いる場合、必要に応じて溶用を眉い
ることができる。溶鋼の愈としては、銀合金粉末と有機
バインダーの合計toot量部に対して0−10011
量部を含有することが好まし覧1゜本発明で用いる二と
のできる溶鋼としてI工。
樹脂によって^なるが、公知の溶鋼で構わなす5゜例え
ば、 トルエン、キシレンtlどの芳香族類、 メチル
エチルケトン、 メチルイソブチル〃トンなとのケトン
乳W#酸ブチル、  FI$l’llエチルなどのエス
テル、 ブチルセロソルブ、 エチルセロソルブなどの
セロソルブ類、 α−テルベノール、 イソプロパツー
ル、 ブタノールなどのアルコール類、 フェノール、
 クロルフェノール等のフェノール類、 ブチルカルピ
トール、ブチルカルピトールアセテ−1・tl11以上
含むものなどが好ましく、  j11合金粉木8水i機
バインダー合計100重Q部に対して0〜10011f
fillt2イfさf6のが!い、 + 0O1ljQ
部を越える場合には、 印刷時ににじみ等が生じ導電性
を損ねる。 1〜5oIR1t部が好ましい。
本発明の銀合金41!性ペーストは銀合金粉本100重
量部に対して添加剤を0. 1ないし25重量部を含有
するが、 それは主に1分散性の向1;。
粉末表面の金属酸化物を除去あるいは還元するなどの効
果を有する。  本発明で用いる添加剤としては、飽和
脂肪酸の金属塩、不飽和脂肪酸の金属基、 高級脂肪族
アミン、 イra!チタネート化合物。
有機リン化合物、 ヒドロキノン及びその11114体
。
金属キレート形成刑、 フェノール化合物、1.−アス
コルビン駿14体、 アントラセン及びそのJ14体、
 ロジンより選ばれたIR以上である。飽和あるいは不
飽和脂肪酸の2tW4塩としては、炭素数6以上、Nに
炭素数15〜18の1m肋酸の金kX塩が好ましい1例
えば、 ステアリノ酸、 バルミチン酸。
リノール酸、 リルン酸、 オレイン酸、 エライジン
a)、flill肋族ジカルボン酸としてアジピン酸。
ピメリン酸、 スペリン酸、 セバシン酸、 マレイン
酸、 ツマルミ1等の金Alt塩であるが、横波する金
属と して は、  リ チ ウ ム、  す ト リ
 ウ ム、  カ リ ウ ム、  マグネシウム、 
カルシウム、 バリウム、 亜鉛、 銅。
銀、鉄、 ニッケル等が好ましい。
高j&脂肪族アミンとしては、溶剤に可溶の炭素数8〜
22のものが好ましく、  *えば、ステアリルアミン
、 バルミチルアミン、 ベヘニルアミン。
セチルアミン、 オクチルアミン、デシルアミン。
ラウリルアミンのような飽和モノアミン、 不飽和アミ
ンとしてはオレイルアミン、 ジアミンとしてはステア
リルプロピレンジアミン、 オレイルプロピレンジアミ
ンなどがψげられる。
金属キレート形I戊剤としては、 モノエタノール ア
 ミ ン、  ジ エ タ ノ − ル ア ミ ン、
  ト リ エ タ ノ − ルアミン、 エチレンジ
アミン、 トリエチレンテトラミンなどや、 アセチル
アセトン、 トリフルオルアセチルアセトン、ヘキサフ
ルオルアセチルアセトン、ベンゾイルアセトンなどが挙
げられる。
フェノール化合物、 ヒドロキノン224体としては、
eyえば、 フェノール、 ハイドロキノン、 カテコ
ール、 2−メチルハイドロキノン、  tcl・t−
ブチルハイドロキノン、 クロルハイドロキノン。
フェニルハイドロキノン、 ピロガロール、  1. 
2゜4−ベンゼントリオールなどが挙げられる。
有機チタン化合物としては、Rt−Ti−(R2)2(
式中R1は炭素I!1〜4、好ましくは炭素数1〜3の
フルコキシJJ、R2は炭素fi1〜20.  好まし
くは炭素数2〜18のカルボン酸エステル)があげられ
1例えば、 イソプロピルトリイソステアロイルチタネ
ート イソプロピルトリオクタノイルチタネートなどが
φげられる。
アントラセン及びアントラセン誘導体としては4例えば
、 アントラセンカルボン酸があげr)れロジンとして
は、 例えば、311分水添ロノン完全水添ロジン、 
エステル化ロジン、マレイノ化ロジン、 不均化ロジン
、 重合ロジンなどのf PIロジンなどが挙げられる
。
L−アントラセン誘導体としては1例えば。
し−アスフルビン階ジパルミテート、 L−7スコルビ
ン1112−6−ステアレートなどがφげられる。
添加剤の愈としては1組合金粉末1001景部に対して
、前記添加剤の1種以上を0. 1〜251jl!!1
1添加するのが良い。
本発明の導電性ペーストに用いる銀合金粉末は、接点抵
抗の低く、 高い導電性を有するものであり、 また、
#lが合金化しているために、銀のマイブレシコン防止
効果に優れる。 さらに、鉤述のsmaを加えることで
1分散性、導電性を向りできる効果がある。
本発明の導電性ペーストそ用いる際に、欠如の粘度jl
整剤、希釈閘、沈降貼止剤、 レベリシグ荊、泡消剤、
 シランカップリング剤、チタンカップリング期等の添
加剤を適宜配合しても良いことは首うまでもttい。
本発明の導電性ペーストを丸子間路、叶了・機器などに
、素子間の導線、#電性接着剤、電磁波シールド膜とし
て応用する場合、 スクリーン印刷、スプレー法 m毛
、バーコード法、 ドクターブレード法などの印胴、梢
/−法などの公知な方法で只い。
本発明の導電性ペーストからなる111IIIの導電性
は、 4f4子法を用いて測定した。また、IIRのマ
イグレーシランは、  1mm間隔に重布した2木の!
!1K(暢10 m m、  長さ30mm)を作製子
、お0.2mlの水滴を塗膜間に滴下し、 (この時。
水滴が2本の!!lI!1のどちらにも充分接触するよ
うにする。)、直流の電圧5■を2本の!!瓜に印fi
lL。
塗g[l+Jに流れる直流電流を測定する。電流埴が1
00#Aを層えるIig合を銀のマイグレーシランが生
じたものとする。
(Fa明の効果) 本発明は、導電性に優れ、長期にわたり耐酸化性がQ<
、Mのマイグレーションが起こらない。
少量の餡を用いた安値々組0金導電性ペーストを供する
ものであり1世子回路川導体、’9ffiff、Ka剤
、@磁シールドペースト、 コンデンサー電−用ペース
ト、低抵抗用ペースト及びそれらを用いた導電体として
使用できる。
(実施例) 以下、実施例と比較例に2って本発明を具体的に説明す
