JPH03250022A - 共重合ポリエステルの製造方法 - Google Patents
共重合ポリエステルの製造方法Info
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- JPH03250022A JPH03250022A JP33973190A JP33973190A JPH03250022A JP H03250022 A JPH03250022 A JP H03250022A JP 33973190 A JP33973190 A JP 33973190A JP 33973190 A JP33973190 A JP 33973190A JP H03250022 A JPH03250022 A JP H03250022A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、溶融重合のみで高重合度ポリマが得られ、成
形性のみならず、耐熱性、機械的特性および色調の優れ
た成形品を与える共重合ポリエステルの製造方法に関す
るものである。
形性のみならず、耐熱性、機械的特性および色調の優れ
た成形品を与える共重合ポリエステルの製造方法に関す
るものである。
〈従来の技術〉
近年、プラスチックの高性能化に対する要求がますます
高まり、種々の新規性能を有するポリマが数多く開発さ
れており、中でも光学異方性の液晶ポリマが優れた耐熱
性、機械的特性を有する点で注目されている。この液晶
ポリマとしては、パラヒドロキシ安息香酸に４，４゜ジ
ヒドロキシビフェニルと芳香族ジカルボン酸からなるポ
リマ（特公昭４７−４７８７０）やさらにｔ−ブチルハ
イドロキノンなどの芳香族ジオキシ化合物（特開昭６２
−４６４７１９＞やエチレングリコール（特開昭６３−
３０５２３）を共重合せしめたポリマが知られている。
高まり、種々の新規性能を有するポリマが数多く開発さ
れており、中でも光学異方性の液晶ポリマが優れた耐熱
性、機械的特性を有する点で注目されている。この液晶
ポリマとしては、パラヒドロキシ安息香酸に４，４゜ジ
ヒドロキシビフェニルと芳香族ジカルボン酸からなるポ
リマ（特公昭４７−４７８７０）やさらにｔ−ブチルハ
イドロキノンなどの芳香族ジオキシ化合物（特開昭６２
−４６４７１９＞やエチレングリコール（特開昭６３−
３０５２３）を共重合せしめたポリマが知られている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、４，４゛−ジヒドロキシビフェニルを使
用した液晶ポリマは溶融重合のみでは必ずしも重合度が
十分とは言えなかったり、ポリマの色調も十分とは言え
ないことがわかった。
用した液晶ポリマは溶融重合のみでは必ずしも重合度が
十分とは言えなかったり、ポリマの色調も十分とは言え
ないことがわかった。
よって、本発明は色調の良好な高重合度の共重合ポリエ
ステルを製造する方法を提供することを課題とする。
ステルを製造する方法を提供することを課題とする。
〈課題を解決するための手段〉
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、
本発明に到達した。
本発明に到達した。
すなわち、本発明は下記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（
ＩＩＩ）、（ＩＩＩ）からなる共重合ポリエステルを製
造する方法において、構造単位（ＩＩ）としての４．４
−一ジしドロキシビフェニル中のナトリウム原子の含有
量が０．１〜１ｏ ｐｐｍのものを用いることを特徴と
する共重合ポリエステルの製造方法である。
ＩＩＩ）、（ＩＩＩ）からなる共重合ポリエステルを製
造する方法において、構造単位（ＩＩ）としての４．４
−一ジしドロキシビフェニル中のナトリウム原子の含有
量が０．１〜１ｏ ｐｐｍのものを用いることを特徴と
する共重合ポリエステルの製造方法である。
＋Ｏ−Ｒ，−〇−）−
＋Ｃ〇−Ｒ２−ＣＯ＋−
（ＩＩＩ）
（ＩＶ）
ＣＨ。
れた１種以上の基を示す。また、式中のＸは水素原子ま
たは塩素原子を示す。） 本発明の共重合ポリエステルは上記構造単位（Ｉ＞、（
ＩＩ）、（Ｉ［Ｉ）および（ＩＶ）からなる共重合体で
ある。
たは塩素原子を示す。） 本発明の共重合ポリエステルは上記構造単位（Ｉ＞、（
ＩＩ）、（Ｉ［Ｉ）および（ＩＶ）からなる共重合体で
