JPH03252345A - セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 - Google Patents
セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法Info
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- JPH03252345A JPH03252345A JP2045968A JP4596890A JPH03252345A JP H03252345 A JPH03252345 A JP H03252345A JP 2045968 A JP2045968 A JP 2045968A JP 4596890 A JP4596890 A JP 4596890A JP H03252345 A JPH03252345 A JP H03252345A
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Landscapes
- Crushing And Grinding (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、セラミック電子部品を製造する際のセラミッ
ク原料粉末のセラミックスラリ−を得るのに用いるスラ
リー分散用ビーズ及びこれを用いたセラミックスラリ−
の製法に関する。
ク原料粉末のセラミックスラリ−を得るのに用いるスラ
リー分散用ビーズ及びこれを用いたセラミックスラリ−
の製法に関する。
セラミックコンデンサのような電子部品にセラミンク体
は広く用いられているが、最古その電気特性を向上する
とともに、そのバラツキを一段と少なくしたものが求め
られている。この特性の向上及びバラツキの減少は、セ
ラミ7り体の組成を厳密にコントロールすることによっ
て可能となる。
は広く用いられているが、最古その電気特性を向上する
とともに、そのバラツキを一段と少なくしたものが求め
られている。この特性の向上及びバラツキの減少は、セ
ラミ7り体の組成を厳密にコントロールすることによっ
て可能となる。
一般に電子部品用セラミック体は、例えばBaTiO3
,5rTi03 等のチタン酸塩にTiO2,5i0
2、Bi2O3等の酸化物を水等とともに加え、湿式混
合、分散を行ってセラミックスラリ−を1周製し、この
スラリーを脱水乾燥後仮焼し、所定の金属原子組成比の
チタンM塩とし、この後、水溶性樹脂、アルコール、水
等からなりその固形分を燃焼可能なバインダーと混合し
、成形した後、バインダーを焼失させ、約1200〜1
400℃で本焼成し、焼結体のセラミック体を得る。あ
るいは、上記スラリーを脱水乾燥したものを上記バイン
ダーと混合して造粒し、ついで成形し、徐々に1350
℃位まで昇温させてこの温度で焼成し、焼結体のセラミ
ック体を得る。
,5rTi03 等のチタン酸塩にTiO2,5i0
2、Bi2O3等の酸化物を水等とともに加え、湿式混
合、分散を行ってセラミックスラリ−を1周製し、この
スラリーを脱水乾燥後仮焼し、所定の金属原子組成比の
チタンM塩とし、この後、水溶性樹脂、アルコール、水
等からなりその固形分を燃焼可能なバインダーと混合し
、成形した後、バインダーを焼失させ、約1200〜1
400℃で本焼成し、焼結体のセラミック体を得る。あ
るいは、上記スラリーを脱水乾燥したものを上記バイン
ダーと混合して造粒し、ついで成形し、徐々に1350
℃位まで昇温させてこの温度で焼成し、焼結体のセラミ
ック体を得る。
この一連の工程でセラミックスラリ−を調製するときに
、その分散手段のセラミック原料粉末と接触する部分が
摩耗し、その摩耗した材料ができあがったセラミックス
ラリ−中に混入し、最終的に得られるセラミック体の例
えば金属チタン酸塩の金属組成比を当初設計した配合値
と異ならせることが多い。そのため、この分散手段に何
を用いるかは極めて重要なことである。
、その分散手段のセラミック原料粉末と接触する部分が
摩耗し、その摩耗した材料ができあがったセラミックス
ラリ−中に混入し、最終的に得られるセラミック体の例
えば金属チタン酸塩の金属組成比を当初設計した配合値
と異ならせることが多い。そのため、この分散手段に何
を用いるかは極めて重要なことである。
この分散を行う分散機として古くからボールミルが知ら
れている。これは円筒あるいは球状の容器の中にセラミ
ック原料粉末、水又はその他の分散媒を硬質のボールと
ともに入れ、容器全体を所定時間回転させて、ボール同
士やボールの容器内壁に対する摩擦によりセラミック原
料粉末を粉砕し、水等に分散させようとするものである
。その際、ボールの材質として摩耗し難く、かつ摩耗し
てその材料がセラミックスラリ−に混入しても、得られ
るセラミック体の組成比に影響が少ないものが選択され