る。
実施例1 輌粉(純[99,9%以上、貰M度化学製)630 j
、  銀粉(純度99.9%以上、みっゎ化学賞)21
6gを混合し、黒鉛るつぼに入れ高周波鱈導J!XI#
lを用いてアルゴン雰囲気下760 (1℃まで溶解し
た。溶解後、アルゴン雰囲気中は先端に取り付けたBN
(ボロンナイトライド)ノズルより40秒間で噴出した
。噴出と同時に、ボンベ入りアルゴンガス(ボンベノr
、I60気+1:)4.2N T P m”を融液に同
かって周しUのノズルより噴出した(ガス線速11!3
 G O+n /秒)、この時のガス質量速度/W賀爪
址度比は8.6であった。
得られた粉末を疋査型重f−頴微鋺で粒子1tを簡定し
たところ、平均粒11111μmの球状粉末であった。
この粉末なXPSを用いて分析した。渕定劉はA g 
/ (A g +Cu )  (願子比)は表面より内
部ニ向カつT O,65,0,55,0,45,0゜3
7.0.33であり表面のIBII2I!lは、定義に
まり最初の2つの測定値の平均@O,SOであった。
ICPにより測定したした平均のIs濃度は、0゜16
8であり、表面のm111度は平均の銀濃度の3゜57
倍であった。
得られた粉末のうち101m以下の粉末lOlをミネラ
ルスピリット100m1とともに振動式ボールミルでy
4延した。得られた粉末は m片状で平均径は20gm
、rJさ8μmであ・】た1mられた鱗片状粉末のうち
10μm以下9gと熱lIE塑性アクリル樹93.  
:1g、  トルエン2g、エチルセロソルブ2g、 
 リルンf@0.3gを混合し。
ガラスエポキシ樹R)l 、LJI板1;へ室布した。
wste。
50℃、大気中1日乾燥した。乾燥後の!!I膜の膜厚
は18μmであり1体積抵抗率は、  、4 X l 
(1−40・amであった。乾燥後の旧060℃、11
0%温度中2000時岡放置したところ1体積抵抗率は
殆ど変化がなかった+ また、銀のマイグレーシラン試
験をしたところ、銀のマイグレーシランは殆ど鱈められ
なっかた。
実施例2 実施4F11で用いた鱗片状粉末のうち10μm以下の
粉末11Jgとエポキシ樹n (AER331)1にと
エポdFシ111m (AER337)2g、  ジシ
アンジアミド0.05g、  ハイドロキノン0.2g
を混合し、ガラスエポキシ樹脂基板上へ塗布した。!!
布後、 160℃、 30分間大気中で加愚硬化した。
硬化後の15Effは、 】8℃゛mであり1体積抵抗
率は5xio−’Ω・Cmであった。硬化後の!!膜を
60℃、 90%III中2000時間放訳したところ
、体積m抗串の変化は殆ど認められなかう た。
実施例3 実施例1で得られた鱗片状粉末のうち1()μm9下の
粉末9gとエポキシt+MIIli(八l’: HG 
111g、  メラミン樹H(メラン27)2g、ブチ
ルカルピトールアセテート2.8g、  リノールIv
l。
1c、 ピロガロール0.2gとを混合し、ガラスエポ
キシ#I脂基飯上へrI!布した。旧交をI F) L
l ℃。
40分間加S硬化した。N化後のIN厚は19μmであ
り1体積抵抗率は4XIO”Ω・amであった。硬化後
の!1111Xを60℃、 90%湿ffl中2000
時間放直したところ1体1!1抵抗率は殆ど変化なかっ
た。 また、 銀のマイグレーション拭験をしたところ
、#Iのマイグレーションは殆どl118Nされなか 
っ た。
実施例4 @19 (M度99.9%以J:、轟純度化学製ン63
0 g、  銀粉(14度99.9%以上、みつむ化学
賞)540gとを混合し、W鉛ルツボ中、 アルゴン雰
囲気下1600 T、まで溶解した。溶解後。
ルツボ先端に取り付けたnNノズルより301j問でア
ルゴン雰囲戴中へ噴出した。噴出と同■、シにボンベ入
りアルゴンガス(ボンベ+(′、l 50気ハ゛)4N
 T P m ’をM液にII′−1かつて周囲のノズ
ル上り噴出した(ガス線速度:+ 1 +l m 7秒
)、 この時のガス&ilUM7 WNsa速zttl
i s、  9 テアツタ。
得られた粉本は、 ・IL均拉杼20μmの球状粉末で
あった。 二の粉末をxPSで測定したところ。
測定4IA g / (A g +Cu )  (IX
子比)は表面より内部に向かってO,R8,0,1B、
  O,li5゜0.56、0.46であり、 表面の
li11濃度は定義により最初の2つの測定値の平均[
0,83であった。 また、  ICPで測定したとこ
ろ、平均の銀濃度は0.335であり、!!面の銀濃度
は平均のIIIIlli度の2.47であった。この粉
末のうち10μm以下の粉末]Ogをミネラルスピリッ
ト+00m1とともにva動式ボールミルで浜延した。
 得られた粉末は平均佳25μm、厚さ」μmのMI 
J’+状粉宋粉本った。1!)られた鱗片状粉末のうち
l fl以下の粉末9gとフェノール刷1171(C,
l1Oo4)3.8g、  ブチルカルビオトール1.
1g、 メチルエチルケトン18g、アントラセン02
gステアリルアミン0.0!’+zを混合し2 ガラス
エポキシ樹fl!基板上へ塗布した。lvl布膜を15
0T40分子:J加熱硬化した。硬化後の膜rtは、 
2m、体積抵抗率は2.5XIO−’Ω・cmであった
。硬化後のli[360T:、90%湿度中20 o 
。
時間放潤したところ1体稍俳もt率の変化は殆どなかっ
た。 また、IIIIのマイグレーション試験そしたと
ころ、銀のマイグレーションは殆ど観測され々かった。
実施例S ニッケル粉(純JIF99.9%以上、みっわ化学製)
587g、I[粉(純11F99.9%以上、みつわ化
学製)30gとを混合し、 BNるつぼ中。
アルゴン雰囲気下でl 650 Cnまで+ff#lし
た。
溶解後、  30秒間でアルゴン雰囲気中へ先端に取り
付けたBNノズルより噴出した。噴出と同11.7にボ
ンベ入りアルゴンガス(ボンベ圧150′A(Il゛)
4NTPm’を周囲のノズルよりMPIkに向かって噴
出した(ガス線速度++ 30 +n 7秒)、 この
特ガス賀爪速度/敢質らt速度比は11.2であ−〕た
、得られた粉末はill均杼】9μmの球状粉本であ−
)た、xpsで聞定したところ、  Ag/(八に+N
1)(原子比)は表面より内部に向かってOl 25、