ある。
上記構造単位（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および（Ｉ
Ｖ）の共重合量は任意であるが、成形性と耐熱性と機械
的特性の点から次の共重合量であることが好ましい。
Ｖ）の共重合量は任意であるが、成形性と耐熱性と機械
的特性の点から次の共重合量であることが好ましい。
構造単位（ＩＩＩ）のＲ１が−ＣＲ２，ＣＲ２−（７）
時には［（１）＋ （ｆｆ＞］は［（ＩＩ＋（Ｉｆ）＋
（Ｉ［Ｉ） ］の７７〜９５モル％であることが好ま
しく、８２〜９２モル％であることが特に好ましい。ま
た構造単位（ＩＩＩ）は［（Ｉ）＋（ＩＩ＞＋ （ＩＩ
Ｉ） ］の２３〜５モル％が好ましく、１８〜８モル％
であることが好ましい。また構造単位（Ｉ＞／（ＩＩ）
のモル比は７５／２５〜９５１５が好ましく、７８／２
２〜９２／８であることが好ましい。
時には［（１）＋ （ｆｆ＞］は［（ＩＩ＋（Ｉｆ）＋
（Ｉ［Ｉ） ］の７７〜９５モル％であることが好ま
しく、８２〜９２モル％であることが特に好ましい。ま
た構造単位（ＩＩＩ）は［（Ｉ）＋（ＩＩ＞＋ （ＩＩ
Ｉ） ］の２３〜５モル％が好ましく、１８〜８モル％
であることが好ましい。また構造単位（Ｉ＞／（ＩＩ）
のモル比は７５／２５〜９５１５が好ましく、７８／２
２〜９２／８であることが好ましい。
また構造単位（１）のＲ□が−ＣＨ，ＣＨ。
−以外の時には、構造単位（Ｉ）は［（Ｉ）＋（ＩＩ）
＋（Ｉ［Ｉ） ］の４０〜９ｏモル％が好ましく、６０
〜８８モル％が特に好ましく、（ＩＩ）／（■）の比は
９／１〜１／９が好ましく、８゜５／１．５〜３／７が
特に好ましい、そしてＲましい。
＋（Ｉ［Ｉ） ］の４０〜９ｏモル％が好ましく、６０
〜８８モル％が特に好ましく、（ＩＩ）／（■）の比は
９／１〜１／９が好ましく、８゜５／１．５〜３／７が
特に好ましい、そしてＲましい。
なお、構造単位（ＩＶ）は構造単位［（Ｉ［＞＋（■）
］と実質的に等モルである。
］と実質的に等モルである。
構造単位（ＩＩ）を形成せしめる４、４′−ジヒドロキ
シビフェニル中のナトリウム原子の含有量は０．１〜１
０ｐｐｍの範囲であることが必須であり、０．１〜５ｐ
ｐｍが好ましい。さらに好ましくは４，４−−ジヒドロ
キシビフェニル中のカリウム原子の含有量が０．１〜１
０ｐｐｍ、鉄原子の含有量が０．１〜１０ｐｐＩＩＩが
より好ましい。０．１ｐｐ１１１未満の４，４°−ジヒ
ドロキシビフェニルを製造するには、製造コストが極め
て高くなり得られるポリエステルの色調もかえって不良
になることがあり好ましくない。−方、１０ｐｐｍより
多いときには製造した共重合ポリエステルの重合度を十
分にあげることが困難となり、機械的特性、特に衝撃強
度を十分に高めることが不可能である。
シビフェニル中のナトリウム原子の含有量は０．１〜１
０ｐｐｍの範囲であることが必須であり、０．１〜５ｐ
ｐｍが好ましい。さらに好ましくは４，４−−ジヒドロ
キシビフェニル中のカリウム原子の含有量が０．１〜１
０ｐｐｍ、鉄原子の含有量が０．１〜１０ｐｐＩＩＩが
より好ましい。０．１ｐｐ１１１未満の４，４°−ジヒ
ドロキシビフェニルを製造するには、製造コストが極め
て高くなり得られるポリエステルの色調もかえって不良
になることがあり好ましくない。−方、１０ｐｐｍより
多いときには製造した共重合ポリエステルの重合度を十
分にあげることが困難となり、機械的特性、特に衝撃強
度を十分に高めることが不可能である。
４．４′−ジヒドロキシビフェニルの製造方法としては
スルホン化したビフェニルから製造するアルカリ溶融法
（Ａ法）や３．３−．５゜５−一テトラブチルー４．４
−−ジヒドロキシビフェニルから製造する方法（Ｂ法）
、４．４ジイソプロピルビフエニルから製造する方法（
Ｃ法）が知られている。これらのうちＡ法による４、４
′−ジヒドロキシビフェニルは例えば、特公平１−４４
２４６のように精製した４、４′−ジヒドロキシビフェ
ニルを用いても４．４゛−ジヒドロキシビフェニル中の
ナトリウム原子の量は２０１）ｌ）［０以上であり１０
ｐｐｍ未満にすることは極めて困難であり、Ｂ法または
Ｃ法が好ましくとりわけＢ法によって製造された４、４
−−ジヒドロキシビフェニルを精製することによりナト
リウム原子の量を０．１〜１ｏｐｐｍにするのが好まし
い。