る0例えば天然石(シリカを主成分とする)、メノウ石
、アルミナ磁器ボール、5iC1S43N、4等の非酸
化物ボールが用いられている。
れている。これは円筒あるいは球状の容器の中にセラミ
ック原料粉末、水又はその他の分散媒を硬質のボールと
ともに入れ、容器全体を所定時間回転させて、ボール同
士やボールの容器内壁に対する摩擦によりセラミック原
料粉末を粉砕し、水等に分散させようとするものである
。その際、ボールの材質として摩耗し難く、かつ摩耗し
てその材料がセラミックスラリ−に混入しても、得られ
るセラミック体の組成比に影響が少ないものが選択され
る0例えば天然石(シリカを主成分とする)、メノウ石
、アルミナ磁器ボール、5iC1S43N、4等の非酸
化物ボールが用いられている。
ところが、最近、例えばセラミックコンデンサ等もコン
パクトで高性能のものが求められ、そのためにはセラミ
ック製品もその組織が緻密であることが要求され、セラ
ミクスラリ−を調製する際も分散性の向上が求められる
とともに生産性を向上させるために、連続生産システム
としてビーズミルを使用することが多くなってきた。ビ
ーズミルは、円筒型容器の中に回転板を複数枚離間して
取付けた回転軸を設け、さらに円筒容器内の空間の50
〜70%に直径0.5〜5■のビーズを入れ、これにセ
ラミックスラリ−の原料を投入して上記回転軸を高速回
転させ、ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁との摩
擦により分散を行うものである。このビーズミルによれ
ば、短時間で分散効率を良くし、高分散性のセラミック
スラリ−を連続的に得ることができる。
パクトで高性能のものが求められ、そのためにはセラミ
ック製品もその組織が緻密であることが要求され、セラ
ミクスラリ−を調製する際も分散性の向上が求められる
とともに生産性を向上させるために、連続生産システム
としてビーズミルを使用することが多くなってきた。ビ
ーズミルは、円筒型容器の中に回転板を複数枚離間して
取付けた回転軸を設け、さらに円筒容器内の空間の50
〜70%に直径0.5〜5■のビーズを入れ、これにセ
ラミックスラリ−の原料を投入して上記回転軸を高速回
転させ、ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁との摩
擦により分散を行うものである。このビーズミルによれ
ば、短時間で分散効率を良くし、高分散性のセラミック
スラリ−を連続的に得ることができる。
しかしながら、ビーズミルの高分散性の主な要因である
ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁との摩擦は、例
えばアルミナビーズを使用すると、ビーズを摩耗させ、
その摩耗した材料が不純物としてセラミックスラリ−に
混入し、上記した如くセラミック体の組成を変化させる
。これはガラスピーズ、チタニアビーズを用いてもなお
満足するセラミック体が得られていない。現在、v20
3部分安定ジルコニアを成分としたジルコニアビーズが
最も耐摩耗性に優れ、使用されるようになってきた。し
かし、これは非常に高価であり、例えばアルミナビーズ
に比較して約5〜IO倍はコスト高になる。
ビーズ同士の摩擦及びビーズと容器内壁との摩擦は、例
えばアルミナビーズを使用すると、ビーズを摩耗させ、
その摩耗した材料が不純物としてセラミックスラリ−に
混入し、上記した如くセラミック体の組成を変化させる
。これはガラスピーズ、チタニアビーズを用いてもなお
満足するセラミック体が得られていない。現在、v20
3部分安定ジルコニアを成分としたジルコニアビーズが
最も耐摩耗性に優れ、使用されるようになってきた。し
かし、これは非常に高価であり、例えばアルミナビーズ
に比較して約5〜IO倍はコスト高になる。
本発明の目的は、焼結体のセラミック体の組成への不純
物混入の影響を少なくするとともに、安価に提供できる
セラミックスラリ−分散用ビーズ及びこれを用いたセラ
ミックスラリ−の製法を提供することにある。
物混入の影響を少なくするとともに、安価に提供できる
セラミックスラリ−分散用ビーズ及びこれを用いたセラ
ミックスラリ−の製法を提供することにある。
(課題を解決するための手段〕
本発明は、上記課題を解決するために、セラミック原料
をスラリー化する際に用いるスラリー分散用ビーズに分
子量1〜100万のポリスチレン樹脂にて形成したビー
ズを含有することを特徴とするセラミックスラリ−分散
用ビーズを提供するものである。また、このセラミック
スラリ−分散用ビーズを用いてセラミックスラリ−を製
造するセラミックスラリ−の製法を提供するものである
。
をスラリー化する際に用いるスラリー分散用ビーズに分
子量1〜100万のポリスチレン樹脂にて形成したビー
ズを含有することを特徴とするセラミックスラリ−分散