 0. 2 +、  O,l G、  O,I 0. 
0.  Oj+であり 表面のIII!濃度は定義によ
り最初の2つの測定の平均値0.23であった。 IC
I’により平均のmc度は0.027であり表面の銀c
4度は一1!均の111d!度の8.5(+)であった
、得られた粉末のうち10μm以下の粉末10gをミネ
ラルスピリット100m1とともに振励式ボールミルで
g@延した。得られた粉末は2 平均粒径18μm、 
 *さ1゜5μmの鱗片状粉末であった。得られた鱗ハ
状粉本のうち10μm以下9gとアクリル樹脂31工チ
ルtロソルブ1g、トルエン2g、 フェノールO,I
[、バルミチン+11!0.15gを混合し、ガラスエ
ポキシ#tIIN基板上へ塗布した。塗布後。
50℃、 大気中lr]rt燥した。乾燥後の塗膜σ)
 IN厚は、+9μm、  体栢mr M 甲は2 X
 I O−’り ・mであった。乾@儂のゆIqを60
て、 90%〜度中2000時間放Vi シたと二ろ5
体bt at抗弔(工殆ど変化なかった。 また、11
1のマイグレーション試験をしたところ、釦のマイグレ
ーションは殆ど認められなかった。
実施例6 si粉(M度99.9%以1:2  鳥純度化学製)1
00 g、  ニッケル粉(純度99.9%以」1、 
みっわ化学製)450g、jll粉(純度99.9%以
上、みつわ化学製)30gを混合し、 4′3Nるつぼ
中、 アルゴン雰囲気下で1700’cまで溶解した。
溶解後、  30秒間で先端に取り付けたBNノズルよ
りアルゴン雰囲気中へ噴出した。噴出た同時にボンベ入
りアルゴンガス(ボンベ圧150気圧)4 N T P
 m ’を周囲のノズルより融液に向かって噴出したく
ガスM4度330m/秒〉、二の時、 ガス質量速[/
液質量速度比は12であった。  fllられた粉末は
、平均粒径18μmの球状粉であった。
また、  XPSで測定したところ、 八g/(へg十
Ni+cu>  (jXI比)は表向より山部にlfl
】かっテ0. 24. 0. 20.  O,+5. 
0. 10. 0゜05であり、定義により最初の2つ
の測定の平均値0.22であった。  +(’:rによ
II it’均の銀濃度を測定したところ、  0. 
02413であり1表面の銀濃度は平均の#aC度の7
.5倍であった。  f)られなpHl末のうち10以
下の粉末IOgをミネラルスピリットJOOmlととも
に振動式ボールミルでXj!した。 fJられた粉末は
−’I’ PI +M 19 μ+n。
厚さ1、2μmの鱗I′1゛状であった。nられたM/
Y状粉末のうちl Oam以下6gと10μm以)の球
状粉3gとを混合し、 さらにエボキン樹脂(AER6
61)Ig、 メラミン樹n(メラン27)2g、  
ブチルカルピトールアセテート3g、 ピロカテコール
O,1g、  リルン90.2gとを混ぜ合わせ ガラスエポキシl$l II a板上へ塗布した。塗膜
を145℃、 1時間大気中加熱硬化した。硬化後の塗
膜はlI!厚20μm、 体梢抵抗弔は3XIO“′X
+・cm  あった、硬化後の塗膜を60℃、 90μ
m度中2000時間放置したところ1体も1抵抗串の変
化は殆ど認められなかった。また IIIのマイグレー
ション試験をしたところ、 組のマイグレーションは殆
ど認められムかった。
実施例7 銅粉(純度99.9%以1:、晶純III化を製)50
0 g、  鉄n<純度99.9%以−L、  Q純度
化学制)20g、 コバルト粉(純11j99.9%以
ヒ。
高純度化学制)50x、  銀粉(純度99.9ツ、以
上、みっわ化学製)soogを混合し、  BNるつぼ
中、アルオン雰囲気ドで1700℃まで溶解した。溶解
後、アルゴン雰囲気下に先端に取り付けたBNノズルよ
り3of9で噴出した。噴出と同時に1周囲に取り付け
たガスノズルより、ボンベ入りアルゴンガス(ボンベ圧
+50に圧)4N’l’Pm3をm液に向かって噴出し
た(ガス線速度330m/秒)、二の時、ガスjfJl
遼度/散質量速度比は6.5であった。得られた粉末は
、平均粒径20μmの球状粉であった。  XPSで測
定したところ、測定値へg / (A K +、 C+
+ 十F c + Cn l  (原子比)は表面から
内部に向かって0. 9. 0゜86、 0. 7. 
0. 53、0.36であり定義により最初の2つの測
定ψの平均V(より大面捌C度は0.88であり、  
IC+”41!1定で求めた平均の漏(酒度は0.33
7であり、’ArMの銀濃度は11′均の銀濃度の2.
6倍であった。
得られた粉末のうち10μm以下の粉末logとミネラ
ルスピリットI OOm lを振動式ボールミルで屑延
した。得られた粉末は平均粒#19μm。
厚さ1.6μmの鱗片状であった。得られた鱗片状粉末
のうち10μm以下9gと熱可塑性アクリル崩n3. 
3g、  トルエン2 g、  エチルtソルブ2 g
、  リルン酸0.3gを混合し、 ガラスエポキシ樹
脂基板上へWiπした。mgを50℃、大気中1日乾爆
した。  tI1m後の!!腹の膜厚は、 1≦1μm
1体積抵抗率は4 X I O−Ω・cmであり、 6
0℃、  90μm度中2000時間放置でも体V抵抗
率は殆ど変化がなかった。 また、銀のマイグレーショ
ン試験の*t  殆ど銀のマイグレーションはIIIF
Mされなかった。
(比較例) 比較例1 実施例】で用いた鱗片」:粉末のうち1oIIn1以下
9gと実施例1で用いたアクリル#4聞15g。
トルエン51  エチルセロソルブ1g、  リルン酸
0.9gを混合し、 ガラスエポキシ#I脂献板、I:
へII布した。m校を50℃、 人気中111放置した
。
乾#i後のm膜の膜〃は、  20μm1体積抵抗串は
抵抗率OテΩ・amと高かった。
比較例2 実施例1で用いた鱗片状粉末のうち10以下9g、実施
例1で用いたアクリル樹110.1g。
トルエン3g、  エチルセロソルブ3g、  リノー
ルa15gを混合し、ガラスエポキシ#1!fII基板
上へ杭布した。amを50℃、 大気中18乾燥した。
乾燥後のIIIIK厚は21μmであり9体積抵抗率は
6×lO@Ω・cmと高かった。
比較例3 市原の銅粉末(FCCI 15)IOg、211g41
で用いたアクリル樹M4に、 トルエン3g。