スルホン化したビフェニルから製造するアルカリ溶融法
（Ａ法）や３．３−．５゜５−一テトラブチルー４．４
−−ジヒドロキシビフェニルから製造する方法（Ｂ法）
、４．４ジイソプロピルビフエニルから製造する方法（
Ｃ法）が知られている。これらのうちＡ法による４、４
′−ジヒドロキシビフェニルは例えば、特公平１−４４
２４６のように精製した４、４′−ジヒドロキシビフェ
ニルを用いても４．４゛−ジヒドロキシビフェニル中の
ナトリウム原子の量は２０１）ｌ）［０以上であり１０
ｐｐｍ未満にすることは極めて困難であり、Ｂ法または
Ｃ法が好ましくとりわけＢ法によって製造された４、４
−−ジヒドロキシビフェニルを精製することによりナト
リウム原子の量を０．１〜１ｏｐｐｍにするのが好まし
い。
本発明における共重合ポリエステルの製造方法としては
特にｆｉｌｆ限がなく、公知のポリエステルの重縮合法
に準じて製造できる。
特にｆｉｌｆ限がなく、公知のポリエステルの重縮合法
に準じて製造できる。
例えば、上記構造単位（ＩＩ）でＲ１が−ＣＨ２ＣＨ，
−以外の場合は（・１）〜（４）、Ｒ１が−ＣＨ２ＣＨ
２−の場合は（５）の製造方法が好ましく挙げられる。
−以外の場合は（・１）〜（４）、Ｒ１が−ＣＨ２ＣＨ
２−の場合は（５）の製造方法が好ましく挙げられる。
（１）ｐ−アセトキシ安息香酸、４．４−一ジアセトキ
シビフェニルなどの芳香族ジヒドロキシ化合物のジアシ
ル化物とテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸から脱
酢酸重縮合反応によって製造する方法。
シビフェニルなどの芳香族ジヒドロキシ化合物のジアシ
ル化物とテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸から脱
酢酸重縮合反応によって製造する方法。
（２）ｐ−ヒドロキシ安息香酸、４．４゛−ジヒドロキ
シビフェニルなどの芳香族ジヒドロキシ化合物、テレフ
タル酸などの芳香族ジカルボン酸に無水酢酸を反応させ
て、フェノール性水酸基をアシル化した後、脱酢酸重縮
合反応によって製造する方法。
シビフェニルなどの芳香族ジヒドロキシ化合物、テレフ
タル酸などの芳香族ジカルボン酸に無水酢酸を反応させ
て、フェノール性水酸基をアシル化した後、脱酢酸重縮
合反応によって製造する方法。
（３）ｐ−ヒドロキシ安息香酸のフェニルエステル、４
．４′−ジヒドロキシビフェニルなどの芳香族ジヒドロ
キシ化合物とテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸の
ジフェニルエスチルから脱フエノール重縮合反応により
製造する方法。
．４′−ジヒドロキシビフェニルなどの芳香族ジヒドロ
キシ化合物とテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸の
ジフェニルエスチルから脱フエノール重縮合反応により
製造する方法。
（４）ｐ−ヒドロキシ安息香酸およびテレフタル酸など
の芳香族ジカルボン酸に所望量のジフェニルカーボネー
トを反応させてそれぞれジフェニルエステルとした後、
４．４′−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノンな
どの芳香族ジヒドロキシ化合物を加え、脱フエノール重
縮合反応により製造する方法。
の芳香族ジカルボン酸に所望量のジフェニルカーボネー
トを反応させてそれぞれジフェニルエステルとした後、
４．４′−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノンな
どの芳香族ジヒドロキシ化合物を加え、脱フエノール重
縮合反応により製造する方法。
（５）ポリエチレンテレフタレートの存在下で（１）ま
たは（２）の方法で製造する方法。
たは（２）の方法で製造する方法。
重縮合反応に使用する触媒としては酢酸第１錫、テトラ
ブチルチタネート、酢酸カリウム、三酸化アンチモン、
マグネシウム、酢酸ナトリウムなどがあるが（１）、（
２）または（５）の反応では必ずしも必要ではない。
ブチルチタネート、酢酸カリウム、三酸化アンチモン、
マグネシウム、酢酸ナトリウムなどがあるが（１）、（
２）または（５）の反応では必ずしも必要ではない。
本発明の共重合ポリエステルを重縮合する際には上記（
Ｉ＞、（ＩＩ＞、（ＩＩＩ）および（ＩＶ）を構成する