用ビーズを提供するものである。また、このセラミック
スラリ−分散用ビーズを用いてセラミックスラリ−を製
造するセラミックスラリ−の製法を提供するものである
。
セラミックスラリ−製造の際にポリスチレン樹脂からな
るビーズを用いると、このビーズが摩耗してその材料が
セラミックスラリ−に混入しても有機物であるので後の
仮焼あるいは焼成の工程で焼失され、得られる焼結体の
セラミック体の組成に影響を及ぼさない。
るビーズを用いると、このビーズが摩耗してその材料が
セラミックスラリ−に混入しても有機物であるので後の
仮焼あるいは焼成の工程で焼失され、得られる焼結体の
セラミック体の組成に影響を及ぼさない。
(実施例〕
次に本発明の詳細な説明する。
実施例1
高純度BaTiO3を主原料としてこのBaTiO31
モルに対し、Bi2O30,002モル、TiO20,
004モル及び5i020.02モルを正確に秤量し、
これに総桧体重量の1.5倍の水を加え、ボールやビー
ズを使用しない攪拌羽根投げ込み型バッチ式混合攪拌機
により混合(粗分散)を行った。
モルに対し、Bi2O30,002モル、TiO20,
004モル及び5i020.02モルを正確に秤量し、
これに総桧体重量の1.5倍の水を加え、ボールやビー
ズを使用しない攪拌羽根投げ込み型バッチ式混合攪拌機
により混合(粗分散)を行った。
次にこの粗分散物をポリスチレン樹脂(分子量30万)
からなるビーズを用いたビーズミルにて下記条件により
分散処理を行ってセラミックスラリ−を得た。
からなるビーズを用いたビーズミルにて下記条件により
分散処理を行ってセラミックスラリ−を得た。
ビーズミル内容ii1:54’
ビーズミル回転数:毎分800回転
ビーズ投入量: 3.5 N
ビーズ径: 1.5 m
スラリー吐出量:毎分21
なお、ビーズは溶融状態の樹脂を加圧ノズルより吹き出
し、急冷させる、いわそるスプレー製造方式により成形
した。
し、急冷させる、いわそるスプレー製造方式により成形
した。
この後通常のセラミック焼成体の製造方法と同様に湿式
篩、脱水乾燥工程を経て、水、ポリビニアルコール樹脂
からなるバインダーと播潰機等により混合して造粒し、
所定形状に成形後1350℃の大気雰囲気のトンネル型
電気炉で約15時間焼成し、焼結体のBaTiO3半導
体セラミック体を製造した。
篩、脱水乾燥工程を経て、水、ポリビニアルコール樹脂
からなるバインダーと播潰機等により混合して造粒し、
所定形状に成形後1350℃の大気雰囲気のトンネル型
電気炉で約15時間焼成し、焼結体のBaTiO3半導
体セラミック体を製造した。
このようにして得られた半導体セラミック体の両面にI
n−Ga合金を擦り付けて電極を形成し、測定用試料と
した。この試料について抵抗値を測定(25℃)し、そ
の比抵抗を算出してその結果を下記表に不1゜ 比較例1 実施例1において、ビーズミルを使用する代わりに、通
富、BaTiO3半導体抵抗(PTct−ミスタ)製造
の際に原料の湿式午後方法として用いられるメノウ玉石
によるホールミルを使用した以外は同様にしてセラミッ
クスラリ−を得た。
n−Ga合金を擦り付けて電極を形成し、測定用試料と
した。この試料について抵抗値を測定(25℃)し、そ
の比抵抗を算出してその結果を下記表に不1゜ 比較例1 実施例1において、ビーズミルを使用する代わりに、通
富、BaTiO3半導体抵抗(PTct−ミスタ)製造
の際に原料の湿式午後方法として用いられるメノウ玉石
によるホールミルを使用した以外は同様にしてセラミッ
クスラリ−を得た。
このセラミックスラリ−についても実施例1と同様に処
理してBaTiO3半導体セラミック体を製造し、実施
例1と同様に比抵抗を算出しその結果を下表に示す。
理してBaTiO3半導体セラミック体を製造し、実施
例1と同様に比抵抗を算出しその結果を下表に示す。
比較例2〜5
実施例1において、ビーズの材質を下表のそれぞれの欄
に記載されたものを用いた以外は同様にしてセラミック
スラリ−を得、これから実施例1と同様に半導体セラミ
ック体を得、その比抵抗を算出した結果を下表に示す。
に記載されたものを用いた以外は同様にしてセラミック
スラリ−を得、これから実施例1と同様に半導体セラミ
ック体を得、その比抵抗を算出した結果を下表に示す。
上記表から明らかのように、実施例1のビーズを使用し
たものから得られた半導体セラミック体の比抵抗は他の
ものより小さいことがわかる。これはセラミックスラリ
−の乾燥粉末をバインダーとともに造粒、成形した後焼
成する工程で、ビーズの摩耗した材料がセラミックスラ
リ−に混入していたとしてもバインダーとともに低温帯
(200〜500℃)で焼失し、セラミック焼成体に残
留しないため、抵抗値を高めることがないためと考えら
れる。
たものから得られた半導体セラミック体の比抵抗は他の
ものより小さいことがわかる。これはセラミックスラリ
−の乾燥粉末をバインダーとともに造粒、成形した後焼