エチルセロソルブ2 g、  リルン@0.3gを況合
し、 ガラスエボキン樹+1FI J、t !kl:へ
明春した。IF+腹を50.  大気中10乾燥した。
乾畑後のq!膜のii厚は19μmであり6体8’l低
抗平は3×10−嘗Ω・Cmであった。乾燥後の捲膜を
60℃、 !IO%湿度中2000時間大気中放置した
ら体積低抗率は6XIO−2Ω・Cmに増加していた。
比較例4 市販の11119末(下物粒径2μrn)logを実施
例1で用いたアクリル樹W44g、hルエン2g、エチ
ルセロソルブ2g、  リノール@O,Igを混ぜ合わ
せラスエポキシ樹I11基板上へ!I!sした。や膜を
50℃、 大気中】日ft燥した。乾燥後の明戻のii
厚は、20μm、  体!R抵M率は5XIO−’Ωc
mであった。 しかし、*のマイグレーション試憩の結
果、 】5秒Nfxで銀のマイグレーションが認められ
た(>100μA)。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式Ag_xM_1_−_x(但し、MはCu
    、Ni、Co、Feより選ばれた1種以上、0.01≦
    x≦0.4、原子比)で表わされ、且つかかる組成の融
    液を高圧アトマイズ法を用いて急冷凝固して得られる銀
    合金粉末100重量部に対して有機バインダー5〜10
    0重量部、且つ添加剤0.1〜25重量部を有する銀合
    金導電性ペースト
  2. (2)特許請求範囲第1項記載の高圧アトマイズ法が高
    圧水アトマイズ法或は高圧ガスアトマイズ法より選ばれ
    た1種以上であることを特徴とする請求範囲第1項記載
    の銀合金導電性ペースト
  3. (3)特許請求範囲第1項記載の銀合金粉末において、
    粒子表面の銀濃度が平均の銀濃度より高く、且つ、表面
    に向かって銀濃度が増加する領域を有することを特徴と
    する特許請求範囲第1、2項記載の銀合金導電性ペース
    ト
  4. (4)特許請求の範囲第1、3項記載の銀合金粉末の表
    面の銀濃度が、平均銀濃度の2.1倍以上(≧2.1)
    であることを特徴とする特許請求範囲第1、2、3項記
    載の銀合金導電性ペースト
  5. (5)特許請求範囲第1、3、4項記載の銀合金粉末の
    平均粒子径及び形状が、0.1μm〜100μmである
    球状、樹枝状、鱗片状或はそれらの1種以上の混合物で
    あることを特徴とする請求範囲第1〜4項記載の導電性
    ペースト
  6. (6)特許請求範囲第1項記載の有機バインダーが熱可
    塑性樹脂或は熱硬化性脂樹より選ばれた1種以上である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜5項記載の銀合
    金導電性ペースト
  7. (7)特許請求範囲1項記載の添加剤が、飽和肪酸の金
    属塩、不飽和脂肪酸の金属塩、高級脂肪族アミン,有機
    チタネート化合物、有機リン化合物、ヒドロキノン誘導
    体、金属キレート形成剤、フェノール化合物、L−アス
    コルビン酸誘導体、アントラセン及びその誘導体、ロジ
    ンより選ばれた1種以上である銀合金導電性ペースト
  8. (8)特許請求範囲第1、6又は7項記載の銀合金導電
    性ペーストよりなるスクリーン印刷用導電性ペースト
  9. (9)特許請求範囲第1、6又は7項記載の銀合金導電
    性ペーストからなる導電性接着剤
  10. (10)特許請求範囲第1、6又は7項記載の銀合金導
    電性ペーストからなるプリント回路形成導電体
  11. (11)特許請求範囲第1、6又は7項記載の銀合金導
    電性ペーストからなる電磁シールド膜
  12. (12)特許請求範囲第1、6又は7項記載の銀合金導
    電性ペーストからなるコンデンサー電極
  13. (13)特許請求範囲第1、6又は7項記載の銀合金導
    電性ペーストからなる低抵抗体ペースト
JP2041091A 1990-02-23 1990-02-23 銀合金導電性ペースト Expired - Lifetime JP2702796B2 (ja)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2041091A JP2702796B2 (ja) 1990-02-23 1990-02-23 銀合金導電性ペースト
SU915010199A RU2096847C1 (ru) 1990-02-23 1991-02-22 Композиция на основе сплава меди
US07/768,750 US5242511A (en) 1990-02-23 1991-02-22 Copper alloy compositions
HK98103559.0A HK1004870B (en) 1990-02-23 1991-02-22 Copper alloy composition
AT91904341T ATE181452T1 (de) 1990-02-23 1991-02-22 Kupferlegierungszusammensetzung
CA002055473A CA2055473C (en) 1990-02-23 1991-02-22 Copper alloy compositions
KR1019910701423A KR950007084B1 (ko) 1990-02-23 1991-02-22 동합금계 조성물
PCT/JP1991/000229 WO1991013445A1 (en) 1990-02-23 1991-02-22 Copper alloy composition
DE69131337T DE69131337T2 (de) 1990-02-23 1991-02-22 Kupferlegierungszusammensetzung
EP91904341A EP0470262B1 (en) 1990-02-23 1991-02-22 Copper alloy composition
CN91102031A CN1042983C (zh) 1990-02-23 1991-03-28 铜合金系组合物