成分以外に、３．３−一ジフエニルジカルボン酸、２，
２−−ジフェニルジカルボン酸などの芳香族ジカルボン
酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン
ジオン酸などの脂肪族ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレ
フタル酸などの脂環式ジカルボン酸、クロルハイドロキ
ノン、４．４−一ジヒドロキシジフェニルスルホン、４
．４−一ジヒドロキシジフェニルプロパン、４．４−一
ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４−−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、４．４−一ジヒドロキシジフェ
ニルエーテル等の芳香族ジオール、１，４−ブタンジオ
ール、１．６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、１．４−シクロヘキサンジオール、１．４−シク
ロヘキサンジメタツール等の脂肪族、脂環式ジオールお
よびｍ−ヒドロキシ安息香酸、２．６−ヒドロキシナフ
トエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族イミ
ドジカルボン酸、芳香族イミドヒドロキシカルボン酸、
芳香族イミドジヒドロキシ化合物などを本発明の目的を
損なわない程度の少割合の範囲でさらに共重合せしめる
ことができる。
Ｉ＞、（ＩＩ＞、（ＩＩＩ）および（ＩＶ）を構成する
成分以外に、３．３−一ジフエニルジカルボン酸、２，
２−−ジフェニルジカルボン酸などの芳香族ジカルボン
酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン
ジオン酸などの脂肪族ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレ
フタル酸などの脂環式ジカルボン酸、クロルハイドロキ
ノン、４．４−一ジヒドロキシジフェニルスルホン、４
．４−一ジヒドロキシジフェニルプロパン、４．４−一
ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４−−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、４．４−一ジヒドロキシジフェ
ニルエーテル等の芳香族ジオール、１，４−ブタンジオ
ール、１．６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、１．４−シクロヘキサンジオール、１．４−シク
ロヘキサンジメタツール等の脂肪族、脂環式ジオールお
よびｍ−ヒドロキシ安息香酸、２．６−ヒドロキシナフ
トエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族イミ
ドジカルボン酸、芳香族イミドヒドロキシカルボン酸、
芳香族イミドジヒドロキシ化合物などを本発明の目的を
損なわない程度の少割合の範囲でさらに共重合せしめる
ことができる。
かくして得られる共重合ポリエステルは色調が良好な高
重合度ポリマであり、例えばＲ１が−ＣＨ２ＣＨ２−の
ときには対数粘度（０，１ｇ／ｄＮの濃度でペンタフル
オロフェノール中、６０℃で測定＞１．８ｃＨ！／ｇ以
上のものを、上のものを容易に製造せしめることが可能
であり、とりわけＲ工が−ＣＨ，ＣＨ２−の時に効果が
顕著である９ 〈実施例〉 以下、実施例により本発明を詳述する。
重合度ポリマであり、例えばＲ１が−ＣＨ２ＣＨ２−の
ときには対数粘度（０，１ｇ／ｄＮの濃度でペンタフル
オロフェノール中、６０℃で測定＞１．８ｃＨ！／ｇ以
上のものを、上のものを容易に製造せしめることが可能
であり、とりわけＲ工が−ＣＨ，ＣＨ２−の時に効果が
顕著である９ 〈実施例〉 以下、実施例により本発明を詳述する。
実施例１
ｐ−ヒドロキシ安息香酸９９４ｇ、テレフタル酸１１２
ｇおよび固有粘度が約０．６ｄｆＩ／「のポリエチレン
テレフタレート２１６ｇにナトリウム原子の含量がｏ、
ｓｐｐｍの４．４ジヒドロキシビフ工ニル１２６ｇと無
水酢酸９６０ｇを攪拌翼、留出管を備えた反応容器に仕
込み、次の条件で脱酢酸重縮合を行った。