成する工程で、ビーズの摩耗した材料がセラミックスラ
リ−に混入していたとしてもバインダーとともに低温帯
(200〜500℃)で焼失し、セラミック焼成体に残
留しないため、抵抗値を高めることがないためと考えら
れる。
上記はポリスチレン樹脂からなるビーズを用いたが、メ
タクリル酸のメチル、エチル、イソプロピル等のメタク
リル酸アルキルエステルの単独重合体又は2種以上の共
重合体、メククリル酸アルキル、アクリル酸アルキル、
アクリル酸等の内の2種以上を含む共重合体のアクリル
系樹脂からなるビーズを併用しても良い。この際アクリ
ル系樹脂の分子量は1〜100万か好ましい。
タクリル酸のメチル、エチル、イソプロピル等のメタク
リル酸アルキルエステルの単独重合体又は2種以上の共
重合体、メククリル酸アルキル、アクリル酸アルキル、
アクリル酸等の内の2種以上を含む共重合体のアクリル
系樹脂からなるビーズを併用しても良い。この際アクリ
ル系樹脂の分子量は1〜100万か好ましい。
本発明によれば、ポリスチレン樹脂のビーズを含有する
ビーズを用いてセラミック原料粉末の分散体であるセラ
ミックスラリ−を得るようにしたので、このビーズの摩
耗した材料がこのスラリーに混入しても後の焼成工程で
これが焼失し、あとに残らないのでセラミック焼成体に
おける不純物の混入が少なく、例えば半導体セラミック
体の比抵抗を高くならないようにできるとともに、安定
な比抵抗を得ることができる。また、ジルコニアビーズ
に比べて安価で、コスト的にも優れ、その経済効果も大
きい。
ビーズを用いてセラミック原料粉末の分散体であるセラ
ミックスラリ−を得るようにしたので、このビーズの摩
耗した材料がこのスラリーに混入しても後の焼成工程で
これが焼失し、あとに残らないのでセラミック焼成体に
おける不純物の混入が少なく、例えば半導体セラミック
体の比抵抗を高くならないようにできるとともに、安定
な比抵抗を得ることができる。また、ジルコニアビーズ
に比べて安価で、コスト的にも優れ、その経済効果も大
きい。
Claims (2)
- (1)セラミック原料をスラリー化する際に用いる分散
用ビーズに分子量1〜100万のポリスチレン樹脂にて
形成したビーズを含有することを特徴とするセラミック
スラリー分散用ビーズ。 - (2)請求項1記載のセラミックスラリー分散用ビーズ
を用いてセラミックスラリーを製造することを特徴とす
るセラミックスラリーの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2045968A JPH03252345A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2045968A JPH03252345A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03252345A true JPH03252345A (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=12734032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2045968A Pending JPH03252345A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | セラミックスラリー分散用ビーズ及びセラミックスラリーの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03252345A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5584547A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-25 | Chuo Kakouki Shoji Kk | Ball of ball mill |
| JPS61168552A (ja) * | 1985-01-22 | 1986-07-30 | Toshiba Glass Co Ltd | 耐摩耗性結晶化ガラスビ−ズ |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP2045968A patent/JPH03252345A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5584547A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-25 | Chuo Kakouki Shoji Kk | Ball of ball mill |
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