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2041091A JP2702796B2 (ja) 1990-02-23 1990-02-23 銀合金導電性ペースト
CN91102031A CN1042983C (zh) 1990-02-23 1991-03-28 铜合金系组合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03245404A true JPH03245404A (ja) 1991-11-01
JP2702796B2 JP2702796B2 (ja) 1998-01-26

Family

ID=36778100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2041091A Expired - Lifetime JP2702796B2 (ja) 1990-02-23 1990-02-23 銀合金導電性ペースト

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5242511A (ja)
EP (1) EP0470262B1 (ja)
JP (1) JP2702796B2 (ja)
KR (1) KR950007084B1 (ja)
CN (1) CN1042983C (ja)
AT (1) ATE181452T1 (ja)
CA (1) CA2055473C (ja)
DE (1) DE69131337T2 (ja)
RU (1) RU2096847C1 (ja)
WO (1) WO1991013445A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009068086A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Tohoku Univ 導電性複合粉末およびその製造方法
WO2019009124A1 (ja) * 2017-07-07 2019-01-10 タツタ電線株式会社 導電性樹脂組成物及びそれを用いたシールドパッケージの製造方法

Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4242408C2 (de) * 1991-12-11 1998-02-26 Mitsubishi Electric Corp Verfahren zum Verbinden eines Schaltkreissubstrates mit einem Halbleiterteil
US5372749A (en) * 1992-02-19 1994-12-13 Beijing Technology Of Printing Research Institute Chinese Method for surface treating conductive copper powder with a treating agent and coupler
JP2767729B2 (ja) * 1992-06-30 1998-06-18 アルプス電気株式会社 合金粉末、該合金粉末を用いた分散型導電体および合金粉末の製造方法
JP3309231B2 (ja) * 1993-08-25 2002-07-29 タツタ電線株式会社 金属酸化物成形体との密着性の良い導電塗料
DE69417684T2 (de) * 1993-10-29 1999-09-09 Dai-Ichi Kogyo Seiyaku Co. Leitfähige Pastenzusammensetzung zum Füllen von Kontaktlöchern, Leiterplatte unter Anwendung dieser leifähigen Paste und Verfahren zur Herstellung
JP3536484B2 (ja) * 1995-11-17 2004-06-07 株式会社デンソー 発電機
TW392179B (en) * 1996-02-08 2000-06-01 Asahi Chemical Ind Anisotropic conductive composition
DE19642563C1 (de) * 1996-10-15 1998-02-26 Siemens Ag Chipkarte mit einer Kontaktzone sowie Verfahren zur Herstellung einer solchen Chipkarte
DE29703725U1 (de) * 1997-03-01 1997-04-24 EMC Testhaus Schwerte GmbH, 58239 Schwerte Flächenelement zur Einschränkung von HF-Reflexionen
US6488869B2 (en) * 1997-04-08 2002-12-03 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Conductive paste, its manufacturing method, and printed wiring board using the same
GB9814130D0 (en) * 1998-06-30 1998-08-26 Lussey David Electrically conductive polymer powders
JP3539195B2 (ja) * 1998-03-25 2004-07-07 株式会社村田製作所 導電ペーストおよびそれを用いたセラミック基板の製造方法
US6059894A (en) * 1998-04-08 2000-05-09 Hewlett-Packard Company High temperature flip chip joining flux that obviates the cleaning process
US6086791A (en) * 1998-09-14 2000-07-11 Progressive Coatings, Inc. Electrically conductive exothermic coatings
JP2000273317A (ja) * 1999-02-12 2000-10-03 Natl Starch & Chem Investment Holding Corp エレクトロニクスデバイス用の電気的安定性をもつ導電性および抵抗性材料
FI118127B (fi) * 1999-03-04 2007-07-13 Valtion Teknillinen Sähköä johtava termoplastinen elastomeeri ja siitä valmistettu tuote
DE19924683C2 (de) * 1999-05-28 2002-02-28 Betek Bergbau & Hartmetall Verfahren zur Bestückung eines Meißelkopfes eines Schaftmeißels und Meißel
US6337037B1 (en) 1999-12-09 2002-01-08 Methode Electronics Inc. Printed wiring board conductive via hole filler having metal oxide reducing capability
JP3915512B2 (ja) * 2000-04-25 2007-05-16 日立化成工業株式会社 回路接続用接着剤並びにそれを用いた回路接続方法及び回路接続構造体
FR2811922B1 (fr) * 2000-07-20 2003-01-10 Optoform Sarl Procedes De Prot Composition de pate chargee de poudre metallique, procede d'obtention de produits metalliques a partir de ladite composition, et produit metallique obtenu selon ledit procede
US6583201B2 (en) 2001-04-25 2003-06-24 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Conductive materials with electrical stability for use in electronics devices
KR100390638B1 (ko) * 2001-07-09 2003-07-07 남애전자 주식회사 도전성 실리콘 페이스트
TWI325739B (en) * 2003-01-23 2010-06-01 Panasonic Corp Electroconductive paste, its manufacturing method, circuit board using the same electroconductive paste, and its manufacturing method