ｇおよび固有粘度が約０．６ｄｆＩ／「のポリエチレン
テレフタレート２１６ｇにナトリウム原子の含量がｏ、
ｓｐｐｍの４．４ジヒドロキシビフ工ニル１２６ｇと無
水酢酸９６０ｇを攪拌翼、留出管を備えた反応容器に仕
込み、次の条件で脱酢酸重縮合を行った。
まず窒素ガス雰囲気下に１００〜２５０℃で６時間、２
５０〜３１５℃で２．０時間反応させたのち、３１５℃
、２時間で０．５閣Ｈｇに減圧し、さらに１．０時間反
応させ、重縮合を完結させたところ、はぼ理論量の酢酸
が留出し、下記の理論構造式を有するポリマ（ａ）を得
た。
５０〜３１５℃で２．０時間反応させたのち、３１５℃
、２時間で０．５閣Ｈｇに減圧し、さらに１．０時間反
応させ、重縮合を完結させたところ、はぼ理論量の酢酸
が留出し、下記の理論構造式を有するポリマ（ａ）を得
た。
＋０ＣＨ２
ＣＨ。
Ｏ→−／
ｋ／ｌ ／ｍ／ｎ＝８０／７．５／１２．５／０
また、このポリエステルを偏光顕微鏡の試料台にのせ、
昇温しで、光学異方性の確認を行つた結果、液晶開始温
度は２９３℃であり、良好な光学異方性を示した。この
ポリエステルの対数粘度（０，１ｇ／ｄＮの濃度でペン
タフルオロフェノール中、６０℃で測定）は２．１０ｄ
ｆＪ ／ ｇであった。
昇温しで、光学異方性の確認を行つた結果、液晶開始温
度は２９３℃であり、良好な光学異方性を示した。この
ポリエステルの対数粘度（０，１ｇ／ｄＮの濃度でペン
タフルオロフェノール中、６０℃で測定）は２．１０ｄ
ｆＪ ／ ｇであった。
このポリマを注文ネスタール射出成形機プロマット（注
文重機械工業（株）製）に供し、シリンダー温度３２０
℃、金型温度９０℃の条件でアイゾツト衝撃試験片（１
／４″×１／２″′×２．５″）を成形した。このアイ
ゾツト衝撃試験片にノツチを入れた後、ＡＳＴＭ Ｄ
２５６規格に従い測定を行った結果７５−・１／】と極
めて高い衝撃強度を有していた。
文重機械工業（株）製）に供し、シリンダー温度３２０
℃、金型温度９０℃の条件でアイゾツト衝撃試験片（１
／４″×１／２″′×２．５″）を成形した。このアイ
ゾツト衝撃試験片にノツチを入れた後、ＡＳＴＭ Ｄ
２５６規格に従い測定を行った結果７５−・１／】と極
めて高い衝撃強度を有していた。
実施例２
ｐ−ヒドロキシ安息香酸９９４ｇ、２．６−ジアセドキ
シナフタレン１４７ｇ、テレフタル酸２９９ｇ、ナトリ
ウム原子含有量が０．８ｐｐｍの４，４−−ジヒドロキ
シビフェニル２２３ｇと無水酢酸１０７７ｇを攪拌翼、
留出管を備えた反応容器に仕込み、次の条件で脱酢酸重
縮合を行った。
シナフタレン１４７ｇ、テレフタル酸２９９ｇ、ナトリ
ウム原子含有量が０．８ｐｐｍの４，４−−ジヒドロキ
シビフェニル２２３ｇと無水酢酸１０７７ｇを攪拌翼、
留出管を備えた反応容器に仕込み、次の条件で脱酢酸重
縮合を行った。
まず窒素ガス雰囲気下に１００〜２５０℃で６時間、２
５０〜３３０℃で２．０時間反応させた後、３３０℃、
２時間で０．５■Ｈｇに減圧し、さらに１．５時間反応
させ、重縮合を完結させたところ、はぼ理論量の酢酸が
留出し下記の理論構造式を有するポリマ（ｂ）を得た。
５０〜３３０℃で２．０時間反応させた後、３３０℃、
２時間で０．５■Ｈｇに減圧し、さらに１．５時間反応
させ、重縮合を完結させたところ、はぼ理論量の酢酸が
留出し下記の理論構造式を有するポリマ（ｂ）を得た。
ｋ／、１！ ／ｍ／ｎ＝８０／１３．３／６．７／０
また、このポリエステルを偏光顕微鏡の試料台にのせ、
昇温しで光学異方性の確認を行った結果、液晶開始温度
は２９６℃であり、良好な光学異方性を示した。
昇温しで光学異方性の確認を行った結果、液晶開始温度
は２９６℃であり、良好な光学異方性を示した。
このポリマを実施例１と同様の方法で対数粘度、ノツチ
付きアイゾツト衝撃強度の測定を行い、それぞれ５．５
ｄＮ／ｇ、７８ ｋｇ−ｃｘｍ ／ ｃｍと高重合度、
高衝撃強度であった。
付きアイゾツト衝撃強度の測定を行い、それぞれ５．５
ｄＮ／ｇ、７８ ｋｇ−ｃｘｍ ／ ｃｍと高重合度、
高衝撃強度であった。
実施例３，４、比較実施例１〜４
実施例１．２と同様のポリマ（ａ）、（ｂ）を４．４′
−ジヒドロキシビフェニル中のナトリウム原子の含有量
が５〜２７１）Ｉ）ｍのものを用いて重合しトルクが頭
打ちするところで重合を停止した。そして実施例１と同
様の方法で対数粘度及びノツチ付きアイゾツト衝撃強度