JP4911975B2 (ja) * 2003-02-17 2012-04-04 ジャパンコンポジット株式会社 導電性樹脂組成物及び燃料電池用セパレーター
US6992001B1 (en) * 2003-05-08 2006-01-31 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Screen print under-bump metalization (UBM) to produce low cost flip chip substrate
JP2005171178A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Tdk Corp 積層セラミック電子部品のスペーサ層用の誘電体ペースト
JP4412013B2 (ja) * 2004-03-16 2010-02-10 Tdk株式会社 積層セラミック電子部品用の誘電体ペーストおよび積層セラミック電子部品用の積層体ユニットの製造方法
JP2006080013A (ja) * 2004-09-10 2006-03-23 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 導電性ペースト及びその導電性ペーストを用いて得られるフレキシブルプリント配線板
US20070108419A1 (en) * 2004-11-24 2007-05-17 Tdk Corporation Conductive paste for an electrode layer of a multi-layered ceramic electronic component and a method for manufacturing a multi-layered unit for a multi-layered ceramic electronic component
US20060289839A1 (en) * 2005-06-23 2006-12-28 Emmerson Gordon T Metal salts of organic acids as conductivity promoters
KR100673778B1 (ko) * 2005-08-19 2007-01-24 제일모직주식회사 저온 속경화형 이방성 도전 필름용 조성물, 그로부터제조된 이방성 도전 필름 및 그 제조방법
WO2009035453A1 (en) 2007-09-13 2009-03-19 Henkel Ag & Co. Kgaa Electrically conductive composition
CN101246758B (zh) * 2008-03-19 2011-09-14 重庆川仪自动化股份有限公司 用于弱电流的滑动电接触材料
KR100862641B1 (ko) 2008-03-24 2008-10-09 주식회사 나노엠에스이 전자파 차폐 조성물의 제조방법 및 전자파 차폐 조성물
US7857997B2 (en) * 2008-05-28 2010-12-28 Bemis Company, Inc. Conductive ink formulations
JP5217640B2 (ja) * 2008-05-30 2013-06-19 富士通株式会社 プリント配線板の製造方法およびプリント基板ユニットの製造方法
JP5217639B2 (ja) * 2008-05-30 2013-06-19 富士通株式会社 コア基板およびプリント配線板
JP2009290124A (ja) * 2008-05-30 2009-12-10 Fujitsu Ltd プリント配線板
JP2009290135A (ja) * 2008-05-30 2009-12-10 Fujitsu Ltd プリント配線板の製造方法および導電性接合剤
JP5534127B2 (ja) * 2008-05-31 2014-06-25 スリーボンドファインケミカル株式会社 導電性樹脂組成物
JPWO2010004852A1 (ja) * 2008-07-11 2011-12-22 三井金属鉱業株式会社 導電性ペースト用銅粉及び導電性ペースト
RU2408642C1 (ru) * 2009-04-16 2011-01-10 Открытое акционерное общество "Композит" (ОАО "Композит") Токопроводящая клеевая композиция
US20130059251A1 (en) * 2010-05-18 2013-03-07 Gurunarayan Govind Micro/nano photoconductor
EP2641292B1 (en) 2010-11-17 2019-06-19 Luvata Appleton LLC Alkaline collector anode
CN103509396B (zh) * 2013-09-15 2016-03-16 浙江大学 疏水抗菌涂层的制备方法
JP5926322B2 (ja) * 2014-05-30 2016-05-25 協立化学産業株式会社 被覆銅粒子及びその製造方法
CN107210085A (zh) * 2015-03-05 2017-09-26 纳美仕有限公司 导电性铜浆料、导电性铜浆料固化膜和半导体装置
CN108602976A (zh) * 2015-08-03 2018-09-28 汉高知识产权控股有限责任公司 通过沉积高导电性组合物实现电磁干扰屏蔽保护
US9637647B2 (en) * 2015-08-13 2017-05-02 E I Du Pont De Nemours And Company Photonic sintering of a polymer thick film copper conductor composition
US9637648B2 (en) * 2015-08-13 2017-05-02 E I Du Pont De Nemours And Company Photonic sintering of a solderable polymer thick film copper conductor composition
CN105655000A (zh) * 2016-01-15 2016-06-08 熊小辉 一种双芯电力导线
CN106449094A (zh) * 2016-09-30 2017-02-22 安徽鑫利源电子有限公司 薄膜电容器接线端子
AT519451B1 (de) * 2017-04-26 2018-07-15 Zkw Group Gmbh Verfahren zur Herstellung zumindest einer elektrisch leitenden Verbindung in einem Schaltungsträger und ein nach diesem Verfahren hergestellter Schaltungsträger
US20190061005A1 (en) * 2017-08-30 2019-02-28 General Electric Company High Quality Spherical Powders for Additive Manufacturing Processes Along With Methods of Their Formation
CN107731434B (zh) * 2017-09-25 2019-07-19 江苏时恒电子科技有限公司 一种热敏电阻铜电极多功能防护膜层及其制备方法
JP7090511B2 (ja) * 2017-09-29 2022-06-24 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉およびその製造方法
US20190355277A1 (en) * 2018-05-18 2019-11-21 Aidmics Biotechnology (Hk) Co., Limited Hand-made circuit board
CN110012617A (zh) * 2019-04-03 2019-07-12 东莞塘厦裕华电路板有限公司 一种电路板导通孔制作方法
CN114830265B (zh) 2019-12-20 2026-01-20 汉高股份有限及两合公司 用于金属键合的包含铜合金的银烧结组合物
RU2743934C1 (ru) * 2020-06-15 2021-03-01 Джамиля Викторовна Чайкина Электропроводящая композиция для развивающих игр и способ формирования электропроводящих треков
US11319613B2 (en) 2020-08-18 2022-05-03 Enviro Metals, LLC Metal refinement

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6058268A (ja) * 1983-09-08 1985-04-04 Tsudakoma Ind Co Ltd ロ−ラ接触式液剤付与装置のモ−タ制御方法
JPS63238230A (ja) * 1987-03-25 1988-10-04 Matsushita Electric Works Ltd 導電性複合材料とその製法
JPS63301405A (ja) * 1987-05-30 1988-12-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 低温焼成型導電性ペ−スト及び回路基板の製造方法
JPS6427642A (en) * 1987-07-23 1989-01-30 Kobe Steel Ltd Silver catalyst
JPH0241093A (ja) * 1988-07-30 1990-02-09 Nec Home Electron Ltd カラー印刷方法
JPH0241092A (ja) * 1988-07-30 1990-02-09 Sony Corp テレビジヨン装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3583930A (en) * 1968-04-16 1971-06-08 Chomerics Inc Plastics made conductive with coarse metal fillers
JPS568852A (en) * 1979-07-04 1981-01-29 Nec Corp Semiconductor device
JPS6017392B2 (ja) * 1980-05-01 1985-05-02 福田金属箔粉工業株式会社 銀−銅複合粉末を用いた導電性塗料
JPS58157001A (ja) * 1982-03-15 1983-09-19 東芝ケミカル株式会社 導電性ペ−スト
JPS59146103A (ja) * 1983-02-09 1984-08-21 昭和電工株式会社 ドツテイングペ−スト
JPS6280907A (ja) * 1985-04-23 1987-04-14 昭和電工株式会社 導電ペ−スト
JPS61245406A (ja) * 1985-04-24 1986-10-31 昭和電工株式会社 導電ペ−スト
JPH01231208A (ja) * 1988-03-11 1989-09-14 Toshiba Chem Corp 導電性ペースト
US5091114A (en) * 1988-08-23 1992-02-25 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Conductive metal powders, process for preparation thereof and use thereof
US5064469A (en) * 1989-10-03 1991-11-12 Akzo N.V. Preparation of oxidation resistant metal powder
JPH03152177A (ja) * 1989-11-09 1991-06-28 Asahi Chem Ind Co Ltd アクリル系導電性ペーストならびに該ペーストを用いた導電体