を測定した。これらの結果を第１表に示す。
−ジヒドロキシビフェニル中のナトリウム原子の含有量
が５〜２７１）Ｉ）ｍのものを用いて重合しトルクが頭
打ちするところで重合を停止した。そして実施例１と同
様の方法で対数粘度及びノツチ付きアイゾツト衝撃強度
を測定した。これらの結果を第１表に示す。
実施例５
実施例１と同様組成のポリマ（ａ）を４．４−ジヒドロ
キシビフェニル中のナトリウム原子の含有量が０．３ｐ
ｐｍのものを用いて重合しトルクが頭打ちするところで
重合を停止した。
キシビフェニル中のナトリウム原子の含有量が０．３ｐ
ｐｍのものを用いて重合しトルクが頭打ちするところで
重合を停止した。
そして実施例１と同様の方法で対数粘度及びノツチ付き
アイゾツト衝撃強度を測定した。
アイゾツト衝撃強度を測定した。
この結果を第１表に示す。
第１表から明らかなように４，４゛−ジヒドロキシビフ
ェニル中のナトリウム原子含有量が１ｏｐｐｍより多い
と対数粘度が低く、アイゾツト衝撃強度も低いことがわ
かる。
ェニル中のナトリウム原子含有量が１ｏｐｐｍより多い
と対数粘度が低く、アイゾツト衝撃強度も低いことがわ
かる。
また比較実施例１〜４のポリマの色調は茶色であり、対
応する実施例１〜５のそれよりも明らかに不良であった
。
応する実施例１〜５のそれよりも明らかに不良であった
。
〈発明の効果〉
本発明の共重合ポリエステルの製造方法によれば対数粘
度が大きく、機械的特性に優れた液晶ポリエステルが得
られる。
度が大きく、機械的特性に優れた液晶ポリエステルが得
られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記構造単位（ I ）、（II）、（III）および（IV）か
らなる共重合ポリエステルを製造する方法において、構
造単位（II）を形成せしめる４，４′−ジヒドロキシビ
フェニル中のナトリウム原子の含有量が０．１〜１０ｐ
ｐｍのものを用いることを特徴とする共重合ポリエステ
ルの製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （ただし式中Ｒ＿１は▲数式、化学式、表等があります
▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 −ＣＨ＿２ＣＨ＿２−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた１種以
上の基を、Ｒ＿２は▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼から選ば れた１種以上の基を示す。また、式中のＸは水素原子ま
たは塩素原子を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02339731A JP3116375B2 (ja) | 1990-01-23 | 1990-11-30 | 共重合ポリエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
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|---|---|---|---|---|
| JP2002037869A (ja) * | 2000-07-28 | 2002-02-06 | Ueno Seiyaku Oyo Kenkyusho:Kk | 芳香族ジカルボン酸組成物およびそれを用いた液晶ポリエステル樹脂 |
| CN102146156A (zh) * | 2011-01-26 | 2011-08-10 | 金发科技股份有限公司 | 一种半芳香族液晶聚合物的制备方法及其组合物 |
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1990
- 1990-11-30 JP JP02339731A patent/JP3116375B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN102146156A (zh) * | 2011-01-26 | 2011-08-10 | 金发科技股份有限公司 | 一种半芳香族液晶聚合物的制备方法及其组合物 |
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