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6058268A (ja) * 1983-09-08 1985-04-04 Tsudakoma Ind Co Ltd ロ−ラ接触式液剤付与装置のモ−タ制御方法
JPS63238230A (ja) * 1987-03-25 1988-10-04 Matsushita Electric Works Ltd 導電性複合材料とその製法
JPS63301405A (ja) * 1987-05-30 1988-12-08 Furukawa Electric Co Ltd:The 低温焼成型導電性ペ−スト及び回路基板の製造方法
JPS6427642A (en) * 1987-07-23 1989-01-30 Kobe Steel Ltd Silver catalyst
JPH0241093A (ja) * 1988-07-30 1990-02-09 Nec Home Electron Ltd カラー印刷方法
JPH0241092A (ja) * 1988-07-30 1990-02-09 Sony Corp テレビジヨン装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009068086A (ja) * 2007-09-14 2009-04-02 Tohoku Univ 導電性複合粉末およびその製造方法
WO2019009124A1 (ja) * 2017-07-07 2019-01-10 タツタ電線株式会社 導電性樹脂組成物及びそれを用いたシールドパッケージの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0470262A4 (en) 1992-08-05
KR920701989A (ko) 1992-08-12
WO1991013445A1 (en) 1991-09-05
DE69131337D1 (de) 1999-07-22
RU2096847C1 (ru) 1997-11-20
DE69131337T2 (de) 2000-02-03
CN1042983C (zh) 1999-04-14
KR950007084B1 (ko) 1995-06-30
ATE181452T1 (de) 1999-07-15
HK1004870A1 (en) 1998-12-11
JP2702796B2 (ja) 1998-01-26
EP0470262B1 (en) 1999-06-16
CN1065280A (zh) 1992-10-14
US5242511A (en) 1993-09-07
EP0470262A1 (en) 1992-02-12
CA2055473C (en) 1995-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2702796B2 (ja) 銀合金導電性ペースト
US20100009153A1 (en) Conductive inks and pastes
EP0162698B1 (en) Solderable conductive compositions, methods for their preparation, and substrates coated with them
JP2010504612A (ja) 導電膜形成のための銀ペースト
JPH0821254B2 (ja) 銅合金系組成物、それを用いて印刷された成形物、ペーストおよび接着剤
EP3450512B1 (en) Molecular organic reactive inks for conductive silver printing
JP2643520B2 (ja) 銀含有合金粉末ならびに該粉末を用いた導電性ペースト
WO2005088652A1 (ja) 金属含有微粒子、金属含有微粒子分散液および導電性金属含有材料
JPH0467509A (ja) 導電性ペースト及び導電性塗膜
CA2039895A1 (en) Conductive paste composition
JPH10312712A (ja) はんだ付け可能な導電性ペースト
US20170232510A1 (en) Silver-coated copper powder and method for producing same
EP2876652B1 (en) Silver-containing composition, and base for use in formation of silver element
JPH10162646A (ja) 導電性樹脂組成物
KR102560073B1 (ko) 도전성 페이스트
WO2019009146A1 (ja) 導電性ペースト
JPH10162647A (ja) 導電性ペースト
JP2708606B2 (ja) 銅合金導電性ペースト並びに該ペーストを用いた導電体
FR2679567A1 (fr) Pigments ecran emi, procede de leur preparation et leur utilisation.
JPH0428108A (ja) 銀系導電性ペースト並びに該ペーストを用いた導電体
JPH03245405A (ja) 銀系合金粉末ならびに該粉末を用いた導電性ペースト
JPH05140484A (ja) 導電性ペーストおよび導電性塗膜
JPH03152177A (ja) アクリル系導電性ペーストならびに該ペーストを用いた導電体
JPH03133006A (ja) 銀銅合金系導電性ペーストならびに該ペーストを用いた導電体
JPH0636902A (ja) ポリマー型抵抗体ペースト

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081003

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081003

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091003

Year of fee payment: 12

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091003

Year of fee payment: 12

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091003

Year of fee payment: 12

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091003

Year of fee payment: 12

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101003

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101003

Year of fee payment: 13